JPH09172141A - 電力用半導体モジュールの製造方法 - Google Patents
電力用半導体モジュールの製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 個々の層がスリップせずに簡単な仕方で積層
体の完成を確保する電力用半導体モジュールの製造方法
を提供する。 【解決手段】 複数のサブモジュール(12)が共通の支持
体(11)に配置され、互いに上下に交互に積層された金属
層(13-15) 及び絶縁層(16,17) で作られた多層の積層体
により相互接続され、そして外部接続できるようにされ
た電力用半導体モジュール(10)を製造する場合に、上記
積層体を構成するために、個々の金属層(13-15) 及び絶
縁層(16,17) を互いに上下に積層し、補助的な整列手段
(18,19) により互いに且つ支持体(11)に対して整列し、
そして溶接、半田付け、又はボンディング等の技術によ
り整列状態に相互接続することにより、積層体の確実な
製造が確保される。
体の完成を確保する電力用半導体モジュールの製造方法
を提供する。 【解決手段】 複数のサブモジュール(12)が共通の支持
体(11)に配置され、互いに上下に交互に積層された金属
層(13-15) 及び絶縁層(16,17) で作られた多層の積層体
により相互接続され、そして外部接続できるようにされ
た電力用半導体モジュール(10)を製造する場合に、上記
積層体を構成するために、個々の金属層(13-15) 及び絶
縁層(16,17) を互いに上下に積層し、補助的な整列手段
(18,19) により互いに且つ支持体(11)に対して整列し、
そして溶接、半田付け、又はボンディング等の技術によ
り整列状態に相互接続することにより、積層体の確実な
製造が確保される。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電力用電子装置の
分野に係り、より詳細には、複数のサブモジュールが共
通の支持体に配置され、互いに上下に交互に積層された
金属層及び絶縁層で作られた多層の積層体により相互接
続され、そして外部接続できるようにした電力用半導体
モジュールの製造方法に係る。
分野に係り、より詳細には、複数のサブモジュールが共
通の支持体に配置され、互いに上下に交互に積層された
金属層及び絶縁層で作られた多層の積層体により相互接
続され、そして外部接続できるようにした電力用半導体
モジュールの製造方法に係る。
【0002】
【従来の技術】このような方法が、例えば、出版物EP
−A1−0 597 144に開示されている。
−A1−0 597 144に開示されている。
【0003】この出版物の序文に記載されたモジュール
は、個々のサブモジュールから構成され、これらのサブ
モジュールは、平らな絶縁層と、導電性プレート又は金
属層と、ヒートシンク及び他の補足的素子とを本質的に
含む層シーケンスにより電気的及び熱的に相互接続され
そして外部接続される。これらの異なる層は、支持体上
で互いに交互に積層され、そして例えば、接着接合によ
り一緒に接合されて、固定の積層体を形成する。接着剤
は、拡散、スクリーン印刷又は同様の方法により、接着
接合されるべき層の接合面に塗布される。これらの層
は、次いで、接着剤がまだ液体状態の間に互いに積層さ
れる。その後、硬化が行われる。
は、個々のサブモジュールから構成され、これらのサブ
モジュールは、平らな絶縁層と、導電性プレート又は金
属層と、ヒートシンク及び他の補足的素子とを本質的に
含む層シーケンスにより電気的及び熱的に相互接続され
そして外部接続される。これらの異なる層は、支持体上
で互いに交互に積層され、そして例えば、接着接合によ
り一緒に接合されて、固定の積層体を形成する。接着剤
は、拡散、スクリーン印刷又は同様の方法により、接着
接合されるべき層の接合面に塗布される。これらの層
は、次いで、接着剤がまだ液体状態の間に互いに積層さ
れる。その後、硬化が行われる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ここで問題となるの
は、接着剤がまだ液体状態である個々の層は、それらが
互いに積層されるときにスリップを生じ、その結果、半
導体素子の接触形成に汚染が生じると共に、外側の接触
部がもはや所望の位置にないことにもなる。
は、接着剤がまだ液体状態である個々の層は、それらが
互いに積層されるときにスリップを生じ、その結果、半
導体素子の接触形成に汚染が生じると共に、外側の接触
部がもはや所望の位置にないことにもなる。
【0005】それ故、本発明の目的は、個々の層がスリ
ップすることなく簡単な仕方で積層の完成が確保される
ような電力用半導体モジュールの製造方法を提供するこ
とである。
ップすることなく簡単な仕方で積層の完成が確保される
ような電力用半導体モジュールの製造方法を提供するこ
とである。
【0006】
【課題を解決するための手段】この目的は、冒頭で述べ
た形式の方法において、積層体を形成するために、個々
の金属層及び絶縁層を互いに上下に積層し、補助的な整
列手段によって互いに且つ支持体に対して整列し、そし
て溶接、半田付け又はボンディング等の技術により整列
状態で相互接続することによって達成される。補助的な
整列手段の使用により、層自体を実質的に変更する必要
なく、接続中に層の確実で永久的な整列を行うことがで
きる。更に、補助的な整列手段を除去できるように構成
し、積層体が完成した後に除去して、それ以降のモジュ
ールの形成を妨げないようにすることができる。
た形式の方法において、積層体を形成するために、個々
の金属層及び絶縁層を互いに上下に積層し、補助的な整
列手段によって互いに且つ支持体に対して整列し、そし
て溶接、半田付け又はボンディング等の技術により整列
状態で相互接続することによって達成される。補助的な
整列手段の使用により、層自体を実質的に変更する必要
なく、接続中に層の確実で永久的な整列を行うことがで
きる。更に、補助的な整列手段を除去できるように構成
し、積層体が完成した後に除去して、それ以降のモジュ
ールの形成を妨げないようにすることができる。
【0007】本発明の方法の第1の好ましい実施形態に
よれば、補助的な整列手段は、積層体の側縁に配置さ
れ、そして更に、金属層は、補助的な整列手段が配置さ
れる側縁において隣接絶縁層に対してセットバック(後
退)するように構成され、そして補助的な整列手段は、
縁面の補助的な整列手段においてセットバックされる金
属層を整列させることのできる付加的な手段を備えてい
る。補助的な整列手段を縁に配置することにより補助的
な整列手段による積層体の干渉が低く保たれる。金属層
のセットバック、及び付加的な手段によるそれらの整列
は、電力用半導体モジュールに必須である異なる電位が
かかった層間において、縁面に高い絶縁性(電圧強度>
1000V)を確保することができる。
よれば、補助的な整列手段は、積層体の側縁に配置さ
れ、そして更に、金属層は、補助的な整列手段が配置さ
れる側縁において隣接絶縁層に対してセットバック(後
退)するように構成され、そして補助的な整列手段は、
縁面の補助的な整列手段においてセットバックされる金
属層を整列させることのできる付加的な手段を備えてい
る。補助的な整列手段を縁に配置することにより補助的
な整列手段による積層体の干渉が低く保たれる。金属層
のセットバック、及び付加的な手段によるそれらの整列
は、電力用半導体モジュールに必須である異なる電位が
かかった層間において、縁面に高い絶縁性(電圧強度>
1000V)を確保することができる。
【0008】本発明による方法の更に別の好ましい実施
形態は、積層体の完成後に取り外すことのできる補助的
な整列手段を使用することを特徴とする。このように、
出来上がったモジュールには干渉を生じる付加的な整列
部分はない。
形態は、積層体の完成後に取り外すことのできる補助的
な整列手段を使用することを特徴とする。このように、
出来上がったモジュールには干渉を生じる付加的な整列
部分はない。
【0009】取り外し可能な補助的な整列手段は、更に
別の実施形態により、この補助的な整列手段が、支持体
の対応穴に挿入できる整列ピンを含み、そして付加的な
手段が、整列ピンに配置できるスペーサワッシャを含
み、その厚みが関連金属層の厚みにほぼ等しい場合に
は、特に簡単に実現することができる。
別の実施形態により、この補助的な整列手段が、支持体
の対応穴に挿入できる整列ピンを含み、そして付加的な
手段が、整列ピンに配置できるスペーサワッシャを含
み、その厚みが関連金属層の厚みにほぼ等しい場合に
は、特に簡単に実現することができる。
【0010】しかしながら、それとは別に、支持体に永
久的に接続される整列手段で、出来上がったモジュール
に永久的に一体化されたままとなるような整列手段を使
用することもでき、この場合には、特に、垂直側壁が支
持体に取り付けられ、そして整列手段は、側壁の内側に
取り付けられる垂直整列ウェブを備えている。
久的に接続される整列手段で、出来上がったモジュール
に永久的に一体化されたままとなるような整列手段を使
用することもでき、この場合には、特に、垂直側壁が支
持体に取り付けられ、そして整列手段は、側壁の内側に
取り付けられる垂直整列ウェブを備えている。
【0011】更に別の実施形態は、従属請求項から明ら
かとなろう。以下、添付図面に関連した実施形態を用い
て本発明を詳細に説明する。
かとなろう。以下、添付図面に関連した実施形態を用い
て本発明を詳細に説明する。
【0012】
【発明の実施の形態】図1は、取り外し可能な補助的な
整列手段を有する2500Vの電圧領域の電力用半導体
モジュールの実施形態を半分開放した状態で示す斜視図
である。電力用半導体モジュール10は、共通のベース
プレート11(Cuで作られた)上に複数のサブモジュ
ール12を備え、これらのサブモジュールは、互いに隣
接して配置され、そして複数の金属層13、14及び1
5と、それらの間に存在する絶縁層16及び17とで構
成された積層体により、互いに且つ外部に接続すること
ができる。外部接続は、上方に曲げられて金属層14、
14及び15に一体的に形成された対応する多数のタブ
を介して行われる。サブモジュール12は、それらの部
品として、個々の半導体素子、例えば、相互接続されて
積層体に接続されるチップの形態のIGBT又はダイオ
ードを含んでいる。
整列手段を有する2500Vの電圧領域の電力用半導体
モジュールの実施形態を半分開放した状態で示す斜視図
である。電力用半導体モジュール10は、共通のベース
プレート11(Cuで作られた)上に複数のサブモジュ
ール12を備え、これらのサブモジュールは、互いに隣
接して配置され、そして複数の金属層13、14及び1
5と、それらの間に存在する絶縁層16及び17とで構
成された積層体により、互いに且つ外部に接続すること
ができる。外部接続は、上方に曲げられて金属層14、
14及び15に一体的に形成された対応する多数のタブ
を介して行われる。サブモジュール12は、それらの部
品として、個々の半導体素子、例えば、相互接続されて
積層体に接続されるチップの形態のIGBT又はダイオ
ードを含んでいる。
【0013】ベースプレート11には、積層体の横縁に
穴(図1には示さず)が配置され、これらの穴には2つ
の整列ピン18、19が挿入又は圧ばめされる。これら
整列ピンは、積層体の形成に使用される接着剤が付着し
ないプラスチック材料(例えば、テフロン、デルリン、
等)で作られる。それ故、整列ピンは、接合部が硬化し
た後にベースプレート11の穴から容易に引き抜くこと
ができ、その結果、モジュールのそれ以降の完成に干渉
することがない。
穴(図1には示さず)が配置され、これらの穴には2つ
の整列ピン18、19が挿入又は圧ばめされる。これら
整列ピンは、積層体の形成に使用される接着剤が付着し
ないプラスチック材料(例えば、テフロン、デルリン、
等)で作られる。それ故、整列ピンは、接合部が硬化し
た後にベースプレート11の穴から容易に引き抜くこと
ができ、その結果、モジュールのそれ以降の完成に干渉
することがない。
【0014】絶縁層16及び17の側縁は、整列ピン1
8、19の領域に直接配置される。これら絶縁層は、直
径が一致する穴又はU字型欠切部をもつ点に設けられ、
その結果、これら絶縁層は、その縁が整列ピン18、1
9上でスリップし、整列ピン18、19によって位置保
持される。金属層13、14及び15は、高電圧(>1
000V)からの絶縁を確保するために、全ての点にお
いて絶縁層16、17の縁から約1mmだけセットバッ
ク(後退)されねばならないので、これら金属層は、
(比較的細い)整列ピン18、19によって直接ガイド
することができない。それ故、金属層13、14、15
を整列するために、その縁には、整列ピン18、19の
領域において直径が2mmの穴又はU字型欠切部が設け
られる。金属層は、次いで、整列ピン18、19上で押
されるスペーサワッシャ20の形態の付加的な手段によ
り整列される。これらスペーサワッシャは、整列ピン1
8、19と同じ材料で作られるのが好ましい。これらス
ペーサワッシャは、金属層とほぼ同じ厚みを有し、そし
て金属層の穴又はU字型欠切部と直径が一致される。こ
のように、複数の絶縁層16、17及び金属層13、1
4、15を互いに交互に整列して積層することができ
る。
8、19の領域に直接配置される。これら絶縁層は、直
径が一致する穴又はU字型欠切部をもつ点に設けられ、
その結果、これら絶縁層は、その縁が整列ピン18、1
9上でスリップし、整列ピン18、19によって位置保
持される。金属層13、14及び15は、高電圧(>1
000V)からの絶縁を確保するために、全ての点にお
いて絶縁層16、17の縁から約1mmだけセットバッ
ク(後退)されねばならないので、これら金属層は、
(比較的細い)整列ピン18、19によって直接ガイド
することができない。それ故、金属層13、14、15
を整列するために、その縁には、整列ピン18、19の
領域において直径が2mmの穴又はU字型欠切部が設け
られる。金属層は、次いで、整列ピン18、19上で押
されるスペーサワッシャ20の形態の付加的な手段によ
り整列される。これらスペーサワッシャは、整列ピン1
8、19と同じ材料で作られるのが好ましい。これらス
ペーサワッシャは、金属層とほぼ同じ厚みを有し、そし
て金属層の穴又はU字型欠切部と直径が一致される。こ
のように、複数の絶縁層16、17及び金属層13、1
4、15を互いに交互に整列して積層することができ
る。
【0015】接着接合部が硬化した後に、整列ピン1
8、19がベースプレート11から引き抜かれる。その
結果、スペースワッシャ20も自由になり、取り除くこ
とができる。整列ピン18、19及びスペースワッシャ
20を除去することにより、整列領域は、モジュールを
シールするために空いた状態となる。これは、縁領域の
絶縁を確保する。
8、19がベースプレート11から引き抜かれる。その
結果、スペースワッシャ20も自由になり、取り除くこ
とができる。整列ピン18、19及びスペースワッシャ
20を除去することにより、整列領域は、モジュールを
シールするために空いた状態となる。これは、縁領域の
絶縁を確保する。
【0016】図2は、永久的に一体化された補助的な整
列手段を有するモジュールの形態の更に別の実施形態を
示す。4500Vの電圧に設計された電力用半導体モジ
ュール21の内部は、モジュールの下半分、即ち一体的
に形成された固定ストリップ32をもつ下部22が、層
を互いに取り付けるためのキャリアとして同時に働くよ
うに構成される。下部22は、その横側面において、垂
直側壁34、35を有し、その内側に垂直整列ウェブ2
7、28が一体的に形成される。この整列ウェブ27、
28は、組み込まれた(底部に)冷却素子23(その冷
却素子接続部24と共に)及び絶縁層(図2には示さ
ず)の対応するくぼみに合致する。冷却素子23、絶縁
層、及び補助的な接続部の配線のための上部のプリント
回路板(図示せず)は、整列ウェブ27、28により直
接整列される。
列手段を有するモジュールの形態の更に別の実施形態を
示す。4500Vの電圧に設計された電力用半導体モジ
ュール21の内部は、モジュールの下半分、即ち一体的
に形成された固定ストリップ32をもつ下部22が、層
を互いに取り付けるためのキャリアとして同時に働くよ
うに構成される。下部22は、その横側面において、垂
直側壁34、35を有し、その内側に垂直整列ウェブ2
7、28が一体的に形成される。この整列ウェブ27、
28は、組み込まれた(底部に)冷却素子23(その冷
却素子接続部24と共に)及び絶縁層(図2には示さ
ず)の対応するくぼみに合致する。冷却素子23、絶縁
層、及び補助的な接続部の配線のための上部のプリント
回路板(図示せず)は、整列ウェブ27、28により直
接整列される。
【0017】金属層(サブモジュールのためのくぼみ3
3をもつ1つの金属層31が図2に示されている)は、
ここでも、絶縁層の縁からある間隔をもって組み込まれ
る。しかし、その整列を確保するために、絶縁材料で形
成されたプレートの形態の平らなスペーサ25、26
(各金属層ごとに2つ)が、付加的な手段として設けら
れ、これらスペーサは、絶縁層と同様に、それらの外縁
に、側壁34、35の整列ウェブ27、28に合致する
くぼみを有する。スペーサ25、26は、それらの内縁
では、更に別の整列マークにより金属層31をガイドす
る。それ故、図2に示すように、金属層31の側縁の対
応するくぼみに係合する整列舌状部29、30は、例え
ば、スペーサ25、26の内縁に一体的に形成すること
ができる。しかしながら、逆に、整列舌状部を金属層の
縁に配置させそしてそれに関連したくぼみをスペーサ2
5、26の内縁に配置させることもできる。
3をもつ1つの金属層31が図2に示されている)は、
ここでも、絶縁層の縁からある間隔をもって組み込まれ
る。しかし、その整列を確保するために、絶縁材料で形
成されたプレートの形態の平らなスペーサ25、26
(各金属層ごとに2つ)が、付加的な手段として設けら
れ、これらスペーサは、絶縁層と同様に、それらの外縁
に、側壁34、35の整列ウェブ27、28に合致する
くぼみを有する。スペーサ25、26は、それらの内縁
では、更に別の整列マークにより金属層31をガイドす
る。それ故、図2に示すように、金属層31の側縁の対
応するくぼみに係合する整列舌状部29、30は、例え
ば、スペーサ25、26の内縁に一体的に形成すること
ができる。しかしながら、逆に、整列舌状部を金属層の
縁に配置させそしてそれに関連したくぼみをスペーサ2
5、26の内縁に配置させることもできる。
【0018】スペーサ25、26は、それに関連する金
属層とほぼ同じ厚みを有し、それらと共に同じ平面に配
置される。それらは、整列ウェブ27、28と同様に、
モジュールに組み込まれ、そして金属層から金属層へ異
なる電位において沿面経路が生じないように他の部分に
接着接合される。それ故、この場合にも、形成されるべ
き積層体の個々の層が硬化点に対して整列及び固定され
た状態に保たれるよう確保される。
属層とほぼ同じ厚みを有し、それらと共に同じ平面に配
置される。それらは、整列ウェブ27、28と同様に、
モジュールに組み込まれ、そして金属層から金属層へ異
なる電位において沿面経路が生じないように他の部分に
接着接合される。それ故、この場合にも、形成されるべ
き積層体の個々の層が硬化点に対して整列及び固定され
た状態に保たれるよう確保される。
【図1】積層体を形成するための取り外し可能な補助的
な整列手段を有する電力用半導体モジュールの第1の好
ましい実施形態を示す半分開放した斜視図である。
な整列手段を有する電力用半導体モジュールの第1の好
ましい実施形態を示す半分開放した斜視図である。
【図2】永久的に一体化される補助的な整列手段を有す
る電力用半導体モジュールの第2の好ましい実施形態を
示す同等の図である。
る電力用半導体モジュールの第2の好ましい実施形態を
示す同等の図である。
10、21 電力用半導体モジュール 11 ベースプレート 12 サブモジュール 13、14、15 金属層 16、17 絶縁層 18、19 整列ピン 20 スペーサワッシャ 22 下部 23 冷却素子 24 冷却素子接続部 25、26 スペーサ 27、28 整列ウェブ 29、30 整列舌状部 31 金属層 32 固定ストリップ 33 くぼみ(サブモジュールのための) 34、35 側壁
Claims (9)
- 【請求項1】 複数のサブモジュール(12)が共通の支持
体(11,22) に配置され、互いに上下に交互に積層された
金属層(13-15;31)及び絶縁層(16,17) で作られた多層の
積層体により相互接続され、そして外部接続できるよう
にした電力用半導体モジュール(10,21) の製造方法にお
いて、上記積層体を形成するために、個々の金属層(13-
15;31)及び絶縁層(16,17) を互いに上下に積層し、補助
的な整列手段(18,19;27,28;29,30) により互いに且つ支
持体(11,22) に対して整列し、そして溶接、半田付け又
はボンディング等の技術により整列状態で相互接続する
ことを特徴とする方法。 - 【請求項2】 上記補助的な整列手段(18,19;27,28;29,
30) は、積層体の側縁に配置される請求項1に記載の方
法。 - 【請求項3】 上記金属層(13-15;31)は、上記補助的な
整列手段(18,19;27,28;29,30) が配置される側縁におい
て、隣接する絶縁層(16,17) に対しセットバックするよ
うに構成され、上記補助的な整列手段(18,19;27,28;29,
30) は、縁面の補助的な整列手段(18,19;27,28;29,30)
においてセットバックされた上記金属層(13-15;31)を整
列できるようにする付加的な手段(20;25,26)を備えてい
る請求項2に記載の方法。 - 【請求項4】 積層体の完成後に取り外すことのできる
補助的な整列手段(18,19) が使用される請求項4に記載
の方法。 - 【請求項5】 上記補助的な整列手段は、支持体(11)の
対応穴に挿入することのできる整列ピン(18,19) を含む
請求項4に記載の方法。 - 【請求項6】 上記付加的な手段は、上記整列ピン(18,
19) に取り付けることのできるスペーサワッシャ(20)を
含み、その厚みは、それに関連した金属層(13,14,15)の
厚みにほぼ等しい請求項5に記載の方法。 - 【請求項7】 支持体(22)に永久的に接続された整列手
段(27,28) が使用される請求項3に記載の方法。 - 【請求項8】 垂直側壁(34,35) が支持体(22)に取り付
けられ、そして上記整列手段は、上記側壁(34,35) の内
側に取り付けられる垂直整列ウェブ(27,28)を含む請求
項7に記載の方法。 - 【請求項9】 上記付加的な手段は、プレートの形態の
スペーサ(25,26) を含み、その厚みは、それに関連した
金属層(31)の厚みにほぼ等しい請求項8に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US08/558022 | 1995-11-13 | ||
US08/558,022 US5773320A (en) | 1995-11-13 | 1995-11-13 | Method for producing a power semiconductor module |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09172141A true JPH09172141A (ja) | 1997-06-30 |
Family
ID=24227851
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8298983A Pending JPH09172141A (ja) | 1995-11-13 | 1996-11-11 | 電力用半導体モジュールの製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5773320A (ja) |
EP (1) | EP0773587A3 (ja) |
JP (1) | JPH09172141A (ja) |
DE (1) | DE19612837A1 (ja) |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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FR2969161B1 (fr) | 2010-12-15 | 2014-06-06 | Arkema France | Nouvelle poudre de polymere multi-etape coeur-ecorce, son procede de fabrication et composition comprenant celle-ci |
FR2969158B1 (fr) | 2010-12-15 | 2013-01-18 | Arkema France | Procede pour modifiants chocs et composition thermoplastique modifiee choc ayant une resistance hydrolytique amelioree |
FR2969159B1 (fr) | 2010-12-15 | 2013-01-11 | Arkema France | Composition thermoplastique modifiee choc ayant une sensibilite hydrolytique pour obtenir une fluidite elevee tout en maintenant une resistance aux chocs elevee |
FR2969167B1 (fr) | 2010-12-15 | 2013-01-11 | Arkema France | Composition thermoplastique modifiee choc amelioree |
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EP4297085A1 (en) * | 2022-06-20 | 2023-12-27 | Hitachi Energy Ltd | Power module comprising positioning structures, alignment tool and method for positioning and aligning the power module |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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1995
- 1995-11-13 US US08/558,022 patent/US5773320A/en not_active Expired - Fee Related
-
1996
- 1996-03-30 DE DE19612837A patent/DE19612837A1/de not_active Withdrawn
- 1996-10-14 EP EP96810693A patent/EP0773587A3/de not_active Withdrawn
- 1996-11-11 JP JP8298983A patent/JPH09172141A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0773587A2 (de) | 1997-05-14 |
DE19612837A1 (de) | 1997-05-15 |
US5773320A (en) | 1998-06-30 |
EP0773587A3 (de) | 1999-05-06 |
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