JPH09193994A - 加圧タンク - Google Patents
加圧タンクInfo
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- JPH09193994A JPH09193994A JP8007710A JP771096A JPH09193994A JP H09193994 A JPH09193994 A JP H09193994A JP 8007710 A JP8007710 A JP 8007710A JP 771096 A JP771096 A JP 771096A JP H09193994 A JPH09193994 A JP H09193994A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】本発明は半導体製造プロセスで用いる薬品等を
貯槽する加圧タンクに関し、タンク本体に貯槽される液
体に気体或いは気泡が混在するのを防止することを課題
とする。 【解決手段】液体11が貯槽されるタンク本体12と、液体
11を前記タンク本体から外部に送液するノズル13と、液
体11をタンク本体12の外部に送液するための加圧用気体
が導入される気体導入口14とを具備する加圧タンクにお
いて、タンク本体12内を液体11が貯槽される液相室18と
加圧用気体が導入される気相室19とに画成する遮蔽板15
をタンク本体12内に移動可能な構成で設け、気体導入口
14から気相室19内に加圧用気体を導入することにより遮
蔽板15を移動させ、これにより液体11をタンク本体12の
外部に送液する構成とする。
貯槽する加圧タンクに関し、タンク本体に貯槽される液
体に気体或いは気泡が混在するのを防止することを課題
とする。 【解決手段】液体11が貯槽されるタンク本体12と、液体
11を前記タンク本体から外部に送液するノズル13と、液
体11をタンク本体12の外部に送液するための加圧用気体
が導入される気体導入口14とを具備する加圧タンクにお
いて、タンク本体12内を液体11が貯槽される液相室18と
加圧用気体が導入される気相室19とに画成する遮蔽板15
をタンク本体12内に移動可能な構成で設け、気体導入口
14から気相室19内に加圧用気体を導入することにより遮
蔽板15を移動させ、これにより液体11をタンク本体12の
外部に送液する構成とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は加圧タンクに係り、
特に半導体製造プロセスで用いる薬品等を貯槽する加圧
タンクに関する。一般に半導体装置の製造プロセスで
は、各プロセスにおいて多種の薬品を用いている。この
薬品は加圧タンクに貯槽されており、必要時に加圧タン
クから半導体製造装置に供給されて所定の処理が行われ
る。
特に半導体製造プロセスで用いる薬品等を貯槽する加圧
タンクに関する。一般に半導体装置の製造プロセスで
は、各プロセスにおいて多種の薬品を用いている。この
薬品は加圧タンクに貯槽されており、必要時に加圧タン
クから半導体製造装置に供給されて所定の処理が行われ
る。
【０００２】周知のように半導体装置の製造プロセスは
高い信頼性が要求されており、これに伴い各製造プロセ
スで用いる薬品も高い信頼性が要求されている。従っ
て、加圧タンク内に薬品が貯槽されている間、及び薬品
が加圧タンクから半導体製造装置に供給される過程にお
いて薬品が劣化しないよう構成する必要がある。
高い信頼性が要求されており、これに伴い各製造プロセ
スで用いる薬品も高い信頼性が要求されている。従っ
て、加圧タンク内に薬品が貯槽されている間、及び薬品
が加圧タンクから半導体製造装置に供給される過程にお
いて薬品が劣化しないよう構成する必要がある。
【０００３】
【従来の技術】図５は半導体装置の製造プロセスで用い
られる加圧タンクの一例を示している。同図に示す加圧
タンク１は、大略するとタンク本体２，ノズル３，及び
気体導入口４等よりなる構成とされている。
られる加圧タンクの一例を示している。同図に示す加圧
タンク１は、大略するとタンク本体２，ノズル３，及び
気体導入口４等よりなる構成とされている。
【０００４】タンク本体２は、内部に半導体装置の製造
プロセスで使用する薬品等の液体５が貯槽されるもので
ありフレーム６に支持されている。また、ノズル３はタ
ンク本体２内に設けられており、下端開口は液体５に開
口すると共に上端開口はタンク本体２に配設されたカプ
ラ７に接続されている。このカプラ７は、半導体製造装
置に接続された配管が接続されている。
プロセスで使用する薬品等の液体５が貯槽されるもので
ありフレーム６に支持されている。また、ノズル３はタ
ンク本体２内に設けられており、下端開口は液体５に開
口すると共に上端開口はタンク本体２に配設されたカプ
ラ７に接続されている。このカプラ７は、半導体製造装
置に接続された配管が接続されている。
【０００５】このノズル３は、タンク本体２に貯槽され
ている液体５をタンク本体２から外部に送液する機能を
奏する。また、気体導入口４はタンク本体２の上部に配
設されており、図示しないコンプレッサー等の加圧気体
生成装置より加圧気体が導入される構成とされている。
ている液体５をタンク本体２から外部に送液する機能を
奏する。また、気体導入口４はタンク本体２の上部に配
設されており、図示しないコンプレッサー等の加圧気体
生成装置より加圧気体が導入される構成とされている。
【０００６】上記構成とされた加圧タンク１において、
タンク本体２から液体５を半導体製造に向け供給（送
液）するには、上記した加圧気体生成装置より加圧気体
を気体導入口４に供給する。これにより、タンク本体２
内における液体５の上部に形成された空間部８は加圧さ
れ、これにより液体５はノズル３内に進入しカプラ７に
接続された配管を通り半導体製造に供給される。
タンク本体２から液体５を半導体製造に向け供給（送
液）するには、上記した加圧気体生成装置より加圧気体
を気体導入口４に供給する。これにより、タンク本体２
内における液体５の上部に形成された空間部８は加圧さ
れ、これにより液体５はノズル３内に進入しカプラ７に
接続された配管を通り半導体製造に供給される。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記構成と
された加圧タンク１に液体５（薬品）を充填する際は、
液体５へのパーティクル混入等を防ぐ為に充填系路は閉
ざされた状態にある。この時、液体５を加圧タンク１に
充填する際、気体による圧送充填を用いた場合には加圧
により気体が液体５内に混入し、この気体が混入した状
態の液体５が加圧タンク１に充填されるおそれがある。
また、ポンプを利用してポンプ充填を行う場合には、ポ
ンプの圧力変動により発泡が発生し、発生した泡（気
泡）が混入した状態の液体５が加圧タンク１に充填され
るおそれがある。
された加圧タンク１に液体５（薬品）を充填する際は、
液体５へのパーティクル混入等を防ぐ為に充填系路は閉
ざされた状態にある。この時、液体５を加圧タンク１に
充填する際、気体による圧送充填を用いた場合には加圧
により気体が液体５内に混入し、この気体が混入した状
態の液体５が加圧タンク１に充填されるおそれがある。
また、ポンプを利用してポンプ充填を行う場合には、ポ
ンプの圧力変動により発泡が発生し、発生した泡（気
泡）が混入した状態の液体５が加圧タンク１に充填され
るおそれがある。
【０００８】一方、上記したようにタンク本体２内は液
体５と加圧気が充填された空間部８とが存在しており、
液体５と加圧気とは接触した状態となっている。従っ
て、加圧気体生成装置より加圧気体を気体導入口４に供
給し、タンク本体２の内部圧力が上昇すると、液体５と
加圧気体との界面において加圧気体が液体５に混入する
おそれがある。
体５と加圧気が充填された空間部８とが存在しており、
液体５と加圧気とは接触した状態となっている。従っ
て、加圧気体生成装置より加圧気体を気体導入口４に供
給し、タンク本体２の内部圧力が上昇すると、液体５と
加圧気体との界面において加圧気体が液体５に混入する
おそれがある。
【０００９】このように、液体５を加圧タンク１に充填
する時、及び液体５を加圧タンク１から送液する時に液
体５に対し気体或いは気泡が混入すると、液体５は気体
或いは気泡を混入した状態で半導体製造装置に供給され
てしまう。このため、液体５を用いて半導体製造処理
（例えば、ウエハーの洗浄，或いは薬品の塗布）を行う
際、液体５に気体或いは気泡が混在すると処理に悪影響
を及ぼし、半導体装置の製造歩留りが低下するおそれが
あるという問題点がある。
する時、及び液体５を加圧タンク１から送液する時に液
体５に対し気体或いは気泡が混入すると、液体５は気体
或いは気泡を混入した状態で半導体製造装置に供給され
てしまう。このため、液体５を用いて半導体製造処理
（例えば、ウエハーの洗浄，或いは薬品の塗布）を行う
際、液体５に気体或いは気泡が混在すると処理に悪影響
を及ぼし、半導体装置の製造歩留りが低下するおそれが
あるという問題点がある。
【００１０】本発明は上記の点に鑑みてなされたもので
あり、タンク本体に貯槽される液体に気体或いは気泡が
混在するのを防止しうる加圧タンクを提供することを目
的とする。
あり、タンク本体に貯槽される液体に気体或いは気泡が
混在するのを防止しうる加圧タンクを提供することを目
的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記課題は、下記の手段
を講じることにより解決することができる。請求項１記
載の発明では、液体が貯槽されるタンク本体と、このタ
ンク本体に設けられ前記液体を前記タンク本体から外部
に送液するノズルと、前記液体を前記タンク本体の外部
に送液するための加圧用気体が導入される気体導入口と
を具備する加圧タンクにおいて、前記タンク本体内を前
記液体が貯槽される液相室と前記加圧用気体が導入され
る気相室とに画成する遮蔽板を、前記タンク本体内に移
動可能な構成で設け、前記気体導入口から前記気相室内
に前記加圧用気体を導入することにより前記遮蔽板を移
動させ、この遮蔽板の移動により前記液体を前記タンク
本体の外部に送液させる構成としたことを特徴とするも
のである。
を講じることにより解決することができる。請求項１記
載の発明では、液体が貯槽されるタンク本体と、このタ
ンク本体に設けられ前記液体を前記タンク本体から外部
に送液するノズルと、前記液体を前記タンク本体の外部
に送液するための加圧用気体が導入される気体導入口と
を具備する加圧タンクにおいて、前記タンク本体内を前
記液体が貯槽される液相室と前記加圧用気体が導入され
る気相室とに画成する遮蔽板を、前記タンク本体内に移
動可能な構成で設け、前記気体導入口から前記気相室内
に前記加圧用気体を導入することにより前記遮蔽板を移
動させ、この遮蔽板の移動により前記液体を前記タンク
本体の外部に送液させる構成としたことを特徴とするも
のである。
【００１２】また、請求項２記載の発明では、前記請求
項１記載の加圧タンクにおいて、前記液相室を前記気相
室の上部に配設すると共に、前記加圧気体を前記気相室
に導入する気体導入ノズルを設けたことを特徴とするも
のである。
項１記載の加圧タンクにおいて、前記液相室を前記気相
室の上部に配設すると共に、前記加圧気体を前記気相室
に導入する気体導入ノズルを設けたことを特徴とするも
のである。
【００１３】また、請求項３記載の発明では、液体が貯
槽されるタンク本体と、このタンク本体に設けられ前記
液体を前記タンク本体から外部に送液するノズルと、前
記液体を前記タンク本体の外部に送液するための加圧用
気体が導入される気体導入口とを具備する加圧タンクに
おいて、前記ノズルに気液分離手段を設け、前記液相室
内の液体が前記ノズルを通り送液される際に前記液体内
に混入する気体を分離除去する構成としたことを特徴と
するものである。
槽されるタンク本体と、このタンク本体に設けられ前記
液体を前記タンク本体から外部に送液するノズルと、前
記液体を前記タンク本体の外部に送液するための加圧用
気体が導入される気体導入口とを具備する加圧タンクに
おいて、前記ノズルに気液分離手段を設け、前記液相室
内の液体が前記ノズルを通り送液される際に前記液体内
に混入する気体を分離除去する構成としたことを特徴と
するものである。
【００１４】更に、請求項４記載の発明では、前記請求
項１記載の加圧タンクにおいて、前記ノズルに気液分離
手段を設け、前記液相室内の液体が前記ノズルを通り送
液される際に前記液体内に混入する気体を分離除去する
構成としたことを特徴とするものである。
項１記載の加圧タンクにおいて、前記ノズルに気液分離
手段を設け、前記液相室内の液体が前記ノズルを通り送
液される際に前記液体内に混入する気体を分離除去する
構成としたことを特徴とするものである。
【００１５】上記の各手段は、次のように作用する。請
求項１記載の発明によれば、タンク本体内に遮蔽板を設
けることにより、タンク本体内を液体が貯槽される液相
室と加圧用気体が導入される気相室とに画成することに
より、液相室内の液体と気相室内の加圧用気体が接触す
ることを防止することができる。よって、加圧用気体が
液体内に混入することを防止する事ができる。
求項１記載の発明によれば、タンク本体内に遮蔽板を設
けることにより、タンク本体内を液体が貯槽される液相
室と加圧用気体が導入される気相室とに画成することに
より、液相室内の液体と気相室内の加圧用気体が接触す
ることを防止することができる。よって、加圧用気体が
液体内に混入することを防止する事ができる。
【００１６】また、遮蔽板は移動可能な構成でタンク本
体内に設けられているため、遮蔽板は気体導入口から気
相室内に加圧用気体を導入することにより移動し、この
移動により液体をタンク本体の外部に送液させることが
できる。よって、遮蔽板を設けても、従来と同様に気体
導入口から気相室内に加圧用気体を導入することによ
り、タンク本体から液体を送液させることができる。
体内に設けられているため、遮蔽板は気体導入口から気
相室内に加圧用気体を導入することにより移動し、この
移動により液体をタンク本体の外部に送液させることが
できる。よって、遮蔽板を設けても、従来と同様に気体
導入口から気相室内に加圧用気体を導入することによ
り、タンク本体から液体を送液させることができる。
【００１７】また、請求項２記載の発明によれば、液相
室を気相室の上部に配設すると共に加圧気体を気相室に
導入する気体導入ノズルを設けたことにより、液体はノ
ズルを用いることなくタンク本体の外部に送液される。
よって、ノズルによる圧力損失を防ぐことが可能とな
り、低い圧力の加圧用気体で液体をタンク本体の外部に
送液することができ、圧力タンクに印加される負荷を低
減することができる。
室を気相室の上部に配設すると共に加圧気体を気相室に
導入する気体導入ノズルを設けたことにより、液体はノ
ズルを用いることなくタンク本体の外部に送液される。
よって、ノズルによる圧力損失を防ぐことが可能とな
り、低い圧力の加圧用気体で液体をタンク本体の外部に
送液することができ、圧力タンクに印加される負荷を低
減することができる。
【００１８】また、請求項３記載の発明によれば、ノズ
ルに気液分離手段を設けたことにより、液体がノズルを
通り送液される際に液体内に混入している気体は分離除
去されるため、液体のみをタンク本体から送液すること
が可能となる。
ルに気液分離手段を設けたことにより、液体がノズルを
通り送液される際に液体内に混入している気体は分離除
去されるため、液体のみをタンク本体から送液すること
が可能となる。
【００１９】更に、請求項４記載の発明によれば、タン
ク本体内に遮蔽板を設けることによりタンク本体内で加
圧用気体が液体内に混入することを防止する事ができ、
かつノズルに気液分離手段を設けたことにより液体がノ
ズルを通り送液される際に液体内に混入している気体は
分離除去され液体のみをタンク本体から送液することが
可能となる。
ク本体内に遮蔽板を設けることによりタンク本体内で加
圧用気体が液体内に混入することを防止する事ができ、
かつノズルに気液分離手段を設けたことにより液体がノ
ズルを通り送液される際に液体内に混入している気体は
分離除去され液体のみをタンク本体から送液することが
可能となる。
【００２０】
【発明の実施の形態】次に本発明の実施の形態について
図面と共に説明する。図１は本発明の第１実施例である
加圧タンク１０を示している。この加圧タンク１０は、
例えば半導体装置の製造プロセスで用いられるものであ
り、半導体装置の製造プロセスで用いられる薬品等の液
体１１が貯槽されるものである。この加圧タンク１０は
半導体製造装置と接続されており、所定のタイミングで
加圧タンク１０ら半導体製造装置に向け液体１１（薬品
等）が送液される構成とされている。
図面と共に説明する。図１は本発明の第１実施例である
加圧タンク１０を示している。この加圧タンク１０は、
例えば半導体装置の製造プロセスで用いられるものであ
り、半導体装置の製造プロセスで用いられる薬品等の液
体１１が貯槽されるものである。この加圧タンク１０は
半導体製造装置と接続されており、所定のタイミングで
加圧タンク１０ら半導体製造装置に向け液体１１（薬品
等）が送液される構成とされている。
【００２１】図１に示されるように、加圧タンク１０は
大略するとタンク本体１２，ノズル１３，気体導入口１
４，及び本実施例の特徴となる遮蔽板１５等を有した構
成とされている。タンク本体１２は圧力容器であり、内
部に半導体装置の製造プロセスで使用する薬品等の液体
１１が貯槽されるものである。このタンク本体１２は固
定フレーム１６により支持されている。
大略するとタンク本体１２，ノズル１３，気体導入口１
４，及び本実施例の特徴となる遮蔽板１５等を有した構
成とされている。タンク本体１２は圧力容器であり、内
部に半導体装置の製造プロセスで使用する薬品等の液体
１１が貯槽されるものである。このタンク本体１２は固
定フレーム１６により支持されている。
【００２２】また、ノズル１３はパイプ状の部材であ
り、タンク本体１２内に上下方向に延在するよう設けら
れている。このノズル１３の下端開口はタンク本体１２
の底面と対向離間するよう配設されており、また上端開
口はタンク本体１２の天板に配設されたカプラ１７に接
続されている。このカプラ１７は、半導体製造装置に接
続された配管（図示せず）が接合される。
り、タンク本体１２内に上下方向に延在するよう設けら
れている。このノズル１３の下端開口はタンク本体１２
の底面と対向離間するよう配設されており、また上端開
口はタンク本体１２の天板に配設されたカプラ１７に接
続されている。このカプラ１７は、半導体製造装置に接
続された配管（図示せず）が接合される。
【００２３】上記のノズル１３は、タンク本体１２に貯
槽されている液体１１をタンク本体１２から外部に送液
するのに用いられる。また、気体導入口１４はタンク本
体１２の天板に配設されると共に、図示しないコンプレ
ッサー等の加圧気体生成装置が接続されている。そし
て、この加圧気体生成装置が駆動することにより、気体
導入口１４には加圧された気体（以下、加圧用気体とい
う）が供給される構成とされている。
槽されている液体１１をタンク本体１２から外部に送液
するのに用いられる。また、気体導入口１４はタンク本
体１２の天板に配設されると共に、図示しないコンプレ
ッサー等の加圧気体生成装置が接続されている。そし
て、この加圧気体生成装置が駆動することにより、気体
導入口１４には加圧された気体（以下、加圧用気体とい
う）が供給される構成とされている。
【００２４】更に、タンク本体１２の内部には、本実施
例の特徴となる遮蔽板１５が配設されている。この遮蔽
板１５は、タンク本体１２内を液体１１が貯槽される液
相室１８と加圧用気体が導入される気相室１９とに画成
するものであり、またタンク本体１２内を気密状態を維
持しつつ図中上下方向に移動可能な構成とされている
る。
例の特徴となる遮蔽板１５が配設されている。この遮蔽
板１５は、タンク本体１２内を液体１１が貯槽される液
相室１８と加圧用気体が導入される気相室１９とに画成
するものであり、またタンク本体１２内を気密状態を維
持しつつ図中上下方向に移動可能な構成とされている
る。
【００２５】このため、遮蔽板１５のタンク本体１２の
内壁と摺接する部位、及びノズル１３が貫通する部位に
は、夫々タンク本体１２の内壁及びノズル１３に対して
遮蔽板１５が気密状態を維持しつつ移動できるよう、ゴ
ム等よりなるＯリング２０が配設されている。
内壁と摺接する部位、及びノズル１３が貫通する部位に
は、夫々タンク本体１２の内壁及びノズル１３に対して
遮蔽板１５が気密状態を維持しつつ移動できるよう、ゴ
ム等よりなるＯリング２０が配設されている。
【００２６】上記構成とされた加圧タンク１０におい
て、タンク本体１２から液体１１を半導体製造に向け供
給（送液）するには、上記した加圧気体生成装置より加
圧気体を気体導入口１４に供給する。これにより、加圧
気体はタンク本体１２内の気相室１９内に導入され、気
相室１９の内圧は上昇する。
て、タンク本体１２から液体１１を半導体製造に向け供
給（送液）するには、上記した加圧気体生成装置より加
圧気体を気体導入口１４に供給する。これにより、加圧
気体はタンク本体１２内の気相室１９内に導入され、気
相室１９の内圧は上昇する。
【００２７】気相室１９の内圧が上昇すると、タンク本
体１２内に移動可能に構成で配設されている遮蔽板１５
は加圧気体により下方に向け移動を開始する。これによ
り、遮蔽板１５の下部に位置する液相室１８の体積は減
少し、液相室１８に貯槽されている液体１１はノズル１
３内を通りカプラ７に接続された配管を介して半導体製
造に供給される。
体１２内に移動可能に構成で配設されている遮蔽板１５
は加圧気体により下方に向け移動を開始する。これによ
り、遮蔽板１５の下部に位置する液相室１８の体積は減
少し、液相室１８に貯槽されている液体１１はノズル１
３内を通りカプラ７に接続された配管を介して半導体製
造に供給される。
【００２８】この際、本実施例に係る加圧タンク１０
は、タンク本体１２内に遮蔽板１５が設けられているた
め、タンク本体１２の内部は液体１１が貯槽される液相
室１８と加圧用気体が導入される気相室１９とに画成さ
れている。このため、液相室１８内の液体１１と気相室
１９内の加圧用気体とは遮蔽板１５により分離されてお
り、液体１１と加圧用気体とが接触することを防してい
る。
は、タンク本体１２内に遮蔽板１５が設けられているた
め、タンク本体１２の内部は液体１１が貯槽される液相
室１８と加圧用気体が導入される気相室１９とに画成さ
れている。このため、液相室１８内の液体１１と気相室
１９内の加圧用気体とは遮蔽板１５により分離されてお
り、液体１１と加圧用気体とが接触することを防してい
る。
【００２９】従って、上記のように液体１１を半導体製
造に供給するために加圧処理しても、気相室１９内の加
圧用気体が液体１１内に混入することを確実に防止する
ことができる。これにより、液体１１を用いて半導体製
造処理（例えば、ウエハーの洗浄，或いは薬品の塗布）
を行っても、従来発生していた気体或いは気泡の液体１
１内への混在に起因して発生していた悪影響を抑制で
き、半導体装置の製造歩留りを向上させることができ
る。
造に供給するために加圧処理しても、気相室１９内の加
圧用気体が液体１１内に混入することを確実に防止する
ことができる。これにより、液体１１を用いて半導体製
造処理（例えば、ウエハーの洗浄，或いは薬品の塗布）
を行っても、従来発生していた気体或いは気泡の液体１
１内への混在に起因して発生していた悪影響を抑制で
き、半導体装置の製造歩留りを向上させることができ
る。
【００３０】また、遮蔽板１５は移動可能な構成でタン
ク本体１２内に設けられているため、遮蔽板１５は気体
導入口１４から気相室１９内に加圧用気体を導入するこ
とにより移動し、この移動に伴い液体１１をタンク本体
１２の外部に送液させることができる。よって、遮蔽板
１５を設けても、従来と同様に気体導入口１４から加圧
用気体を導入するだけの作業でタンク本体１２から液体
１１を送液させることができる。
ク本体１２内に設けられているため、遮蔽板１５は気体
導入口１４から気相室１９内に加圧用気体を導入するこ
とにより移動し、この移動に伴い液体１１をタンク本体
１２の外部に送液させることができる。よって、遮蔽板
１５を設けても、従来と同様に気体導入口１４から加圧
用気体を導入するだけの作業でタンク本体１２から液体
１１を送液させることができる。
【００３１】続いて、本発明の第２実施例について説明
する。図２は本発明の第２実施例である加圧タンク１０
Ａの断面図である。尚、同図において、図１に示した第
１実施例である加圧タンク１０と同一構成については同
一符号を附してその説明を省略する。
する。図２は本発明の第２実施例である加圧タンク１０
Ａの断面図である。尚、同図において、図１に示した第
１実施例である加圧タンク１０と同一構成については同
一符号を附してその説明を省略する。
【００３２】前記した第１実施例に係る加圧タンク１０
は、遮蔽板１５を境界としてその上部に気相室１９を形
成すると共に下部に液相室１８を形成する構成とされて
いた。これに対し本実施例では、タンク本体１２に内接
される遮蔽板１５を境界として、その上部に液相室１８
を形成すると共に下部に気相室１９を形成したことを特
徴とするものである。
は、遮蔽板１５を境界としてその上部に気相室１９を形
成すると共に下部に液相室１８を形成する構成とされて
いた。これに対し本実施例では、タンク本体１２に内接
される遮蔽板１５を境界として、その上部に液相室１８
を形成すると共に下部に気相室１９を形成したことを特
徴とするものである。
【００３３】また、本実施例に係る加圧タンク１０Ａで
は、第１実施例に係る加圧タンク１０に設けられていた
ノズル１３は配設されておらず、その代わりにタンク本
体１２内には気体導入口１４に供給された加圧気体を気
相室に導入する気体導入ノズル２１が設けられている。
この気体導入ノズル２１の下端部は気相室１９に接続さ
れており、また上端部は気体導入口１４に接続されてい
る。
は、第１実施例に係る加圧タンク１０に設けられていた
ノズル１３は配設されておらず、その代わりにタンク本
体１２内には気体導入口１４に供給された加圧気体を気
相室に導入する気体導入ノズル２１が設けられている。
この気体導入ノズル２１の下端部は気相室１９に接続さ
れており、また上端部は気体導入口１４に接続されてい
る。
【００３４】上記のように、本実施例に係る加圧タンク
１０Ａでは、液相室１８を気相室１９の上部に配設する
と共に、加圧気体を気相室１９に導入する気体導入ノズ
ル２１を設けたことにより、液体１１はノズル（第１実
施例で設けられていたノズル１３）を用いることなくタ
ンク本体１２の外部に送液される。よって、ノズル１３
による圧力損失を防ぐことが可能となり、低い圧力の加
圧用気体で液体１１をタンク本体１２の外部に送液する
ことができ、圧力タンク１０Ａに印加される負荷を低減
することができる。
１０Ａでは、液相室１８を気相室１９の上部に配設する
と共に、加圧気体を気相室１９に導入する気体導入ノズ
ル２１を設けたことにより、液体１１はノズル（第１実
施例で設けられていたノズル１３）を用いることなくタ
ンク本体１２の外部に送液される。よって、ノズル１３
による圧力損失を防ぐことが可能となり、低い圧力の加
圧用気体で液体１１をタンク本体１２の外部に送液する
ことができ、圧力タンク１０Ａに印加される負荷を低減
することができる。
【００３５】続いて、本発明の第３実施例について説明
する。図３は本発明の第３実施例である加圧タンク１０
Ｂの断面図である。尚、同図においても、図１に示した
第１実施例である加圧タンク１０と同一構成については
同一符号を附してその説明を省略する。
する。図３は本発明の第３実施例である加圧タンク１０
Ｂの断面図である。尚、同図においても、図１に示した
第１実施例である加圧タンク１０と同一構成については
同一符号を附してその説明を省略する。
【００３６】本実施例に係る加圧タンク１０Ｂは、前記
した第１及び第２実施例に係る加圧タンク１０，１０Ａ
と異なりタンク本体１２に遮蔽板１５が配設されておら
ず、従来の加圧タンク１（図５参照）に近い構造とされ
ている。しかるに、本実施例に係る加圧タンク１０Ｂで
は、ノズル２２に気液分離手段を設け、液相室１８内の
液体１１がノズル２２を通り送液される際に液体１１内
に混入する気体が分離除去されるよう構成したことを特
徴とするものである。
した第１及び第２実施例に係る加圧タンク１０，１０Ａ
と異なりタンク本体１２に遮蔽板１５が配設されておら
ず、従来の加圧タンク１（図５参照）に近い構造とされ
ている。しかるに、本実施例に係る加圧タンク１０Ｂで
は、ノズル２２に気液分離手段を設け、液相室１８内の
液体１１がノズル２２を通り送液される際に液体１１内
に混入する気体が分離除去されるよう構成したことを特
徴とするものである。
【００３７】本実施例では、気液分離手段として気液分
離膜２３を用いており、この気液分離膜２３を筒状に巻
回してノズル２２内に配設することにより、ノズル２２
は二重ノズルの構造とされている（以下、ノズル２２を
二重ノズル２２という）。気液分離膜２３は、気体或い
は気泡が混入した液体１１が通過した際、気体或いは気
泡と液体１１とを分離する機能を有している。従って、
二重ノズル２２に気液分離膜２３を設けたことにより、
液体１１が二重ノズル２２を通り送液される際、液体１
１内に混入している気体或いは気泡は気液分離膜２３で
分離除去されるため、液体１１のみをタンク本体１２か
ら半導体製造装置に向け送液することが可能となる。
尚、気液分離膜２３で分離された気体或いは気泡は、カ
プラ７に設けられている排気口２４からタンク本体１２
の外部に排気される。
離膜２３を用いており、この気液分離膜２３を筒状に巻
回してノズル２２内に配設することにより、ノズル２２
は二重ノズルの構造とされている（以下、ノズル２２を
二重ノズル２２という）。気液分離膜２３は、気体或い
は気泡が混入した液体１１が通過した際、気体或いは気
泡と液体１１とを分離する機能を有している。従って、
二重ノズル２２に気液分離膜２３を設けたことにより、
液体１１が二重ノズル２２を通り送液される際、液体１
１内に混入している気体或いは気泡は気液分離膜２３で
分離除去されるため、液体１１のみをタンク本体１２か
ら半導体製造装置に向け送液することが可能となる。
尚、気液分離膜２３で分離された気体或いは気泡は、カ
プラ７に設けられている排気口２４からタンク本体１２
の外部に排気される。
【００３８】続いて、本発明の第４実施例について説明
する。図４は本発明の第４実施例である加圧タンク１０
Ｃの断面図である。尚、同図において、図２に示した第
２実施例である加圧タンク１０Ａ、及び図３に示した第
３実施例である加圧タンク１０Ｂと同一構成については
同一符号を附してその説明を省略する。
する。図４は本発明の第４実施例である加圧タンク１０
Ｃの断面図である。尚、同図において、図２に示した第
２実施例である加圧タンク１０Ａ、及び図３に示した第
３実施例である加圧タンク１０Ｂと同一構成については
同一符号を附してその説明を省略する。
【００３９】本実施例に係る加圧タンク１０Ｃは、第１
実施例で設けた遮蔽板１５と、第２実施例で設けた気液
分離膜２３を共に設けたことを特徴とするものである。
本実施例のように遮蔽板１５及び気液分離膜２３を共に
設けることにより、タンク本体１２内で加圧用気体が液
体内に混入することを防止する事ができると共に、液体
１１が二重ノズル２２を通り送液される際に液体１１内
に混入している気体は分離除去され液体１１のみをタン
ク本体１２から送液することが可能となる。
実施例で設けた遮蔽板１５と、第２実施例で設けた気液
分離膜２３を共に設けたことを特徴とするものである。
本実施例のように遮蔽板１５及び気液分離膜２３を共に
設けることにより、タンク本体１２内で加圧用気体が液
体内に混入することを防止する事ができると共に、液体
１１が二重ノズル２２を通り送液される際に液体１１内
に混入している気体は分離除去され液体１１のみをタン
ク本体１２から送液することが可能となる。
【００４０】
【発明の効果】上述の如く本発明によれば、次の種々の
効果を実現することができる。請求項１記載の発明によ
れば、遮蔽板によりタンク本体内を液体が貯槽される液
相室と加圧用気体が導入される気相室とに画成すること
により、液相室内の液体と気相室内の加圧用気体が接触
することを防止することができ、よって加圧用気体が液
体内に混入することを防止する事ができる。
効果を実現することができる。請求項１記載の発明によ
れば、遮蔽板によりタンク本体内を液体が貯槽される液
相室と加圧用気体が導入される気相室とに画成すること
により、液相室内の液体と気相室内の加圧用気体が接触
することを防止することができ、よって加圧用気体が液
体内に混入することを防止する事ができる。
【００４１】また、請求項２記載の発明によれば、液体
はノズルを用いることなく液体をタンク本体の外部に送
液されるため、ノズルによる圧力損失を防ぐことが可能
となり、低い圧力の加圧用気体で液体をタンク本体の外
部に送液することができ、圧力タンクに印加される負荷
を低減することができる。
はノズルを用いることなく液体をタンク本体の外部に送
液されるため、ノズルによる圧力損失を防ぐことが可能
となり、低い圧力の加圧用気体で液体をタンク本体の外
部に送液することができ、圧力タンクに印加される負荷
を低減することができる。
【００４２】また、請求項３記載の発明によれば、ノズ
ルに気液分離手段を設けたことにより、液体がノズルを
通り送液される際に液体内に混入している気体は分離除
去されるため、液体のみをタンク本体から送液すること
が可能となる。更に、請求項４記載の発明によれば、タ
ンク本体内に遮蔽板を設けることによりタンク本体内で
加圧用気体が液体内に混入することを防止する事がで
き、かつノズルに気液分離手段を設けたことにより液体
がノズルを通り送液される際に液体内に混入している気
体は分離除去され液体のみをタンク本体から送液するこ
とが可能となる。
ルに気液分離手段を設けたことにより、液体がノズルを
通り送液される際に液体内に混入している気体は分離除
去されるため、液体のみをタンク本体から送液すること
が可能となる。更に、請求項４記載の発明によれば、タ
ンク本体内に遮蔽板を設けることによりタンク本体内で
加圧用気体が液体内に混入することを防止する事がで
き、かつノズルに気液分離手段を設けたことにより液体
がノズルを通り送液される際に液体内に混入している気
体は分離除去され液体のみをタンク本体から送液するこ
とが可能となる。
【図１】本発明の第１実施例である加圧タンクを示す断
面図である。
面図である。
【図２】本発明の第２実施例である加圧タンクを示す断
面図である。
面図である。
【図３】本発明の第３実施例である加圧タンクを示す断
面図である。
面図である。
【図４】本発明の第４実施例である加圧タンクを示す断
面図である。
面図である。
【図５】従来の加圧タンクの一例を示す断面図である。
１０，１０Ａ，１０Ｂ，１０Ｃ 加圧タンク １１ 液体 １２ タンク本体 １３ ノズル １４ 気体導入口 １５ 遮蔽板 １７ カプラ １８ 液相室 １９ 気相室 ２０ Ｏリング ２１ 気体導入ノズル ２２ 二重ノズル ２３ 気液分離膜 ２４ 排気口
Claims (4)
- 【請求項１】 液体が貯槽されるタンク本体と、 該タンク本体に設けられ前記液体を前記タンク本体から
外部に送液するノズルと、 前記液体を前記タンク本体の外部に送液するための加圧
用気体が導入される気体導入口とを具備する加圧タンク
において、 前記タンク本体内を前記液体が貯槽される液相室と前記
加圧用気体が導入される気相室とに画成する遮蔽板を前
記タンク本体内に移動可能な構成で設け、 前記気体導入口から前記気相室内に前記加圧用気体を導
入することにより前記遮蔽板を移動させ、該遮蔽板の移
動により前記液体を前記タンク本体の外部に送液させる
構成としたことを特徴とする加圧タンク。 - 【請求項２】 請求項１記載の加圧タンクにおいて、 前記液相室を前記気相室の上部に配設すると共に、前記
加圧気体を前記気相室に導入する気体導入ノズルを設け
たことを特徴とする加圧タンク。 - 【請求項３】 液体が貯槽されるタンク本体と、 該タンク本体に設けられ前記液体を前記タンク本体から
外部に送液するノズルと、 前記液体を前記タンク本体の外部に送液するための加圧
用気体が導入される気体導入口とを具備する加圧タンク
において、 前記ノズルに気液分離手段を設け、前記液相室内の液体
が前記ノズルを通り送液される際に前記液体内に混入す
る気体を分離除去する構成としたことを特徴とする加圧
タンク。 - 【請求項４】 請求項１記載の加圧タンクにおいて、 前記ノズルに気液分離手段を設け、前記液相室内の液体
が前記ノズルを通り送液される際に前記液体内に混入す
る気体を分離除去する構成としたことを特徴とする加圧
タンク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8007710A JPH09193994A (ja) | 1996-01-19 | 1996-01-19 | 加圧タンク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8007710A JPH09193994A (ja) | 1996-01-19 | 1996-01-19 | 加圧タンク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09193994A true JPH09193994A (ja) | 1997-07-29 |
Family
ID=11673305
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8007710A Pending JPH09193994A (ja) | 1996-01-19 | 1996-01-19 | 加圧タンク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09193994A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002333097A (ja) * | 2001-05-09 | 2002-11-22 | Nippon Soken Inc | 液化ガス用燃料タンク及びタンク内圧の制御装置 |
| CN102230747A (zh) * | 2011-06-28 | 2011-11-02 | 李树生 | 钢铁冶炼废渣高温余热发电方法及装置 |
| JP2016176207A (ja) * | 2015-03-19 | 2016-10-06 | Ｊｆｅ継手株式会社 | タンク |
| JP2018080543A (ja) * | 2016-11-18 | 2018-05-24 | 株式会社荏原製作所 | 悪臭防止型排水設備 |
-
1996
- 1996-01-19 JP JP8007710A patent/JPH09193994A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002333097A (ja) * | 2001-05-09 | 2002-11-22 | Nippon Soken Inc | 液化ガス用燃料タンク及びタンク内圧の制御装置 |
| JP4588917B2 (ja) * | 2001-05-09 | 2010-12-01 | 株式会社日本自動車部品総合研究所 | 液化ガス用燃料タンク及びタンク内圧の制御装置 |
| CN102230747A (zh) * | 2011-06-28 | 2011-11-02 | 李树生 | 钢铁冶炼废渣高温余热发电方法及装置 |
| WO2013000175A1 (zh) * | 2011-06-28 | 2013-01-03 | Li Shusheng | 钢铁冶炼废渣高温余热发电方法及装置 |
| JP2016176207A (ja) * | 2015-03-19 | 2016-10-06 | Ｊｆｅ継手株式会社 | タンク |
| JP2018080543A (ja) * | 2016-11-18 | 2018-05-24 | 株式会社荏原製作所 | 悪臭防止型排水設備 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20041028 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20041102 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050308 |