JPH09178777A - プローブユニット - Google Patents
プローブユニットInfo
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- JPH09178777A JPH09178777A JP7349850A JP34985095A JPH09178777A JP H09178777 A JPH09178777 A JP H09178777A JP 7349850 A JP7349850 A JP 7349850A JP 34985095 A JP34985095 A JP 34985095A JP H09178777 A JPH09178777 A JP H09178777A
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- insulating film
- bump
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Abstract
とメッキ処理法の併用或いはエッチング法により多数の
リードを微小ピッチに並列せしめると共に、上記リード
端を良好な弾性を以って相手側端子に健全に加圧接触す
るようにする。 【解決手段】絶縁材から成るベース6の表面に密着せる
多数のリード3を並列して延在し、該リード3の表面に
加圧接触用のバンプ5を突成し、上記リード3及びバン
プ5を補圧用弾性体7でバックアップしたプローブユニ
ット。
Description
査等に使用されるプローブユニットに関する。
列に配置される電極層は益々微小ピッチ化、多極化する
傾向にあり、検査装置側においてもこれら微小ピッチ・
多極化に対応するプローブユニットの提供が必要とな
る。
m以下、その極数は約2000〜4000本であり、こ
の数値はそのままプローブユニットにおけるリードの製
作条件として求められる。
小ピッチで並列して延在するリード群を有し、このリー
ド群はエッチング法やマスクを通して光照射して形成さ
れた蝕刻溝に金属材を充填するアディティブ法等を使用
して形成され、これを絶縁板の表面に上記並列状態に接
着し、各リードの先端を絶縁板の端縁より張り出して液
晶パネルの電極層との接触に供する加圧端子を構成して
いる。
ニットはエッチング法やアディティブ法によりリードの
微小ピッチ化が可能である利点を有する反面、絶縁板の
端縁からリード端を突き出して加圧端子を形成し、これ
にバネ機能を持たせているので、リードの微細化に伴な
いバネ機能が減殺され、接触安定性の確保が難しくなっ
てきている現状にある。
有効に解決するプローブユニットを提供するものであ
る。このプローブユニットはベースの表面に多数のリー
ドを並列して延在し、このリードの表面に加圧接触用の
バンプを突成し、該バンプにより加圧接触力を確保する
構成としている。
した位置において補圧用弾性体でバックアップし、上記
バンプを補圧する構成としたものである。
て保有する絶縁フィルムをベースの表面に接着すると共
に、上記リードの表面にバンプを突成して加圧接触力を
確保する構成としている。
補圧用弾性体でバックアップし、バンプを補圧する構成
としたものである。
バックアップによりバンプを液晶パネル等の電極層に代
表される電子部品の外部接点に充分な弾力を以って健全
に加圧接触することができる。
を有していればAu,Al,Cu,Ni等の金属で形成
し、又はガラス、樹脂等の絶縁物の表面に金属層を形成
したものを使用する。又導電ゴムによりバンプを形成す
ることができる。
ドはフォトリソグラフィ技術を用いたアディティブ法と
メッキ処理法の併用によりメッキ成長させる方法、或い
はエッチング法により形成する。又リードは良導電性を
有し良好な弾性を有する素材、例えばベリリウム銅(B
eCu)やNi等が用いられる。
用して並列リードの微小ピッチ化と多極化に有利に対応
できる。又上記バンプ(突起物)はディスペンサー等で
形成するか、ワイヤーボンディング技術を用い形成する
か、メッキ成長又はエッチングを用い形成する。
上記並列リードを透視可能にし、接触対象となる電気部
品の外部端子との位置合わせを容易にする。
材で形成し、該絶縁フィルムの端縁をベースの端縁から
若干量だけ張り出し、該絶縁フィルムの端縁に配置され
たリード端を透視可能にして上記外部端子との位置合わ
せを容易にする。
縁フィルム1の表面に金属層2を蒸着して積層導電フィ
ルムを形成し(図8)、この金属層2をリード下地とし
てその表面にリード3を並列状態にメッキ成長させる
(図9)。
め形成された金属箔)を熱圧着により絶縁フィルム1を
溶融して接着し、この金属層2をリード下地としてその
表面にリード3を並列状態にメッキ成長させる(図
9)。
ィティブ法とメッキ処理法を用い、図8に仮想線で示す
ようにリードパターンと同一パターンの絶縁隔壁4をフ
ォトリソグラフィ技術により金属層2の表面に形成し、
この絶縁隔壁4間の溝内において溝内底面の金属層2を
電極とするメッキ処理によりメッキ金属を成長させ、次
で上記絶縁隔壁4を除去し、次でこの各リード3間の金
属層2部分をエッチングで除去することにより図9に示
す絶縁フィルム1の表面にリード3が並列して密着され
たリードフレームを形成する。
表面にディスペンサー等を用いて加圧接触用のバンプ5
を突成する。
ンサー法を用いて、先端が加圧接触に供される尖った形
状にする。又は上記バンプ5は図5に示すようにワイヤ
ーボンディング法を用いて、基部の上部に加圧接触に供
される小突起が形成された形状にする。又は上記バンプ
5は図6に示すように、メッキ成長又はエッチング法を
用いて、略矩形断面を有して平面を加圧接触に供する形
状にする。又上記バンプ5は半球状等の球面形状にする
ことができる。上記バンプ5はベース6及びフィルム1
の一端縁に沿い配置する。
プ5を形成した絶縁フィルム1を図1乃至図3に示すよ
うに、剛性を有するベース6の表面に接着すると共に、
上記リード3及びバンプ5を剛体ベース6と絶縁フィル
ム1間に介在した補圧用弾性体7でバックアップする。
着等して予め上記バンプ5を突成した位置と対応する位
置に保有させ、この弾性体7を覆うように絶縁フィルム
1を貼り合わせて上記フィルム1を介しリード3とバン
プ5とをバックアップする。
性シート又は角柱形の弾性ブロックで形成し、これをベ
ース6の表面に露出状態に埋込み接着したものを形成
し、これにリード3とバンプ5を有する絶縁フィルム2
を両者3,5を形成した側と反対側の表面を以ってベー
ス6に接着して上記弾性体7を覆い、この弾性体7の上
に上記バンプ5を配したリード部分が支持される積層構
造とする。
ックは絶縁フィルム1の接着界面、即ちベース6の表面
と同一レベルとするかベース6の表面より僅かに突出し
た状態にし、突出状態のまま絶縁フィルム1を貼り合わ
せるか、又は弾性体5を圧縮しつつ絶縁フィルム1を貼
り合わせる。
状の弾性ロッドで形成し、この弾性ロッドの半身が突出
するようにベース6の表面に埋込み接着し、この弾性ロ
ッドを覆うように上記絶縁フィルム1を接着し、弾性ロ
ッドが全リードを横断するように配した例を示してい
る。
突成した部位において上記ロッド状の補圧用弾性体の突
出部を覆い、この突出部の形状に順応して突出状態とな
る。
例えば液晶パネル8の電極層9にバンプ5が押し付けら
れることにより圧縮され、その反作用としてバンプ5を
電極層9に良好な弾力を以って加圧接触せしめる。
るように上記ベース6の表面に接着し、該フィルム端縁
部表面に配置された並列リード端を上記ベース6の端縁
より張り出している。
透明の合成樹脂フィルムで形成し、上記張り出し部10
によりリード3端がフィルム1を通して透視できるよう
にし、液晶パネル8の電極層9の如き電子部品端子との
位置合わせを容易にする。
ックの如き絶縁材で形成される。又は絶縁フィルム1で
絶縁されるので金属材を用いることができる。
絶縁フィルム1の表面にリード3とバンプ5を形成し、
このフィルム1をベース6の表面に貼り合わせて補圧用
弾性体でバックアップした例を示しているが、他例とし
て図11に示すように、上記絶縁フィルム1を介さずに
上記ベース6にリード3を並列状態に密着し、該リード
3の表面にバンプ5を突成することができる。
いて絶縁フィルム1を除去した図によって表わされ、又
は図8乃至図10において絶縁フィルム1をベース6に
置き換える図によって表わされる。
フレームは前記したエッチング法等により形成し、ベー
ス6の表面に貼り合わせられる。又は図8乃至図10に
基いて説明したアディティブ法とメッキ処理法の併用に
よりベース6の表面に金属層2を形成し、この金属層2
の表面にリード3をメッキ成長させ、リード3間の金属
層2部分をエッチングにより除去することによって形成
される。
ィルム1を剛体ベース6に置き換えて援用される。同様
に図4乃至図6に基くバンプ5に関する説明も絶縁フィ
ルム1を剛体ベース6に置き換えて援用できる。
1乃至図3に基き説明した如き補圧用弾性体7を有し、
この補圧用弾性体7をバンプ5を突成した位置において
ベース6とリード3間に介在し、この弾性体7の補圧下
において液晶パネル8の如き電気部品の端子にバンプ5
を加圧接触せしめる。
明又は半透明の合成樹脂、ガラス、セラミック、硬質ゴ
ム等の絶縁材にて形成し、このベース6を通して上記リ
ード3端が透視できるようにし、接触対象たる電子部品
端子との位置合わせを容易にする。
図7に示すように形成できる。このプローブユニットは
方形ベース6の表面に前記フィルム1を介し、又は介さ
ずして多数のリード3を並列状態に密着し、各並列リー
ド3を方形ベース6の中心部から対向する二辺又は四辺
に夫々延在するように配し、上記バンプを配した位置に
おいてリードをバックアップしバンプをバックアップし
ている。
IC、又は配線回路基板への接触手段として有効であ
る。
ィルムを介し、又は介さずして並列されたリードを相手
側端子に加圧接触する際に、バンプによって集中加圧力
が得られると共に、該バンプを配した位置でバックアッ
プする前記補圧用弾性体により上記バンプを充分な弾力
を以って相手側端子に健全に加圧接触させ、高信頼の接
触が確保できる。
グラフィ技術を用いたアディティブ法や、エッチング法
によって微細化する特徴が有効に活用できる。
接着して形成したプローブユニットを液晶パネルに接触
した状態を以って示す断面図。
ルム端縁を張り出した構造のプローブユニットの断面
図。
ルに接触した状態を以って示すプローブユニットの断面
図。
表面に突成されるバンプを例示する断面図。
トの斜視図。
フィルムの表面に金属層を蒸着した状態を示す断面図。
して並列リード群を形成した状態を一部切欠して示す斜
視図。
示す断面図。
ムを介さずしてベースの表面に直接形成した例を示すプ
ローブユニットの断面図。
Claims (6)
- 【請求項1】絶縁材から成るベースの表面に密着せる多
数のリードを並列して延在し、該リードの表面に加圧接
触用のバンプを突成したことを特徴とするプローブユニ
ット。 - 【請求項2】絶縁材から成るベースの表面に密着せる多
数のリードを並列して延在し、該リードの表面に加圧接
触用のバンプを突成し、上記リード及びバンプを補圧用
弾性体でバックアップしたことを特徴とするプローブユ
ニット。 - 【請求項3】絶縁フィルムの表面に密着せる多数のリー
ドを並列して延在し、該リードの表面に加圧接触用のバ
ンプを突成したことを特徴とするプローブユニット。 - 【請求項4】絶縁フィルムの表面に密着せる多数のリー
ドを並列して延在し、該リードの表面に加圧接触用のバ
ンプを突成し、上記絶縁フィルムをベースの表面に接着
し、上記リード及びバンプを上記ベースと絶縁フィルム
間に介在した補圧用弾性体でバックアップしたことを特
徴とするプローブユニット。 - 【請求項5】上記絶縁フィルムを透視可能な合成樹脂に
て形成すると共に、リードの端部が配された絶縁フィル
ムの端縁を上記ベースの端縁より張り出すように接着し
たことを特徴とする請求項3,4記載のプローブユニッ
ト。 - 【請求項6】上記ベースを透視可能な素材にて形成した
ことを特徴とする請求項1又は2記載のプローブユニッ
ト。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP07349850A JP3138626B2 (ja) | 1995-12-21 | 1995-12-21 | プローブユニット |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP07349850A JP3138626B2 (ja) | 1995-12-21 | 1995-12-21 | プローブユニット |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09178777A true JPH09178777A (ja) | 1997-07-11 |
JP3138626B2 JP3138626B2 (ja) | 2001-02-26 |
Family
ID=18406548
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP07349850A Expired - Fee Related JP3138626B2 (ja) | 1995-12-21 | 1995-12-21 | プローブユニット |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3138626B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1271158A2 (en) * | 2001-06-22 | 2003-01-02 | Soshotech Co., Ltd. | Press contact structure of probe unit |
US6555764B1 (en) | 1998-03-12 | 2003-04-29 | Fujitsu Limited | Integrated circuit contactor, and method and apparatus for production of integrated circuit contactor |
JP2009156875A (ja) * | 2005-04-14 | 2009-07-16 | Korea Advanced Inst Of Science & Technology | プローブカードおよびその製造方法 |
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JPS6433745U (ja) * | 1987-08-25 | 1989-03-02 | ||
JPH01108738A (ja) * | 1987-10-21 | 1989-04-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 測定装置 |
JPH06230030A (ja) * | 1993-01-29 | 1994-08-19 | Nippon Steel Corp | シリコンウェハを利用したプローブカード |
-
1995
- 1995-12-21 JP JP07349850A patent/JP3138626B2/ja not_active Expired - Fee Related
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US7174629B2 (en) | 1998-03-12 | 2007-02-13 | Fujitsu Limited | Integrated circuit contactor, and method and apparatus for production of integrated circuit contactor |
EP1271158A2 (en) * | 2001-06-22 | 2003-01-02 | Soshotech Co., Ltd. | Press contact structure of probe unit |
EP1271158A3 (en) * | 2001-06-22 | 2004-02-11 | Soshotech Co., Ltd. | Press contact structure of probe unit |
JP2009156875A (ja) * | 2005-04-14 | 2009-07-16 | Korea Advanced Inst Of Science & Technology | プローブカードおよびその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3138626B2 (ja) | 2001-02-26 |
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