JPH09173192A - 高撥水性鏡 - Google Patents
高撥水性鏡Info
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- JPH09173192A JPH09173192A JP33489095A JP33489095A JPH09173192A JP H09173192 A JPH09173192 A JP H09173192A JP 33489095 A JP33489095 A JP 33489095A JP 33489095 A JP33489095 A JP 33489095A JP H09173192 A JPH09173192 A JP H09173192A
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3634—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer one layer at least containing carbon, a carbide or oxycarbide
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- C03C17/3663—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating having optical properties specially adapted for use as mirrors
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- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/76—Hydrophobic and oleophobic coatings
Abstract
(57)【要約】
【課題】長期にわたり高い撥水性が維持され、また低コ
ストで製造できるとともにランニングコストがかからな
い高撥水性鏡を提供する。 【解決手段】鏡基体Ｓの外表面（鏡表面）に炭素膜Ｍが
形成されている高撥水性鏡。
ストで製造できるとともにランニングコストがかからな
い高撥水性鏡を提供する。 【解決手段】鏡基体Ｓの外表面（鏡表面）に炭素膜Ｍが
形成されている高撥水性鏡。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、水滴が付着する環
境下で用いる高撥水性鏡に関する。
境下で用いる高撥水性鏡に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えば、サイドミラー等の自動車の車外
に備えられる鏡や浴室の鏡等の水滴が付着する環境下で
用いる鏡では、それへの水滴の付着を防止するために、
次のような手段が講じられている。すなわち、車載用の
鏡では、撥水性を有する高分子コーティングを鏡表面に
施したり、鏡自体を超音波で振動させたりすること等が
行われ、また、鏡表面に付着した水滴を高圧エアーで吹
き飛ばすこと等が試みられている。また、浴室の洗面台
の鏡では、鏡にヒータを付設して該鏡を暖めることで表
面の結露を防止すること等が行われている。
に備えられる鏡や浴室の鏡等の水滴が付着する環境下で
用いる鏡では、それへの水滴の付着を防止するために、
次のような手段が講じられている。すなわち、車載用の
鏡では、撥水性を有する高分子コーティングを鏡表面に
施したり、鏡自体を超音波で振動させたりすること等が
行われ、また、鏡表面に付着した水滴を高圧エアーで吹
き飛ばすこと等が試みられている。また、浴室の洗面台
の鏡では、鏡にヒータを付設して該鏡を暖めることで表
面の結露を防止すること等が行われている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記の
撥水性コーティングを施す方法では、その後の時間の経
過と共にコーティングが剥離して、撥水効果が低下す
る。また、鏡自体を超音波振動させる方法及び鏡表面に
付着した水滴を高圧エアーで吹き飛ばす方法では、水滴
を除去するための装置がコスト高につく。さらに、鏡に
ヒータを付設する方法はランニングコストがかかる。
撥水性コーティングを施す方法では、その後の時間の経
過と共にコーティングが剥離して、撥水効果が低下す
る。また、鏡自体を超音波振動させる方法及び鏡表面に
付着した水滴を高圧エアーで吹き飛ばす方法では、水滴
を除去するための装置がコスト高につく。さらに、鏡に
ヒータを付設する方法はランニングコストがかかる。
【０００４】そこで本発明は、長期にわたり高い撥水性
が維持され、また低コストで製造できるとともにランニ
ングコストがかからない高撥水性鏡を提供することを課
題とする。
が維持され、また低コストで製造できるとともにランニ
ングコストがかからない高撥水性鏡を提供することを課
題とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に本発明は、鏡表面に撥水性を有する炭素膜が形成され
ていることを特徴とする高撥水性鏡を提供する。本発明
の高撥水性鏡によると、鏡表面に撥水性に優れる炭素膜
が形成されているため、該膜形成面に水滴が接触して
も、或いは該膜形成面に結露が生じて水滴に成長して
も、水滴は該面に付着することなく直ぐに落下する。ま
た、本発明の高撥水性鏡は、低コストで製造できるとと
もにランニングコストがかからない。さらに、前記炭素
膜は従来の撥水性コーティングを施した鏡におけるコー
ティング膜に比べて剥離し難いため、長期にわたり高い
撥水性が維持される。
に本発明は、鏡表面に撥水性を有する炭素膜が形成され
ていることを特徴とする高撥水性鏡を提供する。本発明
の高撥水性鏡によると、鏡表面に撥水性に優れる炭素膜
が形成されているため、該膜形成面に水滴が接触して
も、或いは該膜形成面に結露が生じて水滴に成長して
も、水滴は該面に付着することなく直ぐに落下する。ま
た、本発明の高撥水性鏡は、低コストで製造できるとと
もにランニングコストがかからない。さらに、前記炭素
膜は従来の撥水性コーティングを施した鏡におけるコー
ティング膜に比べて剥離し難いため、長期にわたり高い
撥水性が維持される。
【０００６】前記炭素膜としては、代表的にはＤＬＣ
(Diamond Like Carbon)膜を挙げることができる。ＤＬ
Ｃ膜は、高い撥水性を示し、また、低温で形成できる等
成膜を簡単に行うことができる。前記炭素膜の膜厚は鏡
表面に密着性良く形成できる範囲内で、しかも光を反射
する鏡本体の機能に影響を及ぼさない範囲内とする。
(Diamond Like Carbon)膜を挙げることができる。ＤＬ
Ｃ膜は、高い撥水性を示し、また、低温で形成できる等
成膜を簡単に行うことができる。前記炭素膜の膜厚は鏡
表面に密着性良く形成できる範囲内で、しかも光を反射
する鏡本体の機能に影響を及ぼさない範囲内とする。
【０００７】また、本発明の高撥水性鏡は、前記炭素膜
が形成される前の鏡表面が、酸素ガス、水素ガス又は該
両者の混合ガスのプラズマに曝されて前処理されたもの
であることが考えられる。前記鏡表面は、前記ガスのプ
ラズマに曝されることにより、清浄化され、又はさらに
表面粗度が向上する。これらは、炭素膜の密着性向上に
寄与する。
が形成される前の鏡表面が、酸素ガス、水素ガス又は該
両者の混合ガスのプラズマに曝されて前処理されたもの
であることが考えられる。前記鏡表面は、前記ガスのプ
ラズマに曝されることにより、清浄化され、又はさらに
表面粗度が向上する。これらは、炭素膜の密着性向上に
寄与する。
【０００８】酸素ガスプラズマを採用するときは、鏡表
面に付着した有機物等の汚れを特に効率良く除去でき、
これによりその後形成する炭素膜と前記鏡表面との密着
性は良好なものとなる。また、水素ガスプラズマを採用
するときはこれによって鏡表面が水素終端される。水素
−炭素結合は安定であるため、このように終端処理する
ことで膜中の炭素原子が鏡表面部分の水素原子と安定に
結合を形成する。そしてこれらのことから、その後形成
する炭素膜と鏡表面との密着性は良好なものとなる。
面に付着した有機物等の汚れを特に効率良く除去でき、
これによりその後形成する炭素膜と前記鏡表面との密着
性は良好なものとなる。また、水素ガスプラズマを採用
するときはこれによって鏡表面が水素終端される。水素
−炭素結合は安定であるため、このように終端処理する
ことで膜中の炭素原子が鏡表面部分の水素原子と安定に
結合を形成する。そしてこれらのことから、その後形成
する炭素膜と鏡表面との密着性は良好なものとなる。
【０００９】本発明の高撥水性鏡において、前記炭素膜
が形成される前の鏡表面は、同種類の又は異なる種類の
前記前処理用ガスプラズマに複数回曝されたものであっ
ても構わない。例えば、鏡表面を酸素ガスプラズマに曝
した後、水素ガスプラズマに曝し、さらにその上に炭素
膜を形成するときには、鏡表面がクリーニングされた
後、該面が水素終端されて、その後形成する炭素膜と該
鏡表面との密着性は非常に良好なものとなる。
が形成される前の鏡表面は、同種類の又は異なる種類の
前記前処理用ガスプラズマに複数回曝されたものであっ
ても構わない。例えば、鏡表面を酸素ガスプラズマに曝
した後、水素ガスプラズマに曝し、さらにその上に炭素
膜を形成するときには、鏡表面がクリーニングされた
後、該面が水素終端されて、その後形成する炭素膜と該
鏡表面との密着性は非常に良好なものとなる。
【００１０】また、本発明の高撥水性鏡における炭素膜
は、熱ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法、真空蒸着法、スパ
ッタ蒸着法、イオンプレーティング法等の各種の方法に
より形成されたものであってよいが、特にプラズマＣＶ
Ｄ法により形成されたものである場合は、鏡表面のプラ
ズマによる前処理と炭素膜形成とを同一の装置で行うこ
とができる。
は、熱ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法、真空蒸着法、スパ
ッタ蒸着法、イオンプレーティング法等の各種の方法に
より形成されたものであってよいが、特にプラズマＣＶ
Ｄ法により形成されたものである場合は、鏡表面のプラ
ズマによる前処理と炭素膜形成とを同一の装置で行うこ
とができる。
【００１１】プラズマＣＶＤ法により炭素膜を形成する
場合のプラズマ原料ガスとしては、炭素膜形成に一般に
用いられるメタン（ＣＨ4 ）、エタン（Ｃ2 Ｈ6 ）、プ
ロパン（Ｃ3 Ｈ8 ）、ブタン（Ｃ4 Ｈ10）、アセチレン
（Ｃ2 Ｈ2 ）、ベンゼン（Ｃ 6 Ｈ6 ）等の炭化水素化合
物ガス、及び必要に応じて、これらの炭化水素化合物ガ
スにキャリアガスとして水素ガス、不活性ガス等を混合
したものを用いることができる。
場合のプラズマ原料ガスとしては、炭素膜形成に一般に
用いられるメタン（ＣＨ4 ）、エタン（Ｃ2 Ｈ6 ）、プ
ロパン（Ｃ3 Ｈ8 ）、ブタン（Ｃ4 Ｈ10）、アセチレン
（Ｃ2 Ｈ2 ）、ベンゼン（Ｃ 6 Ｈ6 ）等の炭化水素化合
物ガス、及び必要に応じて、これらの炭化水素化合物ガ
スにキャリアガスとして水素ガス、不活性ガス等を混合
したものを用いることができる。
【００１２】なお、炭素膜を形成しようとする鏡本体は
透明ガラス板等の透明板の片面に光反射膜を形成したも
の、金属板の表面が鏡面となっているもの等種々考えら
れ、鏡表面となる面に炭素膜を形成できるものであれば
よい。
透明ガラス板等の透明板の片面に光反射膜を形成したも
の、金属板の表面が鏡面となっているもの等種々考えら
れ、鏡表面となる面に炭素膜を形成できるものであれば
よい。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照して説明する。図１は、本発明に係る高撥水性鏡
の１例の拡大断面図である。この高撥水性鏡は、鏡基体
Ｓ（ここでは透明ガラス板）の裏面に光反射面Ｓｒを形
成してなる鏡本体Ａの該鏡基体Ｓの、面Ｓｒとは反対側
の外表面、すなわち鏡表面に炭素膜Ｍが形成されている
ものである。
を参照して説明する。図１は、本発明に係る高撥水性鏡
の１例の拡大断面図である。この高撥水性鏡は、鏡基体
Ｓ（ここでは透明ガラス板）の裏面に光反射面Ｓｒを形
成してなる鏡本体Ａの該鏡基体Ｓの、面Ｓｒとは反対側
の外表面、すなわち鏡表面に炭素膜Ｍが形成されている
ものである。
【００１４】この高撥水性鏡は、鏡表面に撥水性に優れ
る炭素膜Ｍが形成されているため、膜Ｍ上に水滴が接触
したり、或いは膜Ｍ上に結露が生じて水滴に成長して
も、水滴は付着することなく直ぐに落下する。また、こ
の高撥水性鏡は安価であるとともに、ランニングコスト
がかからない。さらに、炭素膜Ｍは、鏡本体Ａから容易
に剥離しないため、この高撥水性鏡は長期にわたりその
撥水性が維持される。
る炭素膜Ｍが形成されているため、膜Ｍ上に水滴が接触
したり、或いは膜Ｍ上に結露が生じて水滴に成長して
も、水滴は付着することなく直ぐに落下する。また、こ
の高撥水性鏡は安価であるとともに、ランニングコスト
がかからない。さらに、炭素膜Ｍは、鏡本体Ａから容易
に剥離しないため、この高撥水性鏡は長期にわたりその
撥水性が維持される。
【００１５】本発明に係る高撥水性鏡は、例えば図２に
その概略構成を示す装置を用いて製造することができ
る。この装置は、排気装置１１が付設された真空チャン
バ１を有し、チャンバ１内には鏡本体ホルダを兼ねる電
極２及びこれに対向する位置に電極３が設置されてい
る。電極３は接地され、電極２にはマッチングボックス
２２を介して高周波電源２３が接続されている。また、
電極２にはヒータ２１が付設されており、電極２に支持
される鏡本体を所定の成膜温度に加熱することができ
る。また、チャンバ１にはガス供給部４が付設されて、
内部にプラズマ原料ガスを導入できるようになってい
る。ガス供給部４には、マスフローコントローラ４１
１、４１２・・・及び弁４２１、４２２・・・を介して
接続された１又は２以上のプラズマ原料ガスのガス源４
３１、４３２・・・が含まれる。
その概略構成を示す装置を用いて製造することができ
る。この装置は、排気装置１１が付設された真空チャン
バ１を有し、チャンバ１内には鏡本体ホルダを兼ねる電
極２及びこれに対向する位置に電極３が設置されてい
る。電極３は接地され、電極２にはマッチングボックス
２２を介して高周波電源２３が接続されている。また、
電極２にはヒータ２１が付設されており、電極２に支持
される鏡本体を所定の成膜温度に加熱することができ
る。また、チャンバ１にはガス供給部４が付設されて、
内部にプラズマ原料ガスを導入できるようになってい
る。ガス供給部４には、マスフローコントローラ４１
１、４１２・・・及び弁４２１、４２２・・・を介して
接続された１又は２以上のプラズマ原料ガスのガス源４
３１、４３２・・・が含まれる。
【００１６】この装置を用いて本発明に係る高撥水性
鏡、例えば前記の鏡を製造するにあたっては、反射面Ｓ
ｒが形成された鏡基体Ｓからなる鏡本体Ａを真空チャン
バ１内に搬入し、基体Ｓの反射面Ｓｒとは反対側の表面
が電極３と相対するようにして基体ホルダ２に支持さ
せ、排気装置１１の運転にてチャンバ１内部を所定の真
空度にする。次いで、ガス供給部４からチャンバ１内に
酸素ガス及び水素ガスのうち１種以上のガスを前処理用
ガスとして導入するとともに高周波電源２３からマッチ
ングボックス２２を介して電極２に高周波電力を供給
し、これにより前記導入した前処理用ガスをプラズマ化
し、該プラズマの下で基体Ｓの表面処理（鏡表面の前処
理）を行う。
鏡、例えば前記の鏡を製造するにあたっては、反射面Ｓ
ｒが形成された鏡基体Ｓからなる鏡本体Ａを真空チャン
バ１内に搬入し、基体Ｓの反射面Ｓｒとは反対側の表面
が電極３と相対するようにして基体ホルダ２に支持さ
せ、排気装置１１の運転にてチャンバ１内部を所定の真
空度にする。次いで、ガス供給部４からチャンバ１内に
酸素ガス及び水素ガスのうち１種以上のガスを前処理用
ガスとして導入するとともに高周波電源２３からマッチ
ングボックス２２を介して電極２に高周波電力を供給
し、これにより前記導入した前処理用ガスをプラズマ化
し、該プラズマの下で基体Ｓの表面処理（鏡表面の前処
理）を行う。
【００１７】次いで、必要に応じてチャンバ１内を再び
真空引きした後、ガス供給部４からチャンバ１内に成膜
用原料ガスとして炭化水素化合物ガスを導入するととも
に高周波電源２３から電極２に高周波電力を供給し、こ
れにより前記導入した炭化水素化合物ガスをプラズマ化
し、該プラズマの下で鏡基体Ｓの表面（鏡表面）に撥水
性を有する炭素膜を形成する。
真空引きした後、ガス供給部４からチャンバ１内に成膜
用原料ガスとして炭化水素化合物ガスを導入するととも
に高周波電源２３から電極２に高周波電力を供給し、こ
れにより前記導入した炭化水素化合物ガスをプラズマ化
し、該プラズマの下で鏡基体Ｓの表面（鏡表面）に撥水
性を有する炭素膜を形成する。
【００１８】以上説明した方法によると、成膜に先立ち
基体Ｓ表面を酸素ガスプラズマ及び水素ガスプラズマの
１以上に曝すことで、基体Ｓ表面のクリーニングが行わ
れたり、基体Ｓ表面粗度が向上したりすると共に、酸素
ガスプラズマを採用するときには基体Ｓ表面に付着した
有機物等の汚れが特に効率良く除去され、水素ガスプラ
ズマを採用するときには基体Ｓ表面の水素終端が行わ
れ、これらにより炭素膜と基体Ｓ表面（鏡表面）との密
着性は良好なものとなる。
基体Ｓ表面を酸素ガスプラズマ及び水素ガスプラズマの
１以上に曝すことで、基体Ｓ表面のクリーニングが行わ
れたり、基体Ｓ表面粗度が向上したりすると共に、酸素
ガスプラズマを採用するときには基体Ｓ表面に付着した
有機物等の汚れが特に効率良く除去され、水素ガスプラ
ズマを採用するときには基体Ｓ表面の水素終端が行わ
れ、これらにより炭素膜と基体Ｓ表面（鏡表面）との密
着性は良好なものとなる。
【００１９】なお、ここでは、予め反射面Ｓｒが形成さ
れた鏡基体Ｓ上に炭素膜Ｍを形成する例を説明したが、
炭素膜Ｍ形成後に反射面Ｓｒを形成してもよい。次に、
図２の装置を用いて、片面に光反射面Ｓｒを予め形成し
た鏡基体Ｓからなる鏡本体Ａ上にＤＬＣ膜を形成した、
本発明に係る高撥水性鏡の製造の具体例を説明する。 実施例１ 前述した、図２の装置を用いた高撥水性鏡の製造におい
て、ガスプラズマによる鏡基体Ｓ表面（鏡表面）の前処
理を行わず、基体Ｓ表面に直接ＤＬＣ膜を形成した。
れた鏡基体Ｓ上に炭素膜Ｍを形成する例を説明したが、
炭素膜Ｍ形成後に反射面Ｓｒを形成してもよい。次に、
図２の装置を用いて、片面に光反射面Ｓｒを予め形成し
た鏡基体Ｓからなる鏡本体Ａ上にＤＬＣ膜を形成した、
本発明に係る高撥水性鏡の製造の具体例を説明する。 実施例１ 前述した、図２の装置を用いた高撥水性鏡の製造におい
て、ガスプラズマによる鏡基体Ｓ表面（鏡表面）の前処
理を行わず、基体Ｓ表面に直接ＤＬＣ膜を形成した。
【００２０】 被成膜鏡本体Ａの基体Ｓ材質 ソーダガラス サイズ 厚さ２ｍｍ×１００ｍｍ×１００ｍｍ 高周波電極２サイズ 直径２８０ｍｍ 成膜条件 成膜用原料ガス メタン（ＣＨ4 ） ５０ｓｃｃｍ 高周波電力 周波数１３．５６ＭＨｚ、２００Ｗ 成膜真空度 ０．１Ｔｏｒｒ 鏡本体Ａの温度 室温 成膜速度 ５０Å／ｍｉｎ 成膜時間 １０ｍｉｎ 実施例２ 前記実施例１において、成膜に先立ち、基体Ｓに次の条
件で酸素ガスプラズマによる前処理を施した。成膜条件
は前記実施例１と同様とした。
件で酸素ガスプラズマによる前処理を施した。成膜条件
は前記実施例１と同様とした。
【００２１】 前処理条件 前処理用ガス 酸素（Ｏ2 ） ５０ｓｃｃｍ 高周波電力 周波数１３．５６ＭＨｚ、２００Ｗ 処理真空度 ０．１Ｔｏｒｒ 処理時間 ５ｍｉｎ 実施例３ 前記実施例１において、成膜に先立ち、基体Ｓに次の条
件で水素ガスプラズマによる前処理を施した。成膜条件
は前記実施例１と同様とした。
件で水素ガスプラズマによる前処理を施した。成膜条件
は前記実施例１と同様とした。
【００２２】 前処理条件 前処理用ガス 水素（Ｈ2 ） ５０ｓｃｃｍ 高周波電力 周波数１３．５６ＭＨｚ、２００Ｗ 処理真空度 ０．１Ｔｏｒｒ 処理時間 ５ｍｉｎ 次に、前記実施例１、２、３による高撥水性鏡、及び炭
素膜を形成していない未処理の鏡のそれぞれについて、
その表面の撥水性を、水の接触角を測定することで評価
した。接触角は、空気中にある固体面上に液体があると
きの、固体、液体、気体の３相の接触点で液体に引いた
切線と固体面のなす角のうち、液体を含むほうの角であ
り、図３において角θで表した角である。
素膜を形成していない未処理の鏡のそれぞれについて、
その表面の撥水性を、水の接触角を測定することで評価
した。接触角は、空気中にある固体面上に液体があると
きの、固体、液体、気体の３相の接触点で液体に引いた
切線と固体面のなす角のうち、液体を含むほうの角であ
り、図３において角θで表した角である。
【００２３】結果を次表に示す。 このように、水の接触角は、本発明実施例１、２及び３
による高撥水性鏡に対する方が未処理鏡に対するより大
きく、鏡表面に炭素膜を形成することで撥水性が向上し
ていることが分かる。
による高撥水性鏡に対する方が未処理鏡に対するより大
きく、鏡表面に炭素膜を形成することで撥水性が向上し
ていることが分かる。
【００２４】次に、前記実施例１、２及び３により得ら
れた高撥水性鏡における各ＤＬＣ膜と鏡基体との密着性
を評価した。膜密着性は、円柱状部材を接着剤を用いて
膜表面に接合させ、該円柱状部材を膜に対して垂直方向
に引っ張って該膜を基体Ｓから剥離させ、剥離に要した
力を測定する引っ張り法により評価した。結果を次表に
示す。
れた高撥水性鏡における各ＤＬＣ膜と鏡基体との密着性
を評価した。膜密着性は、円柱状部材を接着剤を用いて
膜表面に接合させ、該円柱状部材を膜に対して垂直方向
に引っ張って該膜を基体Ｓから剥離させ、剥離に要した
力を測定する引っ張り法により評価した。結果を次表に
示す。
【００２５】 このように、本発明の各実施例による高撥水性鏡におけ
るＤＬＣ膜の密着強度は、ＤＬＣ膜形成に先立ち、基体
に対しプラズマによる前処理を施した実施例２、３の高
撥水性鏡の方が前処理を施さない実施例１の高撥水性鏡
より大きかった。
るＤＬＣ膜の密着強度は、ＤＬＣ膜形成に先立ち、基体
に対しプラズマによる前処理を施した実施例２、３の高
撥水性鏡の方が前処理を施さない実施例１の高撥水性鏡
より大きかった。
【００２６】
【発明の効果】以上のように本発明によると、長期にわ
たり高い撥水性が維持され、また低コストで製造できる
とともにランニングコストがかからない高撥水性鏡を提
供することができる。
たり高い撥水性が維持され、また低コストで製造できる
とともにランニングコストがかからない高撥水性鏡を提
供することができる。
【図１】本発明に係る高撥水性鏡の１例の拡大断面図で
ある。
ある。
【図２】本発明に係る高撥水性鏡の製造に用いることが
できる成膜装置の１例の概略構成を示す図である。
できる成膜装置の１例の概略構成を示す図である。
【図３】撥水性の程度を示す水の接触角θを説明する図
である。
である。
１ 真空チャンバ １１ 排気装置 ２ 基体ホルダ兼高周波電極 ２１ ヒータ ２２ マッチングボックス ２３ 高周波電源 ３ 接地電極 ４ プラズマ原料ガス供給部 Ａ 鏡本体 Ｓ 鏡基体 Ｓｒ 反射面 Ｍ 炭素膜 θ 接触角
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ３０Ｂ 29/04 Ｃ３０Ｂ 29/04 Ｐ
Claims (4)
- 【請求項１】 鏡表面に撥水性を有する炭素膜が形成さ
れていることを特徴とする高撥水性鏡。 - 【請求項２】 前記鏡表面が、前記炭素膜形成前に酸素
（Ｏ2 ）ガス、水素（Ｈ2 ）ガス又は該両者の混合ガス
のプラズマに曝されたものである請求項１記載の高撥水
性鏡。 - 【請求項３】 前記炭素膜が、プラズマＣＶＤ法により
形成されたものである請求項１又は２記載の高撥水性
鏡。 - 【請求項４】 前記炭素膜がＤＬＣ膜である請求項１、
２又は３記載の高撥水性鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33489095A JPH09173192A (ja) | 1995-12-22 | 1995-12-22 | 高撥水性鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33489095A JPH09173192A (ja) | 1995-12-22 | 1995-12-22 | 高撥水性鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09173192A true JPH09173192A (ja) | 1997-07-08 |
Family
ID=18282378
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33489095A Withdrawn JPH09173192A (ja) | 1995-12-22 | 1995-12-22 | 高撥水性鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09173192A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6136386A (en) * | 1996-06-27 | 2000-10-24 | Nissin Electric Co., Ltd. | Method of coating polymer or glass objects with carbon films |
| JP2003514746A (ja) * | 1999-11-18 | 2003-04-22 | ガーディアン・インダストリーズ・コーポレーション | 基材上にｄｌｃを含む疎水性コーティング |
| US6893720B1 (en) | 1997-06-27 | 2005-05-17 | Nissin Electric Co., Ltd. | Object coated with carbon film and method of manufacturing the same |
| JP2008159336A (ja) * | 2006-12-22 | 2008-07-10 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 氷結防止除去装置 |
-
1995
- 1995-12-22 JP JP33489095A patent/JPH09173192A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6136386A (en) * | 1996-06-27 | 2000-10-24 | Nissin Electric Co., Ltd. | Method of coating polymer or glass objects with carbon films |
| US6893720B1 (en) | 1997-06-27 | 2005-05-17 | Nissin Electric Co., Ltd. | Object coated with carbon film and method of manufacturing the same |
| JP2003514746A (ja) * | 1999-11-18 | 2003-04-22 | ガーディアン・インダストリーズ・コーポレーション | 基材上にｄｌｃを含む疎水性コーティング |
| JP2008159336A (ja) * | 2006-12-22 | 2008-07-10 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 氷結防止除去装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
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