JPH0916779A - 微小形状検出装置 - Google Patents
微小形状検出装置Info
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- JPH0916779A JPH0916779A JP7163195A JP16319595A JPH0916779A JP H0916779 A JPH0916779 A JP H0916779A JP 7163195 A JP7163195 A JP 7163195A JP 16319595 A JP16319595 A JP 16319595A JP H0916779 A JPH0916779 A JP H0916779A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】短時間かつ正確に大きな対象物から微小形状を
検出する。 【構成】カメラは、エッジ部にノッチを有するウェハと
その背景を単一色の濃淡画像で表し、この濃淡画像を画
像メモリに格納する。次に、ウェハのエッジを検出し、
エッジから一定距離だけウェハの内側に入った位置にサ
−チラインを仮定する。サ−チライン上の各点の画素の
濃度値を求め、サ−チライン上の各点の位置と濃度値の
関係を示すグラフを作成する。所定の濃度値よりも高い
濃度値を有する領域をグラフから検出し、その領域が所
定の幅よりも広い幅を有する場合にその領域をノッチと
認識する。
検出する。 【構成】カメラは、エッジ部にノッチを有するウェハと
その背景を単一色の濃淡画像で表し、この濃淡画像を画
像メモリに格納する。次に、ウェハのエッジを検出し、
エッジから一定距離だけウェハの内側に入った位置にサ
−チラインを仮定する。サ−チライン上の各点の画素の
濃度値を求め、サ−チライン上の各点の位置と濃度値の
関係を示すグラフを作成する。所定の濃度値よりも高い
濃度値を有する領域をグラフから検出し、その領域が所
定の幅よりも広い幅を有する場合にその領域をノッチと
認識する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、画像処理技術に関す
る。
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、大きな形状を有する対象物の中か
ら特徴的な微小形状を検出する場合に、画像処理技術が
よく用いられる。図１０は、微小形状検出装置の全体図
を示すものである。
ら特徴的な微小形状を検出する場合に、画像処理技術が
よく用いられる。図１０は、微小形状検出装置の全体図
を示すものである。
【０００３】１１は、画像デ−タを記憶する画像メモリ
部である。１２は、画像メモリ部１１のデ−タについて
所定の処理を行う処理部である。１３は、画像メモリ部
１１及び処理部１２の動作を制御する制御部である。１
４は、画像デ−タを画像メモリ部１１に取り込むための
カメラである。
部である。１２は、画像メモリ部１１のデ−タについて
所定の処理を行う処理部である。１３は、画像メモリ部
１１及び処理部１２の動作を制御する制御部である。１
４は、画像デ−タを画像メモリ部１１に取り込むための
カメラである。
【０００４】カメラ１４は、ＣＣＤカメラ、ビデオカメ
ラ及びデジタルカメラのいずれであってもよい。上記構
成の微小形状検出装置において、大きな形状を有する対
象物の中から特徴的な微小形状を検出する場合について
説明する。
ラ及びデジタルカメラのいずれであってもよい。上記構
成の微小形状検出装置において、大きな形状を有する対
象物の中から特徴的な微小形状を検出する場合について
説明する。
【０００５】まず、カメラ１４により対象物の画像を取
り込み、この画像を画像メモリ部１１に記憶する。次
に、１つの対象物を複数の部分に分割し、各々の部分を
拡大した画像を作成し、この画像を画像メモリ部１１に
記憶する。
り込み、この画像を画像メモリ部１１に記憶する。次
に、１つの対象物を複数の部分に分割し、各々の部分を
拡大した画像を作成し、この画像を画像メモリ部１１に
記憶する。
【０００６】そして、各々の部分を詳細に検査すること
により、大きな形状を有する対象物の中から特徴的な微
小形状を検出する。上述の手法では、対象物の分割数を
増やすと、正確に微小形状を検出することができるよう
になるが、反面、微小形状を検出するための処理時間が
増大する欠点がある。
により、大きな形状を有する対象物の中から特徴的な微
小形状を検出する。上述の手法では、対象物の分割数を
増やすと、正確に微小形状を検出することができるよう
になるが、反面、微小形状を検出するための処理時間が
増大する欠点がある。
【０００７】また、微小形状検出装置の解像度にも限界
があり、カメラ１４により対象物の画像を取り込む段階
で微小形状とノイズとの区別がつかなくなってしまう場
合がある。例えば、図１１及び図１２のようなウェハ１
５のノッチ（エッジ部の欠け）１６を検出する場合、対
象物のウェハが８インチであり、５１２×５１２画素の
画面に４００×４００画素でウェハを表そうとすると、
ノッチの大きさは、１〜２画素となる。
があり、カメラ１４により対象物の画像を取り込む段階
で微小形状とノイズとの区別がつかなくなってしまう場
合がある。例えば、図１１及び図１２のようなウェハ１
５のノッチ（エッジ部の欠け）１６を検出する場合、対
象物のウェハが８インチであり、５１２×５１２画素の
画面に４００×４００画素でウェハを表そうとすると、
ノッチの大きさは、１〜２画素となる。
【０００８】そこで、ウェハのノッチを検出する場合に
おいては、以下のような手法も考えられている。まず、
ウェハのエッジに金具を接触させる。この後、ウェハを
回転させ、金具をウェハのエッジに沿って走査させる。
もし、ウェハにノッチが存在すると、金具は、ウェハの
ノッチに引っ掛かるため、その金具が引っ掛かった部分
を画像処理などの手法により詳細に検討し、ウェハのノ
ッチを検出する。
おいては、以下のような手法も考えられている。まず、
ウェハのエッジに金具を接触させる。この後、ウェハを
回転させ、金具をウェハのエッジに沿って走査させる。
もし、ウェハにノッチが存在すると、金具は、ウェハの
ノッチに引っ掛かるため、その金具が引っ掛かった部分
を画像処理などの手法により詳細に検討し、ウェハのノ
ッチを検出する。
【０００９】このような手法では、金具をウェハのエッ
ジに沿って走査させる新たな機構が必要になるため、装
置が高価になると共に微小形状を検出するための処理時
間も増大するという欠点がある。
ジに沿って走査させる新たな機構が必要になるため、装
置が高価になると共に微小形状を検出するための処理時
間も増大するという欠点がある。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】このように、従来は、
大きな形状を有する対象物の中から特徴的な微小形状を
検出する場合に、微小形状を検出するための処理時間が
多大になるという欠点がある。
大きな形状を有する対象物の中から特徴的な微小形状を
検出する場合に、微小形状を検出するための処理時間が
多大になるという欠点がある。
【００１１】本発明は、上記欠点を解決すべくなされた
もので、その目的は、大きな形状を有する対象物の中か
ら特徴的な微小形状を検出する場合に、正確に微小形状
を検出し得ると共に微小形状を検出するための処理時間
も少なくすることである。
もので、その目的は、大きな形状を有する対象物の中か
ら特徴的な微小形状を検出する場合に、正確に微小形状
を検出し得ると共に微小形状を検出するための処理時間
も少なくすることである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の微小形状検出装置は、エッジ部に微小形状
を有する対象物とその背景を単一色の濃淡画像で表す第
１手段と、前記対象物のエッジを検出し、前記エッジか
ら一定距離だけ前記対象物の内側に入った位置にサ−チ
ラインを仮定する第２手段と、前記サ−チライン上の各
点の画素の濃度値を求め、サ−チライン上の各点の位置
と濃度値の関係を示すグラフを作成する第３手段と、所
定の濃度値よりも高い濃度値を有する領域を前記グラフ
から検出し、その領域が所定の幅よりも広い幅を有する
場合にその領域を微小形状と認識する第４手段とを備え
る。
め、本発明の微小形状検出装置は、エッジ部に微小形状
を有する対象物とその背景を単一色の濃淡画像で表す第
１手段と、前記対象物のエッジを検出し、前記エッジか
ら一定距離だけ前記対象物の内側に入った位置にサ−チ
ラインを仮定する第２手段と、前記サ−チライン上の各
点の画素の濃度値を求め、サ−チライン上の各点の位置
と濃度値の関係を示すグラフを作成する第３手段と、所
定の濃度値よりも高い濃度値を有する領域を前記グラフ
から検出し、その領域が所定の幅よりも広い幅を有する
場合にその領域を微小形状と認識する第４手段とを備え
る。
【００１３】前記第１手段は、前記対象物の中央部が一
定の濃度を有し、前記背景が前記対象物の中央部の濃度
とは異なる一定の濃度を有する濃淡画像を作成する。前
記第２手段は、前記濃淡画像の濃度のプロジェクション
を作成し、前記プロジェクションの変化点を前記対象物
のエッジとする。また、前記第２手段は、前記サ−チラ
インが前記微小形状と交差するように、前記一定の距離
を決定する。
定の濃度を有し、前記背景が前記対象物の中央部の濃度
とは異なる一定の濃度を有する濃淡画像を作成する。前
記第２手段は、前記濃淡画像の濃度のプロジェクション
を作成し、前記プロジェクションの変化点を前記対象物
のエッジとする。また、前記第２手段は、前記サ−チラ
インが前記微小形状と交差するように、前記一定の距離
を決定する。
【００１４】前記第３手段は、補間手段を利用すること
により前記濃淡画像の画素の大きさ以下の間隔で前記サ
−チライン上の各点を設定する。前記第４手段は、前記
所定の濃度値を変化させることにより前記領域を前記グ
ラフから検出する。前記第４手段は、前記グラフから検
出される複数の領域のうち比較的に狭い幅を有する領域
の幅を前記所定の幅とする。
により前記濃淡画像の画素の大きさ以下の間隔で前記サ
−チライン上の各点を設定する。前記第４手段は、前記
所定の濃度値を変化させることにより前記領域を前記グ
ラフから検出する。前記第４手段は、前記グラフから検
出される複数の領域のうち比較的に狭い幅を有する領域
の幅を前記所定の幅とする。
【００１５】
【作用】上記構成の微小形状検出装置によれば、対象物
のエッジから一定距離だけ対象物の内側に入った位置に
サ−チラインを仮定し、サ−チライン上の各点の位置と
濃度値の関係を示すグラフを用いて、所定の濃度値より
も高い濃度値を有する領域を検出し、その領域が所定の
幅よりも広い幅を有する場合にその領域を微小形状と認
識している。
のエッジから一定距離だけ対象物の内側に入った位置に
サ−チラインを仮定し、サ−チライン上の各点の位置と
濃度値の関係を示すグラフを用いて、所定の濃度値より
も高い濃度値を有する領域を検出し、その領域が所定の
幅よりも広い幅を有する場合にその領域を微小形状と認
識している。
【００１６】このような処理を行うことにより、容易
に、対象物から微小形状を検出することができる。しか
も、画像を複数に分割することなく、１つの画像のみか
ら微小形状を検出できるため、微小形状の検出時間を短
くできる。
に、対象物から微小形状を検出することができる。しか
も、画像を複数に分割することなく、１つの画像のみか
ら微小形状を検出できるため、微小形状の検出時間を短
くできる。
【００１７】また、対象物のエッジ部での濃度の連続的
な変化を利用することにより、ノイズと微小形状との区
分けも確実に行うことができる。前記第１手段は、対象
物の中央部が一定の濃度を有し、背景が対象物の中央部
の濃度とは異なる一定の濃度を有する濃淡画像を作成す
る。即ち、対象物の濃度とその背景の濃度の差が大きけ
れば大きい程、微小形状の検出が確実かつ容易になる。
な変化を利用することにより、ノイズと微小形状との区
分けも確実に行うことができる。前記第１手段は、対象
物の中央部が一定の濃度を有し、背景が対象物の中央部
の濃度とは異なる一定の濃度を有する濃淡画像を作成す
る。即ち、対象物の濃度とその背景の濃度の差が大きけ
れば大きい程、微小形状の検出が確実かつ容易になる。
【００１８】前記第２手段は、濃淡画像の濃度のプロジ
ェクションを作成し、プロジェクションの変化点を対象
物のエッジとするので、対象物のエッジを容易に検出す
ることができる。
ェクションを作成し、プロジェクションの変化点を対象
物のエッジとするので、対象物のエッジを容易に検出す
ることができる。
【００１９】前記第２手段は、サ−チラインが微小形状
と交差するように、エッジからの一定の距離を決定する
ため、微小形状を確実に検出できる。前記第３手段は、
補間という技術を用いることにより濃淡画像の画素の大
きさ以下の間隔でサ−チライン上の各点を設定してい
る。このため、画素ごとにデ−タをサンプリングする場
合に生じるサンプリング誤差をなくすことができ、正確
に微小形状を検出できる。
と交差するように、エッジからの一定の距離を決定する
ため、微小形状を確実に検出できる。前記第３手段は、
補間という技術を用いることにより濃淡画像の画素の大
きさ以下の間隔でサ−チライン上の各点を設定してい
る。このため、画素ごとにデ−タをサンプリングする場
合に生じるサンプリング誤差をなくすことができ、正確
に微小形状を検出できる。
【００２０】前記第４手段は、所定の濃度値を変化させ
ることにより、微小形状が存在する領域をグラフから検
出している。従って、対象物と背景の濃淡画像を得ると
きの照明の明るさなどの条件によって検出結果が左右さ
れることがない。
ることにより、微小形状が存在する領域をグラフから検
出している。従って、対象物と背景の濃淡画像を得ると
きの照明の明るさなどの条件によって検出結果が左右さ
れることがない。
【００２１】前記第４手段は、グラフから検出される複
数の領域のうち比較的に狭い幅を有する領域の幅を所定
の幅としている。即ち、比較的に狭い幅を有する領域が
ノイズを表しているため、ノイズと微小形状の区分けを
確実に行える。
数の領域のうち比較的に狭い幅を有する領域の幅を所定
の幅としている。即ち、比較的に狭い幅を有する領域が
ノイズを表しているため、ノイズと微小形状の区分けを
確実に行える。
【００２２】
【実施例】以下、図面を参照しながら、本発明の微小形
状検出装置について詳細に説明する。図１は、微小形状
検出装置の全体図を示すものである。
状検出装置について詳細に説明する。図１は、微小形状
検出装置の全体図を示すものである。
【００２３】１１は、画像デ−タを記憶する画像メモリ
部である。１２は、画像メモリ部１１のデ−タについて
所定の処理を行う処理部である。１３は、画像メモリ部
１１及び処理部１２の動作を制御する制御部である。１
４は、画像デ−タを画像メモリ部１１に取り込むための
カメラである。
部である。１２は、画像メモリ部１１のデ−タについて
所定の処理を行う処理部である。１３は、画像メモリ部
１１及び処理部１２の動作を制御する制御部である。１
４は、画像デ−タを画像メモリ部１１に取り込むための
カメラである。
【００２４】カメラ１４は、ＣＣＤカメラ、ビデオカメ
ラ及びデジタルカメラのいずれであってもよい。上記構
成の微小形状検出装置において、図２を参照しながら、
ウェハ（対象物）のノッチ（微小形状）を検出する場合
について説明する。
ラ及びデジタルカメラのいずれであってもよい。上記構
成の微小形状検出装置において、図２を参照しながら、
ウェハ（対象物）のノッチ（微小形状）を検出する場合
について説明する。
【００２５】まず、カメラ１４によりウェハ１５の画像
を取り込み、この画像を画像メモリに記憶する（ステッ
プＳＴ１）。 なお、画像デ−タは、１画素が２５６階調（８ビット）
の単一色で表され、５１２×５１２画素の大きさを有す
るものと仮定する。また、ウェハとその背景が明確に区
別できるように、照明が調節される。例えば、ウェハが
濃く（黒）、背景が淡く（白）なるように、照明が調節
される。
を取り込み、この画像を画像メモリに記憶する（ステッ
プＳＴ１）。 なお、画像デ−タは、１画素が２５６階調（８ビット）
の単一色で表され、５１２×５１２画素の大きさを有す
るものと仮定する。また、ウェハとその背景が明確に区
別できるように、照明が調節される。例えば、ウェハが
濃く（黒）、背景が淡く（白）なるように、照明が調節
される。
【００２６】次に、濃淡画像の濃度のプロジェクション
を作成し、ウェハのエッジを検出する。なお、ウェハの
エッジは、プロジェクションの変化点Ａとする。そし
て、ウェハのエッジから一定距離だけウェハの内側に入
り込んだ位置にサ−チラインを設定する。このサ−チラ
インは、ウェハのエッジに沿った円形を有し、かつ、ノ
ッチと交差するように設定される（ステップＳＴ２）。
を作成し、ウェハのエッジを検出する。なお、ウェハの
エッジは、プロジェクションの変化点Ａとする。そし
て、ウェハのエッジから一定距離だけウェハの内側に入
り込んだ位置にサ−チラインを設定する。このサ−チラ
インは、ウェハのエッジに沿った円形を有し、かつ、ノ
ッチと交差するように設定される（ステップＳＴ２）。
【００２７】最適なサ−チラインの設定について述べ
る。理想的には、ウェハのエッジから一定距離だけウェ
ハの内側に入り込んだ位置にサ−チラインを設定するこ
とにより、ウェハのノッチを検出できる。
る。理想的には、ウェハのエッジから一定距離だけウェ
ハの内側に入り込んだ位置にサ−チラインを設定するこ
とにより、ウェハのノッチを検出できる。
【００２８】しかし、ウェハのノッチが非常に小さい場
合、いわゆるサンプリング誤差が問題となる。この場合
のサンプリング誤差とは、画素単位でデ−タをサンプリ
ングする場合に、理想的なサ−チラインからずれる量の
ことである。
合、いわゆるサンプリング誤差が問題となる。この場合
のサンプリング誤差とは、画素単位でデ−タをサンプリ
ングする場合に、理想的なサ−チラインからずれる量の
ことである。
【００２９】即ち、図３に示すように、理想的なサ−チ
ラインを破線Ｂで表すと、サンプリングポイント（画
素）は、１，２，３…となり、理想的なサ−チラインか
ら外れてノッチを検出し難くなる。なお、実線Ｃは、ウ
ェハのエッジを表している。
ラインを破線Ｂで表すと、サンプリングポイント（画
素）は、１，２，３…となり、理想的なサ−チラインか
ら外れてノッチを検出し難くなる。なお、実線Ｃは、ウ
ェハのエッジを表している。
【００３０】そこで、本発明では、図４に示すように、
理想的なサ−チラインＢ上の点１，２，３…をサンプリ
ングポイントとし、このサンプリングポイントを１画素
の大きさ以下の間隔で配置する。そして、各サンプリン
グポイントの濃度値をサンプルテ−ブルに格納する。な
お、サンプルテ−ブルの大きさは、サ−チライン上を一
周し得る程度に設定する（ステップＳＴ３）。
理想的なサ−チラインＢ上の点１，２，３…をサンプリ
ングポイントとし、このサンプリングポイントを１画素
の大きさ以下の間隔で配置する。そして、各サンプリン
グポイントの濃度値をサンプルテ−ブルに格納する。な
お、サンプルテ−ブルの大きさは、サ−チライン上を一
周し得る程度に設定する（ステップＳＴ３）。
【００３１】サンプリングポイントを１画素の大きさ以
下の間隔で配置するために、補間という技術を用いる。
以下、補間について述べる。図５の破線で囲まれた領域
は、各画素を示している。例えば、各画素の中心点Ａ
１，Ｂ１，Ｃ１，Ｄ１を濃度値の定まった座標点とす
る。サ−チラインＢ上のサンプリングポイントＸが座標
点上に位置していない場合、補完によりサンプリングポ
イントＸの濃度値を求める。
下の間隔で配置するために、補間という技術を用いる。
以下、補間について述べる。図５の破線で囲まれた領域
は、各画素を示している。例えば、各画素の中心点Ａ
１，Ｂ１，Ｃ１，Ｄ１を濃度値の定まった座標点とす
る。サ−チラインＢ上のサンプリングポイントＸが座標
点上に位置していない場合、補完によりサンプリングポ
イントＸの濃度値を求める。
【００３２】ここで、座標点Ａ１の濃度値をａとし、座
標点Ｂ１の濃度値をｂとし、座標点Ｃ１の濃度値をｃと
し、座標点Ｄ１の濃度値をｄとし、さらに、Ａ１点とＸ
点の距離をａ´、Ｂ１点とＸ点の距離をｂ´、Ｃ１点と
Ｘ点の距離をｃ´、Ｄ１点とＸ点の距離をｄ´とする。
但し、０≦ａ´，ｂ´，ｃ´，ｄ´≦１である。
標点Ｂ１の濃度値をｂとし、座標点Ｃ１の濃度値をｃと
し、座標点Ｄ１の濃度値をｄとし、さらに、Ａ１点とＸ
点の距離をａ´、Ｂ１点とＸ点の距離をｂ´、Ｃ１点と
Ｘ点の距離をｃ´、Ｄ１点とＸ点の距離をｄ´とする。
但し、０≦ａ´，ｂ´，ｃ´，ｄ´≦１である。
【００３３】この時、サンプリングポイントＸの濃度値
は、 Ｘ＝｛（１−ａ´）／ｋ｝×ａ ＋ ｛（１−ｂ´）／
ｋ｝×ｂ ＋ ｛（１−ｃ´）／ｋ｝×ｃ ＋ ｛（１
−ｄ´）／ｋ｝×ｄ となる。
は、 Ｘ＝｛（１−ａ´）／ｋ｝×ａ ＋ ｛（１−ｂ´）／
ｋ｝×ｂ ＋ ｛（１−ｃ´）／ｋ｝×ｃ ＋ ｛（１
−ｄ´）／ｋ｝×ｄ となる。
【００３４】但し、ｋ＝（１−ａ´）＋（１−ｂ´）＋
（１−ｃ´）＋（１−ｄ´）である。次に、ウェハのノ
ッチの大きさが１〜２画素のときに、ノイズとノッチ
（微小形状）を区別する手法について述べる。
（１−ｃ´）＋（１−ｄ´）である。次に、ウェハのノ
ッチの大きさが１〜２画素のときに、ノイズとノッチ
（微小形状）を区別する手法について述べる。
【００３５】図７は、ウェハのエッジ及びその近傍にお
ける濃度値の変化の様子を示すものである。ウェハの濃
度値と背景の濃度値の差がある程度大きい場合（大きけ
れば大きい程よい）、ウェハのエッジからウェハの内部
へ向かうに従い、画素の濃度値は、数画素程度の幅をも
って除々に小さくなる。即ち、背景とウェハの境界で
は、濃度値が連続的に変化する（ぼやける）。
ける濃度値の変化の様子を示すものである。ウェハの濃
度値と背景の濃度値の差がある程度大きい場合（大きけ
れば大きい程よい）、ウェハのエッジからウェハの内部
へ向かうに従い、画素の濃度値は、数画素程度の幅をも
って除々に小さくなる。即ち、背景とウェハの境界で
は、濃度値が連続的に変化する（ぼやける）。
【００３６】この事実は、図７及び図９に示すように、
ウェハのノッチ部においても同じである。但し、ウェハ
のノッチ部においては、ノッチの幅がウェハの内部に向
かうに従って広くなる。
ウェハのノッチ部においても同じである。但し、ウェハ
のノッチ部においては、ノッチの幅がウェハの内部に向
かうに従って広くなる。
【００３７】即ち、図８に示すように、サ−チライン上
のノッチの幅Ｈ１は、ノイズと区別できる程度に、ノイ
ズの幅Ｈ２よりも広くなっている。従って、スライスレ
ベル（ノッチを検出するための濃度値）を所定値に設定
し、スライスレベルを越えている領域（但し、ある程度
広いこと）を２値化などにより検索することで、ノッチ
を検出することができる（ステップＳＴ４）。
のノッチの幅Ｈ１は、ノイズと区別できる程度に、ノイ
ズの幅Ｈ２よりも広くなっている。従って、スライスレ
ベル（ノッチを検出するための濃度値）を所定値に設定
し、スライスレベルを越えている領域（但し、ある程度
広いこと）を２値化などにより検索することで、ノッチ
を検出することができる（ステップＳＴ４）。
【００３８】なお、サンプルテ−ブルの全部又は数箇所
の連続するサンプリングポイントについてノッチの検出
を行うことにより、概ねのノイズの幅Ｈ２も検出できる
ため、このノイズの幅Ｈ２との比較により、ノッチとノ
イズの判別は可能である。
の連続するサンプリングポイントについてノッチの検出
を行うことにより、概ねのノイズの幅Ｈ２も検出できる
ため、このノイズの幅Ｈ２との比較により、ノッチとノ
イズの判別は可能である。
【００３９】ところで、スライスレベルが固定である
と、画像デ−タの入力時の条件（照明の明るさ、画質な
ど）によって、ウェハや背景の濃度値が異なるため、ノ
ッチを正確に検出できなくなる場合がある。
と、画像デ−タの入力時の条件（照明の明るさ、画質な
ど）によって、ウェハや背景の濃度値が異なるため、ノ
ッチを正確に検出できなくなる場合がある。
【００４０】そこで、まず、背景の濃度値程度の値にス
ライスレベルを設定し、スライスレベルを越える領域が
表れるまで、このスライスレベルを次第に小さくしてい
くことにより、確実にノッチを検出することができる。
ライスレベルを設定し、スライスレベルを越える領域が
表れるまで、このスライスレベルを次第に小さくしてい
くことにより、確実にノッチを検出することができる。
【００４１】なお、本発明は、大きな形状を有する対象
物の中から特徴的な微小形状を検出する場合に有効であ
り、ウェハのノッチの検出のみならず、ＩＣパッケ−ジ
などの物体のばりやヒゲなどの検出、紙や金属板などの
凹みや欠けの検出などに応用できる。
物の中から特徴的な微小形状を検出する場合に有効であ
り、ウェハのノッチの検出のみならず、ＩＣパッケ−ジ
などの物体のばりやヒゲなどの検出、紙や金属板などの
凹みや欠けの検出などに応用できる。
【００４２】
【発明の効果】以上、説明したように、本発明の微小形
状検出装置によれば、次のような効果を奏する。大きな
対象物（例えば、ウェハ）のエッジから一定距離だけ対
象物の内側に入り込んだ位置にサ−チラインを設け、画
素の大きさ以下の間隔でサ−チライン上の点の濃度をサ
ンプリングしている。
状検出装置によれば、次のような効果を奏する。大きな
対象物（例えば、ウェハ）のエッジから一定距離だけ対
象物の内側に入り込んだ位置にサ−チラインを設け、画
素の大きさ以下の間隔でサ−チライン上の点の濃度をサ
ンプリングしている。
【００４３】そして、スライスレベルを設定し、サンプ
リングされた各点の濃度値がスライスレベルを越えてい
る領域を検索することにより、容易に、微小形状（例え
ば、ウェハのノッチ）を検出することができる。
リングされた各点の濃度値がスライスレベルを越えてい
る領域を検索することにより、容易に、微小形状（例え
ば、ウェハのノッチ）を検出することができる。
【００４４】しかも、画像処理技術のみにより微小形状
を検出でき、かつ、画像を複数に分割することなく、１
つの画像のみから微小形状を検出できるため、微小形状
の検出時間を短くできる。
を検出でき、かつ、画像を複数に分割することなく、１
つの画像のみから微小形状を検出できるため、微小形状
の検出時間を短くできる。
【００４５】また、対象物のエッジ部での濃度の連続的
な変化を利用することにより、ノイズと微小形状との区
分けも確実に行うことができる。このように、本発明で
は、大きな形状を有する対象物の中から特徴的な微小形
状を検出する場合に、正確に微小形状を検出し得ると共
に微小形状を検出するための処理時間も少なくすること
ができる。
な変化を利用することにより、ノイズと微小形状との区
分けも確実に行うことができる。このように、本発明で
は、大きな形状を有する対象物の中から特徴的な微小形
状を検出する場合に、正確に微小形状を検出し得ると共
に微小形状を検出するための処理時間も少なくすること
ができる。
【図１】本発明の微小形状検出装置の全体を示すブロッ
ク図。
ク図。
【図２】図１の装置の動作を概略的に示す図。
【図３】サ−チラインとサンプリング誤差を示す図。
【図４】サ−チライン上のサンプリングポイントを示す
図。
図。
【図５】補完による濃度値のサンプリングを説明する
図。
図。
【図６】補完による濃度値のサンプリングを説明する
図。
図。
【図７】ウェハのエッジ部での濃度の変化の様子を示す
図。
図。
【図８】サ−チライン上の各点の濃度値を示す図。
【図９】ウェハのエッジ部での濃度の変化の様子を示す
図。
図。
【図１０】従来の微小形状検出装置の全体を示すブロッ
ク図。
ク図。
【図１１】ウェハを示す平面図。
【図１２】ウェハのノッジを拡大して示す図。
１１ …画像メモリ部、 １２ …処理部、 １３ …制御部、 １４ …カメラ、 １５ …ウェハ １６ …ノッチ。
Claims (7)
- 【請求項１】 エッジ部に微小形状を有する対象物とそ
の背景を単一色の濃淡画像で表す第１手段と、 前記対象物のエッジを検出し、前記エッジから一定距離
だけ前記対象物の内側に入った位置にサ−チラインを仮
定する第２手段と、 前記サ−チライン上の各点の画素の濃度値を求め、サ−
チライン上の各点の位置と濃度値の関係を示すグラフを
作成する第３手段と、 所定の濃度値よりも高い濃度値を有する領域を前記グラ
フから検出し、その領域が所定の幅よりも広い幅を有す
る場合にその領域を微小形状と認識する第４手段とを具
備することを特徴とする微小形状検出装置。 - 【請求項２】 前記第１手段は、前記対象物の中央部が
一定の濃度を有し、前記背景が前記対象物の中央部の濃
度とは異なる一定の濃度を有する濃淡画像を作成するこ
とを特徴とする請求項１に記載の微小形状検出装置。 - 【請求項３】 前記第２手段は、前記濃淡画像の濃度の
プロジェクションを作成し、前記プロジェクションの変
化点を前記対象物のエッジとすることを特徴とする請求
項１に記載の微小形状検出装置。 - 【請求項４】 前記第２手段は、前記サ−チラインが前
記微小形状と交差するように、前記一定の距離を決定す
ることを特徴とする請求項１に記載の微小形状検出装
置。 - 【請求項５】 前記第３手段は、補間手段を利用するこ
とにより前記濃淡画像の画素の大きさ以下の間隔で前記
サ−チライン上の各点を設定することを特徴とする請求
項１に記載の微小形状検出装置。 - 【請求項６】 前記第４手段は、前記所定の濃度値を変
化させることにより前記領域を前記グラフから検出する
ことを特徴とする請求項１に記載の微小形状検出装置。 - 【請求項７】 前記第４手段は、前記グラフから検出さ
れる複数の領域のうち比較的に狭い幅を有する領域の幅
を前記所定の幅とすることを特徴とする請求項１に記載
の微小形状検出装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7163195A JP2818644B2 (ja) | 1995-06-29 | 1995-06-29 | 微小形状検出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7163195A JP2818644B2 (ja) | 1995-06-29 | 1995-06-29 | 微小形状検出装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0916779A true JPH0916779A (ja) | 1997-01-17 |
| JP2818644B2 JP2818644B2 (ja) | 1998-10-30 |
Family
ID=15769087
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7163195A Expired - Lifetime JP2818644B2 (ja) | 1995-06-29 | 1995-06-29 | 微小形状検出装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2818644B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000022655A1 (en) * | 1998-10-15 | 2000-04-20 | Applied Materials, Inc. | Detection of wafer fragments in a wafer processing apparatus |
| US6960943B1 (en) * | 2003-06-06 | 2005-11-01 | Kim Alt Poulson | Suppressed micro phonic phase stable synthesizer |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04167081A (ja) * | 1990-10-31 | 1992-06-15 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | エッジ特徴計測方法 |
| JPH06337210A (ja) * | 1993-05-28 | 1994-12-06 | Kubota Corp | 建材の検査方法 |
-
1995
- 1995-06-29 JP JP7163195A patent/JP2818644B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04167081A (ja) * | 1990-10-31 | 1992-06-15 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | エッジ特徴計測方法 |
| JPH06337210A (ja) * | 1993-05-28 | 1994-12-06 | Kubota Corp | 建材の検査方法 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000022655A1 (en) * | 1998-10-15 | 2000-04-20 | Applied Materials, Inc. | Detection of wafer fragments in a wafer processing apparatus |
| US6960943B1 (en) * | 2003-06-06 | 2005-11-01 | Kim Alt Poulson | Suppressed micro phonic phase stable synthesizer |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2818644B2 (ja) | 1998-10-30 |
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