JPH09176137A - 光学活性なチアゾリジノン誘導体 - Google Patents
光学活性なチアゾリジノン誘導体Info
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- JPH09176137A JPH09176137A JP4281396A JP4281396A JPH09176137A JP H09176137 A JPH09176137 A JP H09176137A JP 4281396 A JP4281396 A JP 4281396A JP 4281396 A JP4281396 A JP 4281396A JP H09176137 A JPH09176137 A JP H09176137A
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- nitroxyethyl
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Abstract
(57)【要約】
【課題】すぐれた抗狭心作用を有し、狭心症予防剤また
は治療剤として有用な光学活性なチアゾリジノン誘導体
の提供。 【解決手段】一般式 【化１】 ［式中、Ｒ1 ：Ｈ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基、フェニル
基、置換されたフェニル基；フェニル−Ｃ1 −Ｃ2 アル
キル基、置換されたフェニル−Ｃ1 −Ｃ2 アルキル基；
Ｒ2 ：Ｃ1 −Ｃ6 アルキル基；ｎ：１−２。］を有する
光学活性なチアゾリジノン誘導体。
は治療剤として有用な光学活性なチアゾリジノン誘導体
の提供。 【解決手段】一般式 【化１】 ［式中、Ｒ1 ：Ｈ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基、フェニル
基、置換されたフェニル基；フェニル−Ｃ1 −Ｃ2 アル
キル基、置換されたフェニル−Ｃ1 −Ｃ2 アルキル基；
Ｒ2 ：Ｃ1 −Ｃ6 アルキル基；ｎ：１−２。］を有する
光学活性なチアゾリジノン誘導体。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、すぐれた側副血管
拡張作用、抗狭心作用を有する光学活性なチアゾリジノ
ン誘導体またはそれらを有効成分とする狭心症予防剤も
しくは治療剤あるいはチアもしくはオキサゾリジノン誘
導体を有効成分とする潰瘍性疾患予防剤もしくは治療剤
に関する。
拡張作用、抗狭心作用を有する光学活性なチアゾリジノ
ン誘導体またはそれらを有効成分とする狭心症予防剤も
しくは治療剤あるいはチアもしくはオキサゾリジノン誘
導体を有効成分とする潰瘍性疾患予防剤もしくは治療剤
に関する。
【０００２】
【従来の技術】現在、循環器疾患とくに狭心症の治療薬
として、ニトログリセリンが臨床的に最も頻用されてい
る。しかし、本剤には初回通過効果を受けやすく、その
作用持続時間が短いという欠点がある。また副作用とし
て、頭痛、めまい、血圧下降による頻脈が出現する。こ
れらの背景から、臨床上、初回通過効果を受けない、持
続性の狭心症治療剤が望まれていた。本発明者等は、上
記課題を解決する一つの手段として、チアもしくはオキ
サゾリジノン骨格を有する化合物、例えば、以下の式
として、ニトログリセリンが臨床的に最も頻用されてい
る。しかし、本剤には初回通過効果を受けやすく、その
作用持続時間が短いという欠点がある。また副作用とし
て、頭痛、めまい、血圧下降による頻脈が出現する。こ
れらの背景から、臨床上、初回通過効果を受けない、持
続性の狭心症治療剤が望まれていた。本発明者等は、上
記課題を解決する一つの手段として、チアもしくはオキ
サゾリジノン骨格を有する化合物、例えば、以下の式
【０００３】
【化３】
【０００４】（式中、Ｒa 、Ｒb 、Ｒc およびＲd は、
水素原子等を示し、Ａは、Ｃ2 −Ｃ6アルキレン基等を
示し、Ｙは、酸素原子または硫黄原子を示す。）を有す
る化合物Ａを見出している（例えば、特開平5-213910号
公報）。しかしながら、これらの化合物の抗潰瘍作用は
全く知られていなかった。
水素原子等を示し、Ａは、Ｃ2 −Ｃ6アルキレン基等を
示し、Ｙは、酸素原子または硫黄原子を示す。）を有す
る化合物Ａを見出している（例えば、特開平5-213910号
公報）。しかしながら、これらの化合物の抗潰瘍作用は
全く知られていなかった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明者等は、更に検
討を加え、光学活性なチアゾリジノン骨格を有する化合
物が、すぐれた側副血管拡張作用を有し、その作用が持
続的であり、また、副作用も少なく、狭心症予防剤もし
くは治療剤（特に、狭心症治療剤）として有用であるこ
とおよび化合物の安定性も優れていることを見出し、本
発明を完成するに至った。さらに、チアもしくはオキサ
ゾリジノン骨格を有する化合物の薬理作用を検討し、こ
れらの化合物が優れた抗潰瘍作用を有し、潰瘍性疾患予
防剤もしくは治療剤（特に、潰瘍性疾患治療剤）として
有用であることも見出した。本発明は、光学活性なチア
ゾリジノン誘導体またはそれらを有効成分とする狭心症
予防剤もしくは治療剤あるいはチアもしくはオキサゾリ
ジノン誘導体を有効成分とする潰瘍性疾患予防剤もしく
は治療剤を提供する。
討を加え、光学活性なチアゾリジノン骨格を有する化合
物が、すぐれた側副血管拡張作用を有し、その作用が持
続的であり、また、副作用も少なく、狭心症予防剤もし
くは治療剤（特に、狭心症治療剤）として有用であるこ
とおよび化合物の安定性も優れていることを見出し、本
発明を完成するに至った。さらに、チアもしくはオキサ
ゾリジノン骨格を有する化合物の薬理作用を検討し、こ
れらの化合物が優れた抗潰瘍作用を有し、潰瘍性疾患予
防剤もしくは治療剤（特に、潰瘍性疾患治療剤）として
有用であることも見出した。本発明は、光学活性なチア
ゾリジノン誘導体またはそれらを有効成分とする狭心症
予防剤もしくは治療剤あるいはチアもしくはオキサゾリ
ジノン誘導体を有効成分とする潰瘍性疾患予防剤もしく
は治療剤を提供する。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の光学活性なチア
ゾリジノン誘導体は、一般式
ゾリジノン誘導体は、一般式
【０００７】
【化４】
【０００８】を有する。
【０００９】上記式中、Ｒ1 は、水素原子、Ｃ1 −Ｃ4
アルキル基、フェニル基、置換されたフェニル基（該置
換基は、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシま
たはハロゲンを示す。）、フェニル−Ｃ1 −Ｃ2 アルキ
ル基または置換されたフェニル−Ｃ1 −Ｃ2 アルキル基
（該フェニルの置換基は、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1−
Ｃ4 アルコキシまたはハロゲンを示す。）を示し、Ｒ2
は、Ｃ1 −Ｃ6 アルキル基を示し、ｎは、１または２を
示す。
アルキル基、フェニル基、置換されたフェニル基（該置
換基は、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシま
たはハロゲンを示す。）、フェニル−Ｃ1 −Ｃ2 アルキ
ル基または置換されたフェニル−Ｃ1 −Ｃ2 アルキル基
（該フェニルの置換基は、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1−
Ｃ4 アルコキシまたはハロゲンを示す。）を示し、Ｒ2
は、Ｃ1 −Ｃ6 アルキル基を示し、ｎは、１または２を
示す。
【００１０】また、本発明の潰瘍性疾患予防剤もしくは
治療剤の有効成分であるチアもしくはオキサゾリジノン
誘導体は、一般式
治療剤の有効成分であるチアもしくはオキサゾリジノン
誘導体は、一般式
【００１１】
【化５】
【００１２】を有する。
【００１３】上記式中、Ｗは、硫黄または酸素原子を示
し、Ｘは、式−Ｎ（Ｒ3 ）−を有する基を示すかあるい
はＸは、硫黄または酸素原子を示し、Ｗは、式−Ｎ（Ｒ
3 ）−を有する基を示し、Ｒ3 は、水素原子、Ｃ1 −Ｃ
6 アルキル基またはアリール−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基を
示し、Ｒ4 およびＲ5 は、同一または異なって、水素原
子、Ｃ1 −Ｃ6 アルキル基、アリール−Ｃ1 −Ｃ4 アル
キル基、アリ−ル基、ベンゼン環と縮環してもよい、窒
素原子、酸素原子および硫黄原子からなる群から選択さ
れるヘテロ原子１乃至３個を含有する５−６員芳香複素
環基または置換され、ベンゼン環と縮環してもよい、窒
素原子、酸素原子および硫黄原子からなる群から選択さ
れるヘテロ原子１乃至３個を含有する５−６員芳香複素
環基 (該置換基は、Ｃ1 −Ｃ6 アルキル、アミノ、モノ
ーＣ1 −Ｃ6 アルキルアミノまたはジーＣ1 −Ｃ6 アル
キルアミノを示す。) を示し、Ｒ6 は、水素原子、Ｃ1
−Ｃ6 アルキル基またはアリール−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル
基を示し、Ａは、Ｃ2 −Ｃ6 アルキレン基または置換さ
れたＣ2 −Ｃ6 アルキレン基 (該置換基は、カルボキ
シ、Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシカルボニルまたはアリールオ
キシカルボニル基を示す。) を示し、上記アリールは、
Ｃ6 −Ｃ10アリールまたは置換されたＣ6 −Ｃ10アリー
ル (該置換基は、Ｃ1 −Ｃ6 アルキル、Ｃ1 −Ｃ6 アル
コキシ、ヒドロキシ、ハロゲン、アミノ、モノーＣ1 −
Ｃ6 アルキルアミノ、ジーＣ1 −Ｃ6 アルキルアミノま
たはニトロを示す。) を示す。
し、Ｘは、式−Ｎ（Ｒ3 ）−を有する基を示すかあるい
はＸは、硫黄または酸素原子を示し、Ｗは、式−Ｎ（Ｒ
3 ）−を有する基を示し、Ｒ3 は、水素原子、Ｃ1 −Ｃ
6 アルキル基またはアリール−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基を
示し、Ｒ4 およびＲ5 は、同一または異なって、水素原
子、Ｃ1 −Ｃ6 アルキル基、アリール−Ｃ1 −Ｃ4 アル
キル基、アリ−ル基、ベンゼン環と縮環してもよい、窒
素原子、酸素原子および硫黄原子からなる群から選択さ
れるヘテロ原子１乃至３個を含有する５−６員芳香複素
環基または置換され、ベンゼン環と縮環してもよい、窒
素原子、酸素原子および硫黄原子からなる群から選択さ
れるヘテロ原子１乃至３個を含有する５−６員芳香複素
環基 (該置換基は、Ｃ1 −Ｃ6 アルキル、アミノ、モノ
ーＣ1 −Ｃ6 アルキルアミノまたはジーＣ1 −Ｃ6 アル
キルアミノを示す。) を示し、Ｒ6 は、水素原子、Ｃ1
−Ｃ6 アルキル基またはアリール−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル
基を示し、Ａは、Ｃ2 −Ｃ6 アルキレン基または置換さ
れたＣ2 −Ｃ6 アルキレン基 (該置換基は、カルボキ
シ、Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシカルボニルまたはアリールオ
キシカルボニル基を示す。) を示し、上記アリールは、
Ｃ6 −Ｃ10アリールまたは置換されたＣ6 −Ｃ10アリー
ル (該置換基は、Ｃ1 −Ｃ6 アルキル、Ｃ1 −Ｃ6 アル
コキシ、ヒドロキシ、ハロゲン、アミノ、モノーＣ1 −
Ｃ6 アルキルアミノ、ジーＣ1 −Ｃ6 アルキルアミノま
たはニトロを示す。) を示す。
【００１４】Ｒ1 等のＣ1 −Ｃ4 アルキル基またはＲ1
に含まれるＣ1 −Ｃ4 アルコキシ基のアルキル部分は、
例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブ
チル、ｓ−ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル基であり
得、好適には、Ｃ1 −Ｃ3 アルキル基であり、更に好適
には、Ｃ1 −Ｃ2 アルキル基であり、特に好適にはメチ
ル基である。
に含まれるＣ1 −Ｃ4 アルコキシ基のアルキル部分は、
例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブ
チル、ｓ−ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル基であり
得、好適には、Ｃ1 −Ｃ3 アルキル基であり、更に好適
には、Ｃ1 −Ｃ2 アルキル基であり、特に好適にはメチ
ル基である。
【００１５】Ｒ1 に含まれるハロゲン原子は、例えば、
弗素、塩素、臭素、沃素原子であり得、好適には、弗素
原子または塩素原子である。
弗素、塩素、臭素、沃素原子であり得、好適には、弗素
原子または塩素原子である。
【００１６】Ｒ1 のフェニル−Ｃ1 −Ｃ2 アルキル基
は、好適には、ベンジル基またはフェネチル基であり、
更に好適には、ベンジル基である。
は、好適には、ベンジル基またはフェネチル基であり、
更に好適には、ベンジル基である。
【００１７】Ｒ2 のＣ1 −Ｃ6 アルキル基は、例えば、
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｓ
−ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシ
ル基であり得、好適には、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基であ
り、さらに好適には、メチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、ブチルまたはイソブチル基であり、さらによ
り好適には、メチル、プロピル、ブチルまたはイソブチ
ル基であり、特に好適には、メチル基である。
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｓ
−ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシ
ル基であり得、好適には、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基であ
り、さらに好適には、メチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、ブチルまたはイソブチル基であり、さらによ
り好適には、メチル、プロピル、ブチルまたはイソブチ
ル基であり、特に好適には、メチル基である。
【００１８】Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 等のＣ1 −Ｃ6 ア
ルキル基またはＲ3 、Ａ等に含まれるＣ1 −Ｃ6 アルコ
キシ基もしくはＣ1 −Ｃ6 アルキルアミノ基等のアルキ
ル部分は、前述したものであり、好適には、Ｃ1 −Ｃ4
アルキル基であり、更に好適には、Ｃ1 −Ｃ2 アルキル
基であり、特に好適にはメチル基である。
ルキル基またはＲ3 、Ａ等に含まれるＣ1 −Ｃ6 アルコ
キシ基もしくはＣ1 −Ｃ6 アルキルアミノ基等のアルキ
ル部分は、前述したものであり、好適には、Ｃ1 −Ｃ4
アルキル基であり、更に好適には、Ｃ1 −Ｃ2 アルキル
基であり、特に好適にはメチル基である。
【００１９】Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 およびＲ6 のアリール−
Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基のアリール部分は後述するもので
あり、アルキル部分は前述したものであり、例えば、ベ
ンジル、フェネチル、２−フェニルプロピル、３−フェ
ニルプロピル、４−フェニルブチル、ジフェニルメチ
ル、１−ナフチルメチル、２−ナフチルメチル基であり
得、好適には、フェニル−（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）基で
あり、更に好適には、ベンジルまたはフェネチル基であ
り、特に好適には、ベンジル基である。
Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基のアリール部分は後述するもので
あり、アルキル部分は前述したものであり、例えば、ベ
ンジル、フェネチル、２−フェニルプロピル、３−フェ
ニルプロピル、４−フェニルブチル、ジフェニルメチ
ル、１−ナフチルメチル、２−ナフチルメチル基であり
得、好適には、フェニル−（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）基で
あり、更に好適には、ベンジルまたはフェネチル基であ
り、特に好適には、ベンジル基である。
【００２０】Ｒ4 およびＲ5 のアリ−ル基またはＡに含
まれるアリールオキシカルボニル基のアリール部分は、
前述したものであり、好適には、フェニル基である。
まれるアリールオキシカルボニル基のアリール部分は、
前述したものであり、好適には、フェニル基である。
【００２１】Ｒ4 およびＲ5 アリ−ル基の置換基のハロ
ゲンは、前述したものであり、好適には、弗素原子また
は塩素原子である。
ゲンは、前述したものであり、好適には、弗素原子また
は塩素原子である。
【００２２】Ｒ4 およびＲ5 のベンゼン環縮環してもよ
い、窒素原子、酸素原子および硫黄原子からなる群から
選択されるヘテロ原子１乃至３個を含有する５−６員芳
香複素環基は、例えば、フリル、チエニル、ピロリル、
オキサゾリル、イソオキサゾリル、チアゾリル、イソチ
アゾリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピリジル、ピリ
ダジニル、ピリミジニル、インドリル、キノリル、キナ
ゾリニルであり得、好適には、フリル、チエニル、オキ
サゾリル、イソオキサゾリル、チアゾリル、イソチアゾ
リルまたはピリジルであり、更に好適には、フリル、チ
エニルまたはピリジル基であり、特に好適には、フリル
またはチェニル基である。
い、窒素原子、酸素原子および硫黄原子からなる群から
選択されるヘテロ原子１乃至３個を含有する５−６員芳
香複素環基は、例えば、フリル、チエニル、ピロリル、
オキサゾリル、イソオキサゾリル、チアゾリル、イソチ
アゾリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピリジル、ピリ
ダジニル、ピリミジニル、インドリル、キノリル、キナ
ゾリニルであり得、好適には、フリル、チエニル、オキ
サゾリル、イソオキサゾリル、チアゾリル、イソチアゾ
リルまたはピリジルであり、更に好適には、フリル、チ
エニルまたはピリジル基であり、特に好適には、フリル
またはチェニル基である。
【００２３】ＡのＣ2 −Ｃ6 アルキレン基のアルキレン
部分は、例えば、エチレン、メチルエチレン、トリメチ
レン、テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレ
ンであり得、好適には、Ｃ2 −Ｃ4 アルキレン基であ
り、特に好適には、エチレンまたはメチルエチレン基で
ある。
部分は、例えば、エチレン、メチルエチレン、トリメチ
レン、テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレ
ンであり得、好適には、Ｃ2 −Ｃ4 アルキレン基であ
り、特に好適には、エチレンまたはメチルエチレン基で
ある。
【００２４】化合物（ＩＩ）において、カルボキシ、フ
ェノール部分を含むものは、塩基と塩を形成することが
できる。そのような塩は、例えば、リチウム、ナトリウ
ム、カリウムのようなアルカリ金属との塩、バリウム、
カルシウムのようなアルカリ土類金属との塩、マグネシ
ウム、アルミニウムのようなその他の金属との塩、ジシ
クロヘキシルアミンのような有機アミンとの塩、リジ
ン、アルギニンのような塩基性アミノ酸との塩であり
得、好適には、アルカリ金属との塩である。また、アミ
ノ、アルキルアミノ部分を含むものは、酸と塩を形成す
ることができ、そのような塩は、例えば、塩酸、臭酸、
硫酸、リン酸、炭酸のような無機酸との塩、酢酸、フマ
ル酸、マレイン酸、修酸、マロン酸、コハク酸、クエン
酸、リンゴ酸、安息香酸のようなカルボン酸との塩、メ
タンスルホン酸、エタンスルホン酸、ベンゼンスルホン
酸、トルエンスルホン酸のようなスルホン酸との塩、グ
ルタミン酸、アスパラギン酸のような酸性アミノ酸との
塩であり得、好適には、塩酸またはカルボン酸との塩で
ある。
ェノール部分を含むものは、塩基と塩を形成することが
できる。そのような塩は、例えば、リチウム、ナトリウ
ム、カリウムのようなアルカリ金属との塩、バリウム、
カルシウムのようなアルカリ土類金属との塩、マグネシ
ウム、アルミニウムのようなその他の金属との塩、ジシ
クロヘキシルアミンのような有機アミンとの塩、リジ
ン、アルギニンのような塩基性アミノ酸との塩であり
得、好適には、アルカリ金属との塩である。また、アミ
ノ、アルキルアミノ部分を含むものは、酸と塩を形成す
ることができ、そのような塩は、例えば、塩酸、臭酸、
硫酸、リン酸、炭酸のような無機酸との塩、酢酸、フマ
ル酸、マレイン酸、修酸、マロン酸、コハク酸、クエン
酸、リンゴ酸、安息香酸のようなカルボン酸との塩、メ
タンスルホン酸、エタンスルホン酸、ベンゼンスルホン
酸、トルエンスルホン酸のようなスルホン酸との塩、グ
ルタミン酸、アスパラギン酸のような酸性アミノ酸との
塩であり得、好適には、塩酸またはカルボン酸との塩で
ある。
【００２５】さらに、本発明は、化合物（Ｉ）の水和物
も包含し、化合物（ＩＩ）の分子内に不斉炭素が存在す
る場合は、ラセミ体および光学活性体を包含し、化合物
（ＩＩ）またはその塩の水和物も包含する。
も包含し、化合物（ＩＩ）の分子内に不斉炭素が存在す
る場合は、ラセミ体および光学活性体を包含し、化合物
（ＩＩ）またはその塩の水和物も包含する。
【００２６】また、化合物（ＩＩ）に包含される化合物
（Ｉ）も、優れた抗潰瘍作用を有する。
（Ｉ）も、優れた抗潰瘍作用を有する。
【００２７】前記一般式（Ｉ）を有する化合物におい
て、好適には、 １）Ｒ1 が水素原子、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基、フェニル
基、置換されたフェニル基（該置換基は、メチル、メト
キシ、弗素または塩素である。）、ベンジル基置換され
たベンジル基（該置換基は、メチル、メトキシ、弗素ま
たは塩素である。）、フェネチル基または置換されたフ
ェネチル基（該置換基は、メチル、メトキシ、弗素また
は塩素である。）である化合物、 ２）Ｒ1 が水素原子、メチル基、４−メトキシフェニル
基またはベンジル基である化合物、 ３）Ｒ1 が水素原子である化合物、 ４）Ｒ2 がＣ1 −Ｃ4 アルキル基である化合物、 ５）Ｒ2 が、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプ
ロピル基、ブチル基またはイソブチル基である化合物、 ６）Ｒ2 が、メチル基、プロピル基、ブチル基またはイ
ソブチル基である化合物、 ７）Ｒ2 がメチル基である化合物または ８）ｎが１である化合物をあげることができる。
て、好適には、 １）Ｒ1 が水素原子、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基、フェニル
基、置換されたフェニル基（該置換基は、メチル、メト
キシ、弗素または塩素である。）、ベンジル基置換され
たベンジル基（該置換基は、メチル、メトキシ、弗素ま
たは塩素である。）、フェネチル基または置換されたフ
ェネチル基（該置換基は、メチル、メトキシ、弗素また
は塩素である。）である化合物、 ２）Ｒ1 が水素原子、メチル基、４−メトキシフェニル
基またはベンジル基である化合物、 ３）Ｒ1 が水素原子である化合物、 ４）Ｒ2 がＣ1 −Ｃ4 アルキル基である化合物、 ５）Ｒ2 が、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプ
ロピル基、ブチル基またはイソブチル基である化合物、 ６）Ｒ2 が、メチル基、プロピル基、ブチル基またはイ
ソブチル基である化合物、 ７）Ｒ2 がメチル基である化合物または ８）ｎが１である化合物をあげることができる。
【００２８】また、１）−３）、４）−７）および８）
から成る群から任意に選択されるものを任意に組合せた
ものも好適であり、例えば、以下のものをあげることが
できる。 ９）Ｒ1 が水素原子、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基、フェニル
基、置換されたフェニル基（該置換基は、メチル、メト
キシ、弗素または塩素である）、ベンジル基、置換され
たベンジル基（該置換基は、メチル、メトキシ、弗素ま
たは塩素である。）、フェネチル基または置換されたフ
ェネチル基（該置換基は、メチル、メトキシ、弗素また
は塩素である。）であり、Ｒ2 がＣ1 −Ｃ4 アルキル基
であり、ｎが１である化合物、 １０）Ｒ1 が水素原子、メチル基、４−メトキシフェニ
ル基またはベンジル基であり、Ｒ2 がメチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基またはイソ
ブチル基であり、ｎが１である化合物、 １１）Ｒ1 が水素原子であり、Ｒ2 がメチル基、プロピ
ル基、ブチル基またはイソブチル基であり、ｎが１であ
る化合物または １２）Ｒ1 が水素原子であり、Ｒ2 がメチル基である化
合物。
から成る群から任意に選択されるものを任意に組合せた
ものも好適であり、例えば、以下のものをあげることが
できる。 ９）Ｒ1 が水素原子、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基、フェニル
基、置換されたフェニル基（該置換基は、メチル、メト
キシ、弗素または塩素である）、ベンジル基、置換され
たベンジル基（該置換基は、メチル、メトキシ、弗素ま
たは塩素である。）、フェネチル基または置換されたフ
ェネチル基（該置換基は、メチル、メトキシ、弗素また
は塩素である。）であり、Ｒ2 がＣ1 −Ｃ4 アルキル基
であり、ｎが１である化合物、 １０）Ｒ1 が水素原子、メチル基、４−メトキシフェニ
ル基またはベンジル基であり、Ｒ2 がメチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基またはイソ
ブチル基であり、ｎが１である化合物、 １１）Ｒ1 が水素原子であり、Ｒ2 がメチル基、プロピ
ル基、ブチル基またはイソブチル基であり、ｎが１であ
る化合物または １２）Ｒ1 が水素原子であり、Ｒ2 がメチル基である化
合物。
【００２９】また、前記一般式（ＩＩ）を有する化合物
において、好適には、 １３）Ｒ3 が水素原子、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基、ベンジ
ル基またはフェネチル基である化合物、 １４）Ｒ3 が水素原子、メチル基またはベンジル基であ
る化合物、 １５）Ｗが硫黄または酸素原子であり、Ｘが式−ＮＲ3
−を有する基（式中、Ｒ3 は水素原子である。）である
か、あるいはＸが硫黄原子であり、Ｗが式−ＮＲ3 −を
有する基（式中、Ｒ3 は水素原子である。）である化合
物、 １６）Ｗが硫黄または酸素原子であり、Ｘが式−ＮＲ3
−を有する基（式中、Ｒ3 は水素原子である。）である
化合物、 １７）Ｒ4 およびＲ5 が同一または異なって、水素原
子、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基、フェニル−Ｃ1 −Ｃ4 アル
キル基、置換されたフェニル−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基
（該フェニルの置換基は、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −
Ｃ4 アルコキシ、ヒドロキシ、ハロゲンまたはニトロで
ある。）、ナフチルメチル基、フェニル基、置換された
フェニル基（該置換基は、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −
Ｃ4 アルコキシ、ヒドロキシ、ハロゲンまたはニトロで
ある。）、ナフチル基または無置換かもしくはＣ1 −Ｃ
4 アルキルで置換された、フリル、チエニル、ピリジ
ル、オキサゾリル、チアゾリル、イソオキサゾリルもし
くはイソチアゾリル基である化合物、 １８）Ｒ4 およびＲ5 が同一または異なって、水素原
子、メチル基、ベンジル基、置換されたベンジル基（該
置換基は、メチル、メトキシ、ヒドロキシ、フルオロま
たはクロロである。）、フェネチル基、置換されたフェ
ネチル基（該置換基は、メチル、メトキシ、ヒドロキ
シ、フルオロまたはクロロである。）、フェニル基、置
換されたフェニル基（該置換基は、メチル、メトキシ、
ヒドロキシ、フルオロまたはクロロである。）、フリル
基、チエニル基またはピリジル基である化合物、 １９）Ｒ4 が水素原子、メチル基、ベンジル基、置換さ
れたベンジル基（該置換基は、メチル、メトキシまたは
ヒドロキシである。）、フェニル基または置換されたフ
ェニル基（該置換基は、メチル、メトキシまたはヒドロ
キシである。）であり、Ｒ5 が水素原子である化合物、 ２０）Ｒ4 が水素原子、メチル基、ベンジル基、フェニ
ル基またはメトキシフェニル基であり、Ｒ5 が水素原子
である化合物、 ２１）Ｒ4 が水素原子、メチル基、ベンジル基または４
−メトキシフェニル基であり、Ｒ5 が水素原子である化
合物、 ２２）Ｒ4 が水素原子であり、Ｒ5 が水素原子である化
合物、 ２３）Ｒ6 が水素原子、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基、ベンジ
ル基またはフェネチル基である化合物、 ２４）Ｒ6 が水素原子、メチル基またはベンジル基であ
る化合物、 ２５）Ｒ6 が水素原子である化合物、 ２６）ＡがＣ2 −Ｃ4 アルキレン基、カルボキシ−Ｃ2
−Ｃ4 アルキレン基またはＣ1 −Ｃ4 アルコキシカルボ
ニル−Ｃ2 −Ｃ4 アルキレン基である化合物、 ２７）ＡがＣ2 −Ｃ4 アルキレン基である化合物または ２８）Ａがエチレン基または１−メチルエチレン基であ
る化合物をあげることができる。
において、好適には、 １３）Ｒ3 が水素原子、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基、ベンジ
ル基またはフェネチル基である化合物、 １４）Ｒ3 が水素原子、メチル基またはベンジル基であ
る化合物、 １５）Ｗが硫黄または酸素原子であり、Ｘが式−ＮＲ3
−を有する基（式中、Ｒ3 は水素原子である。）である
か、あるいはＸが硫黄原子であり、Ｗが式−ＮＲ3 −を
有する基（式中、Ｒ3 は水素原子である。）である化合
物、 １６）Ｗが硫黄または酸素原子であり、Ｘが式−ＮＲ3
−を有する基（式中、Ｒ3 は水素原子である。）である
化合物、 １７）Ｒ4 およびＲ5 が同一または異なって、水素原
子、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基、フェニル−Ｃ1 −Ｃ4 アル
キル基、置換されたフェニル−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基
（該フェニルの置換基は、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −
Ｃ4 アルコキシ、ヒドロキシ、ハロゲンまたはニトロで
ある。）、ナフチルメチル基、フェニル基、置換された
フェニル基（該置換基は、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −
Ｃ4 アルコキシ、ヒドロキシ、ハロゲンまたはニトロで
ある。）、ナフチル基または無置換かもしくはＣ1 −Ｃ
4 アルキルで置換された、フリル、チエニル、ピリジ
ル、オキサゾリル、チアゾリル、イソオキサゾリルもし
くはイソチアゾリル基である化合物、 １８）Ｒ4 およびＲ5 が同一または異なって、水素原
子、メチル基、ベンジル基、置換されたベンジル基（該
置換基は、メチル、メトキシ、ヒドロキシ、フルオロま
たはクロロである。）、フェネチル基、置換されたフェ
ネチル基（該置換基は、メチル、メトキシ、ヒドロキ
シ、フルオロまたはクロロである。）、フェニル基、置
換されたフェニル基（該置換基は、メチル、メトキシ、
ヒドロキシ、フルオロまたはクロロである。）、フリル
基、チエニル基またはピリジル基である化合物、 １９）Ｒ4 が水素原子、メチル基、ベンジル基、置換さ
れたベンジル基（該置換基は、メチル、メトキシまたは
ヒドロキシである。）、フェニル基または置換されたフ
ェニル基（該置換基は、メチル、メトキシまたはヒドロ
キシである。）であり、Ｒ5 が水素原子である化合物、 ２０）Ｒ4 が水素原子、メチル基、ベンジル基、フェニ
ル基またはメトキシフェニル基であり、Ｒ5 が水素原子
である化合物、 ２１）Ｒ4 が水素原子、メチル基、ベンジル基または４
−メトキシフェニル基であり、Ｒ5 が水素原子である化
合物、 ２２）Ｒ4 が水素原子であり、Ｒ5 が水素原子である化
合物、 ２３）Ｒ6 が水素原子、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基、ベンジ
ル基またはフェネチル基である化合物、 ２４）Ｒ6 が水素原子、メチル基またはベンジル基であ
る化合物、 ２５）Ｒ6 が水素原子である化合物、 ２６）ＡがＣ2 −Ｃ4 アルキレン基、カルボキシ−Ｃ2
−Ｃ4 アルキレン基またはＣ1 −Ｃ4 アルコキシカルボ
ニル−Ｃ2 −Ｃ4 アルキレン基である化合物、 ２７）ＡがＣ2 −Ｃ4 アルキレン基である化合物または ２８）Ａがエチレン基または１−メチルエチレン基であ
る化合物をあげることができる。
【００３０】また、１３）−１６）、１７）−２２）、
２３）−２５）および２６）−２８）から成る群から任
意に選択されるものを任意に組合せたものも好適であ
り、例えば、以下のものをあげることができる。 ２９）Ｒ3 が水素原子、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基、ベンジ
ル基またはフェネチル基であり、Ｒ4 およびＲ5 が同一
または異なって、水素原子、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基、フ
ェニル−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基、置換されたフェニル−
Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基（該フェニルの置換基は、Ｃ1 −
Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ、ヒドロキシ、ハ
ロゲンまたはニトロである。）、ナフチルメチル基、フ
ェニル基、置換されたフェニル基（該置換基は、Ｃ1 −
Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ、ヒドロキシ、ハ
ロゲンまたはニトロである。）、ナフチル基または無置
換であるかもしくはＣ1 −Ｃ4 アルキルで置換された、
フリル、チエニル、ピリジル、オキサゾリル、チアゾリ
ル、イソオキサゾリルもしくはイソチアゾリル基であ
り、Ｒ6 が水素原子、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基、ベンジル
基またはフェネチル基であり、ＡがＣ2 −Ｃ4 アルキレ
ン基、カルボキシ−Ｃ2 −Ｃ4 アルキレン基またはＣ1
−Ｃ4 アルコキシカルボニル−Ｃ2 −Ｃ4 アルキレン基
である化合物、 ３０）Ｒ3 が水素原子、メチル基またはベンジル基であ
り、Ｒ4 およびＲ5 が同一または異なって、水素原子、
メチル基、ベンジル基、置換されたベンジル基（該置換
基は、メチル、メトキシ、ヒドロキシ、フルオロまたは
クロロである。）、フェネチル基、置換されたフェネチ
ル基（該置換基は、メチル、メトキシ、ヒドロキシ、フ
ルオロまたはクロロである。）、フェニル基、置換され
たフェニル基（該置換基は、メチル、メトキシ、ヒドロ
キシ、フルオロまたはクロロである。）、フリル基、チ
エニル基またはピリジル基であり、Ｒ6 が水素原子、メ
チル基またはベンジル基であり、ＡがＣ2 −Ｃ4 アルキ
レン基である化合物、 ３１）Ｗが硫黄または酸素原子であり、Ｘが式−ＮＲ3
−を有する基（式中、Ｒ3 は水素原子である。）である
か、あるいはＸが硫黄原子であり、Ｗが式−ＮＲ3 −を
有する基（式中、Ｒ3 は水素原子である。）であり、Ｒ
4 が水素原子、メチル基、ベンジル基、置換されたベン
ジル基（該置換基は、メチル、メトキシまたはヒドロキ
シである。）、フェニル基または置換されたフェニル基
（該置換基は、メチル、メトキシまたはヒドロキシであ
る。）であり、Ｒ5 が水素原子であり、Ｒ6 が水素原子
であり、ＡがＣ2 −Ｃ4 アルキレン基である化合物、 ３２）Ｗが硫黄または酸素原子であり、Ｘが式−ＮＲ3
−を有する基（式中、Ｒ3 は水素原子である。）であ
り、Ｒ4 が水素原子、メチル基、ベンジル基、フェニル
基またはメトキシフェニル基であり、Ｒ5 が水素原子で
あり、Ｒ6 が水素原子であり、ＡがＣ2 −Ｃ4 アルキレ
ン基である化合物、 ３３）Ｗが硫黄原子であり、Ｘが式−ＮＲ3 −を有する
基（式中、Ｒ3 は水素原子である。）であり、Ｒ4 が水
素原子、メチル基、ベンジル基または４−メトキシフェ
ニル基であり、Ｒ5 が水素原子であり、Ｒ6 が水素原子
であり、Ａがエチレン基または１−メチルエチレン基で
ある化合物または ３４）Ｗが硫黄原子であり、Ｘが式−ＮＲ3 −を有する
基（式中、Ｒ3 は水素原子である。）であり、Ｒ4 が水
素原子であり、Ｒ5 が水素原子であり、Ｒ6 が水素原子
であり、Ａがエチレン基または１−メチルエチレン基で
ある化合物。
２３）−２５）および２６）−２８）から成る群から任
意に選択されるものを任意に組合せたものも好適であ
り、例えば、以下のものをあげることができる。 ２９）Ｒ3 が水素原子、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基、ベンジ
ル基またはフェネチル基であり、Ｒ4 およびＲ5 が同一
または異なって、水素原子、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基、フ
ェニル−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基、置換されたフェニル−
Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基（該フェニルの置換基は、Ｃ1 −
Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ、ヒドロキシ、ハ
ロゲンまたはニトロである。）、ナフチルメチル基、フ
ェニル基、置換されたフェニル基（該置換基は、Ｃ1 −
Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ、ヒドロキシ、ハ
ロゲンまたはニトロである。）、ナフチル基または無置
換であるかもしくはＣ1 −Ｃ4 アルキルで置換された、
フリル、チエニル、ピリジル、オキサゾリル、チアゾリ
ル、イソオキサゾリルもしくはイソチアゾリル基であ
り、Ｒ6 が水素原子、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基、ベンジル
基またはフェネチル基であり、ＡがＣ2 −Ｃ4 アルキレ
ン基、カルボキシ−Ｃ2 −Ｃ4 アルキレン基またはＣ1
−Ｃ4 アルコキシカルボニル−Ｃ2 −Ｃ4 アルキレン基
である化合物、 ３０）Ｒ3 が水素原子、メチル基またはベンジル基であ
り、Ｒ4 およびＲ5 が同一または異なって、水素原子、
メチル基、ベンジル基、置換されたベンジル基（該置換
基は、メチル、メトキシ、ヒドロキシ、フルオロまたは
クロロである。）、フェネチル基、置換されたフェネチ
ル基（該置換基は、メチル、メトキシ、ヒドロキシ、フ
ルオロまたはクロロである。）、フェニル基、置換され
たフェニル基（該置換基は、メチル、メトキシ、ヒドロ
キシ、フルオロまたはクロロである。）、フリル基、チ
エニル基またはピリジル基であり、Ｒ6 が水素原子、メ
チル基またはベンジル基であり、ＡがＣ2 −Ｃ4 アルキ
レン基である化合物、 ３１）Ｗが硫黄または酸素原子であり、Ｘが式−ＮＲ3
−を有する基（式中、Ｒ3 は水素原子である。）である
か、あるいはＸが硫黄原子であり、Ｗが式−ＮＲ3 −を
有する基（式中、Ｒ3 は水素原子である。）であり、Ｒ
4 が水素原子、メチル基、ベンジル基、置換されたベン
ジル基（該置換基は、メチル、メトキシまたはヒドロキ
シである。）、フェニル基または置換されたフェニル基
（該置換基は、メチル、メトキシまたはヒドロキシであ
る。）であり、Ｒ5 が水素原子であり、Ｒ6 が水素原子
であり、ＡがＣ2 −Ｃ4 アルキレン基である化合物、 ３２）Ｗが硫黄または酸素原子であり、Ｘが式−ＮＲ3
−を有する基（式中、Ｒ3 は水素原子である。）であ
り、Ｒ4 が水素原子、メチル基、ベンジル基、フェニル
基またはメトキシフェニル基であり、Ｒ5 が水素原子で
あり、Ｒ6 が水素原子であり、ＡがＣ2 −Ｃ4 アルキレ
ン基である化合物、 ３３）Ｗが硫黄原子であり、Ｘが式−ＮＲ3 −を有する
基（式中、Ｒ3 は水素原子である。）であり、Ｒ4 が水
素原子、メチル基、ベンジル基または４−メトキシフェ
ニル基であり、Ｒ5 が水素原子であり、Ｒ6 が水素原子
であり、Ａがエチレン基または１−メチルエチレン基で
ある化合物または ３４）Ｗが硫黄原子であり、Ｘが式−ＮＲ3 −を有する
基（式中、Ｒ3 は水素原子である。）であり、Ｒ4 が水
素原子であり、Ｒ5 が水素原子であり、Ｒ6 が水素原子
であり、Ａがエチレン基または１−メチルエチレン基で
ある化合物。
【００３１】一般式（Ｉ）における好適な化合物は、表
１に具体的に例示することができる。
１に具体的に例示することができる。
【００３２】
【化６】
【００３３】
【表１】 ──────────────────────────────────── 化合物 Ｒ1 Ｒ2 ｎ 番号No. ──────────────────────────────────── 1-1 H Me 1 1-2 Me Me 1 1-3 Et Me 1 1-4 Ph Me 1 1-5 4-Me-Ph Me 1 1-6 4-MeO-Ph Me 1 1-7 4-F-Ph Me 1 1-8 4-Cl-Ph Me 1 1-9 Bz Me 1 1-10 4-Me-Bz Me 1 1-11 4-MeO-Bz Me 1 1-12 4-F-Bz Me 1 1-13 4-Cl-Bz Me 1 1-14 CH2CH2Ph Me 1 1-15 H Et 1 1-16 Me Et 1 1-17 Ph Et 1 1-18 4-Me-Ph Et 1 1-19 4-MeO-Ph Et 1 1-20 4-F-Ph Et 1 1-21 4-Cl-Ph Et 1 1-22 Bz Et 1 1-23 4-Me-Bz Et 1 1-24 4-MeO-Bz Et 1 1-25 4-F-Bz Et 1 1-26 4-Cl-Bz Et 1 1-27 H Pr 1 1-28 Me Pr 1 1-29 Ph Pr 1 1-30 4-Me-Ph Pr 1 1-31 4-MeO-Ph Pr 1 1-32 4-F-Ph Pr 1 1-33 4-Cl-Ph Pr 1 1-34 Bz Pr 1 1-35 4-Me-Bz Pr 1 1-36 4-MeO-Bz Pr 1 1-37 4-F-Bz Pr 1 1-38 4-Cl-Bz Pr 1 1-39 H Me 2 1-40 Me Me 2 1-41 Ph Me 2 1-42 4-Me-Ph Me 2 1-43 4-MeO-Ph Me 2 1-44 4-F-Ph Me 2 1-45 4-Cl-Ph Me 2 1-46 Bz Me 2 1-47 4-Me-Bz Me 2 1-48 4-MeO-Bz Me 2 1-49 4-F-Bz Me 2 1-50 4-Cl-Bz Me 2 1-51 H Et 2 1-52 Me Et 2 1-53 Ph Et 2 1-54 4-Me-Ph Et 2 1-55 4-MeO-Ph Et 2 1-56 Bz Et 2 1-57 4-Me-Bz Et 2 1-58 4-MeO-Bz Et 2 1-59 H Pri 1 1-60 Me Pri 1 1-61 Ph Pri 1 1-62 4-Me-Ph Pri 1 1-63 4-MeO-Ph Pri 1 1-64 4-F-Ph Pri 1 1-65 4-Cl-Ph Pri 1 1-66 Bz Pri 1 1-67 4-Me-Bz Pri 1 1-68 4-MeO-Bz Pri 1 1-69 4-F-Bz Pri 1 1-70 4-Cl-Bz Pri 1 1-71 H Bu 1 1-72 Me Bu 1 1-73 Ph Bu 1 1-74 4-Me-Ph Bu 1 1-75 4-MeO-Ph Bu 1 1-76 4-F-Ph Bu 1 1-77 4-Cl-Ph Bu 1 1-78 Bz Bu 1 1-79 4-Me-Bz Bu 1 1-80 4-MeO-Bz Bu 1 1-81 4-F-Bz Bu 1 1-82 4-Cl-Bz Bu 1 1-83 H Bui 1 1-84 Me Bui 1 1-85 Ph Bui 1 1-86 4-Me-Ph Bui 1 1-87 4-MeO-Ph Bui 1 1-88 4-F-Ph Bui 1 1-89 4-Cl-Ph Bui 1 1-90 Bz Bui 1 1-91 4-Me-Bz Bui 1 1-92 4-MeO-Bz Bui 1 1-93 4-F-Bz Bui 1 1-94 4-Cl-Bz Bui 1 1-95 H Bus 1 1-96 Me Bus 1 1-97 Ph Bus 1 1-98 4-Me-Ph Bus 1 1-99 4-MeO-Ph Bus 1 1-100 Bz Bus 1 1-101 4-Me-Bz Bus 1 1-102 4-MeO-Bz Bus 1 1-103 H But 1 1-104 Me But 1 1-105 Ph But 1 1-106 4-Me-Ph But 1 1-107 4-MeO-Ph But 1 1-108 Bz But 1 1-109 4-Me-Bz But 1 1-110 4-MeO-Bz But 1 1-111 H Pn 1 1-112 Me Pn 1 1-113 Ph Pn 1 1-114 4-Me-Ph Pn 1 1-115 4-MeO-Ph Pn 1 1-116 Bz Pn 1 1-117 4-Me-Bz Pn 1 1-118 4-MeO-Bz Pn 1 1-119 H Hx 1 1-120 Me Hx 1 1-121 Ph Hx 1 1-122 4-Me-Ph Hx 1 1-123 4-MeO-Ph Hx 1 1-124 Bz Hx 1 1-125 4-Me-Bz Hx 1 1-126 4-MeO-Bz Hx 1 1-127 H Pr 2 1-128 Me Pr 2 1-129 Ph Pr 2 1-130 4-Me-Ph Pr 2 1-131 4-MeO-Ph Pr 2 1-132 Bz Pr 2 1-133 4-Me-Bz Pr 2 1-135 H Pri 2 1-136 Me Pri 2 1-137 Ph Pri 2 1-138 4-Me-Ph Pri 2 1-139 4-MeO-Ph Pri 2 1-140 Bz Pri 2 1-141 4-Me-Bz Pri 2 1-142 4-MeO-Bz Pri 2 1-143 H Bu 2 1-144 Me Bu 2 1-145 Ph Bu 2 1-146 4-Me-Ph Bu 2 1-147 4-MeO-Ph Bu 2 1-148 Bz Bu 2 1-149 4-Me-Bz Bu 2 1-150 4-MeO-Bz Bu 2 1-151 H Bui 2 1-152 Me Bui 2 1-153 Ph Bui 2 1-154 4-Me-Ph Bui 2 1-155 4-MeO-Ph Bui 2 1-156 Bz Bui 2 1-157 4-Me-Bz Bui 2 1-158 4-MeO-Bz Bui 2 ──────────────────────────────────── 上記表１において、略号は以下の基を示す。
【００３４】 Bz ・・・・ベンジル Bu ・・・・ブチル Bui ・・・・イソブチル Bus ・・・・ｓ−ブチル But ・・・・ｔ−ブチル Et ・・・・エチル Hx ・・・・ヘキシル Me ・・・・メチル Ph ・・・・フェニル Pn ・・・・ペンチル Pr ・・・・プロピル Pri ・・・・イソプロピル。
【００３５】又、上記表１において、好適には、化合物
番号Ｎｏ．1-1 、1-2 、1-3 、1-6 、1-7 、1-9 、1-1
0、1-11、1-12、1-13、1-14、1-15、1-27、1-28、1-2
9、1-30、1-31、3-32、1-33、1-34、1-36、1-39、1-4
0、1-43、1-59、1-60、1-71、1-72、1-73、1-74、1-7
5、1-78、1-80、1-83、1-84、1-85、1-87、1-90、1-9
2、1-95、1-103 、1-111 、1-112 、1-116、1-119 、1-
120 、1-123 、1-124 、1-127 、1-143 および1-151 の
化合物であり、さらに好適には、化合物番号Ｎｏ．1-1
、1-2 、1-3 、1-6 、1-9 、1-10、1-12、1-14、1-2
7、1-28、1-29、1-31、3-32、1-33、1-34、1-36、1-6
0、1-71、1-72、1-73、1-75、1-78、1-80、1-83、1-8
4、1-85、1-87、1-90、1-92、1-95、1-103 、1-111 、1
-112 、1-116 、1-119 、1-120 、1-123 、1-124 、1-1
27 、1-143 および1-151 の化合物であり、特に好適に
は、 化合物番号Ｎｏ．1-1 ：（４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１
−メチル−２−ニトロキシエチル］−２−オキソチアゾ
リジン−４−イル−カルボキサミド、 化合物番号Ｎｏ．1-2 ：（４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１
−メチル−２−ニトロキシエチル］−５−メチル−２−
オキソチアゾリジン−４−イル−カルボキサミド、 化合物番号Ｎｏ．1-6 ：（４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１
−メチル−２−ニトロキシエチル］−５−（４−メトキ
シフェニル）−２−オキソチアゾリジン−４−イル−カ
ルボキサミド、 化合物番号Ｎｏ．1-9 ：（４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１
−メチル−２−ニトロキシエチル］−５−ベンジル−２
−オキソチアゾリジン−４−イル−カルボキサミド、 化合物番号Ｎｏ．1-15：（４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１
−エチル−２−ニトロキシエチル］−２−オキソチアゾ
リジン−４−イル−カルボキサミド、 化合物番号Ｎｏ．1-27：（４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１
−プロピル−２−ニトロキシエチル］−２−オキソチア
ゾリジン−４−イル−カルボキサミド、 化合物番号Ｎｏ．1-28：（４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１
−プロピル−２−ニトロキシエチル］−５−メチル−２
−オキソチアゾリジン−４−イル−カルボキサミド、 化合物番号Ｎｏ．1-31：（４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１
−プロピル−２−ニトロキシエチル］−５−（４−メト
キシフェニル）−２−オキソチアゾリジン−４−イル−
カルボキサミド、 化合物番号Ｎｏ．1-34：（４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１
−プロピル−２−ニトロキシエチル］−５−ベンジル−
２−オキソチアゾリジン−４−イル−カルボキサミド、 化合物番号Ｎｏ．1-71：（４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１
−ブチル−２−ニトロキシエチル］−２−オキソチアゾ
リジン−４−イル−カルボキサミド、 化合物番号Ｎｏ．1-72：（４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１
−ブチル−２−ニトロキシエチル］−５−メチル−２−
オキソチアゾリジン−４−イル−カルボキサミド、 化合物番号Ｎｏ．1-75：（４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１
−ブチル−２−ニトロキシエチル］−５−（４−メトキ
シフェニル）−２−オキソチアゾリジン−４−イル−カ
ルボキサミド、 化合物番号Ｎｏ．1-78：（４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１
−ブチル−２−ニトロキシエチル］−５−ベンジル−２
−オキソチアゾリジン−４−イル−カルボキサミド、 化合物番号Ｎｏ．1-83：（４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１
−イソブチル−２−ニトロキシエチル］−２−オキソチ
アゾリジン−４−イル−カルボキサミド、 化合物番号Ｎｏ．1-84：（４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１
−イソブチル−２−ニトロキシエチル］−５−メチル−
２−オキソチアゾリジン−４−イル−カルボキサミド、 化合物番号Ｎｏ．1-87：（４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１
−イソブチル−２−ニトロキシエチル］−５−（４−メ
トキシフェニル）−２−オキソチアゾリジン−４−イル
−カルボキサミドおよび 化合物番号Ｎｏ．1-90：（４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１
−イソブチル−２−ニトロキシエチル］−５−ベンジル
−２−オキソチアゾリジン−４−イル−カルボキサミド の化合物である。
番号Ｎｏ．1-1 、1-2 、1-3 、1-6 、1-7 、1-9 、1-1
0、1-11、1-12、1-13、1-14、1-15、1-27、1-28、1-2
9、1-30、1-31、3-32、1-33、1-34、1-36、1-39、1-4
0、1-43、1-59、1-60、1-71、1-72、1-73、1-74、1-7
5、1-78、1-80、1-83、1-84、1-85、1-87、1-90、1-9
2、1-95、1-103 、1-111 、1-112 、1-116、1-119 、1-
120 、1-123 、1-124 、1-127 、1-143 および1-151 の
化合物であり、さらに好適には、化合物番号Ｎｏ．1-1
、1-2 、1-3 、1-6 、1-9 、1-10、1-12、1-14、1-2
7、1-28、1-29、1-31、3-32、1-33、1-34、1-36、1-6
0、1-71、1-72、1-73、1-75、1-78、1-80、1-83、1-8
4、1-85、1-87、1-90、1-92、1-95、1-103 、1-111 、1
-112 、1-116 、1-119 、1-120 、1-123 、1-124 、1-1
27 、1-143 および1-151 の化合物であり、特に好適に
は、 化合物番号Ｎｏ．1-1 ：（４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１
−メチル−２−ニトロキシエチル］−２−オキソチアゾ
リジン−４−イル−カルボキサミド、 化合物番号Ｎｏ．1-2 ：（４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１
−メチル−２−ニトロキシエチル］−５−メチル−２−
オキソチアゾリジン−４−イル−カルボキサミド、 化合物番号Ｎｏ．1-6 ：（４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１
−メチル−２−ニトロキシエチル］−５−（４−メトキ
シフェニル）−２−オキソチアゾリジン−４−イル−カ
ルボキサミド、 化合物番号Ｎｏ．1-9 ：（４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１
−メチル−２−ニトロキシエチル］−５−ベンジル−２
−オキソチアゾリジン−４−イル−カルボキサミド、 化合物番号Ｎｏ．1-15：（４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１
−エチル−２−ニトロキシエチル］−２−オキソチアゾ
リジン−４−イル−カルボキサミド、 化合物番号Ｎｏ．1-27：（４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１
−プロピル−２−ニトロキシエチル］−２−オキソチア
ゾリジン−４−イル−カルボキサミド、 化合物番号Ｎｏ．1-28：（４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１
−プロピル−２−ニトロキシエチル］−５−メチル−２
−オキソチアゾリジン−４−イル−カルボキサミド、 化合物番号Ｎｏ．1-31：（４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１
−プロピル−２−ニトロキシエチル］−５−（４−メト
キシフェニル）−２−オキソチアゾリジン−４−イル−
カルボキサミド、 化合物番号Ｎｏ．1-34：（４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１
−プロピル−２−ニトロキシエチル］−５−ベンジル−
２−オキソチアゾリジン−４−イル−カルボキサミド、 化合物番号Ｎｏ．1-71：（４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１
−ブチル−２−ニトロキシエチル］−２−オキソチアゾ
リジン−４−イル−カルボキサミド、 化合物番号Ｎｏ．1-72：（４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１
−ブチル−２−ニトロキシエチル］−５−メチル−２−
オキソチアゾリジン−４−イル−カルボキサミド、 化合物番号Ｎｏ．1-75：（４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１
−ブチル−２−ニトロキシエチル］−５−（４−メトキ
シフェニル）−２−オキソチアゾリジン−４−イル−カ
ルボキサミド、 化合物番号Ｎｏ．1-78：（４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１
−ブチル−２−ニトロキシエチル］−５−ベンジル−２
−オキソチアゾリジン−４−イル−カルボキサミド、 化合物番号Ｎｏ．1-83：（４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１
−イソブチル−２−ニトロキシエチル］−２−オキソチ
アゾリジン−４−イル−カルボキサミド、 化合物番号Ｎｏ．1-84：（４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１
−イソブチル−２−ニトロキシエチル］−５−メチル−
２−オキソチアゾリジン−４−イル−カルボキサミド、 化合物番号Ｎｏ．1-87：（４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１
−イソブチル−２−ニトロキシエチル］−５−（４−メ
トキシフェニル）−２−オキソチアゾリジン−４−イル
−カルボキサミドおよび 化合物番号Ｎｏ．1-90：（４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１
−イソブチル−２−ニトロキシエチル］−５−ベンジル
−２−オキソチアゾリジン−４−イル−カルボキサミド の化合物である。
【００３６】また、一般式（ＩＩ）における好適な化合
物は、表２および表３に具体的に例示することができ
る。なお、表２および表３の化合物は、それぞれ、式
（ＩＩ−１）および（ＩＩ−２）の構造式を有する。
物は、表２および表３に具体的に例示することができ
る。なお、表２および表３の化合物は、それぞれ、式
（ＩＩ−１）および（ＩＩ−２）の構造式を有する。
【００３７】
【化７】
【００３８】
【表２】 ──────────────────────────────────── 化合物 Ｒ3 Ｒ4 Ｒ5 Ｒ6 Ａ Ｘ1 番号 No. ──────────────────────────────────── 2-1 H H H H (CH2)2 S 2-2 Me H H H (CH2)2 S 2-3 Et H H H (CH2)2 S 2-4 PhCH2 H H H (CH2)2 S 2-5 H Me H H (CH2)2 S 2-6 H Et H H (CH2)2 S 2-7 H Ph H H (CH2)2 S 2-8 H 2-Thi H H (CH2)2 S 2-9 H 3-Thi H H (CH2)2 S 2-10 H 2-Fur H H (CH2)2 S 2-11 H 3-Fur H H (CH2)2 S 2-12 H 3-NO2-Ph H H (CH2)2 S 2-13 H 4-Cl-Ph H H (CH2)2 S 2-14 H 4-MeO-Ph H H (CH2)2 S 2-15 H 4-Thiz H H (CH2)2 S 2-16 H 3-Pyr H H (CH2)2 S 2-17 H Me Me H (CH2)2 S 2-18 Me Me Me H (CH2)2 S 2-19 Me Me Me Me (CH2)2 S 2-20 Et Ph H H (CH2)3 S 2-21 Et Et H Me (CH2)4 S 2-22 PhCH2 Me H Et (CH2)2 S 2-23 PhCH2 Ph H Pr (CH2)4 S 2-24 Bu H H H (CH2)2 S 2-25 H 1-Naph H H (CH2)2 S 2-26 H H H Me (CH2)2 S 2-27 H H H PhCH2 (CH2)2 S 2-28 H PhCH2 H H (CH2)2 S 2-29 PhCH2 H H H (CH2)3 S 2-30 H H H H CH(Me)CH2 S 2-31 H H H H CH2CH(Me) S 2-32 H H H H (CH2)5 S 2-33 H H H H (CH2)6 S 2-34 H H H H (CH2)2 O 2-35 Me H H H (CH2)2 O 2-36 Et H H H (CH2)2 O 2-37 PhCH2 H H H (CH2)2 O 2-38 H Me H H (CH2)2 O 2-39 H Et H H (CH2)2 O 2-40 H Ph H H (CH2)2 O 2-41 H 2-Thi H H (CH2)2 O 2-42 H 3-Thi H H (CH2)2 O 2-43 H 2-Fur H H (CH2)2 O 2-44 H 3-Fur H H (CH2)2 O 2-45 H 3-NO2-Ph H H (CH2)2 O 2-46 H 4-Cl-Ph H H (CH2)2 O 2-47 H 4-MeO-Ph H H (CH2)2 O 2-48 H 4-Thiz H H (CH2)2 O 2-49 H 3-Pyr H H (CH2)2 O 2-50 H Me Me H (CH2)2 O 2-51 Me Me Me H (CH2)2 O 2-52 Me Me Me Me (CH2)2 O 2-53 Et Ph H H (CH2)3 O 2-54 Et Et H Me (CH2)4 O 2-55 PhCH2 Me H Et (CH2)2 O 2-56 PhCH2 Ph H Pr (CH2)4 O 2-57 Bu H H H (CH2)2 O 2-58 H 1-Naph H H (CH2)2 O 2-59 H H H Me (CH2)2 O 2-60 H H H PhCH2 (CH2)2 O 2-61 H PhCH2 H H (CH2)2 O 2-62 H H H H (CH2)3 O 2-63 H H H H CH(Me)CH2 O 2-64 H H H H CH2CH(Me) O 2-65 H H H H (CH2)5 O 2-66 H H H H (CH2)6 O 2-67 H H H H (CH2)4 S 2-68 H H H H (CH2)3 S 2-69 H 4-Me-CH2Ph H H (CH2)2 S 2-70 H 4-MeO-CH2Ph H H (CH2)2 S 2-71 H 4-F-CH2Ph H H (CH2)2 S 2-72 H 4-Cl-CH2Ph H H (CH2)2 S 2-73 H 4-OH-CH2Ph H H (CH2)2 S 2-74 H 4-Me-Ph H H (CH2)2 S 2-75 H 4-F-Ph H H (CH2)2 S 2-76 H 4-OH-Ph H H (CH2)2 S 2-77 H 4-Me-CH2Ph H H (CH2)2 O 2-78 H 4-MeO-CH2Ph H H (CH2)2 O 2-79 H 4-F-CH2Ph H H (CH2)2 O 2-80 H 4-Cl-CH2Ph H H (CH2)2 O 2-81 H 4-OH-CH2Ph H H (CH2)2 O 2-82 H 4-Me-Ph H H (CH2)2 O 2-83 H 4-F-Ph H H (CH2)2 O 2-84 H 4-OH-Ph H H (CH2)2 O 2-85 H H H H (CH2)4 O 2-86 H Me H H CH(Me)CH2 S 2-87 H 3-Fur H H CH(Me)CH2 S 2-88 H 4-MeO-Ph H H CH(Me)CH2 S 2-89 H PhCH2 H H CH(Me)CH2 S 2-90 H Me H H CH(Me)CH2 O 2-91 H 3-Fur H H CH(Me)CH2 O 2-92 H 4-MeO-Ph H H CH(Me)CH2 O 2-93 H PhCH2 H H CH(Me)CH2 O ────────────────────────────────────
【００３９】
【表３】 ──────────────────────────────────── 化合物 Ｒ3 Ｒ4 Ｒ5 Ｒ6 A Ｘ1 番号 No. ──────────────────────────────────── 3-1 H H H H (CH2)2 S 3-2 Me H H H (CH2)2 S 3-3 Et H H H (CH2)2 S 3-4 PhCH2 H H H (CH2)2 S 3-5 H Me H H (CH2)2 S 3-6 H Et H H (CH2)2 S 3-7 H Ph H H (CH2)2 S 3-8 H 2-Thi H H (CH2)2 S 3-9 H 3-Thi H H (CH2)2 S 3-10 H 2-Fur H H (CH2)2 S 3-11 H 3-Fur H H (CH2)2 S 3-12 H 3-NO2-Ph H H (CH2)2 S 3-13 H 4-Cl-Ph H H (CH2)2 S 3-14 H 4-MeO-Ph H H (CH2)2 S 3-15 H 4-Thiz H H (CH2)2 S 3-16 H 3-Pyr H H (CH2)2 S 3-17 H Me Me H (CH2)2 S 3-18 Me Me Me H (CH2)2 S 3-19 Me Me Me Me (CH2)2 S 3-20 Et Ph H H (CH2)3 S 3-21 Et Et H Me (CH2)4 S 3-22 PhCH2 Me H Et (CH2)2 S 3-23 PhCH2 Ph H Pr (CH2)4 S 3-24 Bu H H H (CH2)2 S 3-25 H 1-Naph H H (CH2)2 S 3-26 H H H Me (CH2)2 S 3-27 H H H PhCH2 (CH2)2 S 3-28 H PhCH2 H H (CH2)2 S 3-29 H H H H (CH2)3 S 3-30 H H H H CH(Me)CH2 S 3-31 H H H H CH2CH(Me) S 3-32 H H H H (CH2)5 S 3-33 H H H H (CH2)6 S 3-34 H H H H (CH2)2 O 3-35 Me H H H (CH2)2 O 3-36 Et H H H (CH2)2 O 3-37 PhCH2 H H H (CH2)2 O 3-38 H Me H H (CH2)2 O 3-39 H Et H H (CH2)2 O 3-40 H Ph H H (CH2)2 O 3-41 H 2-Thi H H (CH2)2 O 3-42 H 3-Thi H H (CH2)2 O 3-43 H 2-Fur H H (CH2)2 O 3-44 H 3-Fur H H (CH2)2 O 3-45 H 3-NO2-Ph H H (CH2)2 O 3-46 H 4-Cl-Ph H H (CH2)2 O 3-47 H 4-MeO-Ph H H (CH2)2 O 3-48 H 4-Thiz H H (CH2)2 O 3-49 H 3-Pyr H H (CH2)2 O 3-50 H Me Me H (CH2)2 O 3-51 Me Me Me H (CH2)2 O 3-52 Me Me Me Me (CH2)2 O 3-53 Et Ph H H (CH2)3 O 3-54 Et Et H Me (CH2)4 O 3-55 PhCH2 Me H Et (CH2)2 O 3-56 PhCH2 Ph H Pr (CH2)4 O 3-57 Bu H H H (CH2)2 O 3-58 H 1-Naph H H (CH2)2 O 3-59 H H H Me (CH2)2 O 3-60 H H H PhCH2 (CH2)2 O 3-61 H PhCH2 H H (CH2)2 O 3-62 H H H H (CH2)3 O 3-63 H H H H CH(Me)CH2 O 3-64 H H H H CH2CH(Me) O 3-65 H 4-Me-Ph H H (CH2)2 O 3-66 H 4-Me-Ph H H (CH2)2 S 3-67 H 4-Me-CH2Ph H H (CH2)2 S 3-68 H 4-MeO-CH2Ph H H (CH2)2 S 3-69 H 4-F-CH2Ph H H (CH2)2 S 3-70 H 4-Cl-CH2Ph H H (CH2)2 S 3-71 H 4-OH-CH2Ph H H (CH2)2 S 3-72 H 4-F-Ph H H (CH2)2 S 3-73 H 4-OH-Ph H H (CH2)2 S 3-74 H 4-Me-CH2Ph H H (CH2)2 O 3-75 H 4-MeO-CH2Ph H H (CH2)2 O 3-76 H 4-F-CH2Ph H H (CH2)2 O 3-77 H 4-Cl-CH2Ph H H (CH2)2 O 3-78 H 4-OH-CH2Ph H H (CH2)2 O 3-79 H 4-F-Ph H H (CH2)2 O 3-80 H 4-OH-Ph H H (CH2)2 O 3-81 H H H H (CH2)4 S 3-82 H H H H (CH2)4 O 3-83 H Me H H CH(Me)CH2 S 3-84 H 3-Fur H H CH(Me)CH2 S 3-85 H 4-MeO-Ph H H CH(Me)CH2 S 3-86 H PhCH2 H H CH(Me)CH2 S 3-87 H Me H H CH(Me)CH2 O 3-88 H 3-Fur H H CH(Me)CH2 O 3-89 H 4-MeO-Ph H H CH(Me)CH2 O 3-90 H PhCH2 H H CH(Me)CH2 O ──────────────────────────────────── 上記表２及び表３において、略号は以下の基を示す。
【００４０】 Bu ・・・・ブチル Et ・・・・エチル Fur ・・・・フリル Me ・・・・メチル Naph ・・・・ナフチル Ph ・・・・フェニル Pr ・・・・プロピル Prd ・・・・ピリジル Thi ・・・・チェニル Thiz ・・・・チアゾリル。
【００４１】また、上記表２及び表３において、好適に
は、化合物番号 No. 2-1、2-2 、2-5 、2-7 、2-8 、2-
9 、2-10、 2-11 、2-12、2-13、2-14、 2-16 、2-17、
2-25 、2-26、 2-28 、2-30、 2-31 、2-34、2-35、2-
38、 2-40 、2-41、 2-42 、2-43、 2-44 、 2-47 、2-
61、2-63、 2-67 、2-68、2-69、 2-70 、2-71、 2-72
、2-73、 2-74 、2-75、 2-76 、2-77、2-78、2-79、
2-80 、2-81、 2-82 、2-83、 2-84 、2-85、 2-86 、2
-87、2-88、2-89、 2-90 、2-91、 2-92 、2-93、 3-
1、 3-5、 3-7、 3-14 、3-30、3-34、3-38、3-40、 3-
47 、3-65、 3-66 、3-67、 3-68 、 3-69 、3-70、 3-
71 、3-72、3-73、3-83、 3-84 、3-85、 3-86 、3-8
7、 3-88 、3-89および3-90の化合物であり、さらに好
適には、化合物番号 No. 2-1、2-2 、2-5 、2-7 、2-8
、2-14、 2-25 、 2-28 、2-30、2-34、2-38、2-41、2
-44、2-47、2-61、2-63、2-69、 2-70 、 2-74 、2-7
8、2-86、2-88、2-89、 2-90 、2-91、 2-92 、2-93、
3-1、3-7 、3-14、3-30、3-66、3-67、3-68および3-85
の化合物であり、特に好適には、 化合物番号 No. 2-1：Ｎ−（２−ニトロキシエチル）−
２−オキソチアゾリジン−４−イルカルボキサミド、 化合物番号 No. 2-5：Ｎ−（２−ニトロキシエチル）−
５−メチル−２−オキソチアゾリジン−４−イルカルボ
キサミド、 化合物番号 No. 2-14 ：Ｎ−（２−ニトロキシエチル）
−５−（４−メトキシフェニル）−２−オキソチアゾリ
ジン−４−イルカルボキサミド、 化合物番号 No. 2-28 ：Ｎ−（２−ニトロキシエチル）
−５−ベンジル−２−オキソチアゾリジン−４−イルカ
ルボキサミド、 化合物番号 No. 2-30 ：Ｎ−（１−メチル−２−ニトロ
キシエチル）−２−オキソチアゾリジン−４−イルカル
ボキサミド、 化合物番号 No. 2-34 ：Ｎ−（２−ニトロキシエチル）
−２−オキソオキサゾリジン−４−イルカルボキサミ
ド、 化合物番号 No. 2-44 ：Ｎ−（２−ニトロキシエチル）
−５−（３−フリル）−２−オキソオキサゾリジン−４
−イルカルボキサミド、 化合物番号 No. 2-61 ：Ｎ−（２−ニトロキシエチル）
−５−ベンジル−２−オキソオキサゾリジン−４−イル
カルボキサミド、 化合物番号 No. 2-63 ：Ｎ−（１−メチル−２−ニトロ
キシエチル）−２−オキソオキサゾリジン−４−イルカ
ルボキサミド、 化合物番号 No. 2-86 ：Ｎ−（１−メチル−２−ニトロ
キシエチル）−５−メチル−２−オキソチアゾリジン−
４−イルカルボキサミド、 化合物番号 No. 2-88 ：Ｎ−（１−メチル−２−ニトロ
キシエチル）−５−（４−メトキシフェニル）−２−オ
キソチアゾリジン−４−イルカルボキサミド、 化合物番号 No. 2-89 ：Ｎ−（１−メチル−２−ニトロ
キシエチル）−５−ベンジル−２−オキソチアゾリジン
−４−イルカルボキサミド、 化合物番号 No. 2-91 ：Ｎ−（１−メチル−２−ニトロ
キシエチル）−５−（３−フリル）−２−オキソオキサ
ゾリジン−４−イルカルボキサミド、 化合物番号 No. 2-93 ：Ｎ−（１−メチル−２−ニトロ
キシエチル）−５−ベンジル−２−オキソオキサゾリジ
ン−４−イルカルボキサミド、 化合物番号 No. 3-1：Ｎ−（２−ニトロキシエチル）−
２−オキソチアゾリジン−５−イルカルボキサミド、 化合物番号 No. 3-14 ：Ｎ−（２−ニトロキシエチル）
−４−（４−メトキシフェニル）−２−オキソチアゾリ
ジン−５−イルカルボキサミド、 化合物番号 No. 3-30 ：Ｎ−（１−メチル−２−ニトロ
キシエチル）−２−オキソチアゾリジン−５−イルカル
ボキサミドおよび 化合物番号 No. 3-85 ：Ｎ−（１−メチル−２−ニトロ
キシエチル）−４−（４−メトキシフェニル）−２−オ
キソチアゾリジン−５−イルカルボキサミド の化合物である。
は、化合物番号 No. 2-1、2-2 、2-5 、2-7 、2-8 、2-
9 、2-10、 2-11 、2-12、2-13、2-14、 2-16 、2-17、
2-25 、2-26、 2-28 、2-30、 2-31 、2-34、2-35、2-
38、 2-40 、2-41、 2-42 、2-43、 2-44 、 2-47 、2-
61、2-63、 2-67 、2-68、2-69、 2-70 、2-71、 2-72
、2-73、 2-74 、2-75、 2-76 、2-77、2-78、2-79、
2-80 、2-81、 2-82 、2-83、 2-84 、2-85、 2-86 、2
-87、2-88、2-89、 2-90 、2-91、 2-92 、2-93、 3-
1、 3-5、 3-7、 3-14 、3-30、3-34、3-38、3-40、 3-
47 、3-65、 3-66 、3-67、 3-68 、 3-69 、3-70、 3-
71 、3-72、3-73、3-83、 3-84 、3-85、 3-86 、3-8
7、 3-88 、3-89および3-90の化合物であり、さらに好
適には、化合物番号 No. 2-1、2-2 、2-5 、2-7 、2-8
、2-14、 2-25 、 2-28 、2-30、2-34、2-38、2-41、2
-44、2-47、2-61、2-63、2-69、 2-70 、 2-74 、2-7
8、2-86、2-88、2-89、 2-90 、2-91、 2-92 、2-93、
3-1、3-7 、3-14、3-30、3-66、3-67、3-68および3-85
の化合物であり、特に好適には、 化合物番号 No. 2-1：Ｎ−（２−ニトロキシエチル）−
２−オキソチアゾリジン−４−イルカルボキサミド、 化合物番号 No. 2-5：Ｎ−（２−ニトロキシエチル）−
５−メチル−２−オキソチアゾリジン−４−イルカルボ
キサミド、 化合物番号 No. 2-14 ：Ｎ−（２−ニトロキシエチル）
−５−（４−メトキシフェニル）−２−オキソチアゾリ
ジン−４−イルカルボキサミド、 化合物番号 No. 2-28 ：Ｎ−（２−ニトロキシエチル）
−５−ベンジル−２−オキソチアゾリジン−４−イルカ
ルボキサミド、 化合物番号 No. 2-30 ：Ｎ−（１−メチル−２−ニトロ
キシエチル）−２−オキソチアゾリジン−４−イルカル
ボキサミド、 化合物番号 No. 2-34 ：Ｎ−（２−ニトロキシエチル）
−２−オキソオキサゾリジン−４−イルカルボキサミ
ド、 化合物番号 No. 2-44 ：Ｎ−（２−ニトロキシエチル）
−５−（３−フリル）−２−オキソオキサゾリジン−４
−イルカルボキサミド、 化合物番号 No. 2-61 ：Ｎ−（２−ニトロキシエチル）
−５−ベンジル−２−オキソオキサゾリジン−４−イル
カルボキサミド、 化合物番号 No. 2-63 ：Ｎ−（１−メチル−２−ニトロ
キシエチル）−２−オキソオキサゾリジン−４−イルカ
ルボキサミド、 化合物番号 No. 2-86 ：Ｎ−（１−メチル−２−ニトロ
キシエチル）−５−メチル−２−オキソチアゾリジン−
４−イルカルボキサミド、 化合物番号 No. 2-88 ：Ｎ−（１−メチル−２−ニトロ
キシエチル）−５−（４−メトキシフェニル）−２−オ
キソチアゾリジン−４−イルカルボキサミド、 化合物番号 No. 2-89 ：Ｎ−（１−メチル−２−ニトロ
キシエチル）−５−ベンジル−２−オキソチアゾリジン
−４−イルカルボキサミド、 化合物番号 No. 2-91 ：Ｎ−（１−メチル−２−ニトロ
キシエチル）−５−（３−フリル）−２−オキソオキサ
ゾリジン−４−イルカルボキサミド、 化合物番号 No. 2-93 ：Ｎ−（１−メチル−２−ニトロ
キシエチル）−５−ベンジル−２−オキソオキサゾリジ
ン−４−イルカルボキサミド、 化合物番号 No. 3-1：Ｎ−（２−ニトロキシエチル）−
２−オキソチアゾリジン−５−イルカルボキサミド、 化合物番号 No. 3-14 ：Ｎ−（２−ニトロキシエチル）
−４−（４−メトキシフェニル）−２−オキソチアゾリ
ジン−５−イルカルボキサミド、 化合物番号 No. 3-30 ：Ｎ−（１−メチル−２−ニトロ
キシエチル）−２−オキソチアゾリジン−５−イルカル
ボキサミドおよび 化合物番号 No. 3-85 ：Ｎ−（１−メチル−２−ニトロ
キシエチル）−４−（４−メトキシフェニル）−２−オ
キソチアゾリジン−５−イルカルボキサミド の化合物である。
【００４２】
【発明の実施の形態】本発明の一般式（Ｉ）を有する化
合物は、以下の方法に従って容易に製造される。
合物は、以下の方法に従って容易に製造される。
【００４３】
【化８】
【００４４】
【化９】
【００４５】
【化１０】
【００４６】上記式中、Ｒ1 、Ｒ2 及びｎは、前述した
ものと同意義を示し、Ｒ7 は、メルカプト基の保護基を
示し、Ｒ8 は、アミノ基の保護基を示す。
ものと同意義を示し、Ｒ7 は、メルカプト基の保護基を
示し、Ｒ8 は、アミノ基の保護基を示す。
【００４７】メルカプト基の保護基は、有機合成化学の
分野で良く知られたものなら、特に限定されないが、好
適には、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基、フェニル基及びＣ1 −
Ｃ4アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ又はハロゲンで置
換されたフェニル基からなる群から選択される置換基を
有するトリ置換シリル基、ベンジル基、Ｃ1 −Ｃ4 アル
キル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ又はハロゲンで置換された
ベンジル基、ベンジルオキシカルボニル基、Ｃ1 −Ｃ4
アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ又はハロゲンで置換さ
れたベンジルオキシカルボニル基、ｔ−ブチル基又はｔ
−ブトキシカルボニル基であり、更に好適には、トリメ
チルシリル基、トリエチルシリル基、ｔ−ブチルジメチ
ルシリル基、フェニルジメチルシリル基、メトキシベン
ジル基、ジメトキシベンジル基、メトキシベンジルオキ
シカルボニル基、ジメトキシベンジルオキシカルボニル
基又はｔ−ブトキシカルボニル基であり、更により好適
には、ｔ−ブチルジメチルシリル基、４−メトキシベン
ジル基、４−メトキシベンジルオキシカルボニル基又は
ｔ−ブトキシカルボニル基であり、特に好適には、ｔ−
ブトキシカルボニル基である。
分野で良く知られたものなら、特に限定されないが、好
適には、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基、フェニル基及びＣ1 −
Ｃ4アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ又はハロゲンで置
換されたフェニル基からなる群から選択される置換基を
有するトリ置換シリル基、ベンジル基、Ｃ1 −Ｃ4 アル
キル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ又はハロゲンで置換された
ベンジル基、ベンジルオキシカルボニル基、Ｃ1 −Ｃ4
アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ又はハロゲンで置換さ
れたベンジルオキシカルボニル基、ｔ−ブチル基又はｔ
−ブトキシカルボニル基であり、更に好適には、トリメ
チルシリル基、トリエチルシリル基、ｔ−ブチルジメチ
ルシリル基、フェニルジメチルシリル基、メトキシベン
ジル基、ジメトキシベンジル基、メトキシベンジルオキ
シカルボニル基、ジメトキシベンジルオキシカルボニル
基又はｔ−ブトキシカルボニル基であり、更により好適
には、ｔ−ブチルジメチルシリル基、４−メトキシベン
ジル基、４−メトキシベンジルオキシカルボニル基又は
ｔ−ブトキシカルボニル基であり、特に好適には、ｔ−
ブトキシカルボニル基である。
【００４８】アミノ基の保護基は、有機合成化学の分野
で良く知られたものなら、特に限定されないが、好適に
は、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基、フェニル基及びＣ1 −Ｃ4
アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ又はハロゲンで置換さ
れたフェニル基からなる群から選択される置換基を有す
るトリ置換シリル基、ベンジル基、Ｃ1 −Ｃ4 アルキ
ル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ又はハロゲンで置換されたベ
ンジル基、ベンジルオキシカルボニル基、Ｃ1 −Ｃ4 ア
ルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ又はハロゲンで置換され
たベンジルオキシカルボニル基、ｔ−ブチル基又はｔ−
ブトキシカルボニル基であり、更に好適には、トリメチ
ルシリル基、トリエチルシリル基、ｔ−ブチルジメチル
シリル基、フェニルジメチルシリル基、メトキシベンジ
ル基、ジメトキシベンジル基、メトキシベンジルオキシ
カルボニル基、ジメトキシベンジルオキシカルボニル基
又はｔ−ブトキシカルボニル基であり、更により好適に
は、ｔ−ブチルジメチルシリル基、４−メトキシベンジ
ル基、４−メトキシベンジルオキシカルボニル基又はｔ
−ブトキシカルボニル基であり、特に好適には、ｔ−ブ
トキシカルボニル基である。
で良く知られたものなら、特に限定されないが、好適に
は、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基、フェニル基及びＣ1 −Ｃ4
アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ又はハロゲンで置換さ
れたフェニル基からなる群から選択される置換基を有す
るトリ置換シリル基、ベンジル基、Ｃ1 −Ｃ4 アルキ
ル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ又はハロゲンで置換されたベ
ンジル基、ベンジルオキシカルボニル基、Ｃ1 −Ｃ4 ア
ルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ又はハロゲンで置換され
たベンジルオキシカルボニル基、ｔ−ブチル基又はｔ−
ブトキシカルボニル基であり、更に好適には、トリメチ
ルシリル基、トリエチルシリル基、ｔ−ブチルジメチル
シリル基、フェニルジメチルシリル基、メトキシベンジ
ル基、ジメトキシベンジル基、メトキシベンジルオキシ
カルボニル基、ジメトキシベンジルオキシカルボニル基
又はｔ−ブトキシカルボニル基であり、更により好適に
は、ｔ−ブチルジメチルシリル基、４−メトキシベンジ
ル基、４−メトキシベンジルオキシカルボニル基又はｔ
−ブトキシカルボニル基であり、特に好適には、ｔ−ブ
トキシカルボニル基である。
【００４９】Ａ法は、化合物（Ｉ）を製造する方法であ
る。第Ａ１工程は、一般式（Ｉ）を有する化合物を製造
する工程で、不活性溶剤中、一般式（III)を有する化合
物またはその反応性誘導体（酸ハライド類、混合酸無水
物または活性エステル類）と一般式 (IV) を有する化合
物またはその酸付加塩（例えば、塩酸塩、硝酸塩、硫酸
塩のような鉱酸塩）を反応させることによって達成さ
れ、例えば、酸ハライド法、混合酸無水物法、活性エス
テル法または縮合法によって行われる。
る。第Ａ１工程は、一般式（Ｉ）を有する化合物を製造
する工程で、不活性溶剤中、一般式（III)を有する化合
物またはその反応性誘導体（酸ハライド類、混合酸無水
物または活性エステル類）と一般式 (IV) を有する化合
物またはその酸付加塩（例えば、塩酸塩、硝酸塩、硫酸
塩のような鉱酸塩）を反応させることによって達成さ
れ、例えば、酸ハライド法、混合酸無水物法、活性エス
テル法または縮合法によって行われる。
【００５０】酸ハライド法は、不活性溶剤中、化合物(I
II) をハロゲン化剤（例えば、チオニルクロリド、シュ
ウ酸クロリド、五塩化リン等）と反応させ、酸ハライド
を製造し、その酸ハライドと化合物(IV)またはその酸付
加塩を不活性溶剤中、塩基の存在下または非存在下、反
応させることにより達成される。使用される塩基は、例
えば、トリエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、ピリ
ジン、４−ジメチルアミノピリジンのような有機アミン
類、重曹、重炭酸カリウムのようなアルカリ金属重炭酸
塩、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金
属炭酸塩であり得、好適には、有機アミンである。
II) をハロゲン化剤（例えば、チオニルクロリド、シュ
ウ酸クロリド、五塩化リン等）と反応させ、酸ハライド
を製造し、その酸ハライドと化合物(IV)またはその酸付
加塩を不活性溶剤中、塩基の存在下または非存在下、反
応させることにより達成される。使用される塩基は、例
えば、トリエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、ピリ
ジン、４−ジメチルアミノピリジンのような有機アミン
類、重曹、重炭酸カリウムのようなアルカリ金属重炭酸
塩、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金
属炭酸塩であり得、好適には、有機アミンである。
【００５１】使用される不活性溶剤は、反応に関与しな
ければ、特に制限されず、例えば、ヘキサン、シクロヘ
キサン、ベンゼン、トルエン、キシレンのような炭化水
素類、ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、四塩
化炭素のようなハロゲン化炭化水素類、エ−テル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサンのようなエ−テル類、アセ
トンのようなケトン類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−
ピロリドン、ヘキサメチルホスホルアミドのようなアミ
ド類、ジメチルスルホキシドのようなスルホキシド類で
あり得、好適には、炭化水素類、ハロゲン化炭化水素
類、エ−テル類またはアミド類である。反応温度は、原
料化合物（III)、（IV) および溶媒の種類等により異な
るが、ハロゲン化剤と化合物（III)との反応および酸ハ
ライドと化合物（IV) との反応共、通常−２０℃乃至１
５０℃であり、好適には、ハロゲン化剤と化合物（III)
との反応は−１０℃乃至５０℃であり、酸ハライドと化
合物（IV) との反応は０℃乃至１００℃である。反応時
間は、反応温度等により異なるが、両反応とも、通常１
５分間乃至２４時間（好適には、３０分間乃至１６時
間）である。
ければ、特に制限されず、例えば、ヘキサン、シクロヘ
キサン、ベンゼン、トルエン、キシレンのような炭化水
素類、ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、四塩
化炭素のようなハロゲン化炭化水素類、エ−テル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサンのようなエ−テル類、アセ
トンのようなケトン類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−
ピロリドン、ヘキサメチルホスホルアミドのようなアミ
ド類、ジメチルスルホキシドのようなスルホキシド類で
あり得、好適には、炭化水素類、ハロゲン化炭化水素
類、エ−テル類またはアミド類である。反応温度は、原
料化合物（III)、（IV) および溶媒の種類等により異な
るが、ハロゲン化剤と化合物（III)との反応および酸ハ
ライドと化合物（IV) との反応共、通常−２０℃乃至１
５０℃であり、好適には、ハロゲン化剤と化合物（III)
との反応は−１０℃乃至５０℃であり、酸ハライドと化
合物（IV) との反応は０℃乃至１００℃である。反応時
間は、反応温度等により異なるが、両反応とも、通常１
５分間乃至２４時間（好適には、３０分間乃至１６時
間）である。
【００５２】混合酸無水物法は、ハロゲノ炭酸Ｃ1 −Ｃ
6 アルキル、ジ−Ｃ1 −Ｃ6 アルキルシアノリン酸また
はジ−Ｃ6 −Ｃ10アリールホスホリルアジドと化合物
（III)を反応させ、混合酸無水物を製造し、その混合酸
無水物と化合物(IV)またはその酸付加塩を反応させるこ
とにより達成される。混合酸無水物を製造する反応は、
クロル炭酸メチル、クロル炭酸エチル、クロル炭酸イソ
ブチル、クロル炭酸ヘキシルのようなハロゲノ炭酸Ｃ1
−Ｃ6 アルキル（好適には、クロル炭酸エチルまたはク
ロル炭酸イソブチル）、ジメチルシアノリン酸、ジエチ
ルシアノリン酸、ジヘキシルシアノリン酸のようなジ−
Ｃ1 −Ｃ6 アルキルシアノリン酸（好適には、ジエチル
シアノリン酸）またはジフェニルホスホリルアジド、ジ
（ｐ−ニトロフェニル）ホスホリルアジド、ジナフチル
ホスホリルアジドのようなジ−Ｃ6 −Ｃ10アリールホス
ホリルアジド（好適には、ジフェニルホスホリルアジ
ド）と化合物（III)を反応させることにより行われ、好
適には、不活性溶剤中、塩基の存在下に行われる。
6 アルキル、ジ−Ｃ1 −Ｃ6 アルキルシアノリン酸また
はジ−Ｃ6 −Ｃ10アリールホスホリルアジドと化合物
（III)を反応させ、混合酸無水物を製造し、その混合酸
無水物と化合物(IV)またはその酸付加塩を反応させるこ
とにより達成される。混合酸無水物を製造する反応は、
クロル炭酸メチル、クロル炭酸エチル、クロル炭酸イソ
ブチル、クロル炭酸ヘキシルのようなハロゲノ炭酸Ｃ1
−Ｃ6 アルキル（好適には、クロル炭酸エチルまたはク
ロル炭酸イソブチル）、ジメチルシアノリン酸、ジエチ
ルシアノリン酸、ジヘキシルシアノリン酸のようなジ−
Ｃ1 −Ｃ6 アルキルシアノリン酸（好適には、ジエチル
シアノリン酸）またはジフェニルホスホリルアジド、ジ
（ｐ−ニトロフェニル）ホスホリルアジド、ジナフチル
ホスホリルアジドのようなジ−Ｃ6 −Ｃ10アリールホス
ホリルアジド（好適には、ジフェニルホスホリルアジ
ド）と化合物（III)を反応させることにより行われ、好
適には、不活性溶剤中、塩基の存在下に行われる。
【００５３】使用される塩基および不活性溶剤は、上記
の酸ハライド法で使用されるものと同様である。反応温
度は、原料化合物（III)および溶媒の種類等により異な
るが、通常−２０℃乃至５０℃（好適には、０℃乃至３
０℃）であり、反応時間は、反応温度等により異なる
が、通常１５分間乃至２４時間（好適には、３０分間乃
至１６時間）である。
の酸ハライド法で使用されるものと同様である。反応温
度は、原料化合物（III)および溶媒の種類等により異な
るが、通常−２０℃乃至５０℃（好適には、０℃乃至３
０℃）であり、反応時間は、反応温度等により異なる
が、通常１５分間乃至２４時間（好適には、３０分間乃
至１６時間）である。
【００５４】混合酸無水物と化合物（IV) またはその酸
付加塩との反応は、好適には、不活性溶剤中で、塩基の
存在下または非存在下で行われ、使用される塩基および
不活性溶剤は、上記の酸ハライド法で使用されるものと
同様である。反応温度は、原料化合物（IV) および溶媒
の種類等により異なるが、通常−２０℃乃至１００℃
（好適には、−１０℃乃至５０℃）であり、反応時間
は、反応温度等により異なるが、通常１５分間乃至２４
時間（好適には、３０分間乃至１６時間）である。ま
た、本方法において、ジアルキルシアノリン酸またはジ
アリールホスホリルアジドを使用する場合には、塩基の
存在下、化合物（III)と化合物（IV) を直接反応させる
こともできる。
付加塩との反応は、好適には、不活性溶剤中で、塩基の
存在下または非存在下で行われ、使用される塩基および
不活性溶剤は、上記の酸ハライド法で使用されるものと
同様である。反応温度は、原料化合物（IV) および溶媒
の種類等により異なるが、通常−２０℃乃至１００℃
（好適には、−１０℃乃至５０℃）であり、反応時間
は、反応温度等により異なるが、通常１５分間乃至２４
時間（好適には、３０分間乃至１６時間）である。ま
た、本方法において、ジアルキルシアノリン酸またはジ
アリールホスホリルアジドを使用する場合には、塩基の
存在下、化合物（III)と化合物（IV) を直接反応させる
こともできる。
【００５５】活性エステル法は、縮合剤（例えば、ジシ
クロヘキシルカルボジイミド、カルボニルジイミダゾ−
ル等）の存在下、化合物（III)を活性エステル化剤（例
えば、Ｎ−ヒドロキシサクシンイミド、Ｎ−ヒドロキシ
ベンゾトリアゾ−ルのようなＮ−ヒドロキシ化合物等）
と反応させ、活性エステルを製造し、この活性エステル
と化合物（III)またはその酸付加塩を反応させることに
より達成される。活性エステルを製造する反応は、好適
には、不活性溶剤中で行われ、使用される不活性溶剤
は、上記の酸ハライド法で使用されるものと同様であ
る。反応温度は、原料化合物（III)、(IV)および溶媒の
種類等により異なるが、活性エステル化反応では、通常
−２０℃乃至５０℃（好適には、−１０℃乃至３０℃）
であり、活性エステル化合物と化合物（IV) との反応で
は、−２０℃乃至５０℃（好適には、−１０℃乃至３０
℃）であり、反応時間は、反応温度等により異なるが、
両反応とも、通常１５分間乃至２４時間（好適には、３
０分間乃至１６時間）である。
クロヘキシルカルボジイミド、カルボニルジイミダゾ−
ル等）の存在下、化合物（III)を活性エステル化剤（例
えば、Ｎ−ヒドロキシサクシンイミド、Ｎ−ヒドロキシ
ベンゾトリアゾ−ルのようなＮ−ヒドロキシ化合物等）
と反応させ、活性エステルを製造し、この活性エステル
と化合物（III)またはその酸付加塩を反応させることに
より達成される。活性エステルを製造する反応は、好適
には、不活性溶剤中で行われ、使用される不活性溶剤
は、上記の酸ハライド法で使用されるものと同様であ
る。反応温度は、原料化合物（III)、(IV)および溶媒の
種類等により異なるが、活性エステル化反応では、通常
−２０℃乃至５０℃（好適には、−１０℃乃至３０℃）
であり、活性エステル化合物と化合物（IV) との反応で
は、−２０℃乃至５０℃（好適には、−１０℃乃至３０
℃）であり、反応時間は、反応温度等により異なるが、
両反応とも、通常１５分間乃至２４時間（好適には、３
０分間乃至１６時間）である。
【００５６】縮合法は、縮合剤［例えば、ジシクロヘキ
シルカルボジイミド、カルボニルジイミダゾ−ル、１−
（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカル
ボジイミド塩酸塩等］の存在下、化合物(III) と化合物
(IV)またはその酸付加塩を直接反応させることにより行
われる。本反応は、前記の活性エステルを製造する反応
と同様に行われる。反応終了後、各反応の目的物は、常
法に従って反応混合物から採取される。例えば、適宜不
溶物をロ別した後、析出してくる結晶を瀘取することま
たは適宜不溶物をロ別し、適宜、中和し、溶剤を留去し
た後、水を加え、酢酸エチルのような水不混合性有機溶
媒で抽出し、乾燥した後、抽出溶媒を留去することによ
り得ることができ、必要ならば常法、例えば、再結晶、
カラムクロマトグラフィ−等でさらに精製することがで
きる。
シルカルボジイミド、カルボニルジイミダゾ−ル、１−
（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカル
ボジイミド塩酸塩等］の存在下、化合物(III) と化合物
(IV)またはその酸付加塩を直接反応させることにより行
われる。本反応は、前記の活性エステルを製造する反応
と同様に行われる。反応終了後、各反応の目的物は、常
法に従って反応混合物から採取される。例えば、適宜不
溶物をロ別した後、析出してくる結晶を瀘取することま
たは適宜不溶物をロ別し、適宜、中和し、溶剤を留去し
た後、水を加え、酢酸エチルのような水不混合性有機溶
媒で抽出し、乾燥した後、抽出溶媒を留去することによ
り得ることができ、必要ならば常法、例えば、再結晶、
カラムクロマトグラフィ−等でさらに精製することがで
きる。
【００５７】Ａ法の原料化合物（III)は、公知か、公知
の方法またはそれに類似した方法にしたがって容易に製
造される［例えば、テトラヘドロン、第45巻、第7459
頁、1989年：Tetrahydron, 45, 7459(1989) 、ザ・ジャ
ーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサエティ、第
79巻、第5203頁、1957年：J. Am. Chem. Soc., 79,5203
(1957)、ザ・ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル
・ソサエティ、第111 巻、第6354頁、1989年：J. Am. C
hem. Soc., 111, 6354(1989) 等］。
の方法またはそれに類似した方法にしたがって容易に製
造される［例えば、テトラヘドロン、第45巻、第7459
頁、1989年：Tetrahydron, 45, 7459(1989) 、ザ・ジャ
ーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサエティ、第
79巻、第5203頁、1957年：J. Am. Chem. Soc., 79,5203
(1957)、ザ・ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル
・ソサエティ、第111 巻、第6354頁、1989年：J. Am. C
hem. Soc., 111, 6354(1989) 等］。
【００５８】Ｂ法は、化合物(I) を別途に製造する方法
である。第Ｂ１工程は、一般式(VI)を有する化合物を製
造する工程で、不活性溶剤中、化合物(III) またはその
反応性誘導体と一般式(V) を有する化合物を反応させる
ことによって達成される。例えば、酸ハライド法、混合
酸無水物法、活性エステル法または縮合法を用いること
ができ、本工程は、第Ａ１工程と同様に行われる。
である。第Ｂ１工程は、一般式(VI)を有する化合物を製
造する工程で、不活性溶剤中、化合物(III) またはその
反応性誘導体と一般式(V) を有する化合物を反応させる
ことによって達成される。例えば、酸ハライド法、混合
酸無水物法、活性エステル法または縮合法を用いること
ができ、本工程は、第Ａ１工程と同様に行われる。
【００５９】第Ｂ２工程は、一般式(I) を有する化合物
を製造する工程で、無溶剤または不活性溶剤剤中、一般
式(VI)を有する化合物をニトロ化剤と反応させることに
よって達成される。使用されるニトロ化剤は、例えば、
発煙硝酸、ニトロコリジウムテトラフロロホウ素、チオ
ニルクロライド硝酸、チオニル硝酸、ニトロニウムテト
ラフロロホウ素であり得、好適には、発煙硝酸、ニトロ
コリジウムテトラフロロホウ素またはチオニルクロライ
ド硝酸である。使用される不活性溶剤は、反応に関与し
なければ、特に制限されず、例えば、ヘキサン、シクロ
ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレンのような炭化
水素類、ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、四
塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類、エ−テル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサンのようなエ−テル類、ア
セトンのようなケトン類、アセトニトリルのようなニト
リル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ヘキ
サメチルホスホルアミドのようなアミド類、ジメチルス
ルホキシドのようなスルホキシド類であり得、好適に
は、ハロゲン化炭化水素類、エ−テル類またはニトリル
類であり、特に好適には、ニトリル類である。
を製造する工程で、無溶剤または不活性溶剤剤中、一般
式(VI)を有する化合物をニトロ化剤と反応させることに
よって達成される。使用されるニトロ化剤は、例えば、
発煙硝酸、ニトロコリジウムテトラフロロホウ素、チオ
ニルクロライド硝酸、チオニル硝酸、ニトロニウムテト
ラフロロホウ素であり得、好適には、発煙硝酸、ニトロ
コリジウムテトラフロロホウ素またはチオニルクロライ
ド硝酸である。使用される不活性溶剤は、反応に関与し
なければ、特に制限されず、例えば、ヘキサン、シクロ
ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレンのような炭化
水素類、ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、四
塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類、エ−テル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサンのようなエ−テル類、ア
セトンのようなケトン類、アセトニトリルのようなニト
リル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ヘキ
サメチルホスホルアミドのようなアミド類、ジメチルス
ルホキシドのようなスルホキシド類であり得、好適に
は、ハロゲン化炭化水素類、エ−テル類またはニトリル
類であり、特に好適には、ニトリル類である。
【００６０】反応温度は、原料化合物 (VI) およびニト
ロ化剤の種類等により異なるが、通常−２０℃乃至５０
℃であり、好適には、室温付近である。反応時間は、反
応温度等により異なるが、通常３０分間乃至２４時間
（好適には、１時間乃至１０時間）である。また、不活
性溶剤中（例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような炭化水素類、ジクロル
メタン、１，２−ジクロルエタン、四塩化炭素のような
ハロゲン化炭化水素類またはエ−テル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサンのようなエ−テル類またはアセトニト
リルのようなニトリル類、好適には、ニトリル類、特に
好適には、アセトニトリル）、塩基（例えば、トリエチ
ルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、ピリジン、４−ジメ
チルアミノピリジンのような有機アミン類、好適には、
トリエチルアミン）の存在下または非存在下、化合物
（Ｖ）をスルホニル化剤（例えば、メタンスルホニルク
ロリド、メタンスルホニルブロミド、エタンスルホニル
クロリド、ブタンスルホニルクロリドのようなＣ1 −Ｃ
4 アルカンスルホニルハライド、ベンゼンスルホニルク
ロリド、ｐ−トルエンスルホニルクロリド、ｐ−トルエ
ンスルホニルブロミド、ナフチルスルホニルクロリドの
ようなＣ6 −Ｃ10アリールハライドまたは無水メタンス
ルホン酸、無水エタンスルホン酸、無水ブタンスルホン
酸のような無水Ｃ1 −Ｃ4 アルカンスルホン酸、好適に
は、メタンスルホニルクロリド、エタンスルホニルクロ
リド、ベンゼンスルホニルクロリド、ｐ−トルエンスル
ホニルクロリドまたは無水メタンスルホン酸、特に好適
には、メタンスルホニルクロリド）と、−２０℃乃至５
０℃（好適には、室温付近）で、３０分間乃至２４時間
（好適には、１時間乃至１０時間）反応させ、次いで、
製造されるスルホニルオキシ化合物を、不活性溶剤中
（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香
族炭化水素類、好適には、トルエン）、テトラ（Ｃ1 −
Ｃ4 アルキル）アンモニウムナイトレート（例えば、テ
トラメチルアンモニウムナイトレート、テトラエチルア
ンモニウムナイトレートまたはテトラブチルアンモニウ
ムナイトレート、好適には、テトラブチルアンモニウム
ナイトレート）と、０℃乃至２００℃（好適には、５０
℃乃至１５０℃）で、３０分間乃至２４時間（好適に
は、１時間乃至１０時間）反応させても、化合物(I) が
製造される。
ロ化剤の種類等により異なるが、通常−２０℃乃至５０
℃であり、好適には、室温付近である。反応時間は、反
応温度等により異なるが、通常３０分間乃至２４時間
（好適には、１時間乃至１０時間）である。また、不活
性溶剤中（例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような炭化水素類、ジクロル
メタン、１，２−ジクロルエタン、四塩化炭素のような
ハロゲン化炭化水素類またはエ−テル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサンのようなエ−テル類またはアセトニト
リルのようなニトリル類、好適には、ニトリル類、特に
好適には、アセトニトリル）、塩基（例えば、トリエチ
ルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、ピリジン、４−ジメ
チルアミノピリジンのような有機アミン類、好適には、
トリエチルアミン）の存在下または非存在下、化合物
（Ｖ）をスルホニル化剤（例えば、メタンスルホニルク
ロリド、メタンスルホニルブロミド、エタンスルホニル
クロリド、ブタンスルホニルクロリドのようなＣ1 −Ｃ
4 アルカンスルホニルハライド、ベンゼンスルホニルク
ロリド、ｐ−トルエンスルホニルクロリド、ｐ−トルエ
ンスルホニルブロミド、ナフチルスルホニルクロリドの
ようなＣ6 −Ｃ10アリールハライドまたは無水メタンス
ルホン酸、無水エタンスルホン酸、無水ブタンスルホン
酸のような無水Ｃ1 −Ｃ4 アルカンスルホン酸、好適に
は、メタンスルホニルクロリド、エタンスルホニルクロ
リド、ベンゼンスルホニルクロリド、ｐ−トルエンスル
ホニルクロリドまたは無水メタンスルホン酸、特に好適
には、メタンスルホニルクロリド）と、−２０℃乃至５
０℃（好適には、室温付近）で、３０分間乃至２４時間
（好適には、１時間乃至１０時間）反応させ、次いで、
製造されるスルホニルオキシ化合物を、不活性溶剤中
（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香
族炭化水素類、好適には、トルエン）、テトラ（Ｃ1 −
Ｃ4 アルキル）アンモニウムナイトレート（例えば、テ
トラメチルアンモニウムナイトレート、テトラエチルア
ンモニウムナイトレートまたはテトラブチルアンモニウ
ムナイトレート、好適には、テトラブチルアンモニウム
ナイトレート）と、０℃乃至２００℃（好適には、５０
℃乃至１５０℃）で、３０分間乃至２４時間（好適に
は、１時間乃至１０時間）反応させても、化合物(I) が
製造される。
【００６１】反応終了後、各反応の目的物は、常法に従
って反応混合物から採取される。例えば、析出してくる
結晶を瀘取すること、溶剤を留去することまたは適宜溶
剤を留去し、水を加え、酢酸エチルのような水不混合性
有機溶媒で抽出し、乾燥した後、抽出溶媒を留去するこ
とにより得ることができ、必要ならば常法、例えば、再
結晶、カラムクロマトグラフィ−等でさらに精製するこ
とができる。
って反応混合物から採取される。例えば、析出してくる
結晶を瀘取すること、溶剤を留去することまたは適宜溶
剤を留去し、水を加え、酢酸エチルのような水不混合性
有機溶媒で抽出し、乾燥した後、抽出溶媒を留去するこ
とにより得ることができ、必要ならば常法、例えば、再
結晶、カラムクロマトグラフィ−等でさらに精製するこ
とができる。
【００６２】Ｃ法は、化合物(I) を別途に製造する方法
である。第Ｃ１工程は、一般式(VIII)を有する化合物を
製造する工程で、不活性溶剤中、一般式(VII) を有する
化合物またはその反応性誘導体と化合物(V) を反応させ
ることによって達成される。例えば、酸ハライド法、混
合酸無水物法、活性エステル法または縮合法を用いるこ
とができ、本工程は、前記Ａ法第Ａ１工程と同様に行わ
れる。
である。第Ｃ１工程は、一般式(VIII)を有する化合物を
製造する工程で、不活性溶剤中、一般式(VII) を有する
化合物またはその反応性誘導体と化合物(V) を反応させ
ることによって達成される。例えば、酸ハライド法、混
合酸無水物法、活性エステル法または縮合法を用いるこ
とができ、本工程は、前記Ａ法第Ａ１工程と同様に行わ
れる。
【００６３】第Ｃ２工程は、一般式(IX)を有する化合物
を製造する工程で、無溶剤または不活性溶剤中、一般式
(VII) を有する化合物をニトロ化剤と反応させることに
よって達成され、本工程は、前記Ｂ法第Ｂ２工程と同様
に行われる。
を製造する工程で、無溶剤または不活性溶剤中、一般式
(VII) を有する化合物をニトロ化剤と反応させることに
よって達成され、本工程は、前記Ｂ法第Ｂ２工程と同様
に行われる。
【００６４】第Ｃ３工程は、化合物(I) を製造する工程
で、化合物(IX)のメルカプト基の保護基及びアミノ基の
保護基を除去して、カルボニルジイミダゾール；ホスゲ
ン、トリホスゲンのようなホスゲン誘導体；クロロ炭酸
メチル、クロロ炭酸エチル、ブロモ炭酸エチル、クロロ
炭酸プロピル、クロロ炭酸ブチルのようなハロゲノ炭酸
Ｃ1 −Ｃ4 アルキル；クロロ炭酸フェニル、ブロモ炭酸
フェニル、クロロ炭酸トリル、クロロ炭酸メトキシフェ
ニル、クロロ炭酸クロロフェニルのようなハロゲノ炭酸
フェニル誘導体等のカルボニル化合物（好適には、カル
ボニルジイミダゾール、ホスゲン、トリホスゲン、クロ
ロ炭酸メチル、クロロ炭酸エチル、ブロモ炭酸エチルま
たはクロロ炭酸フェニル、特に好適には、カルボニルジ
イミダゾール）と反応させることによって達成される。
で、化合物(IX)のメルカプト基の保護基及びアミノ基の
保護基を除去して、カルボニルジイミダゾール；ホスゲ
ン、トリホスゲンのようなホスゲン誘導体；クロロ炭酸
メチル、クロロ炭酸エチル、ブロモ炭酸エチル、クロロ
炭酸プロピル、クロロ炭酸ブチルのようなハロゲノ炭酸
Ｃ1 −Ｃ4 アルキル；クロロ炭酸フェニル、ブロモ炭酸
フェニル、クロロ炭酸トリル、クロロ炭酸メトキシフェ
ニル、クロロ炭酸クロロフェニルのようなハロゲノ炭酸
フェニル誘導体等のカルボニル化合物（好適には、カル
ボニルジイミダゾール、ホスゲン、トリホスゲン、クロ
ロ炭酸メチル、クロロ炭酸エチル、ブロモ炭酸エチルま
たはクロロ炭酸フェニル、特に好適には、カルボニルジ
イミダゾール）と反応させることによって達成される。
【００６５】メルカプト基の保護基及びアミノ基の保護
基を除去する反応は、有機合成化学の分野で良く知られ
た方法に従って行われ、例えば、不活性溶剤中、相当す
る化合物を酸と反応させることにより、メルカプト基の
保護基及びアミノ基の保護基が除去される。
基を除去する反応は、有機合成化学の分野で良く知られ
た方法に従って行われ、例えば、不活性溶剤中、相当す
る化合物を酸と反応させることにより、メルカプト基の
保護基及びアミノ基の保護基が除去される。
【００６６】使用される酸は、例えば、塩酸、硝酸、硫
酸のような鉱酸、酢酸、トリフルオロ酢酸のようなカル
ボン酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−
トルエンスルホン酸のようなスルホン酸であり得、好適
には、塩酸、トリフルオロ酢酸又はｐ−トルエンスルホ
ン酸であり、特に好適には、塩酸である。使用される不
活性溶剤は、反応に関与しなければ、特に制限されず、
例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエ
ン、キシレンのような炭化水素類、ジクロルメタン、
１，２−ジクロルエタン、四塩化炭素のようなハロゲン
化炭化水素類、エ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サンのようなエ−テル類、アセトンのようなケトン類、
アセトニトリルのようなニトリル類であり得、好適に
は、ハロゲン化炭化水素類またはエ−テル類であり、特
に好適には、エ−テル類である。
酸のような鉱酸、酢酸、トリフルオロ酢酸のようなカル
ボン酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−
トルエンスルホン酸のようなスルホン酸であり得、好適
には、塩酸、トリフルオロ酢酸又はｐ−トルエンスルホ
ン酸であり、特に好適には、塩酸である。使用される不
活性溶剤は、反応に関与しなければ、特に制限されず、
例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエ
ン、キシレンのような炭化水素類、ジクロルメタン、
１，２−ジクロルエタン、四塩化炭素のようなハロゲン
化炭化水素類、エ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サンのようなエ−テル類、アセトンのようなケトン類、
アセトニトリルのようなニトリル類であり得、好適に
は、ハロゲン化炭化水素類またはエ−テル類であり、特
に好適には、エ−テル類である。
【００６７】反応温度は、原料化合物等により異なる
が、通常−２０℃乃至５０℃であり、好適には、室温付
近である。反応時間は、反応温度等により異なるが、通
常３０分間乃至２４時間（好適には、１時間乃至１０時
間）である。また、メルカプト基の保護基及び／又はア
ミノ基の保護基がトリ置換シリル基である場合には、酸
の代わりに、テトラアンモニウムフルオリド、フッ化カ
リウムのようなフルオロアニオンを発生する試薬と反応
させることによっても、該保護基が除去される。メルカ
プト基の保護基及びアミノ基の保護基は、順次除去され
てよいが、好適はに、同一条件で同時に除去される。
が、通常−２０℃乃至５０℃であり、好適には、室温付
近である。反応時間は、反応温度等により異なるが、通
常３０分間乃至２４時間（好適には、１時間乃至１０時
間）である。また、メルカプト基の保護基及び／又はア
ミノ基の保護基がトリ置換シリル基である場合には、酸
の代わりに、テトラアンモニウムフルオリド、フッ化カ
リウムのようなフルオロアニオンを発生する試薬と反応
させることによっても、該保護基が除去される。メルカ
プト基の保護基及びアミノ基の保護基は、順次除去され
てよいが、好適はに、同一条件で同時に除去される。
【００６８】メルカプト基の保護基及びアミノ基の保護
基が除去された化合物とカルボニル化合物との反応は、
好適には、不活性溶剤中で行われる。使用される不活性
溶剤は、反応に関与しなければ、特に制限されず、例え
ば、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、
キシレンのような炭化水素類、ジクロルメタン、１，２
−ジクロルエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化
水素類、エ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサンの
ようなエ−テル類、アセトンのようなケトン類、アセト
ニトリルのようなニトリル類であり得、好適には、ハロ
ゲン化炭化水素類またはエ−テル類であり、特に好適に
は、ハロゲン化炭化水素類である。
基が除去された化合物とカルボニル化合物との反応は、
好適には、不活性溶剤中で行われる。使用される不活性
溶剤は、反応に関与しなければ、特に制限されず、例え
ば、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、
キシレンのような炭化水素類、ジクロルメタン、１，２
−ジクロルエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化
水素類、エ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサンの
ようなエ−テル類、アセトンのようなケトン類、アセト
ニトリルのようなニトリル類であり得、好適には、ハロ
ゲン化炭化水素類またはエ−テル類であり、特に好適に
は、ハロゲン化炭化水素類である。
【００６９】反応温度は、原料化合物等により異なる
が、通常−２０℃乃至５０℃であり、好適には、室温付
近である。反応時間は、反応温度等により異なるが、通
常１０分間乃至１０時間（好適には、２０分間乃至５時
間）である。反応終了後、各反応の目的物は、常法に従
って反応混合物から採取される。例えば、溶媒を留去す
ることまたは適宜溶媒を留去し、水を加え、酢酸エチル
のような水不混合性有機溶媒で抽出し、乾燥した後、抽
出溶媒を留去することにより得ることができ、必要なら
ば常法、例えば、再結晶、カラムクロマトグラフィ−等
でさらに精製することができる。
が、通常−２０℃乃至５０℃であり、好適には、室温付
近である。反応時間は、反応温度等により異なるが、通
常１０分間乃至１０時間（好適には、２０分間乃至５時
間）である。反応終了後、各反応の目的物は、常法に従
って反応混合物から採取される。例えば、溶媒を留去す
ることまたは適宜溶媒を留去し、水を加え、酢酸エチル
のような水不混合性有機溶媒で抽出し、乾燥した後、抽
出溶媒を留去することにより得ることができ、必要なら
ば常法、例えば、再結晶、カラムクロマトグラフィ−等
でさらに精製することができる。
【００７０】Ｃ法の原料化合物（VII)は、公知か、公知
の方法またはそれに類似した方法にしたがって容易に製
造される［例えば、ケミカル・アブストラクツ、第74
巻、第100379b 項、1971年：Chem. Absts., 74, 100379
b(1971) ］。
の方法またはそれに類似した方法にしたがって容易に製
造される［例えば、ケミカル・アブストラクツ、第74
巻、第100379b 項、1971年：Chem. Absts., 74, 100379
b(1971) ］。
【００７１】また、一般式(I')を有する化合物も、優れ
た抗潰瘍作用を有し、化合物(IV)の代わりに一般式(I
V') を有する化合物又は化合物(V) の代わりに一般式
(V')を有する化合物を用いて、上記の方法と同様に製造
される。
た抗潰瘍作用を有し、化合物(IV)の代わりに一般式(I
V') を有する化合物又は化合物(V) の代わりに一般式
(V')を有する化合物を用いて、上記の方法と同様に製造
される。
【００７２】
【化１１】
【００７３】上記式中、Ｒ1 、Ｒ2 及びｎは前述したも
のと同意義を示す。
のと同意義を示す。
【００７４】また、本発明の潰瘍性疾患予防剤または治
療剤の有効成分である一般式 (II)を有する化合物は、
公知化合物であるか、公知の方法に従って容易に製造さ
れる（例えば、特開平5-213910号公報等）。
療剤の有効成分である一般式 (II)を有する化合物は、
公知化合物であるか、公知の方法に従って容易に製造さ
れる（例えば、特開平5-213910号公報等）。
【００７５】本発明の前記一般式（Ｉ）を有する化合物
は、すぐれた側副血管拡張作用を有し、毒性も弱く、頭
痛、めまい、頻脈または消化器、肝臓、骨等への悪影響
等の副作用もなく、また、初回通過効果を受けないこと
から、狭心症予防剤または治療剤（好適には、治療剤）
として有用である。
は、すぐれた側副血管拡張作用を有し、毒性も弱く、頭
痛、めまい、頻脈または消化器、肝臓、骨等への悪影響
等の副作用もなく、また、初回通過効果を受けないこと
から、狭心症予防剤または治療剤（好適には、治療剤）
として有用である。
【００７６】また、前記一般式（ＩＩ）を有する化合物
またはその薬理上許容される塩は、すぐれた抗潰瘍作用
を有し、毒性も弱く、頭痛、めまい、頻脈または消化
器、肝臓、骨等への悪影響等の副作用もないので、潰瘍
性疾患予防剤または治療剤（好適には、治療剤）として
有用である。
またはその薬理上許容される塩は、すぐれた抗潰瘍作用
を有し、毒性も弱く、頭痛、めまい、頻脈または消化
器、肝臓、骨等への悪影響等の副作用もないので、潰瘍
性疾患予防剤または治療剤（好適には、治療剤）として
有用である。
【００７７】さらに、化合物(I) は、保存安定性に優
れ、取扱も容易であるという特長を有する。
れ、取扱も容易であるという特長を有する。
【００７８】本発明の化合物（Ｉ）を狭心症治療剤また
は予防剤として使用する場合または化合物（ＩＩ）およ
びその薬理上許容される塩を潰瘍性疾患予防剤または治
療剤として使用する場合には、それ自体あるいは適宜の
薬理学的に許容される、賦形剤、希釈剤等と混合し、錠
剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤若しくはシロップ剤等に
よる経口的又は注射剤等による非経口的に投与すること
ができる。
は予防剤として使用する場合または化合物（ＩＩ）およ
びその薬理上許容される塩を潰瘍性疾患予防剤または治
療剤として使用する場合には、それ自体あるいは適宜の
薬理学的に許容される、賦形剤、希釈剤等と混合し、錠
剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤若しくはシロップ剤等に
よる経口的又は注射剤等による非経口的に投与すること
ができる。
【００７９】これらの製剤は、賦形剤（例えば、乳糖、
白糖、ブドウ糖、マンニット、ソルビットのような糖誘
導体；トウモロコシデンプン、馬鈴薯デンプン、α−デ
ンプン、デキストリン、カルボキシメチルデンプンのよ
うなデンプン誘導体；結晶セルロース、低置換度ヒドロ
キシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセ
ルロース、カルボキシメチルセルロース、カルボキシメ
チルセルロースカルシウム、内部架橋カルボキシメチル
セルロースナトリウムのようなセルロース誘導体；アラ
ビアゴム；デキストラン；プルラン；軽質無水珪酸、合
成珪酸アルミニウム、メタ珪酸アルミン酸マグネシウム
のような珪酸塩誘導体；リン酸カルシウムのようなリン
酸塩誘導体；炭酸カルシウムのような炭酸塩誘導体；硫
酸カルシウムのような硫酸塩誘導体等）、結合剤（例え
ば、前記の賦形剤；ゼラチン；ポリビニルピロリドン；
マグロゴール等）、崩壊剤（例えば、前記の賦形剤；ク
ロスカルメロースナトリウム、カルボキシメチルスター
チナトリウム、架橋ポリビニルピロリドンのような化学
修飾された、デンプン、セルロース誘導体等）、滑沢剤
（例えば、タルク；ステアリン酸；ステアリン酸カルシ
ウム、ステアリン酸マグネシウムのようなステアリン酸
金属塩；コロイドシリカ；ビーガム、ゲイロウのような
ラックス類；硼酸；グリコール；フマル酸、アジピン酸
のようなカルボン酸類；安息香酸ナトリウムのようなカ
ルボン酸ナトリウム塩；硫酸ナトリウムのような硫酸類
塩；ロイシン；ラウリル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸
マグネシウムのようなラウリル硫酸塩；無水珪酸、珪酸
水和物のような珪酸類；前記の賦形剤におけるデンプン
誘導体等）、安定剤（例えば、メチルパラベン、プロピ
ルパラベンのようなパラオキシ安息香酸エステル類；ク
ロロブタノール、ベンジルアルコール、フェニルエチル
アルコールのようなアルコール類；塩化ベンザルコニウ
ム；フェノール、クレゾールのようなフェノール類；チ
メロサール；無水酢酸；ソルビン酸等）、矯味矯臭剤
（例えば、通常使用される、甘味料、酸味料、香料
等）、希釈剤、注射剤用溶剤（例えば、水、エタノー
ル、グリセリン等）等の添加剤を用いて周知の方法で製
造される。その使用量は症状、年齢等により異なるが、
経口投与の場合には、１回当り１日下限１ｍｇ（好適に
は、５ｍｇ）、上限１０００ｍｇ（好適には、３００ｍ
ｇ）を、静脈内投与の場合には、１回当り１日下限0.1
ｍｇ（好適には、0.5 ｍｇ）、上限１００ｍｇ（好適に
は、５０ｍｇ）を成人に対して、１日当り１乃至６回症
状に応じて投与することが望ましい。以下に実施例、参
考例、試験例及び製剤例を示し、本発明をさらに詳細に
説明するが、本発明の範囲は、これらに限定されるもの
ではない。
白糖、ブドウ糖、マンニット、ソルビットのような糖誘
導体；トウモロコシデンプン、馬鈴薯デンプン、α−デ
ンプン、デキストリン、カルボキシメチルデンプンのよ
うなデンプン誘導体；結晶セルロース、低置換度ヒドロ
キシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセ
ルロース、カルボキシメチルセルロース、カルボキシメ
チルセルロースカルシウム、内部架橋カルボキシメチル
セルロースナトリウムのようなセルロース誘導体；アラ
ビアゴム；デキストラン；プルラン；軽質無水珪酸、合
成珪酸アルミニウム、メタ珪酸アルミン酸マグネシウム
のような珪酸塩誘導体；リン酸カルシウムのようなリン
酸塩誘導体；炭酸カルシウムのような炭酸塩誘導体；硫
酸カルシウムのような硫酸塩誘導体等）、結合剤（例え
ば、前記の賦形剤；ゼラチン；ポリビニルピロリドン；
マグロゴール等）、崩壊剤（例えば、前記の賦形剤；ク
ロスカルメロースナトリウム、カルボキシメチルスター
チナトリウム、架橋ポリビニルピロリドンのような化学
修飾された、デンプン、セルロース誘導体等）、滑沢剤
（例えば、タルク；ステアリン酸；ステアリン酸カルシ
ウム、ステアリン酸マグネシウムのようなステアリン酸
金属塩；コロイドシリカ；ビーガム、ゲイロウのような
ラックス類；硼酸；グリコール；フマル酸、アジピン酸
のようなカルボン酸類；安息香酸ナトリウムのようなカ
ルボン酸ナトリウム塩；硫酸ナトリウムのような硫酸類
塩；ロイシン；ラウリル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸
マグネシウムのようなラウリル硫酸塩；無水珪酸、珪酸
水和物のような珪酸類；前記の賦形剤におけるデンプン
誘導体等）、安定剤（例えば、メチルパラベン、プロピ
ルパラベンのようなパラオキシ安息香酸エステル類；ク
ロロブタノール、ベンジルアルコール、フェニルエチル
アルコールのようなアルコール類；塩化ベンザルコニウ
ム；フェノール、クレゾールのようなフェノール類；チ
メロサール；無水酢酸；ソルビン酸等）、矯味矯臭剤
（例えば、通常使用される、甘味料、酸味料、香料
等）、希釈剤、注射剤用溶剤（例えば、水、エタノー
ル、グリセリン等）等の添加剤を用いて周知の方法で製
造される。その使用量は症状、年齢等により異なるが、
経口投与の場合には、１回当り１日下限１ｍｇ（好適に
は、５ｍｇ）、上限１０００ｍｇ（好適には、３００ｍ
ｇ）を、静脈内投与の場合には、１回当り１日下限0.1
ｍｇ（好適には、0.5 ｍｇ）、上限１００ｍｇ（好適に
は、５０ｍｇ）を成人に対して、１日当り１乃至６回症
状に応じて投与することが望ましい。以下に実施例、参
考例、試験例及び製剤例を示し、本発明をさらに詳細に
説明するが、本発明の範囲は、これらに限定されるもの
ではない。
【００８０】
実施例１ （４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１−メチル−２−ニトロキ
シエチル］−２−オキソチアゾリジン−４−イル−カル
ボキサミド（例示化合物番号１−１） ２．０６ｇの（４Ｒ）−２−オキソチアゾリジン−４−
カルボン酸と２．００ｇの（１Ｓ）−１−メチル−２−
ニトロキシエチルアミン塩酸塩を６０ｍｌの無水テトラ
ヒドロフランに懸濁し、氷冷撹拌下、４．５ｍｌのトリ
エチルアミンと３．００ｍｌのジフェニルリン酸アジド
を加え、室温で５時間撹拌した。その後、減圧下で溶媒
を留去し、残査をシクロヘキサンー酢酸エチル（１：
４）を溶出溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーで精製し、３．００ｇの無色結晶を得た。これを酢
酸エチルで再結晶して、目的化合物を無色針状晶とし
て、０．９６４ｇを得た。 融点：１２２−１２３℃（分解）。 NMR スペクトル (CDCl3+DMSO-d6) δppm ： 1.27(3H,
d,J=6.6Hz), 3.67(2H,d,J=6.6Hz), 4.10-4.57(4H,m),
7.57(1H,bs), 7.78(1H,br.s) 。
シエチル］−２−オキソチアゾリジン−４−イル−カル
ボキサミド（例示化合物番号１−１） ２．０６ｇの（４Ｒ）−２−オキソチアゾリジン−４−
カルボン酸と２．００ｇの（１Ｓ）−１−メチル−２−
ニトロキシエチルアミン塩酸塩を６０ｍｌの無水テトラ
ヒドロフランに懸濁し、氷冷撹拌下、４．５ｍｌのトリ
エチルアミンと３．００ｍｌのジフェニルリン酸アジド
を加え、室温で５時間撹拌した。その後、減圧下で溶媒
を留去し、残査をシクロヘキサンー酢酸エチル（１：
４）を溶出溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーで精製し、３．００ｇの無色結晶を得た。これを酢
酸エチルで再結晶して、目的化合物を無色針状晶とし
て、０．９６４ｇを得た。 融点：１２２−１２３℃（分解）。 NMR スペクトル (CDCl3+DMSO-d6) δppm ： 1.27(3H,
d,J=6.6Hz), 3.67(2H,d,J=6.6Hz), 4.10-4.57(4H,m),
7.57(1H,bs), 7.78(1H,br.s) 。
【００８１】実施例２ （４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１−メチル−２−ニトロキ
シエチル］−２−オキソチアゾリジン−４−イル−カル
ボキサミド（例示化合物番号１−１） （２ａ）（４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１−メチル−２−
ヒドロキシエチル］−２−オキソチアゾリジン−４−イ
ル−カルボキサミド １．０ｇの（４Ｒ）−２−オキソチアゾリジン−４−カ
ルボン酸と０．５６ｇのＬ−アラニノールを２０ｍｌの
無水テトラヒドロフランに溶解し、氷冷撹拌下、２．８
ｍｌのトリエチルアミンと１．８ｍｌのジフェニルリン
酸アジドを加え、室温で３時間撹拌した。その後、溶媒
を減圧下留去し、得られた残査を酢酸エチルを展開溶媒
とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離精製
し、更に、ジクロルメタン−メタノール（９５：５）を
溶出溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーで
分離精製して、目的化合物を無色結晶として、０．９２
ｇ得た。 融点：１６０−１６２℃。 ＮＭＲスペクトル（DMSO-d6) δ ppm：1.04(3H,d,J=6.
7Hz), 3.20-3.40(3H,m), 3.63(1H,dd,J=8.6Hz,J=11.2H
z), 3.70-3.88(1H,m), 4.16-4.22(1H,m), 4.73(1H,t,J=
5.6Hz), 7.83(1H,d,J=7.9Hz), 8.24(1H,bs) 。 （２ｂ）（４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１−メチル−２−
ニトロキシエチル］−２−オキソチアゾリジン−４−イ
ル−カルボキサミド ４７８ｍｇのニトロニウムテトラフロロホウ素（８５％
含量）を１０ｍｌの無水アセトニトリルに溶解し、氷冷
撹拌下、０．４３ｍｌの２，４，６−コリジンを加え、
氷冷下、３０分間撹拌した。５００ｍｇの（４Ｒ）−Ｎ
−［（１Ｓ）−１−メチル−２−ヒドロキシエチル］−
２−オキソチアゾリジン−４−イル−カルボキサミドを
加え、室温で１時間４５分撹拌した。その後、溶媒を減
圧下留去し、得られた残査をシクロヘキサン−酢酸エチ
ル（３：７）を溶出溶媒とするシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーで分離精製し、目的化合物を無色結晶とし
て、１７８ｍｇ得た。 融点：１１９−１２２℃（分解）。 化合物のＮＭＲスペクトルは、実施例１の化合物のＮＭ
Ｒスペクトルと一致した。
シエチル］−２−オキソチアゾリジン−４−イル−カル
ボキサミド（例示化合物番号１−１） （２ａ）（４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１−メチル−２−
ヒドロキシエチル］−２−オキソチアゾリジン−４−イ
ル−カルボキサミド １．０ｇの（４Ｒ）−２−オキソチアゾリジン−４−カ
ルボン酸と０．５６ｇのＬ−アラニノールを２０ｍｌの
無水テトラヒドロフランに溶解し、氷冷撹拌下、２．８
ｍｌのトリエチルアミンと１．８ｍｌのジフェニルリン
酸アジドを加え、室温で３時間撹拌した。その後、溶媒
を減圧下留去し、得られた残査を酢酸エチルを展開溶媒
とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離精製
し、更に、ジクロルメタン−メタノール（９５：５）を
溶出溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーで
分離精製して、目的化合物を無色結晶として、０．９２
ｇ得た。 融点：１６０−１６２℃。 ＮＭＲスペクトル（DMSO-d6) δ ppm：1.04(3H,d,J=6.
7Hz), 3.20-3.40(3H,m), 3.63(1H,dd,J=8.6Hz,J=11.2H
z), 3.70-3.88(1H,m), 4.16-4.22(1H,m), 4.73(1H,t,J=
5.6Hz), 7.83(1H,d,J=7.9Hz), 8.24(1H,bs) 。 （２ｂ）（４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１−メチル−２−
ニトロキシエチル］−２−オキソチアゾリジン−４−イ
ル−カルボキサミド ４７８ｍｇのニトロニウムテトラフロロホウ素（８５％
含量）を１０ｍｌの無水アセトニトリルに溶解し、氷冷
撹拌下、０．４３ｍｌの２，４，６−コリジンを加え、
氷冷下、３０分間撹拌した。５００ｍｇの（４Ｒ）−Ｎ
−［（１Ｓ）−１−メチル−２−ヒドロキシエチル］−
２−オキソチアゾリジン−４−イル−カルボキサミドを
加え、室温で１時間４５分撹拌した。その後、溶媒を減
圧下留去し、得られた残査をシクロヘキサン−酢酸エチ
ル（３：７）を溶出溶媒とするシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーで分離精製し、目的化合物を無色結晶とし
て、１７８ｍｇ得た。 融点：１１９−１２２℃（分解）。 化合物のＮＭＲスペクトルは、実施例１の化合物のＮＭ
Ｒスペクトルと一致した。
【００８２】実施例３ （４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１−メチル−２−ニトロキ
シエチル］−２−オキソチアゾリジン−４−イル−カル
ボキサミド（例示化合物番号１−１） （３ａ）Ｎ−［（１Ｓ）−１−メチル−２−ヒドロキシ
エチル］−（２Ｒ）−２−ｔ−ブトキシカルボニルアミ
ノ−３−ｔ−ブトキシカルボニルチオプロパンアミド ５．０ｇのＮ，Ｓ−ジ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｌ−
システインと１．３ｇのＬ−アラニノールを１００ｍｌ
の無水テトラヒドロフランに溶解し、氷冷撹拌下、４．
４ｍｌのトリエチルアミンと４．０ｍｌのジフェニルリ
ン酸アジドを加え、室温で４時間撹拌した。その後、溶
媒を減圧下留去し、残査をシクロヘキサン−酢酸エチル
（１：１）を溶出溶媒とするシリカゲルカラムクロマト
グラフィーで分離精製し、目的化合物を無色結晶とし
て、３．５５ｇ得た。 融点：７０−７２℃。 ＮＭＲスペクトル (CDCl3) δ ppm：1.19(3H,d,J=6.9H
z), 1.45(9H,s),1.51(9H,s), 2.65-2.90(1H,bs), 3.03-
3.30(2H,m), 3.42-3.58(1H,m), 3.63-3.78(1H,m), 3.95
-4.04(1H,m), 4.20-4.35(1H,m), 5.42-5.68(1H,bm), 6.
46(1H,d,J=7.8Hz)。 （３ｂ） Ｎ−［（１Ｓ）−１−メチル−２−ニトロキ
シエチル］−（２Ｒ）−２−ｔ−ブトキシカルボニルア
ミノ−３−ｔ−ブトキシカルボニルチオプロパンアミド １．２４ｇのニトロニウムテトラフロロホウ素（８５％
含量）を２５ｍｌの無水アセトニトリルに溶解し、氷冷
撹拌下、１．１２ｇの２，４，６−コリジンを加え、氷
冷下、３０分間撹拌した。その後、２．５ｇのＮ−
［（１Ｓ）−１−メチル−２−ヒドロキシエチル］−
（２Ｒ）−２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３−ｔ
−ブトキシカルボニルチオプロパンアミドを２５ｍｌの
無水アセトニトリルに溶解した溶液を加え、室温で３時
間撹拌した。その後、溶媒を減圧下留去し、得られた残
査をシクロヘキサン−酢酸エチル（４：１）を溶出溶媒
とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離精製
し、目的化合物を淡黄色結晶として、１．３９ｇ得た。 融点：１２３−１２４℃（分解）。 ＮＭＲスペクトル (CDCl3) δ ppm：1.27(3H,d,J=6.8H
z), 1.45(9H,s),1.51(9H,s), 3.05-3.28(2H,m), 4.20-
4.55(4H,m), 5.42(1H,d,J=6.3Hz), 6.45-6.65(1H,bs)
。 （３ｃ）（４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１−メチル−２−
ニトロキシエチル］−２−オキソチアゾリジン−４−イ
ル−カルボキサミド １．０ｇのＮ−［（１Ｓ）−１−メチル−２−ニトロキ
シエチル］−（２Ｒ）−２−ｔ−ブトキシカルボニルア
ミノ−３−ｔ−ブトキシカルボニルチオプロパンアミド
を１０ｍｌの４規定塩酸／ジオキサン溶液に溶解し、室
温で２時間撹拌した。溶媒を減圧下留去し、残査にベン
ゼンを加え、減圧乾固した。得られた残査を１０ｍｌの
無水ジクロルメタンに懸濁し、０．４６ｇのカルボジイ
ミダゾールを加え、室温で４０分間撹拌した。反応液を
酢酸エチルを溶出溶媒とするシリカゲルカラムクロマト
グラフィーで分離精製し、淡黄色結晶を０．４５ｇ得
た。この結晶を酢酸エチルから再結晶して、目的化合物
を無色結晶として、８４ｍｇ得た。 融点：１２５−１２６℃（分解）。 この化合物のＮＭＲスペクトルは、実施例１の化合物の
ＮＭＲスペクトルと一致した。
シエチル］−２−オキソチアゾリジン−４−イル−カル
ボキサミド（例示化合物番号１−１） （３ａ）Ｎ−［（１Ｓ）−１−メチル−２−ヒドロキシ
エチル］−（２Ｒ）−２−ｔ−ブトキシカルボニルアミ
ノ−３−ｔ−ブトキシカルボニルチオプロパンアミド ５．０ｇのＮ，Ｓ−ジ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｌ−
システインと１．３ｇのＬ−アラニノールを１００ｍｌ
の無水テトラヒドロフランに溶解し、氷冷撹拌下、４．
４ｍｌのトリエチルアミンと４．０ｍｌのジフェニルリ
ン酸アジドを加え、室温で４時間撹拌した。その後、溶
媒を減圧下留去し、残査をシクロヘキサン−酢酸エチル
（１：１）を溶出溶媒とするシリカゲルカラムクロマト
グラフィーで分離精製し、目的化合物を無色結晶とし
て、３．５５ｇ得た。 融点：７０−７２℃。 ＮＭＲスペクトル (CDCl3) δ ppm：1.19(3H,d,J=6.9H
z), 1.45(9H,s),1.51(9H,s), 2.65-2.90(1H,bs), 3.03-
3.30(2H,m), 3.42-3.58(1H,m), 3.63-3.78(1H,m), 3.95
-4.04(1H,m), 4.20-4.35(1H,m), 5.42-5.68(1H,bm), 6.
46(1H,d,J=7.8Hz)。 （３ｂ） Ｎ−［（１Ｓ）−１−メチル−２−ニトロキ
シエチル］−（２Ｒ）−２−ｔ−ブトキシカルボニルア
ミノ−３−ｔ−ブトキシカルボニルチオプロパンアミド １．２４ｇのニトロニウムテトラフロロホウ素（８５％
含量）を２５ｍｌの無水アセトニトリルに溶解し、氷冷
撹拌下、１．１２ｇの２，４，６−コリジンを加え、氷
冷下、３０分間撹拌した。その後、２．５ｇのＮ−
［（１Ｓ）−１−メチル−２−ヒドロキシエチル］−
（２Ｒ）−２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３−ｔ
−ブトキシカルボニルチオプロパンアミドを２５ｍｌの
無水アセトニトリルに溶解した溶液を加え、室温で３時
間撹拌した。その後、溶媒を減圧下留去し、得られた残
査をシクロヘキサン−酢酸エチル（４：１）を溶出溶媒
とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離精製
し、目的化合物を淡黄色結晶として、１．３９ｇ得た。 融点：１２３−１２４℃（分解）。 ＮＭＲスペクトル (CDCl3) δ ppm：1.27(3H,d,J=6.8H
z), 1.45(9H,s),1.51(9H,s), 3.05-3.28(2H,m), 4.20-
4.55(4H,m), 5.42(1H,d,J=6.3Hz), 6.45-6.65(1H,bs)
。 （３ｃ）（４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１−メチル−２−
ニトロキシエチル］−２−オキソチアゾリジン−４−イ
ル−カルボキサミド １．０ｇのＮ−［（１Ｓ）−１−メチル−２−ニトロキ
シエチル］−（２Ｒ）−２−ｔ−ブトキシカルボニルア
ミノ−３−ｔ−ブトキシカルボニルチオプロパンアミド
を１０ｍｌの４規定塩酸／ジオキサン溶液に溶解し、室
温で２時間撹拌した。溶媒を減圧下留去し、残査にベン
ゼンを加え、減圧乾固した。得られた残査を１０ｍｌの
無水ジクロルメタンに懸濁し、０．４６ｇのカルボジイ
ミダゾールを加え、室温で４０分間撹拌した。反応液を
酢酸エチルを溶出溶媒とするシリカゲルカラムクロマト
グラフィーで分離精製し、淡黄色結晶を０．４５ｇ得
た。この結晶を酢酸エチルから再結晶して、目的化合物
を無色結晶として、８４ｍｇ得た。 融点：１２５−１２６℃（分解）。 この化合物のＮＭＲスペクトルは、実施例１の化合物の
ＮＭＲスペクトルと一致した。
【００８３】実施例４ （４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１−エチル−２−ニトロキ
シエチル］−２−オキソチアゾリジン−４−イル−カル
ボキサミド（例示化合物番号１−１５） ０．５０ｇの（４Ｒ）−２−オキソチアゾリジン−４−
カルボン酸と０．７０ｇの（１Ｓ）−１−エチル−２−
ニトロキシエチルアミン塩酸塩を１０ｍｌの無水テトラ
ヒドロフランに懸濁し、氷冷撹拌下、１．４０ｍｌのト
リエチルアミンと０．６２ｍｌのジエチルシアノリン酸
を加え、室温で２時間撹拌した。減圧下、溶媒を留去
し、残査をシクロヘキサン−酢酸エチル（１：２）を溶
出溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーで分
離精製し、淡黄色油状物を得た。この油状物にイソプロ
ピルエーテルを加え、淡黄色粉末を得た。この粉末を１
０ｍｌのアセトンに溶解し、更に、５ｍｌの酢酸エチル
を加え、減圧下、アセトンを留去し、室温に放置して、
目的化合物を無色柱状晶として、０．２４ｇ得た。 融点：１０６−１０７℃（分解）。 ＮＭＲスペクトル (d6-DMSO) δppm ： 0.87(3H,tJ=7.
4Hz), 1.30-1.68(2H,m), 3.32(1H,dd,J=5.0Hz,J=11.2H
z), 3.68(1H,dd,J=8.5Hz,J=11.2Hz), 3.95-4.10 (1H,
m), 4.25-4.35(1H,m), 4.41(1H,dd,J=7.5Hz,J=11.2Hz),
4.60(1H,dd,J=4.3 Hz,J=11.2Hz), 8.09(1H,d,J=8.5H
z), 8.27(1H,bs) 。
シエチル］−２−オキソチアゾリジン−４−イル−カル
ボキサミド（例示化合物番号１−１５） ０．５０ｇの（４Ｒ）−２−オキソチアゾリジン−４−
カルボン酸と０．７０ｇの（１Ｓ）−１−エチル−２−
ニトロキシエチルアミン塩酸塩を１０ｍｌの無水テトラ
ヒドロフランに懸濁し、氷冷撹拌下、１．４０ｍｌのト
リエチルアミンと０．６２ｍｌのジエチルシアノリン酸
を加え、室温で２時間撹拌した。減圧下、溶媒を留去
し、残査をシクロヘキサン−酢酸エチル（１：２）を溶
出溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーで分
離精製し、淡黄色油状物を得た。この油状物にイソプロ
ピルエーテルを加え、淡黄色粉末を得た。この粉末を１
０ｍｌのアセトンに溶解し、更に、５ｍｌの酢酸エチル
を加え、減圧下、アセトンを留去し、室温に放置して、
目的化合物を無色柱状晶として、０．２４ｇ得た。 融点：１０６−１０７℃（分解）。 ＮＭＲスペクトル (d6-DMSO) δppm ： 0.87(3H,tJ=7.
4Hz), 1.30-1.68(2H,m), 3.32(1H,dd,J=5.0Hz,J=11.2H
z), 3.68(1H,dd,J=8.5Hz,J=11.2Hz), 3.95-4.10 (1H,
m), 4.25-4.35(1H,m), 4.41(1H,dd,J=7.5Hz,J=11.2Hz),
4.60(1H,dd,J=4.3 Hz,J=11.2Hz), 8.09(1H,d,J=8.5H
z), 8.27(1H,bs) 。
【００８４】実施例５ （４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１−プロピル−２−ニトロ
キシエチル］−２−オキソチアゾリジン−４−イル−カ
ルボキサミド（例示化合物番号１−２７） ０．５０ｇの（４Ｒ）−２−オキソチアゾリジン−４−
カルボン酸と０．７５ｇの（１Ｓ）−１−プロピル−２
−ニトロキシエチルアミン塩酸塩を用いて、実施例４と
同様にして、目的化合物を無色結晶として、０．８４ｇ
得た。 融点：９９−１００℃（分解）。 ＮＭＲスペクトル (d6-DMSO) δppm ： 0.87(3H,t,J=
7.1Hz), 1.15-1.55(4H,m), 3.32(1H,dd,J=4.8Hz,J=11.2
Hz), 3.68 (1H,dd,J=8.6Hz,J=11.2Hz), 4.03-4.18 (1H,
m), 4.23-4.33(1H,m), 4.39(1H,dd,J=7.5Hz,J=11.2Hz),
4.60(1H,dd,J=4.2 Hz,J=11.2Hz), 8.09(1H,d,J=8.5H
z), 8.27(1H,bs)。
キシエチル］−２−オキソチアゾリジン−４−イル−カ
ルボキサミド（例示化合物番号１−２７） ０．５０ｇの（４Ｒ）−２−オキソチアゾリジン−４−
カルボン酸と０．７５ｇの（１Ｓ）−１−プロピル−２
−ニトロキシエチルアミン塩酸塩を用いて、実施例４と
同様にして、目的化合物を無色結晶として、０．８４ｇ
得た。 融点：９９−１００℃（分解）。 ＮＭＲスペクトル (d6-DMSO) δppm ： 0.87(3H,t,J=
7.1Hz), 1.15-1.55(4H,m), 3.32(1H,dd,J=4.8Hz,J=11.2
Hz), 3.68 (1H,dd,J=8.6Hz,J=11.2Hz), 4.03-4.18 (1H,
m), 4.23-4.33(1H,m), 4.39(1H,dd,J=7.5Hz,J=11.2Hz),
4.60(1H,dd,J=4.2 Hz,J=11.2Hz), 8.09(1H,d,J=8.5H
z), 8.27(1H,bs)。
【００８５】実施例６ （４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１−ブチル−２−ニトロキ
シエチル］−２−オキソチアゾリジン−４−イル−カル
ボキサミド（例示化合物番号１−７１） ４４１ｍｇの（４Ｒ）−２−オキソチアゾリジン−４−
カルボン酸と５００ｍｇの（１Ｓ）−１−ブチル−２−
ニトロキシエチルアミン塩酸塩を用いて、実施例４と同
様にして、目的化合物を無色結晶として、５７０ｍｇ得
た。 融点：１１０−１１２℃（分解）。 ＮＭＲスペクトル (CDCl3) δppm ： 0.91(3H,t,J=7.2
Hz), 1.20-1.43(4H,m), 1.45-1.75(2H,m), 3.61(1H,dd,
J=4.9Hz,J=11.2Hz), 3.83 (1H,dd,J=8.6Hz,J=11.2Hz),
4.23-4.45(3H,m), 4.60(1H,dd,J=3.3Hz,J=11.2Hz), 6.6
5(1H,bs),6.81 (1H,d,J=8.6Hz) 。
シエチル］−２−オキソチアゾリジン−４−イル−カル
ボキサミド（例示化合物番号１−７１） ４４１ｍｇの（４Ｒ）−２−オキソチアゾリジン−４−
カルボン酸と５００ｍｇの（１Ｓ）−１−ブチル−２−
ニトロキシエチルアミン塩酸塩を用いて、実施例４と同
様にして、目的化合物を無色結晶として、５７０ｍｇ得
た。 融点：１１０−１１２℃（分解）。 ＮＭＲスペクトル (CDCl3) δppm ： 0.91(3H,t,J=7.2
Hz), 1.20-1.43(4H,m), 1.45-1.75(2H,m), 3.61(1H,dd,
J=4.9Hz,J=11.2Hz), 3.83 (1H,dd,J=8.6Hz,J=11.2Hz),
4.23-4.45(3H,m), 4.60(1H,dd,J=3.3Hz,J=11.2Hz), 6.6
5(1H,bs),6.81 (1H,d,J=8.6Hz) 。
【００８６】実施例７ （４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１−イソプロピル−２−ニ
トロキシエチル］−２−オキソチアゾリジン−４−イル
−カルボキサミド（例示化合物番号１−５９） ３３３ｍｇの（４Ｒ）−２−オキソチアゾリジン−４−
カルボン酸と５００ｍｇの（１Ｓ）−１−イソプロピル
−２−ニトロキシエチルアミン塩酸塩を用いて、実施例
４と同様にして、目的化合物を無色結晶として、３４３
ｍｇ得た。 融点：８９−９１℃。 ＮＭＲスペクトル (d6-DMSO) δppm ： 0.96(3H,d,J=
7.3Hz), 1.00(3H,d,J=6.6Hz),1.83-2.02(1H,m), 3.64(1
H,dd,J=4.0Hz,J=11.2Hz), 3.84 (1H,dd,J=8.6Hz, J=11.
2Hz), 4.05-4.20(1H,m), 4.35-4.52(2H,m), 4.65(1H,d
d,J=4.0Hz,J=11.2Hz), 6.80(1H,bs), 6.86(1H,d,J=9.2H
z)。
トロキシエチル］−２−オキソチアゾリジン−４−イル
−カルボキサミド（例示化合物番号１−５９） ３３３ｍｇの（４Ｒ）−２−オキソチアゾリジン−４−
カルボン酸と５００ｍｇの（１Ｓ）−１−イソプロピル
−２−ニトロキシエチルアミン塩酸塩を用いて、実施例
４と同様にして、目的化合物を無色結晶として、３４３
ｍｇ得た。 融点：８９−９１℃。 ＮＭＲスペクトル (d6-DMSO) δppm ： 0.96(3H,d,J=
7.3Hz), 1.00(3H,d,J=6.6Hz),1.83-2.02(1H,m), 3.64(1
H,dd,J=4.0Hz,J=11.2Hz), 3.84 (1H,dd,J=8.6Hz, J=11.
2Hz), 4.05-4.20(1H,m), 4.35-4.52(2H,m), 4.65(1H,d
d,J=4.0Hz,J=11.2Hz), 6.80(1H,bs), 6.86(1H,d,J=9.2H
z)。
【００８７】実施例８ （４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１−イソブチル−２−ニト
ロキシエチル］−２−オキソチアゾリジン−４−イル−
カルボキサミド（例示化合物番号１−８３） ５４４ｍｇの（４Ｒ）−２−オキソチアゾリジン−４−
カルボン酸と５００ｍｇの（１Ｓ）−１−イソブチル−
２−ニトロキシエチルアミン塩酸塩を用いて、実施例４
と同様にして、目的化合物を黄色油状物として、６３６
ｍｇ得た。 ＮＭＲスペクトル (d6-DMSO) δppm ： 0.93(3H,d,J=
6.6Hz), 0.95(3H,d,J=7.9Hz), 1.30-1.80(3H,m), 3.61
(1H,dd,J=4.0Hz,J=11.2Hz), 3.82(1H,dd,J=8.6Hz, J=1
1.2Hz), 4.30-4.50(3H,m), 4.59(1H,dd,J=3.3Hz,J=11.2
Hz), 6.69(1H,bs), 6.85(1H,d,J=7.9Hz)。
ロキシエチル］−２−オキソチアゾリジン−４−イル−
カルボキサミド（例示化合物番号１−８３） ５４４ｍｇの（４Ｒ）−２−オキソチアゾリジン−４−
カルボン酸と５００ｍｇの（１Ｓ）−１−イソブチル−
２−ニトロキシエチルアミン塩酸塩を用いて、実施例４
と同様にして、目的化合物を黄色油状物として、６３６
ｍｇ得た。 ＮＭＲスペクトル (d6-DMSO) δppm ： 0.93(3H,d,J=
6.6Hz), 0.95(3H,d,J=7.9Hz), 1.30-1.80(3H,m), 3.61
(1H,dd,J=4.0Hz,J=11.2Hz), 3.82(1H,dd,J=8.6Hz, J=1
1.2Hz), 4.30-4.50(3H,m), 4.59(1H,dd,J=3.3Hz,J=11.2
Hz), 6.69(1H,bs), 6.85(1H,d,J=7.9Hz)。
【００８８】参考例１ （４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｒ）−１−メチル−２−ニトロキ
シエチル］−２−オキソチアゾリジン−４−イル−カル
ボキサミド ５．６４ｇの（４Ｒ）−２−オキソチアゾリジン−４−
カルボン酸を無水ベンゼン１００ｍｌに懸濁し、６．７
ｍｌのシュウ酸クロライドと２ー３滴のジメチルホルム
アミドを加え、室温で３時間撹拌した。減圧下で溶媒を
留去し、更に、ベンゼンを加え共沸乾固して、淡黄色の
酸クロライドを得た。（１Ｒ）−１−メチル−２−ニト
ロキシエチルアミン塩酸塩５．００ｇを無水ジクロルメ
タン１５０ｍｌに懸濁し、氷冷撹拌下、１４ｍｌのトリ
エチルアミンと先に得た酸クロライドの無水ジクロルメ
タン７５ｍｌ溶液を滴下し、氷冷下、１時間撹拌した。
その後、減圧下、溶媒を留去し、残査をシクロヘキサン
ー酢酸エチル（１：４）を溶出溶媒とするシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーで精製し、淡黄色結晶を得た。
これを酢酸エチルで再結晶して、目的化合物を無色結晶
として、２．７９ｇ得た。 融点：１０１−１０２℃（分解）。 ＮＭＲスペクトル (CDCl3+d6-DMSO) δppm ： 1.27(3
H,d,J=6.9Hz), 3.55-3.75(2H,m), 4.23-4.58(4H,m), 7.
47(1H,d,J=7.1Hz), 7.61(1H,s) 。
シエチル］−２−オキソチアゾリジン−４−イル−カル
ボキサミド ５．６４ｇの（４Ｒ）−２−オキソチアゾリジン−４−
カルボン酸を無水ベンゼン１００ｍｌに懸濁し、６．７
ｍｌのシュウ酸クロライドと２ー３滴のジメチルホルム
アミドを加え、室温で３時間撹拌した。減圧下で溶媒を
留去し、更に、ベンゼンを加え共沸乾固して、淡黄色の
酸クロライドを得た。（１Ｒ）−１−メチル−２−ニト
ロキシエチルアミン塩酸塩５．００ｇを無水ジクロルメ
タン１５０ｍｌに懸濁し、氷冷撹拌下、１４ｍｌのトリ
エチルアミンと先に得た酸クロライドの無水ジクロルメ
タン７５ｍｌ溶液を滴下し、氷冷下、１時間撹拌した。
その後、減圧下、溶媒を留去し、残査をシクロヘキサン
ー酢酸エチル（１：４）を溶出溶媒とするシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーで精製し、淡黄色結晶を得た。
これを酢酸エチルで再結晶して、目的化合物を無色結晶
として、２．７９ｇ得た。 融点：１０１−１０２℃（分解）。 ＮＭＲスペクトル (CDCl3+d6-DMSO) δppm ： 1.27(3
H,d,J=6.9Hz), 3.55-3.75(2H,m), 4.23-4.58(4H,m), 7.
47(1H,d,J=7.1Hz), 7.61(1H,s) 。
【００８９】参考例２ （１Ｓ）−Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）−１−メチ
ル−２−ニトロキシエチルアミン １７．９ｇのニトロニウムテトラフルロホウ素を無水ア
セトニトリル２００ｍｌに懸濁し、窒素気流下、１７．
５ｍｌの２，４，６−コリジンを−５℃乃至０℃で滴下
した。反応液を０℃で３０分間撹拌した後、１０．７ｇ
のＮ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｌ−アラニノールを加
え、室温で１時間２０分撹拌した。その後、減圧下で溶
媒を留去し、残査に酢酸エチルを加えて、不溶物を瀘過
し、瀘液を減圧乾固した。得られた黄色油状物をシクロ
ヘキサン−酢酸エチル（９：１）を溶出溶媒とするシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、目的化合物
を無色油状物として、７．１２ｇを得た。 ＮＭＲスペクトル (CDCl3) δppm : 1.23(3H,d,J=7.3
Hz), 1.45(9H,s),3.90-4.15(1H,m), 4.27-4.75(3H,m)。
ル−２−ニトロキシエチルアミン １７．９ｇのニトロニウムテトラフルロホウ素を無水ア
セトニトリル２００ｍｌに懸濁し、窒素気流下、１７．
５ｍｌの２，４，６−コリジンを−５℃乃至０℃で滴下
した。反応液を０℃で３０分間撹拌した後、１０．７ｇ
のＮ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｌ−アラニノールを加
え、室温で１時間２０分撹拌した。その後、減圧下で溶
媒を留去し、残査に酢酸エチルを加えて、不溶物を瀘過
し、瀘液を減圧乾固した。得られた黄色油状物をシクロ
ヘキサン−酢酸エチル（９：１）を溶出溶媒とするシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、目的化合物
を無色油状物として、７．１２ｇを得た。 ＮＭＲスペクトル (CDCl3) δppm : 1.23(3H,d,J=7.3
Hz), 1.45(9H,s),3.90-4.15(1H,m), 4.27-4.75(3H,m)。
【００９０】参考例３ （１Ｓ）−１−メチル−２−ニトロキシエチルアミン塩
酸塩 ４．５２ｇの（１Ｓ）−Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニ
ル）−１−メチル−２−ニトロキシエチルアミンを８０
ｍｌの４規定塩酸ージオキサンに溶解し、室温で１時間
５０分間放置した。１６０ｍｌのエーテルを加え、結晶
を瀘取し、乾燥して、目的化合物を無色結晶として、
３．０２ｇを得た。 融点：１３４−１３５℃。 ＮＭＲスペクトル (CDCl3+d6-DMSO) δppm : 1.47(3H,
d,J=6.6Hz), 3.55-3.70(1H,m), 4.65-4.80(2H,m) 。
酸塩 ４．５２ｇの（１Ｓ）−Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニ
ル）−１−メチル−２−ニトロキシエチルアミンを８０
ｍｌの４規定塩酸ージオキサンに溶解し、室温で１時間
５０分間放置した。１６０ｍｌのエーテルを加え、結晶
を瀘取し、乾燥して、目的化合物を無色結晶として、
３．０２ｇを得た。 融点：１３４−１３５℃。 ＮＭＲスペクトル (CDCl3+d6-DMSO) δppm : 1.47(3H,
d,J=6.6Hz), 3.55-3.70(1H,m), 4.65-4.80(2H,m) 。
【００９１】参考例４ （１Ｒ）−Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）−１−メチ
ル−２−ニトロキシエチルアミン １３．０９ｇのニトロニウムテトラフルオロホウ素と
７．７２ｇのＮ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｄ−アラニ
ノールを用い、参考例２と同様に反応して、目的化合物
を無色油状物として、８．５５ｇを得た。 ＮＭＲスペクトル (CDCl3) δppm : 1.23(3H,d,J=7.3H
z), 1.45(9H,s) 3.95-4.15(1H,m) 4.28-4.75(3H,m)。
ル−２−ニトロキシエチルアミン １３．０９ｇのニトロニウムテトラフルオロホウ素と
７．７２ｇのＮ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｄ−アラニ
ノールを用い、参考例２と同様に反応して、目的化合物
を無色油状物として、８．５５ｇを得た。 ＮＭＲスペクトル (CDCl3) δppm : 1.23(3H,d,J=7.3H
z), 1.45(9H,s) 3.95-4.15(1H,m) 4.28-4.75(3H,m)。
【００９２】参考例５ （１Ｒ）−１−メチル−２−ニトロキシエチルアミン塩
酸塩 ８．５５ｇの（１Ｒ）−Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニ
ル）−１−メチル−２−ニトロキシエチルアミンと９０
ｍｌの４規定塩酸ージオキサンを用いて、参考例３と同
様にして、目的化合物を無色結晶として、１．６０ｇを
得た。 融点：１３３−１３５℃。 ＮＭＲスペクトル (CDCl3+DMSO-d6) δppm : 1.47(3
H,d,J=6.9Hz), 3.55-3.70 (1H,m), 4.65-4.78(2H,m)。
酸塩 ８．５５ｇの（１Ｒ）−Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニ
ル）−１−メチル−２−ニトロキシエチルアミンと９０
ｍｌの４規定塩酸ージオキサンを用いて、参考例３と同
様にして、目的化合物を無色結晶として、１．６０ｇを
得た。 融点：１３３−１３５℃。 ＮＭＲスペクトル (CDCl3+DMSO-d6) δppm : 1.47(3
H,d,J=6.9Hz), 3.55-3.70 (1H,m), 4.65-4.78(2H,m)。
【００９３】参考例６ （１Ｓ）−Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）−１−エチ
ル−２−ニトロキシエチルアミン ４．００ｇのニトロニウムテトラフルオロホウ素と４．
０３ｇの（１Ｓ）−Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）−
１−エチル−２−ヒドロキシエチルアミン用いて、参考
例２と同様にして、目的化合物を淡黄色油状物として、
を３．１９ｇ得た。 ＮＭＲスペクトル (CDCl3) δppm ： 0.98(3H,t,J=7.3
Hz), 1.40-1.70(2H,m), 1.45(9H,s), 3.70-3.95(1H,m),
4.20-4.70(3H,m)。
ル−２−ニトロキシエチルアミン ４．００ｇのニトロニウムテトラフルオロホウ素と４．
０３ｇの（１Ｓ）−Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）−
１−エチル−２−ヒドロキシエチルアミン用いて、参考
例２と同様にして、目的化合物を淡黄色油状物として、
を３．１９ｇ得た。 ＮＭＲスペクトル (CDCl3) δppm ： 0.98(3H,t,J=7.3
Hz), 1.40-1.70(2H,m), 1.45(9H,s), 3.70-3.95(1H,m),
4.20-4.70(3H,m)。
【００９４】参考例７ （１Ｓ）−１−エチル−２−ニトロキシエチルアミン塩
酸塩 ３．１９ｇの（１Ｓ）−Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニ
ル）−１−エチル−２−ニトロキシエチルアミンと５０
ｍｌの４規定塩酸ージオキサンを用いて、参考例３と同
様にして、目的化合物を無色結晶として、２．１０ｇ得
た。 融点：１２１−１２３℃（分解）。 ＮＭＲスペクトル (d6-DMSO) δppm ： 0.96(3H,t,J=
7.2Hz), 1.50-1.80(2H,m), 3.35-3.50(1H,m), 4.66(1H,
dd,J=6.6Hz,J=11.9Hz), 4.81(1H,dd,J=4.0Hz,J=11.9H
z), 8.49(3H,bs)。
酸塩 ３．１９ｇの（１Ｓ）−Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニ
ル）−１−エチル−２−ニトロキシエチルアミンと５０
ｍｌの４規定塩酸ージオキサンを用いて、参考例３と同
様にして、目的化合物を無色結晶として、２．１０ｇ得
た。 融点：１２１−１２３℃（分解）。 ＮＭＲスペクトル (d6-DMSO) δppm ： 0.96(3H,t,J=
7.2Hz), 1.50-1.80(2H,m), 3.35-3.50(1H,m), 4.66(1H,
dd,J=6.6Hz,J=11.9Hz), 4.81(1H,dd,J=4.0Hz,J=11.9H
z), 8.49(3H,bs)。
【００９５】参考例８ （１Ｓ）−Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）−１−プロ
ピル−２−ニトロキシエチルアミン ８．６０ｇのニトロニウムテトラフルオロホウ素と７．
４９ｇの（１Ｓ）−Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）−
１−プロピル−２−ヒドロキシエチルアミンを用いて、
参考例２と同様にして、目的化合物を無色結晶として、
を３．０３ｇ得た。 融点：５７−５８℃。 ＮＭＲスペクトル (CDCl3) δppm ： 0.95(3H,t,J=7.0
Hz), 1.25-1.70(4H,m), 1.45(9H,s), 3.80-4.05(1H,m),
4.20-4.70(3H,m)。
ピル−２−ニトロキシエチルアミン ８．６０ｇのニトロニウムテトラフルオロホウ素と７．
４９ｇの（１Ｓ）−Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）−
１−プロピル−２−ヒドロキシエチルアミンを用いて、
参考例２と同様にして、目的化合物を無色結晶として、
を３．０３ｇ得た。 融点：５７−５８℃。 ＮＭＲスペクトル (CDCl3) δppm ： 0.95(3H,t,J=7.0
Hz), 1.25-1.70(4H,m), 1.45(9H,s), 3.80-4.05(1H,m),
4.20-4.70(3H,m)。
【００９６】参考例９ （１Ｓ）−１−プロピル−２−ニトロキシエチルアミン
塩酸塩 ４．００ｇの（１Ｓ）−Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニ
ル）−１−プロピル−２−ニトロキシエチルアミンと４
０ｍｌの４規定塩酸ージオキサンを用いて、参考例３と
同様にして、目的化合物を無色結晶として、２．７７ｇ
得た。 融点：１５７−１５８℃（分解）。 ＮＭＲスペクトル (d6-DMSO) δppm ： 0.89(3H,t,J=
7.2Hz), 1.30-1.70(4H,m), 3.40-3.55(1H,m), 4.65(1H,
dd,J=6.8Hz,J=11.9Hz), 4.81(1H,dd,J=3.4Hz,J=11.9H
z), 8.51(3H,bs)。
塩酸塩 ４．００ｇの（１Ｓ）−Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニ
ル）−１−プロピル−２−ニトロキシエチルアミンと４
０ｍｌの４規定塩酸ージオキサンを用いて、参考例３と
同様にして、目的化合物を無色結晶として、２．７７ｇ
得た。 融点：１５７−１５８℃（分解）。 ＮＭＲスペクトル (d6-DMSO) δppm ： 0.89(3H,t,J=
7.2Hz), 1.30-1.70(4H,m), 3.40-3.55(1H,m), 4.65(1H,
dd,J=6.8Hz,J=11.9Hz), 4.81(1H,dd,J=3.4Hz,J=11.9H
z), 8.51(3H,bs)。
【００９７】参考例１０ （１Ｓ）−Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）−１−ブチ
ル−２−ニトロキシエチルアミン １．８７ｇのニトロニウムテトラフルオロホウ素と２．
０９ｇの（１Ｓ）−Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）−
１−ブチル−２−ヒドロキシエチルアミンを用いて、参
考例２と同様にして、目的化合物を黄色油状物として、
１．５６ｇ得た。 ＮＭＲスペクトル (CDCl3) δppm ： 0.91(3H,t,J=7.3
Hz), 1.25-1.65(6H,m), 1.45(9H,s), 3.83-3.98(1H,m),
4.30-4.60(3H,m)。
ル−２−ニトロキシエチルアミン １．８７ｇのニトロニウムテトラフルオロホウ素と２．
０９ｇの（１Ｓ）−Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）−
１−ブチル−２−ヒドロキシエチルアミンを用いて、参
考例２と同様にして、目的化合物を黄色油状物として、
１．５６ｇ得た。 ＮＭＲスペクトル (CDCl3) δppm ： 0.91(3H,t,J=7.3
Hz), 1.25-1.65(6H,m), 1.45(9H,s), 3.83-3.98(1H,m),
4.30-4.60(3H,m)。
【００９８】参考例１１ （１Ｓ）−１−ブチル−２−ニトロキシエチルアミン塩
酸塩 １．５６ｇの（１Ｓ）−Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニ
ル）−１−ブチル−２−ニトロキシエチルアミンと１５
ｍｌの４規定塩酸ージオキサンを用いて、参考例３と同
様にして、目的化合物を無色結晶として、７０２ｍｇ得
た。 融点：１３３−１３５℃（分解）。 ＮＭＲスペクトル (CDCl3) δppm ： 0.94(3H,t,J=7.3
Hz), 1.20-2.00(6H,m), 3.55-3.70(1H,m), 4.65-4.85(2
H,m)。
酸塩 １．５６ｇの（１Ｓ）−Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニ
ル）−１−ブチル−２−ニトロキシエチルアミンと１５
ｍｌの４規定塩酸ージオキサンを用いて、参考例３と同
様にして、目的化合物を無色結晶として、７０２ｍｇ得
た。 融点：１３３−１３５℃（分解）。 ＮＭＲスペクトル (CDCl3) δppm ： 0.94(3H,t,J=7.3
Hz), 1.20-2.00(6H,m), 3.55-3.70(1H,m), 4.65-4.85(2
H,m)。
【００９９】参考例１２ （１Ｓ）−Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）−１−イソ
プロピル−２−ニトロキシエチルアミン ３．１９ｇのニトロニウムテトラフルオロホウ素と３．
３１ｇの（１Ｓ）−Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）−
１−イソプロピル−２−ヒドロキシエチルアミンを用い
て、参考例２と同様にして、目的化合物を黄色油状物と
して、３．０７ｇ得た。 ＮＭＲスペクトル (CDCl3) δppm ： 0.97(3H,d,J=5.9
Hz), 0.99(3H,d,J=6.6Hz), 1.45(9H,s), 3.65-3.80(1H,
m), 4.35-4.63(3H,m) 。
プロピル−２−ニトロキシエチルアミン ３．１９ｇのニトロニウムテトラフルオロホウ素と３．
３１ｇの（１Ｓ）−Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）−
１−イソプロピル−２−ヒドロキシエチルアミンを用い
て、参考例２と同様にして、目的化合物を黄色油状物と
して、３．０７ｇ得た。 ＮＭＲスペクトル (CDCl3) δppm ： 0.97(3H,d,J=5.9
Hz), 0.99(3H,d,J=6.6Hz), 1.45(9H,s), 3.65-3.80(1H,
m), 4.35-4.63(3H,m) 。
【０１００】参考例１３ （１Ｓ）−１−イソプロピル−２−ニトロキシエチルア
ミン塩酸塩 ３．０７ｇの（１Ｓ）−Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニ
ル）−１−イソプロピル−２−ニトロキシエチルアミン
と３０ｍｌの４規定塩酸ージオキサンを用いて、参考例
３と同様にして、目的化合物を無色結晶として、１．９
７ｇ得た。 融点：１７４−１７５℃（分解）。 ＮＭＲスペクトル (CDCl3) δppm ： 1.14(3H,d,J=7.3
Hz), 1.17(3H,d,J=6.6Hz), 2.10-2.30(1H,m), 3.40-3.5
2(1H,m), 4.70-4.90(2H,m)。
ミン塩酸塩 ３．０７ｇの（１Ｓ）−Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニ
ル）−１−イソプロピル−２−ニトロキシエチルアミン
と３０ｍｌの４規定塩酸ージオキサンを用いて、参考例
３と同様にして、目的化合物を無色結晶として、１．９
７ｇ得た。 融点：１７４−１７５℃（分解）。 ＮＭＲスペクトル (CDCl3) δppm ： 1.14(3H,d,J=7.3
Hz), 1.17(3H,d,J=6.6Hz), 2.10-2.30(1H,m), 3.40-3.5
2(1H,m), 4.70-4.90(2H,m)。
【０１０１】参考例１４ （１Ｓ）−Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）−１−イソ
ブチル−２−ニトロキシエチルアミン ３．９１ｇのニトロニウムテトラフルオロホウ素と４．
３５ｇの（１Ｓ）−Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）−
１−イソブチル−２−ヒドロキシエチルアミンを用い
て、参考例２と同様にして、目的化合物を黄色油状物と
して、３．８４ｇ得た。 ＮＭＲスペクトル (CDCl3) δppm ： 0.93(3H,d,J=4.6
Hz), 0.95(3H,d,J=4.6Hz), 1.20-1.50(2H,m), 1.45(9H,
s), 1.60-1.80(1H,m), 3.90-4.10(1H,m), 4.25- 4.65(3
H,m)。
ブチル−２−ニトロキシエチルアミン ３．９１ｇのニトロニウムテトラフルオロホウ素と４．
３５ｇの（１Ｓ）−Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）−
１−イソブチル−２−ヒドロキシエチルアミンを用い
て、参考例２と同様にして、目的化合物を黄色油状物と
して、３．８４ｇ得た。 ＮＭＲスペクトル (CDCl3) δppm ： 0.93(3H,d,J=4.6
Hz), 0.95(3H,d,J=4.6Hz), 1.20-1.50(2H,m), 1.45(9H,
s), 1.60-1.80(1H,m), 3.90-4.10(1H,m), 4.25- 4.65(3
H,m)。
【０１０２】参考例１５ （１Ｓ）−１−イソブチル−２−ニトロキシエチルアミ
ン塩酸塩 ３．８４ｇの（１Ｓ）−Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニ
ル）−１−イソブチル−２−ニトロキシエチルアミンと
４０ｍｌの４規定塩酸ージオキサンを用いて、参考例３
と同様にして、目的化合物を無色結晶として、２．３２
ｇ得た。 融点：１７４−１７５℃（分解）。 ＮＭＲスペクトル (CDCl3) δppm ： 0.93-1.10(6H,
m), 1.50-1.70(1H,m),1.72-2.00(2H,m), 3.65-3.82(1H,
m), 4.63-4.85(2H,m)。
ン塩酸塩 ３．８４ｇの（１Ｓ）−Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニ
ル）−１−イソブチル−２−ニトロキシエチルアミンと
４０ｍｌの４規定塩酸ージオキサンを用いて、参考例３
と同様にして、目的化合物を無色結晶として、２．３２
ｇ得た。 融点：１７４−１７５℃（分解）。 ＮＭＲスペクトル (CDCl3) δppm ： 0.93-1.10(6H,
m), 1.50-1.70(1H,m),1.72-2.00(2H,m), 3.65-3.82(1H,
m), 4.63-4.85(2H,m)。
【０１０３】試験例１ 静脈内投与による側副血管拡張作用 体重９−１３Kgのビ−グル犬（雄）をペントバルビタ−
ル３０mg／Kgの静注により麻酔し、人工呼吸下に実験を
行なった。左頚動脈圧を測定するために、左甲状腺動脈
の一枝にポリエチレンカニュ−レ（アトム静脈カテ−テ
ル 2F ）を逆行性に挿入した。この圧測定部位より上流
の左頚動脈を動脈クレメンで一分間閉塞し、閉塞直前の
圧（Ｐ）と末梢圧の低下（ΔＰ）を測定した。次に試験
薬を股静脈内に挿入したポリエチレンカニュ−レより投
与し、５、１５、３０、４５および６０分後に再度左頚
動脈を一分間閉塞し、この時の閉塞直前の圧（Ｐa ）と
末梢圧の低下（ΔＰa ）を測定した。試験薬の側副血管
拡張作用（ＣollateralIndex=ＣＩ）は、次式により求
めた。 ＣＩ＝１００−（ΔＰa ／Ｐa ）×１００／（ΔＰ／
Ｐ） 本試験を用いた結果、実施例１、５、６および８の化合
物は、０．３ｍｇ／ｋｇ投与におけるＣＩ（６０）値が
１０以上の優れた作用を示した。
ル３０mg／Kgの静注により麻酔し、人工呼吸下に実験を
行なった。左頚動脈圧を測定するために、左甲状腺動脈
の一枝にポリエチレンカニュ−レ（アトム静脈カテ−テ
ル 2F ）を逆行性に挿入した。この圧測定部位より上流
の左頚動脈を動脈クレメンで一分間閉塞し、閉塞直前の
圧（Ｐ）と末梢圧の低下（ΔＰ）を測定した。次に試験
薬を股静脈内に挿入したポリエチレンカニュ−レより投
与し、５、１５、３０、４５および６０分後に再度左頚
動脈を一分間閉塞し、この時の閉塞直前の圧（Ｐa ）と
末梢圧の低下（ΔＰa ）を測定した。試験薬の側副血管
拡張作用（ＣollateralIndex=ＣＩ）は、次式により求
めた。 ＣＩ＝１００−（ΔＰa ／Ｐa ）×１００／（ΔＰ／
Ｐ） 本試験を用いた結果、実施例１、５、６および８の化合
物は、０．３ｍｇ／ｋｇ投与におけるＣＩ（６０）値が
１０以上の優れた作用を示した。
【０１０４】試験例２ 門脈内投与による側副血管拡張作用 実験標本の作成法は試験例１の方法に準じたが、本試験
例では門脈内投与を行なうため腹部正中線に沿って開腹
し、腸間膜静脈の一枝を剥離切開した。この静脈にポリ
エチレンカニュ−レ（アトム静脈カテ−テル 2F ）を順
行性に挿入、門脈内に留置し、試験薬の投与を行なっ
た。試験薬の初回通過効果を調べるため、最初に試験薬
を静脈内（股静脈）投与し、６０分までの側副血管拡張
作用を求めた。２−３時間後に同試験薬を門脈内投与
し、６０分までの側副血管拡張作用を求め、その作用を
比較した。本試験により、実施例１の化合物は、優れた
側副血管拡張作用を示した。
例では門脈内投与を行なうため腹部正中線に沿って開腹
し、腸間膜静脈の一枝を剥離切開した。この静脈にポリ
エチレンカニュ−レ（アトム静脈カテ−テル 2F ）を順
行性に挿入、門脈内に留置し、試験薬の投与を行なっ
た。試験薬の初回通過効果を調べるため、最初に試験薬
を静脈内（股静脈）投与し、６０分までの側副血管拡張
作用を求めた。２−３時間後に同試験薬を門脈内投与
し、６０分までの側副血管拡張作用を求め、その作用を
比較した。本試験により、実施例１の化合物は、優れた
側副血管拡張作用を示した。
【０１０５】試験例３ アスピリン潰瘍の抑制作用 試験動物として、体重200g-250g のドンリュー(Donryu)
系雄性ラットを１群当たり１０匹用いた。ラットは、実
験の２４時間前から絶食させ、水は自由に摂取させた。
試験化合物は、一定量を0.5%カルボキシメチルセルロー
ズ(CMC) 溶液に懸濁させて用いた。また、対象群とし
て、0.5%CMC 溶液を使用した。試験化合物をラットに経
口投与(0.1ml/100g 体重) し、１時間後にアスピリン溶
液(150mg/ml:0.5%CMC 溶液に懸濁) を経口投与(0.1ml/1
00g 体重) した。アスピリン溶液投与４時間後、炭酸ガ
スを用いて、ラットを殺し、その胃を摘出した。摘出し
た胃に1%ホルマリン水溶液10 mlを注入し、膨満させ、
ビーカー内の1%ホルマリン水溶液に約15-20 分間浸し
た。その後、胃大ワン部に沿って切開し、腺胃部の粘膜
上に誘起された潰瘍面積を画像解析処理装置[Luzex-F:
(株) ニレコ製] を用いて測定した。各ラットの潰瘍面
積から各群の潰瘍面積平均値を算出し、対象群と比較し
て、抑制率(%) を求めた。その結果を表４に示す。
系雄性ラットを１群当たり１０匹用いた。ラットは、実
験の２４時間前から絶食させ、水は自由に摂取させた。
試験化合物は、一定量を0.5%カルボキシメチルセルロー
ズ(CMC) 溶液に懸濁させて用いた。また、対象群とし
て、0.5%CMC 溶液を使用した。試験化合物をラットに経
口投与(0.1ml/100g 体重) し、１時間後にアスピリン溶
液(150mg/ml:0.5%CMC 溶液に懸濁) を経口投与(0.1ml/1
00g 体重) した。アスピリン溶液投与４時間後、炭酸ガ
スを用いて、ラットを殺し、その胃を摘出した。摘出し
た胃に1%ホルマリン水溶液10 mlを注入し、膨満させ、
ビーカー内の1%ホルマリン水溶液に約15-20 分間浸し
た。その後、胃大ワン部に沿って切開し、腺胃部の粘膜
上に誘起された潰瘍面積を画像解析処理装置[Luzex-F:
(株) ニレコ製] を用いて測定した。各ラットの潰瘍面
積から各群の潰瘍面積平均値を算出し、対象群と比較し
て、抑制率(%) を求めた。その結果を表４に示す。
【０１０６】
【表４】 ──────────────────────────── 化合物 投与量(mg/kg) 抑制率(%) ──────────────────────────── 実施例１の化合物 30 63.58*) 100 80.15**) 300 93.17**) ──────────────────────────── *) p<0.05 **) p<0.005 本試験により、実施例１の化合物は、すぐれた抗潰瘍作
用を示した。
用を示した。
【０１０７】試験例４ 化合物の安定性 試験化合物約２ｍｇを正確に秤り取り、褐色瓶に入れ、
暗所に、室温で（２４−２６℃）で、４週間放置し、試
験化合物の残存率(%) を高速液体クロマトグラフィー
（カラム：イナートシル(Inertsil) ODS-3、流出溶剤：
10mM(pH=7.0)リン酸バッファー／アセトニトリル＝80/2
0)）で測定した。その結果を表５に示す。
暗所に、室温で（２４−２６℃）で、４週間放置し、試
験化合物の残存率(%) を高速液体クロマトグラフィー
（カラム：イナートシル(Inertsil) ODS-3、流出溶剤：
10mM(pH=7.0)リン酸バッファー／アセトニトリル＝80/2
0)）で測定した。その結果を表５に示す。
【０１０８】
【表５】 ─────────────────────────── 化合物 残存率(%) ─────────────────────────── 実施例１の化合物 101.2 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 化合物Ａ*) 49.8 **) ─────────────────────────── *) 実施例１の化合物及びその(4R),(1R)-異性体の１：１混合物 **)実施例１の化合物／その(4R),(1R)-異性体＝２／１ 本試験により、実施例１の化合物は、実施例１の化合物
及びその(4R),(1R)-異性体の１：１混合物に比べ、すぐ
れた保存安定性を示した。また、実施例１の化合物は、
その(4R),(1R)-異性体に比べ、すぐれた保存安定性を示
した。
及びその(4R),(1R)-異性体の１：１混合物に比べ、すぐ
れた保存安定性を示した。また、実施例１の化合物は、
その(4R),(1R)-異性体に比べ、すぐれた保存安定性を示
した。
【０１０９】製剤例１ カプセル剤 実施例１の化合物 50.0 mg 乳糖 128.7 トウモロコシデンプン 70.0 ステアリン酸マグネシウム 1.3 250 mg 上記処方の粉末を混合し、６０メッシュのふるいを通し
た後、この粉末を２５０ｍｇの３号ゼラチンカプセルに
入れ、カプセル剤とする。
た後、この粉末を２５０ｍｇの３号ゼラチンカプセルに
入れ、カプセル剤とする。
【０１１０】製剤例２ 錠剤 実施例１の化合物 50.0 mg 乳糖 124.0 トウモロコシデンプン 25.0 ステアリン酸マグネシウム 1.0 200 mg 上記処方の粉末を混合し、打錠機により打錠して、１錠
２００ｍｇの錠剤とする。この錠剤は必要に応じて糖衣
を施すことができる。
２００ｍｇの錠剤とする。この錠剤は必要に応じて糖衣
を施すことができる。
【０１１１】
【発明の効果】本発明の前記一般式（Ｉ）を有する化合
物は、すぐれた側副血管拡張作用を有し、毒性も弱く、
頭痛、めまい、頻脈または消化器、肝臓、骨等への悪影
響等の副作用もなく、また、初回通過効果を受けないこ
とから、狭心症予防剤または治療剤（好適には、治療
剤）として有用である。また、前記一般式（ＩＩ）を有
する化合物またはその薬理上許容される塩は、すぐれた
抗潰瘍作用を有し、毒性も弱く、頭痛、めまい、頻脈ま
たは消化器、肝臓、骨等への悪影響等の副作用もないの
で、潰瘍性疾患予防剤または治療剤（好適には、治療
剤）として有用である。
物は、すぐれた側副血管拡張作用を有し、毒性も弱く、
頭痛、めまい、頻脈または消化器、肝臓、骨等への悪影
響等の副作用もなく、また、初回通過効果を受けないこ
とから、狭心症予防剤または治療剤（好適には、治療
剤）として有用である。また、前記一般式（ＩＩ）を有
する化合物またはその薬理上許容される塩は、すぐれた
抗潰瘍作用を有し、毒性も弱く、頭痛、めまい、頻脈ま
たは消化器、肝臓、骨等への悪影響等の副作用もないの
で、潰瘍性疾患予防剤または治療剤（好適には、治療
剤）として有用である。
【０１１２】さらに、化合物(I) は、保存安定性に優
れ、取扱も容易であるという特長を有する。
れ、取扱も容易であるという特長を有する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 三宅 茂樹 東京都品川区広町１丁目２番58号 三共株 式会社内 (72)発明者 寄兼 良輔 東京都品川区広町１丁目２番58号 三共株 式会社内 (72)発明者 福田 紀男 東京都品川区広町１丁目２番58号 三共株 式会社内 (72)発明者 田端 敬一 東京都品川区広町１丁目２番58号 三共株 式会社内 (72)発明者 牧野 光子 東京都品川区広町１丁目２番58号 三共株 式会社内
Claims (29)
- 【請求項１】一般式 【化１】 ［式中、Ｒ1 は、水素原子、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基、フ
ェニル基、置換されたフェニル基（該置換基は、Ｃ1 −
Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシまたはハロゲンを
示す。）、フェニル−Ｃ1 −Ｃ2 アルキル基または置換
されたフェニル−Ｃ1 −Ｃ2 アルキル基（該フェニルの
置換基は、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ
またはハロゲンを示す。）を示し、 Ｒ2 は、Ｃ1 −Ｃ6 アルキル基を示し、 ｎは、１または２を示す。］を有する光学活性なチアゾ
リジノン誘導体。 - 【請求項２】請求項１の光学活性なチアゾリジノン誘導
体において、 Ｒ1 が水素原子、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基、フェニル基、
置換されたフェニル基（該置換基は、メチル、メトキ
シ、弗素または塩素である。）、ベンジル基、置換され
たベンジル基（該置換基は、メチル、メトキシ、弗素ま
たは塩素である。）、フェネチル基または置換されたフ
ェネチル基（該置換基は、メチル、メトキシ、弗素また
は塩素である。）である化合物。 - 【請求項３】請求項１の光学活性なチアゾリジノン誘導
体において、 Ｒ1 が水素原子、メチル基、４−メトキシフェニル基ま
たはベンジル基である化合物。 - 【請求項４】請求項１の光学活性なチアゾリジノン誘導
体において、 Ｒ1 が水素原子である化合物。 - 【請求項５】請求項１乃至４の光学活性なチアゾリジノ
ン誘導体において、 Ｒ2 がＣ1 −Ｃ4 アルキル基である化合物。 - 【請求項６】請求項１乃至４の光学活性なチアゾリジノ
ン誘導体において、 Ｒ2 が、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピ
ル基、ブチル基またはイソブチル基である化合物。 - 【請求項７】請求項１乃至４の光学活性なチアゾリジノ
ン誘導体において、 Ｒ2 が、メチル基、プロピル基、ブチル基またはイソブ
チル基である化合物。 - 【請求項８】請求項１乃至４の光学活性なチアゾリジノ
ン誘導体において、 Ｒ2 がメチル基である化合物。 - 【請求項９】請求項１乃至８の光学活性なチアゾリジノ
ン誘導体において、 ｎが１である化合物。 - 【請求項１０】請求項１の光学活性なチアゾリジノン誘
導体において、 （４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１−メチル−２−ニトロキ
シエチル］−２−オキソチアゾリジン−４−イル−カル
ボキサミド、 （４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１−メチル−２−ニトロキ
シエチル］−５−メチル−２−オキソチアゾリジン−４
−イル−カルボキサミド、 （４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１−メチル−２−ニトロキ
シエチル］−５−（４−メトキシフェニル）−２−オキ
ソチアゾリジン−４−イル−カルボキサミド、 （４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１−メチル−２−ニトロキ
シエチル］−５−ベンジル−２−オキソチアゾリジン−
４−イル−カルボキサミド、 （４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１−エチル−２−ニトロキ
シエチル］−２−オキソチアゾリジン−４−イル−カル
ボキサミド、 （４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１−プロピル−２−ニトロ
キシエチル］−２−オキソチアゾリジン−４−イル−カ
ルボキサミド、 （４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１−プロピル−２−ニトロ
キシエチル］−５−メチル−２−オキソチアゾリジン−
４−イル−カルボキサミド、 （４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１−プロピル−２−ニトロ
キシエチル］−５−（４−メトキシフェニル）−２−オ
キソチアゾリジン−４−イル−カルボキサミド、 （４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１−プロピル−２−ニトロ
キシエチル］−５−ベンジル−２−オキソチアゾリジン
−４−イル−カルボキサミド、 （４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１−ブチル−２−ニトロキ
シエチル］−２−オキソチアゾリジン−４−イル−カル
ボキサミド、 （４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１−ブチル−２−ニトロキ
シエチル］−５−メチル−２−オキソチアゾリジン−４
−イル−カルボキサミド、 （４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１−ブチル−２−ニトロキ
シエチル］−５−（４−メトキシフェニル）−２−オキ
ソチアゾリジン−４−イル−カルボキサミド、 （４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１−ブチル−２−ニトロキ
シエチル］−５−ベンジル−２−オキソチアゾリジン−
４−イル−カルボキサミド、 （４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１−イソブチル−２−ニト
ロキシエチル］−２−オキソチアゾリジン−４−イル−
カルボキサミド、 （４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１−イソブチル−２−ニト
ロキシエチル］−５−メチル−２−オキソチアゾリジン
−４−イル−カルボキサミド、 （４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１−イソブチル−２−ニト
ロキシエチル］−５−（４−メトキシフェニル）−２−
オキソチアゾリジン−４−イル−カルボキサミドおよび
（４Ｒ）−Ｎ−［（１Ｓ）−１−イソブチル−２−ニト
ロキシエチル］−５−ベンジル−２−オキソチアゾリジ
ン−４−イル−カルボキサミドからなる群から選択され
る化合物。 - 【請求項１１】請求項１乃至１０項の光学活性なチアゾ
リジノン誘導体を有効成分とする狭心症予防剤または治
療剤。 - 【請求項１２】一般式 【化２】 ［式中、Ｗは、硫黄または酸素原子を示し、Ｘは、式−
Ｎ（Ｒ3 ）−を有する基を示すかあるいはＸは、硫黄ま
たは酸素原子を示し、Ｗは、式−Ｎ（Ｒ3 ）−を有する
基を示し、 Ｒ3 は、水素原子、Ｃ1 −Ｃ6 アルキル基またはアリー
ル−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基を示し、 Ｒ4 およびＲ5 は、同一または異なって、水素原子、Ｃ
1 −Ｃ6 アルキル基、アリール−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル
基、アリ−ル基、ベンゼン環と縮環してもよい、窒素原
子、酸素原子および硫黄原子からなる群から選択される
ヘテロ原子１乃至３個を含有する５−６員芳香複素環基
または置換され、ベンゼン環と縮環してもよい、窒素原
子、酸素原子および硫黄原子からなる群から選択される
ヘテロ原子１乃至３個を含有する５−６員芳香複素環基
(該置換基は、Ｃ1 −Ｃ6 アルキル、アミノ、モノーＣ
1 −Ｃ6 アルキルアミノまたはジーＣ1 −Ｃ6 アルキル
アミノを示す。) を示し、 Ｒ6 は、水素原子、Ｃ1 −Ｃ6 アルキル基またはアリー
ル−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基を示し、 Ａは、Ｃ2 −Ｃ6 アルキレン基または置換されたＣ2 −
Ｃ6 アルキレン基 (該置換基は、カルボキシ、Ｃ1 −Ｃ
6 アルコキシカルボニルまたはアリールオキシカルボニ
ル基を示す。) を示し、 上記アリールは、Ｃ6 −Ｃ10アリールまたは置換された
Ｃ6 −Ｃ10アリール (該置換基は、Ｃ1 −Ｃ6 アルキ
ル、Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ、ヒドロキシ、ハロゲン、ア
ミノ、モノーＣ1 −Ｃ6 アルキルアミノ、ジーＣ1 −Ｃ
6 アルキルアミノまたはニトロを示す。) を示す。］を
有するチアもしくはオキサゾリジノン誘導体またはそれ
らの薬理上許容される塩を有効成分とする潰瘍性疾患予
防剤または治療剤。 - 【請求項１３】請求項１２の潰瘍性疾患の予防剤または
治療剤において、 有効成分が、 Ｒ3 が水素原子、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基、ベンジル基ま
たはフェネチル基であるチアもしくはオキサゾリジノン
誘導体またはそれらの薬理上許容される塩。 - 【請求項１４】請求項１２の潰瘍性疾患の予防剤または
治療剤において、 有効成分が、 Ｒ3 が水素原子、メチル基またはベンジル基であるチア
もしくはオキサゾリジノン誘導体またはそれらの薬理上
許容される塩。 - 【請求項１５】請求項１２の潰瘍性疾患の予防剤または
治療剤において、 有効成分が、 Ｗが硫黄または酸素原子であり、Ｘが式−ＮＲ3 −を有
する基（式中、Ｒ3 は水素原子である。）であるか、あ
るいはＸが硫黄原子であり、Ｗが式−ＮＲ3 −を有する
基（式中、Ｒ3 は水素原子である。）であるチアもしく
はオキサゾリジノン誘導体またはそれらの薬理上許容さ
れる塩。 - 【請求項１６】請求項１２の潰瘍性疾患の予防剤または
治療剤において、 有効成分が、 Ｗが硫黄または酸素原子であり、Ｘが式−ＮＲ3 −を有
する基（式中、Ｒ3 は水素原子である。）であるチアも
しくはオキサゾリジノン誘導体またはそれらの薬理上許
容される塩。 - 【請求項１７】請求項１２乃至１６の潰瘍性疾患の予防
剤または治療剤において、 有効成分が、 Ｒ4 およびＲ5 が同一または異なって、水素原子、Ｃ1
−Ｃ4 アルキル基、フェニル−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基、
置換されたフェニル−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基（該フェニ
ルの置換基は、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコ
キシ、ヒドロキシ、ハロゲンまたはニトロである。）、
ナフチルメチル基、フェニル基、置換されたフェニル基
（該置換基は、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコ
キシ、ヒドロキシ、ハロゲンまたはニトロである。）、
ナフチル基または無置換かもしくはＣ1 −Ｃ4 アルキル
で置換された、フリル、チエニル、ピリジル、オキサゾ
リル、チアゾリル、イソオキサゾリルもしくはイソチア
ゾリル基であるチアもしくはオキサゾリジノン誘導体ま
たはそれらの薬理上許容される塩。 - 【請求項１８】請求項１２乃至１６の潰瘍性疾患の予防
剤または治療剤において、 有効成分が、 Ｒ4 およびＲ5 が同一または異なって、水素原子、メチ
ル基、ベンジル基、置換されたベンジル基（該置換基
は、メチル、メトキシ、ヒドロキシ、フルオロまたはク
ロロである。）、フェネチル基、置換されたフェネチル
基（該置換基は、メチル、メトキシ、ヒドロキシ、フル
オロまたはクロロである。）、フェニル基、置換された
フェニル基（該置換基は、メチル、メトキシ、ヒドロキ
シ、フルオロまたはクロロである。）、フリル基、チエ
ニル基またはピリジル基であるチアもしくはオキサゾリ
ジノン誘導体またはそれらの薬理上許容される塩。 - 【請求項１９】請求項１２乃至１６の潰瘍性疾患の予防
剤または治療剤において、 有効成分が、 Ｒ4 が水素原子、メチル基、ベンジル基、置換されたベ
ンジル基（該置換基は、メチル、メトキシまたはヒドロ
キシである。）、フェニル基または置換されたフェニル
基（該置換基は、メチル、メトキシまたはヒドロキシで
ある。）であり、 Ｒ5 が水素原子であるチアもしくはオキサゾリジノン誘
導体またはそれらの薬理上許容される塩。 - 【請求項２０】請求項１２乃至１６の潰瘍性疾患の予防
剤または治療剤において、 有効成分が、 Ｒ4 が水素原子、メチル基、ベンジル基、フェニル基ま
たはメトキシフェニル基であり、 Ｒ5 が水素原子であるチアもしくはオキサゾリジノン誘
導体またはそれらの薬理上許容される塩。 - 【請求項２１】請求項１２乃至１６の潰瘍性疾患の予防
剤または治療剤において、 有効成分が、 Ｒ4 が水素原子、メチル基、ベンジル基または４−メト
キシフェニル基であり、 Ｒ5 が水素原子であるチアもしくはオキサゾリジノン誘
導体またはそれらの薬理上許容される塩。 - 【請求項２２】請求項１２乃至１６の潰瘍性疾患の予防
剤または治療剤において、 有効成分が、 Ｒ4 が水素原子であり、 Ｒ5 が水素原子であるチアもしくはオキサゾリジノン誘
導体またはそれらの薬理上許容される塩。 - 【請求項２３】請求項１２乃至２２の潰瘍性疾患の予防
剤または治療剤において、 有効成分が、 Ｒ6 が水素原子、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基、ベンジル基ま
たはフェネチル基であるチアもしくはオキサゾリジノン
誘導体またはそれらの薬理上許容される塩。 - 【請求項２４】請求項１２乃至２２の潰瘍性疾患の予防
剤または治療剤において、 有効成分が、 Ｒ6 が水素原子、メチル基またはベンジル基であるチア
もしくはオキサゾリジノン誘導体またはそれらの薬理上
許容される塩。 - 【請求項２５】請求項１２乃至２２の潰瘍性疾患の予防
剤または治療剤において、 有効成分が、 Ｒ6 が水素原子であるチアもしくはオキサゾリジノン誘
導体またはそれらの薬理上許容される塩。 - 【請求項２６】請求項１２乃至２５の潰瘍性疾患の予防
剤または治療剤において、 有効成分が、 ＡがＣ2 −Ｃ4 アルキレン基、カルボキシ−Ｃ2 −Ｃ4
アルキレン基またはＣ1 −Ｃ4 アルコキシカルボニル−
Ｃ2 −Ｃ4 アルキレン基であるチアもしくはオキサゾリ
ジノン誘導体またはそれらの薬理上許容される塩。 - 【請求項２７】請求項１２乃至２５の潰瘍性疾患の予防
剤または治療剤において、 有効成分が、 ＡがＣ2 −Ｃ4 アルキレン基であるチアもしくはオキサ
ゾリジノン誘導体またはそれらの薬理上許容される塩。 - 【請求項２８】請求項１２乃至２５の潰瘍性疾患の予防
剤または治療剤において、 有効成分が、 Ａがエチレン基または１−メチルエチレン基であるチア
もしくはオキサゾリジノン誘導体またはそれらの薬理上
許容される塩。 - 【請求項２９】請求項１２の潰瘍性疾患の予防剤または
治療剤において、 有効成分が、 Ｎ−（２−ニトロキシエチル）−２−オキソチアゾリジ
ン−４−イルカルボキサミド、 Ｎ−（２−ニトロキシエチル）−５−メチル−２−オキ
ソチアゾリジン−４−イルカルボキサミド、 Ｎ−（２−ニトロキシエチル）−５−（４−メトキシフ
ェニル）−２−オキソチアゾリジン−４−イルカルボキ
サミド、 Ｎ−（２−ニトロキシエチル）−５−ベンジル−２−オ
キソチアゾリジン−４−イルカルボキサミド、 Ｎ−（１−メチル−２−ニトロキシエチル）−２−オキ
ソチアゾリジン−４−イルカルボキサミド、 Ｎ−（２−ニトロキシエチル）−２−オキソオキサゾリ
ジン−４−イルカルボキサミド、 Ｎ−（２−ニトロキシエチル）−５−（３−フリル）−
２−オキソオキサゾリジン−４−イルカルボキサミド、 Ｎ−（２−ニトロキシエチル）−５−ベンジル−２−オ
キソオキサゾリジン−４−イルカルボキサミド、 Ｎ−（１−メチル−２−ニトロキシエチル）−２−オキ
ソオキサゾリジン−４−イルカルボキサミド、 Ｎ−（１−メチル−２−ニトロキシエチル）−５−メチ
ル−２−オキソチアゾリジン−４−イルカルボキサミ
ド、 Ｎ−（１−メチル−２−ニトロキシエチル）−５−（４
−メトキシフェニル）−２−オキソチアゾリジン−４−
イルカルボキサミド、 Ｎ−（１−メチル−２−ニトロキシエチル）−５−ベン
ジル−２−オキソチアゾリジン−４−イルカルボキサミ
ド、 Ｎ−（１−メチル−２−ニトロキシエチル）−５−（３
−フリル）−２−オキソオキサゾリジン−４−イルカル
ボキサミド、 Ｎ−（１−メチル−２−ニトロキシエチル）−５−ベン
ジル−２−オキソオキサゾリジン−４−イルカルボキサ
ミド、 Ｎ−（２−ニトロキシエチル）−２−オキソチアゾリジ
ン−５−イルカルボキサミド、 Ｎ−（２−ニトロキシエチル）−４−（４−メトキシフ
ェニル）−２−オキソチアゾリジン−５−イルカルボキ
サミド、 Ｎ−（１−メチル−２−ニトロキシエチル）−２−オキ
ソチアゾリジン−５−イルカルボキサミドおよびＮ−
（１−メチル−２−ニトロキシエチル）−４−（４−メ
トキシフェニル）−２−オキソチアゾリジン−５−イル
カルボキサミドからなる群から選択されるチアもしくは
オキサゾリジノン誘導体またはそれらの薬理上許容され
る塩。
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|---|---|---|---|
| JP4281396A JP3164280B2 (ja) | 1995-03-02 | 1996-02-29 | 光学活性なチアゾリジノン誘導体 |
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|---|---|---|---|
| JP7-42237 | 1995-03-02 | ||
| JP4223795 | 1995-03-02 | ||
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| JP7-279951 | 1995-10-27 | ||
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|---|---|
| JPH09176137A true JPH09176137A (ja) | 1997-07-08 |
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ID=27291124
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4281396A Expired - Fee Related JP3164280B2 (ja) | 1995-03-02 | 1996-02-29 | 光学活性なチアゾリジノン誘導体 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3164280B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115093378A (zh) * | 2022-07-21 | 2022-09-23 | 三门峡奥科科技有限公司 | 一种2-噻唑烷酮的制备方法 |
-
1996
- 1996-02-29 JP JP4281396A patent/JP3164280B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115093378A (zh) * | 2022-07-21 | 2022-09-23 | 三门峡奥科科技有限公司 | 一种2-噻唑烷酮的制备方法 |
| CN115093378B (zh) * | 2022-07-21 | 2024-01-26 | 三门峡奥科科技有限公司 | 一种2-噻唑烷酮的制备方法 |
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