JPH09181008A - 半導体製造装置 - Google Patents

半導体製造装置

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Publication number
JPH09181008A
JPH09181008A JP7336296A JP33629695A JPH09181008A JP H09181008 A JPH09181008 A JP H09181008A JP 7336296 A JP7336296 A JP 7336296A JP 33629695 A JP33629695 A JP 33629695A JP H09181008 A JPH09181008 A JP H09181008A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
core tube
tube
boat
manufacturing apparatus
furnace tube
Prior art date
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Pending
Application number
JP7336296A
Other languages
English (en)
Inventor
Hirohisa Kato
博久 加藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fuji Electric Co Ltd
Original Assignee
Fuji Electric Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Electric Co Ltd filed Critical Fuji Electric Co Ltd
Priority to JP7336296A priority Critical patent/JPH09181008A/ja
Publication of JPH09181008A publication Critical patent/JPH09181008A/ja
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】炉心管内をマザーボートが直進できるようにし
て、半導体ウェハのボートからの落下やボートの転倒を
防止する。 【解決手段】炉心管1の内側にマザーボート3の車輪6
の間隔に合わせて、2本の耐熱性の一端が封止された円
筒状のパイプ2をガイド用に設置し、その封止部が炉心
管1の内部に来るようにパイプ2を設置し、さらにこの
パイプ2を炉心管1のガス導入口7側で炉心管1を貫通
するように設置し、このパイプ2が設置された部分が下
方に位置するようにして、炉心管1を図示されていない
熱処理炉に装着する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、半導体ウェハを
熱処理する半導体製造装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体ウェハへの不純物原子の拡散や酸
化膜付けなどで使用される半導体製造装置では、半導体
ウェハを熱処理する熱処理炉に用いる炉心管はガス導入
部を備えた円筒状をしており、その中に半導体ウェハを
積載したボート(支持体)が、炉心管との摩擦を低減す
るために車輪の付いたマザーボート(運搬台)に乗せら
れ、炉心管に挿入され、熱処理に最適な位置まで運ば
れ、半導体ウェハが熱処理されていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】従来の炉心管では、マ
ザーボートによって半導体ウェハを挿入する際、炉心管
に歪みや傾きがある場合やマザーボートにねじれや炉心
管と車輪との当たり具合が悪い場合にはマザーボートが
炉心管内を直進できず、螺旋状に移動し、半導体ウェハ
が落下したり、半導体ウェハを積載したボートが転倒し
たりするという不都合が生じる。
【0004】この発明の目的は、炉心管内をマザーボー
トが直進できるようにして、半導体ウェハのボートから
の落下やボートの転倒を防止できる半導体製造装置を提
供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】前記の目的を達成するた
めに、半導体ウェハを支持体にセットし、該支持体を車
輪付き運搬台に乗せ、炉心管内に運搬台を挿入し、半導
体ウェハを熱処理する半導体製造装置において、炉心管
内を前記の運搬台が直進するように、車輪をガイドする
ガイド管を具備する構成とする。この車輪を挟むように
2本のガイド管が設置されるとよい。またガイド管がガ
イド管が一端封止の円筒体(パイプ)であり、かつ、ガ
イド管が炉心管のガス導入口側で炉心管を貫通して設置
され、さらにガイド管の封止部が炉心管内に位置するよ
うにガイド管が設置されると効果的である。
【0006】前記の構成とすることで、半導体ウェハを
炉心管に挿入する際、ボートが螺旋状に進むことがな
く、直進できる。
【0007】
【発明の実施の形態】図1はこの発明の一実施例の要部
構成図で、同図(a)は側面図、同図(b)は同図
(a)を矢印Aからみた正面図である。炉芯管1の内側
にマザーボート3の車輪6の間隔に合わせて、2本の耐
熱性の一端が封止された円筒状のパイプ2をガイド用に
設置し、その封止部が炉心管1の内部に来るようにパイ
プ2を設置し、さらにこのパイプ2を炉心管1のガス導
入口7側で炉心管1を貫通するように設置し、このパイ
プ2が設置された部分が下方に位置するようにして、炉
芯管1を図示されていない熱処理炉に装着する。この2
本のパイプ2でマザーボート3は直進し、半導体ウェハ
5がボート4から落下することもなく、またマザーボー
ト3上でボート4が転倒することもない。またこのパイ
プ2内に熱電対を挿入して、熱処理時の炉芯管内温度を
正確に検出し熱処理炉の温度を正確に制御することもで
きる。さらにパイプ2を設置することで、経時変化で発
生した歪みを有する炉芯管1でも使用でき、炉心管1の
交換頻度を大幅に低減でき、炉心管1の使用率を上げる
ことができる。尚、パイプの材質は1200℃以上に耐
えられる石英や炭化ケイ素(SiC)などである。
【0008】
【発明の効果】この発明によると、炉心管にガイド用の
パイプを設置することで、マザーボートが炉心管内を直
進でき、半導体ウェハの落下や半導体ウェハを積載した
ボートの転倒を防止できる。またパイプに熱電対を装着
することで炉心管内の温度を検出し、熱処理炉の温度を
正確に制御することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施例の要部構成図で、(a)は
側面図、(b)は(a)を矢印Aからみた正面図
【符号の説明】
1 炉心管 2 パイプ 3 マザーボート 4 ボート 5 半導体ウェハ 6 車輪 7 ガス導入口

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】半導体ウェハを支持体にセットし、該支持
    体を車輪付き運搬台に乗せ、炉心管内に運搬台を挿入
    し、半導体ウェハを熱処理する半導体製造装置におい
    て、炉心管内を前記の運搬台が直進するように、車輪を
    ガイドするガイド管が具備されることを特徴とする半導
    体製造装置。
  2. 【請求項2】車輪を挟むように2本のガイド管が設置さ
    れることを特徴とする請求項1記載の半導体製造装置。
  3. 【請求項3】ガイド管が一端封止の円筒体(パイプ)で
    あり、かつ、ガイド管が炉心管のガス導入口側で炉心管
    を貫通して設置され、さらにガイド管の封止部が炉心管
    内に位置するようにガイド管が設置されることを特徴と
    する請求項1記載の半導体製造装置。
JP7336296A 1995-12-25 1995-12-25 半導体製造装置 Pending JPH09181008A (ja)

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012015327A (ja) * 2010-06-30 2012-01-19 Sumco Corp ウェーハチャージ補助台
JP2015046610A (ja) * 2014-10-02 2015-03-12 光洋サーモシステム株式会社 連続拡散処理装置
JP2015188095A (ja) * 2015-05-20 2015-10-29 光洋サーモシステム株式会社 連続拡散処理装置
JP2015201650A (ja) * 2015-05-20 2015-11-12 光洋サーモシステム株式会社 連続拡散処理装置
JP2015201651A (ja) * 2015-05-20 2015-11-12 光洋サーモシステム株式会社 連続拡散処理装置

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