JPH09169075A - 酸化硅素系薄膜積層ガスバリアフィルム - Google Patents
酸化硅素系薄膜積層ガスバリアフィルムInfo
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- JPH09169075A JPH09169075A JP8320192A JP32019296A JPH09169075A JP H09169075 A JPH09169075 A JP H09169075A JP 8320192 A JP8320192 A JP 8320192A JP 32019296 A JP32019296 A JP 32019296A JP H09169075 A JPH09169075 A JP H09169075A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 包装フィルムにおいて、耐レトルト性、耐屈
曲性、ガスバリア性に優れた酸化硅素系薄膜積層ガスバ
リアフィルムを提供することにある。 【解決手段】 プラスチックフィルムの少なくとも片面
に、電子ビーム蒸着法により酸化硅素系薄膜が形成され
てなるガスバリアフィルムにおいて、該薄膜の比重が
１．８０〜２．２０であることを特徴とする酸化硅素系
薄膜積層ガスバリアフィルムである。このような構成の
フィルムは、ガスバリア性に優れ、また耐レトルト性、
耐ゲルボ性（耐屈曲性）が極めて良好であり、包装材料
またはガス遮断材料として特に有用である。
曲性、ガスバリア性に優れた酸化硅素系薄膜積層ガスバ
リアフィルムを提供することにある。 【解決手段】 プラスチックフィルムの少なくとも片面
に、電子ビーム蒸着法により酸化硅素系薄膜が形成され
てなるガスバリアフィルムにおいて、該薄膜の比重が
１．８０〜２．２０であることを特徴とする酸化硅素系
薄膜積層ガスバリアフィルムである。このような構成の
フィルムは、ガスバリア性に優れ、また耐レトルト性、
耐ゲルボ性（耐屈曲性）が極めて良好であり、包装材料
またはガス遮断材料として特に有用である。
Description
【０００１】
【発明が属する技術分野】本発明は、ガスバリア性、耐
レトルト性、耐ゲルボテスト性に優れ、食品、医薬品、
電子部品等の気密性を要求される包装材料またはガス遮
断材料として優れた特性を持つフィルムに関するもので
ある。
レトルト性、耐ゲルボテスト性に優れ、食品、医薬品、
電子部品等の気密性を要求される包装材料またはガス遮
断材料として優れた特性を持つフィルムに関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】ガスバリア性の優れたフィルムとして
は、プラスチックフィルム上にアルミニウムを積層した
フィルム、塩化ビニリデン系ポリマーやエチレンビニー
ルアルコール共重合体をコーティングしたフィルムが知
られている。また、無機薄膜を利用したフィルムとして
は、酸化硅素、酸化アルミニウム薄膜等を積層したフィ
ルムが知られている。
は、プラスチックフィルム上にアルミニウムを積層した
フィルム、塩化ビニリデン系ポリマーやエチレンビニー
ルアルコール共重合体をコーティングしたフィルムが知
られている。また、無機薄膜を利用したフィルムとして
は、酸化硅素、酸化アルミニウム薄膜等を積層したフィ
ルムが知られている。
【０００３】このような従来のガスバリア性フィルム
は、次のような課題を有していた。アルミニウム積層し
たフィルムは、経済性、ガスバリア性の優れたものでは
あるが、不透明なため包装時の内容物が見えず、また、
マイクロ波を透過しないため電子レンジでの使用ができ
ない。塩化ビニリデン系ポリマーやエチレンビニールア
ルコール共重合体をコーティングしたフィルムは、水蒸
気、酸素等のガスバリア性が十分でなく、特に高温処理
においてその低下が著しい。また、塩化ビニリデン系ポ
リマーについては、焼却時の塩素ガスの発生等があり、
地球環境への影響も懸念されている。
は、次のような課題を有していた。アルミニウム積層し
たフィルムは、経済性、ガスバリア性の優れたものでは
あるが、不透明なため包装時の内容物が見えず、また、
マイクロ波を透過しないため電子レンジでの使用ができ
ない。塩化ビニリデン系ポリマーやエチレンビニールア
ルコール共重合体をコーティングしたフィルムは、水蒸
気、酸素等のガスバリア性が十分でなく、特に高温処理
においてその低下が著しい。また、塩化ビニリデン系ポ
リマーについては、焼却時の塩素ガスの発生等があり、
地球環境への影響も懸念されている。
【０００４】一方、やや褐色を程しているものの、内容
物が見え、電子レンジの使用が可能なガスバリアフィル
ムとして、合成樹脂体表面にＳｉx Ｏy （例えばＳｉＯ
2 ）を蒸着したガスバリアフィルム（特公昭５１−４８
５１１号）が提案され、注目されている。しかしなが
ら、この酸化硅素系ガスバリアフィルムについても、そ
のガスバリア特性、耐屈曲性はまだまだ不十分なもので
ある。すなわち、耐レトルト性を有するには、ある程度
以上（例えば２０００Å）の薄膜の厚みが要求されるの
に対し、耐屈曲性を向上させるにはできるだけ薄い方が
よいという問題を有しており、現在レトルト用として使
用されているものはその取扱いに注意を要するものであ
る。
物が見え、電子レンジの使用が可能なガスバリアフィル
ムとして、合成樹脂体表面にＳｉx Ｏy （例えばＳｉＯ
2 ）を蒸着したガスバリアフィルム（特公昭５１−４８
５１１号）が提案され、注目されている。しかしなが
ら、この酸化硅素系ガスバリアフィルムについても、そ
のガスバリア特性、耐屈曲性はまだまだ不十分なもので
ある。すなわち、耐レトルト性を有するには、ある程度
以上（例えば２０００Å）の薄膜の厚みが要求されるの
に対し、耐屈曲性を向上させるにはできるだけ薄い方が
よいという問題を有しており、現在レトルト用として使
用されているものはその取扱いに注意を要するものであ
る。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の欠点
を解決しようとするものであり、その目的は、ガスバリ
ア性、耐レトルト性に優れると共に耐屈曲性（特に耐ゲ
ルボ性）に優れた酸化硅素系ガスバリアフィルムを提供
することにある。
を解決しようとするものであり、その目的は、ガスバリ
ア性、耐レトルト性に優れると共に耐屈曲性（特に耐ゲ
ルボ性）に優れた酸化硅素系ガスバリアフィルムを提供
することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】即ち、本発明は (1)プラ
スチックフィルムの少なくとも片面に、電子ビーム蒸着
法により酸化硅素系薄膜が形成されてなるガスバリアフ
ィルムにおいて、該薄膜の比重が１．８０〜２．２０で
あることを特徴とする酸化硅素系薄膜積層ガスバリアフ
ィルムである。好適には、 (2)上記 (1)の酸化硅素系薄
膜積層ガスバリアフィルムの少なくとも片面に少なくと
も一層以上のプラスチックフィルムを積層することを特
徴とする酸化硅素系薄膜積層ガスバリアフィルムであ
る。
スチックフィルムの少なくとも片面に、電子ビーム蒸着
法により酸化硅素系薄膜が形成されてなるガスバリアフ
ィルムにおいて、該薄膜の比重が１．８０〜２．２０で
あることを特徴とする酸化硅素系薄膜積層ガスバリアフ
ィルムである。好適には、 (2)上記 (1)の酸化硅素系薄
膜積層ガスバリアフィルムの少なくとも片面に少なくと
も一層以上のプラスチックフィルムを積層することを特
徴とする酸化硅素系薄膜積層ガスバリアフィルムであ
る。
【０００７】
【発明の実施の形態】本発明で使用されるプラスチック
フィルムとは、有機高分子を溶融押出しをして、必要に
応じ、長手方向および／または幅方向に延伸、冷却、熱
固定を施したフィルムであり、有機高分子としては、ポ
リエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフター
ト、ポリエチレン−２、６−ナフタレート、ナイロン
６、ナイロン４、ナイロン６６、ナイロン１２、ポリ塩
化ビニール、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニールアルコ
ール、全芳香族ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリイ
ミド、ポリエーテルイミド、ポリスルフォン、ポリッフ
ェニレンスルフィド、ポリフェニレンオキサイド等が挙
げられる。またこれらの有機高分子（有機重合体）は他
の有機重合体を少量共重合をしたり、ブレンドしたりし
てもよい。
フィルムとは、有機高分子を溶融押出しをして、必要に
応じ、長手方向および／または幅方向に延伸、冷却、熱
固定を施したフィルムであり、有機高分子としては、ポ
リエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフター
ト、ポリエチレン−２、６−ナフタレート、ナイロン
６、ナイロン４、ナイロン６６、ナイロン１２、ポリ塩
化ビニール、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニールアルコ
ール、全芳香族ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリイ
ミド、ポリエーテルイミド、ポリスルフォン、ポリッフ
ェニレンスルフィド、ポリフェニレンオキサイド等が挙
げられる。またこれらの有機高分子（有機重合体）は他
の有機重合体を少量共重合をしたり、ブレンドしたりし
てもよい。
【０００８】さらにこの有機高分子には、公知の添加
剤、例えば、紫外線吸収剤、帯電防止剤、可塑剤、滑
剤、着色剤等が添加されていてもよい。またプラスチッ
クフィルムの透明度は特に限定するものではないが、透
明ガスバリアフィルムとして使用する場合には、５０％
以上の透過率を有するのが好ましい。
剤、例えば、紫外線吸収剤、帯電防止剤、可塑剤、滑
剤、着色剤等が添加されていてもよい。またプラスチッ
クフィルムの透明度は特に限定するものではないが、透
明ガスバリアフィルムとして使用する場合には、５０％
以上の透過率を有するのが好ましい。
【０００９】上記のプラスチックフィルムは、本発明の
目的を損なわない限りにおいて、薄膜層を積層するに先
行して、該フィルムをコロナ放電処理、グロー放電処
理、その他の表面粗面化処理を施してもよく、また、公
知のアンカーコート処理、印刷、装飾が施されていても
よい。
目的を損なわない限りにおいて、薄膜層を積層するに先
行して、該フィルムをコロナ放電処理、グロー放電処
理、その他の表面粗面化処理を施してもよく、また、公
知のアンカーコート処理、印刷、装飾が施されていても
よい。
【００１０】上記のプラスチックフィルムの厚さは、１
〜５００μｍの範囲、特に５〜３００μｍの範囲が好ま
しい。
〜５００μｍの範囲、特に５〜３００μｍの範囲が好ま
しい。
【００１１】本発明における酸化硅素系薄膜とは、Ｓ
ｉ、ＳｉＯ、ＳｉＯ2 等の硅素または硅素酸化物の中か
ら１種または２種以上を蒸着材料として蒸着させた薄膜
であり、この薄膜の比重はこれらの蒸着材料の種類によ
り変わる。２種以上を使用する場合には上記の蒸着材料
の混合比により変わり、または混合せずに各々の単独の
蒸着材料の加熱比によっても変わる。この薄膜は、特性
が損なわれない範囲で１０％以下の他成分を含んでもよ
い。該薄膜の厚さとしては、特に限定されないが、ガス
バリア性及び可尭性の点から５０〜８０００Åが好まし
い。
ｉ、ＳｉＯ、ＳｉＯ2 等の硅素または硅素酸化物の中か
ら１種または２種以上を蒸着材料として蒸着させた薄膜
であり、この薄膜の比重はこれらの蒸着材料の種類によ
り変わる。２種以上を使用する場合には上記の蒸着材料
の混合比により変わり、または混合せずに各々の単独の
蒸着材料の加熱比によっても変わる。この薄膜は、特性
が損なわれない範囲で１０％以下の他成分を含んでもよ
い。該薄膜の厚さとしては、特に限定されないが、ガス
バリア性及び可尭性の点から５０〜８０００Åが好まし
い。
【００１２】かかる酸化硅素系薄膜の作成には、電子ビ
ーム法により加熱する真空蒸着法、即ち、電子ビーム蒸
着法が採用される。この蒸着方法の場合、１×１０-5〜
８×１０-5Ｔｏｒｒの真空度で行われ、蒸着材料として
ＳｉＯ単独や、あるいはＳｉ、ＳｉＯ、ＳｉＯ2 等の２
種以上を併用して使用される。併用の場合、上記の蒸着
材料の混合比、または混合せずに各々の単独の蒸着材料
の加熱比によって、得られる酸化硅素膜の比重を変える
ことができる。また、反応性ガスとして酸素、窒素、水
蒸気等を導入したり、オゾン添加、イオンアシスト等の
手段を用いた反応性蒸着を採用してもよい。さらに、プ
ラスチックフィルムにバイアス等を加えたり、プラスチ
ックフィルムの温度を上昇あるいは冷却する等、本発明
の目的を損なわない限りにおいて蒸着条件を変更しても
よい。酸化硅素系薄膜の形成において、真空度、蒸着材
料（２種以上併用の場合には、蒸着材料の混合比、また
は混合せずに各々の単独の蒸着材料の加熱比）、フィル
ムの走行速度、ガスの導入、プラスチックフィルムの温
度等の蒸着条件は、形成される酸化硅素系薄膜の比重に
大きく影響を及ぼすものであるので、特定の比重を有す
る薄膜を得るためには、これらの蒸着条件を各々の範囲
内で適宜選択すればよい。
ーム法により加熱する真空蒸着法、即ち、電子ビーム蒸
着法が採用される。この蒸着方法の場合、１×１０-5〜
８×１０-5Ｔｏｒｒの真空度で行われ、蒸着材料として
ＳｉＯ単独や、あるいはＳｉ、ＳｉＯ、ＳｉＯ2 等の２
種以上を併用して使用される。併用の場合、上記の蒸着
材料の混合比、または混合せずに各々の単独の蒸着材料
の加熱比によって、得られる酸化硅素膜の比重を変える
ことができる。また、反応性ガスとして酸素、窒素、水
蒸気等を導入したり、オゾン添加、イオンアシスト等の
手段を用いた反応性蒸着を採用してもよい。さらに、プ
ラスチックフィルムにバイアス等を加えたり、プラスチ
ックフィルムの温度を上昇あるいは冷却する等、本発明
の目的を損なわない限りにおいて蒸着条件を変更しても
よい。酸化硅素系薄膜の形成において、真空度、蒸着材
料（２種以上併用の場合には、蒸着材料の混合比、また
は混合せずに各々の単独の蒸着材料の加熱比）、フィル
ムの走行速度、ガスの導入、プラスチックフィルムの温
度等の蒸着条件は、形成される酸化硅素系薄膜の比重に
大きく影響を及ぼすものであるので、特定の比重を有す
る薄膜を得るためには、これらの蒸着条件を各々の範囲
内で適宜選択すればよい。
【００１３】本発明のガスバリアフィルムはそのままで
使用されてもよいが、他の有機高分子のフィルムまたは
薄層を、当該ガスバリアフィルムの少なくとも片面に、
好ましくは酸化硅素薄膜上にラミネートまたはコーティ
ングして使用してもよい。ラミネートの場合には、必要
に応じて接着剤を介してもよい。実用に供されるフィル
ム構成としては、例えば、未延伸ポリプロピレンフィル
ム／接着層／酸化硅素系薄膜層／ポリエチレンテレフタ
レートフィルム／接着層／印刷層／ポリエチレンテレフ
タレートフィルムという積層構造のガスバリアフィルム
が挙げられる。
使用されてもよいが、他の有機高分子のフィルムまたは
薄層を、当該ガスバリアフィルムの少なくとも片面に、
好ましくは酸化硅素薄膜上にラミネートまたはコーティ
ングして使用してもよい。ラミネートの場合には、必要
に応じて接着剤を介してもよい。実用に供されるフィル
ム構成としては、例えば、未延伸ポリプロピレンフィル
ム／接着層／酸化硅素系薄膜層／ポリエチレンテレフタ
レートフィルム／接着層／印刷層／ポリエチレンテレフ
タレートフィルムという積層構造のガスバリアフィルム
が挙げられる。
【００１４】本願発明の酸化硅素系薄膜積層ガスバリア
フィルムは、当該薄膜の比重は１．８０〜２．２０、好
ましくは１．９０〜２．１５である。本願発明におい
て、比重とは、ある温度で、ある体積を占める物質の質
量と、それと同体積の標準物質の質量（４℃における
水）との比をいう。比重の測定は、通常物体の質量と体
積を測り、同体積の４℃の水の質量との比を求めればよ
いが、本発明の薄膜の測定では体積の測定が困難であ
る。そこで、まず基板から薄膜をはがす、あるいは基板
のみを溶解することにより、薄膜のみからなる単独膜の
状態としたのちに、ＪＩＳ Ｋ７１１２にあるような比
重測定法を用いることが望ましい。例えば、浮沈法で
は、試料を比重既知の溶液の中に浸漬させ、その浮沈状
態から薄膜の比重を測定することができる。この溶液と
しては、四塩化炭素とブロモホルム、または、ヨウ化メ
チレンなどの混合液を用いることができる。また、連続
的な密度勾配をもつ溶液中に単独膜を浸積させる密度勾
配管法によっても比重の値を測定できる。
フィルムは、当該薄膜の比重は１．８０〜２．２０、好
ましくは１．９０〜２．１５である。本願発明におい
て、比重とは、ある温度で、ある体積を占める物質の質
量と、それと同体積の標準物質の質量（４℃における
水）との比をいう。比重の測定は、通常物体の質量と体
積を測り、同体積の４℃の水の質量との比を求めればよ
いが、本発明の薄膜の測定では体積の測定が困難であ
る。そこで、まず基板から薄膜をはがす、あるいは基板
のみを溶解することにより、薄膜のみからなる単独膜の
状態としたのちに、ＪＩＳ Ｋ７１１２にあるような比
重測定法を用いることが望ましい。例えば、浮沈法で
は、試料を比重既知の溶液の中に浸漬させ、その浮沈状
態から薄膜の比重を測定することができる。この溶液と
しては、四塩化炭素とブロモホルム、または、ヨウ化メ
チレンなどの混合液を用いることができる。また、連続
的な密度勾配をもつ溶液中に単独膜を浸積させる密度勾
配管法によっても比重の値を測定できる。
【００１５】酸化硅素系薄膜の比重の値が１．８０より
も小さい場合、当該薄膜の構造が粗雑となり充分なガス
バリア性が得られない。逆に、当該薄膜の比重が２．２
０よりも大きい場合、成膜後の初期ガスバリア特性は優
れているものの、膜が硬くなりすぎ、機械特性、特に耐
ゲルボテスト性が劣り、ゲルボ処理後のガスバリア性の
低下が大きく、ガスバリアフィルムとしての使用に適し
ていない。
も小さい場合、当該薄膜の構造が粗雑となり充分なガス
バリア性が得られない。逆に、当該薄膜の比重が２．２
０よりも大きい場合、成膜後の初期ガスバリア特性は優
れているものの、膜が硬くなりすぎ、機械特性、特に耐
ゲルボテスト性が劣り、ゲルボ処理後のガスバリア性の
低下が大きく、ガスバリアフィルムとしての使用に適し
ていない。
【００１６】次に実施例を挙げて本発明を説明する。 実施例１ 蒸着源として、３〜５ｍｍ程度の大きさの粒子状のＳｉ
（純度９９．９９％）とＳｉＯ2 （純度９９．９％）を
用い、電子ビ−ム蒸着法で、１２μｍ厚のＰＥＴフィル
ム（東洋紡績（株）：Ｅ５００７）の片面に酸化硅素系
薄膜の形成を行った。これらの蒸着材料は混合せずに２
つに区切っていれた。加熱源として、電子銃（以下ＥＢ
銃）を用い、ＳｉとＳｉＯ2 のそれぞれを時分割で加熱
した。その時の電子ビーム銃（ＥＢ銃）のエミッション
電流を０．８〜１．８Ａとし、ＳｉとＳｉＯ2 への加熱
比を１０：１０〜６０：１０とし、フィルム送り速度を
３０〜１２０ｍ／ｍｉｎとし、蒸気圧は酸素ガスの供給
量を変えて１×１０-5〜８×１０-3Ｔｏｒｒとして、比
重が１．８０〜２．２０の範囲内となるようにこれらの
条件を適宜選択した。このようにして、表１に示すよう
な、種々の比重の、膜厚５００〜５０００Åの酸化硅素
膜がＰＥＴフィルム上に蒸着されたガスバリアフィルム
を得た。なお、酸化硅素膜の比重は、上述したような方
法によりＰＥＴフィルムを溶解した後、浮沈法により測
定した。
（純度９９．９９％）とＳｉＯ2 （純度９９．９％）を
用い、電子ビ−ム蒸着法で、１２μｍ厚のＰＥＴフィル
ム（東洋紡績（株）：Ｅ５００７）の片面に酸化硅素系
薄膜の形成を行った。これらの蒸着材料は混合せずに２
つに区切っていれた。加熱源として、電子銃（以下ＥＢ
銃）を用い、ＳｉとＳｉＯ2 のそれぞれを時分割で加熱
した。その時の電子ビーム銃（ＥＢ銃）のエミッション
電流を０．８〜１．８Ａとし、ＳｉとＳｉＯ2 への加熱
比を１０：１０〜６０：１０とし、フィルム送り速度を
３０〜１２０ｍ／ｍｉｎとし、蒸気圧は酸素ガスの供給
量を変えて１×１０-5〜８×１０-3Ｔｏｒｒとして、比
重が１．８０〜２．２０の範囲内となるようにこれらの
条件を適宜選択した。このようにして、表１に示すよう
な、種々の比重の、膜厚５００〜５０００Åの酸化硅素
膜がＰＥＴフィルム上に蒸着されたガスバリアフィルム
を得た。なお、酸化硅素膜の比重は、上述したような方
法によりＰＥＴフィルムを溶解した後、浮沈法により測
定した。
【００１７】次いで、得られたガスバリアフィルムの酸
化硅素薄膜上に厚さ４０μｍの未延伸ポリプロピレンフ
ィルム（ＯＰＰフィルム）を二液硬化型ポリウレタン系
接着剤（厚さ２μｍ）を用いて、ドライラミネートし、
本発明応用の包装用プラスチックフィルムを得た。この
包装用フィルムに対して、酸素透過率を測定し、またレ
トルト処理（１２０℃×３０分）またはゲルボテストを
施した後の酸素透過率も測定した。その結果を表１に示
す。なお、酸素透過率の測定、およびゲルボテストの実
施は以下の示す方法により行われた。
化硅素薄膜上に厚さ４０μｍの未延伸ポリプロピレンフ
ィルム（ＯＰＰフィルム）を二液硬化型ポリウレタン系
接着剤（厚さ２μｍ）を用いて、ドライラミネートし、
本発明応用の包装用プラスチックフィルムを得た。この
包装用フィルムに対して、酸素透過率を測定し、またレ
トルト処理（１２０℃×３０分）またはゲルボテストを
施した後の酸素透過率も測定した。その結果を表１に示
す。なお、酸素透過率の測定、およびゲルボテストの実
施は以下の示す方法により行われた。
【００１８】＜酸素透過率の測定方法＞作成したガスバ
リアフィルムの酸素透過率を酸素透過率測定装置（モダ
ンコントロールズ社製 ＯＸ−ＴＲＡＮ１００）を用い
て測定した。
リアフィルムの酸素透過率を酸素透過率測定装置（モダ
ンコントロールズ社製 ＯＸ−ＴＲＡＮ１００）を用い
て測定した。
【００１９】＜耐屈曲疲労性（以下耐ゲルボ性）のテス
ト方法＞耐屈曲疲労性は、いわゆるゲルボフレックステ
スター（理学工業（株) 社製）を用いて評価した。条件
としては（ＭＩＬ−Ｂ１３１Ｈ）で１１２ｉｎｃｈ×８
ｉｎｃｈの試料片を直径３（１／２）ｉｎｃｈの円筒状
とし、両端を保持し、初期把持間隔７ｉｎｃｈとし、ス
トロークの３（１／２）ｉｎｃｈで、４００度のひねり
を加えるものでこの動作の繰り返し往復運動を４０回／
ｍｉｎの速さで、２０℃、相対湿度６５％の条件下で行
った。
ト方法＞耐屈曲疲労性は、いわゆるゲルボフレックステ
スター（理学工業（株) 社製）を用いて評価した。条件
としては（ＭＩＬ−Ｂ１３１Ｈ）で１１２ｉｎｃｈ×８
ｉｎｃｈの試料片を直径３（１／２）ｉｎｃｈの円筒状
とし、両端を保持し、初期把持間隔７ｉｎｃｈとし、ス
トロークの３（１／２）ｉｎｃｈで、４００度のひねり
を加えるものでこの動作の繰り返し往復運動を４０回／
ｍｉｎの速さで、２０℃、相対湿度６５％の条件下で行
った。
【００２０】
【表１】
【００２１】表１より、実施例１で得られたガスバリア
フィルムにおいては、酸素透過率は１．０cc/m2 24h at
m前後、レトルト処理後の酸素透過率は１．２〜３．０c
c/m224h atmと非常に優秀であった。また１００回ゲル
ボ試験後の酸素透過率も１．５〜３．０cc/m2 24h atm
と非常に優秀であり、総合特性の優れたものであった。
フィルムにおいては、酸素透過率は１．０cc/m2 24h at
m前後、レトルト処理後の酸素透過率は１．２〜３．０c
c/m224h atmと非常に優秀であった。また１００回ゲル
ボ試験後の酸素透過率も１．５〜３．０cc/m2 24h atm
と非常に優秀であり、総合特性の優れたものであった。
【００２２】しかし、比重が本願範囲外のガスバリアフ
ィルムにおいては、酸素透過率は０．６〜２．５cc/m2
24h atmであったが、レトルト処理後の酸素透過率、ゲ
ルボ試験後の酸素透過率のいずれかが非常に劣ったもの
であり、ガスバリアフィルムとしては不適当なものであ
った。
ィルムにおいては、酸素透過率は０．６〜２．５cc/m2
24h atmであったが、レトルト処理後の酸素透過率、ゲ
ルボ試験後の酸素透過率のいずれかが非常に劣ったもの
であり、ガスバリアフィルムとしては不適当なものであ
った。
【００２３】実施例２ 蒸着源として、３〜５ｍｍ程度の大きさの粒子状のＳｉ
Ｏ（純度９９．９％）を用い、電子ビーム蒸着法で、ポ
リイミドフィルムの片面に酸化硅素系薄膜の形成を行っ
た。この時、フィルム送り速度を３０〜１２０ｍ／ｍｉ
ｎとし、蒸気圧は酸素ガスの供給量を変えて１×１０-5
〜８×１０-3Ｔｏｒｒとし、またポリイミドフィルムの
温度を室温〜１５０℃として、比重が１．８０〜２．２
０の範囲内となるようにこれらの条件を適宜選択して１
０００〜２０００Å厚の酸化硅素膜を形成し、ガスバリ
アフィルムを得た。得られたガスバリアフィルムの酸化
硅素膜の比重を表２に示す。また、実施例１と同様にし
て、このガスバリアフィルムにＯＰＰフィルムをドライ
ラミネートして包装用プラスチックフィルムを得、酸素
透過率、レトルト処理またはゲルボテスト後の酸素透過
率を測定した。その結果を表２に示す。
Ｏ（純度９９．９％）を用い、電子ビーム蒸着法で、ポ
リイミドフィルムの片面に酸化硅素系薄膜の形成を行っ
た。この時、フィルム送り速度を３０〜１２０ｍ／ｍｉ
ｎとし、蒸気圧は酸素ガスの供給量を変えて１×１０-5
〜８×１０-3Ｔｏｒｒとし、またポリイミドフィルムの
温度を室温〜１５０℃として、比重が１．８０〜２．２
０の範囲内となるようにこれらの条件を適宜選択して１
０００〜２０００Å厚の酸化硅素膜を形成し、ガスバリ
アフィルムを得た。得られたガスバリアフィルムの酸化
硅素膜の比重を表２に示す。また、実施例１と同様にし
て、このガスバリアフィルムにＯＰＰフィルムをドライ
ラミネートして包装用プラスチックフィルムを得、酸素
透過率、レトルト処理またはゲルボテスト後の酸素透過
率を測定した。その結果を表２に示す。
【００２４】
【表２】
【００２５】表２より、酸化硅素薄膜の比重が１．８０
〜２．２０の範囲内にあるガスバリアフィルムにおいて
は、酸素透過性、耐レトルト性および耐ゲルボ性に優れ
たものであったが、酸化硅素薄膜の比重が２．２０を超
えるガスバリアフィルムにおいては、酸素透過性および
耐レトルト性に優れているものの、耐ゲルボ性は非常に
劣ったものであり、ガスバリアフィルムとしては不適当
なものであった。
〜２．２０の範囲内にあるガスバリアフィルムにおいて
は、酸素透過性、耐レトルト性および耐ゲルボ性に優れ
たものであったが、酸化硅素薄膜の比重が２．２０を超
えるガスバリアフィルムにおいては、酸素透過性および
耐レトルト性に優れているものの、耐ゲルボ性は非常に
劣ったものであり、ガスバリアフィルムとしては不適当
なものであった。
【００２６】
【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明に
よれば、プラスチックフィルム上に形成される酸化硅素
系薄膜の比重を１．８０〜２．２０とすることによっ
て、ガスバリア性に優れ、また耐レトルト性、耐ゲルボ
性（耐屈曲性）が良好となり、包装用、工業用などの実
用上極めて有効な酸化硅素系ガスバリアフィルムを提供
できる。
よれば、プラスチックフィルム上に形成される酸化硅素
系薄膜の比重を１．８０〜２．２０とすることによっ
て、ガスバリア性に優れ、また耐レトルト性、耐ゲルボ
性（耐屈曲性）が良好となり、包装用、工業用などの実
用上極めて有効な酸化硅素系ガスバリアフィルムを提供
できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ２３Ｃ 14/20 Ｃ２３Ｃ 14/20 Ａ (72)発明者 宇野 利夫 滋賀県大津市堅田二丁目１番１号 東洋紡 績株式会社総合研究所内 (72)発明者 大谷 寿幸 滋賀県大津市堅田二丁目１番１号 東洋紡 績株式会社総合研究所内 (72)発明者 山田 陽三 滋賀県大津市堅田二丁目１番１号 東洋紡 績株式会社総合研究所内
Claims (2)
- 【請求項１】 プラスチックフィルムの少なくとも片面
に、電子ビーム蒸着法により酸化硅素系薄膜が形成され
てなるガスバリアフィルムにおいて、該薄膜の比重が
１．８０〜２．２０であることを特徴とする酸化硅素系
薄膜積層ガスバリアフィルム。 - 【請求項２】 請求項１記載の酸化硅素系薄膜積層ガス
バリアフィルムの少なくとも片面に少なくとも一層のプ
ラスチックフィルムを積層することを特徴とする酸化硅
素系薄膜積層ガスバリアフィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8320192A JPH09169075A (ja) | 1996-11-29 | 1996-11-29 | 酸化硅素系薄膜積層ガスバリアフィルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8320192A JPH09169075A (ja) | 1996-11-29 | 1996-11-29 | 酸化硅素系薄膜積層ガスバリアフィルム |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2457892A Division JPH0798872B2 (ja) | 1991-12-26 | 1992-01-13 | 酸化硅素系薄膜積層ガスバリアフィルム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09169075A true JPH09169075A (ja) | 1997-06-30 |
Family
ID=18118741
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8320192A Pending JPH09169075A (ja) | 1996-11-29 | 1996-11-29 | 酸化硅素系薄膜積層ガスバリアフィルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09169075A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6600008B1 (en) | 1998-07-22 | 2003-07-29 | Toyo Boseki Kabushiki Kaisha | Aliphatic polyester film and gas barrier film |
-
1996
- 1996-11-29 JP JP8320192A patent/JPH09169075A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6600008B1 (en) | 1998-07-22 | 2003-07-29 | Toyo Boseki Kabushiki Kaisha | Aliphatic polyester film and gas barrier film |
| US6649732B2 (en) | 1998-07-22 | 2003-11-18 | Toyo Boseki Kabushiki Kaisha | Aliphatic polyester film and gas barrier film |
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|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |