JPH09164474A - 注湯装置の溶湯レベル制御方法 - Google Patents
注湯装置の溶湯レベル制御方法Info
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- JPH09164474A JPH09164474A JP32426295A JP32426295A JPH09164474A JP H09164474 A JPH09164474 A JP H09164474A JP 32426295 A JP32426295 A JP 32426295A JP 32426295 A JP32426295 A JP 32426295A JP H09164474 A JPH09164474 A JP H09164474A
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- Measurement Of Levels Of Liquids Or Fluent Solid Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 鋳物砂の含有水分量の多少などに起因する鋳
型の厚さの大小にかかわらず、注湯量に過不足を招くこ
となく、各鋳型に対応して常に最適な注湯制御を行なわ
せることができるようにする。 【解決手段】 注湯開始直前に、レーザー測距装置３に
より鋳型１の湯口カップ１Ｃ近傍に形成した溶湯レベル
測定用凹部１Ｄの底面とレーザー測距装置３との間の距
離Ｌ０を測定し、その測定距離Ｌ０を原点として、注湯
に伴い上昇する溶湯レベル測定用凹部１Ｄ内の溶湯レベ
ルの高さＨをレーザー測距装置３により測定し、鋳型１
内に溶湯が満たされ、その測定した溶湯レベルの高さＨ
が所定の値Ｈ１になったとき、注湯弁４を閉塞動作させ
て鋳型１内への注湯を自動停止するようにしている。
型の厚さの大小にかかわらず、注湯量に過不足を招くこ
となく、各鋳型に対応して常に最適な注湯制御を行なわ
せることができるようにする。 【解決手段】 注湯開始直前に、レーザー測距装置３に
より鋳型１の湯口カップ１Ｃ近傍に形成した溶湯レベル
測定用凹部１Ｄの底面とレーザー測距装置３との間の距
離Ｌ０を測定し、その測定距離Ｌ０を原点として、注湯
に伴い上昇する溶湯レベル測定用凹部１Ｄ内の溶湯レベ
ルの高さＨをレーザー測距装置３により測定し、鋳型１
内に溶湯が満たされ、その測定した溶湯レベルの高さＨ
が所定の値Ｈ１になったとき、注湯弁４を閉塞動作させ
て鋳型１内への注湯を自動停止するようにしている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は注湯装置の溶湯レベ
ル制御方法、詳しくは、主として水平面に沿って上下に
分割されてなる鋳型の複数個を列状に配置して水平面に
沿って移送しつつ、各鋳型に対して順次注湯する水平割
造型機に適用されるもので、より詳しくは、鋳型の上面
の湯口カップ近傍に形成された溶湯レベル測定用凹部内
の溶湯レベルをレーザー測距装置を用いて測定し、その
測定値に基づいて注湯弁を開閉動作させて鋳型内への注
湯を自動制御する注湯装置の溶湯レベル制御方法に関す
るものである。
ル制御方法、詳しくは、主として水平面に沿って上下に
分割されてなる鋳型の複数個を列状に配置して水平面に
沿って移送しつつ、各鋳型に対して順次注湯する水平割
造型機に適用されるもので、より詳しくは、鋳型の上面
の湯口カップ近傍に形成された溶湯レベル測定用凹部内
の溶湯レベルをレーザー測距装置を用いて測定し、その
測定値に基づいて注湯弁を開閉動作させて鋳型内への注
湯を自動制御する注湯装置の溶湯レベル制御方法に関す
るものである。
【０００２】
【従来の技術】図４は水平割造型機に適用される注湯装
置の一部破断側面図、図５はその平面図であり、これら
図において、１は鋳型で、水平面に沿って上下に分割さ
れた上型６と下型７とからなる。これら上型６及び下型
７は、図６に明示するように、金属製枠６Ａ，７Ａ内に
充填した鋳物砂６Ｂ，７Ｂの上下面にそれぞれパターン
プレート（図示省略する）を用いて半割りパターンが形
成されており、これら各半割パターン同士が突き合わせ
られるように上型６及び下型７を上下に積重することに
より鋳型１内に所望形状の注湯空間１Ａを形成してい
る。また、上型６の型砂６Ａには上記注湯空間１Ａに連
ねて湯道１Ｂが形成され、この湯道１Ｂの上端部には上
型６Ａの上面に開口する状態で湯口カップ１Ｃが形成さ
れているとともに、該湯口カップ１Ｃの一側近傍には溶
湯レベル測定用凹部１Ｄが形成されている。８は上記鋳
型１の複数個を列状に載置してこれら鋳型１を水平面に
沿って移送するための台車である。
置の一部破断側面図、図５はその平面図であり、これら
図において、１は鋳型で、水平面に沿って上下に分割さ
れた上型６と下型７とからなる。これら上型６及び下型
７は、図６に明示するように、金属製枠６Ａ，７Ａ内に
充填した鋳物砂６Ｂ，７Ｂの上下面にそれぞれパターン
プレート（図示省略する）を用いて半割りパターンが形
成されており、これら各半割パターン同士が突き合わせ
られるように上型６及び下型７を上下に積重することに
より鋳型１内に所望形状の注湯空間１Ａを形成してい
る。また、上型６の型砂６Ａには上記注湯空間１Ａに連
ねて湯道１Ｂが形成され、この湯道１Ｂの上端部には上
型６Ａの上面に開口する状態で湯口カップ１Ｃが形成さ
れているとともに、該湯口カップ１Ｃの一側近傍には溶
湯レベル測定用凹部１Ｄが形成されている。８は上記鋳
型１の複数個を列状に載置してこれら鋳型１を水平面に
沿って移送するための台車である。
【０００３】１０は上記鋳型１の移送経路の上方の特定
位置に固定設置された溶湯槽で、金属溶湯９を収容保持
しており、該溶湯槽１０の底部には上記鋳型１の湯口カ
ップ１Ｃに向けて溶湯９を注出する注湯用ノズル２が設
けられている。４は駆動装置１１を介して上下に移動す
ることにより上記注湯用ノズル２を開閉するロッド状の
注湯弁である。３はレーザー測距装置で、上記溶湯槽１
０の側部に固定されており、ここから上記鋳型１におけ
る溶湯レベル測定用凹部１Ｄに向けてレーザー光を照射
し、かつ、その反射光を受光することによってレーザー
光照射点から上記凹部１Ｄ内の溶湯レベルまでの距離Ｌ
１を測定する。１２はコントローラで、上記レーザー測
距装置３により測定された距離Ｌ１がフィードバックさ
れる。
位置に固定設置された溶湯槽で、金属溶湯９を収容保持
しており、該溶湯槽１０の底部には上記鋳型１の湯口カ
ップ１Ｃに向けて溶湯９を注出する注湯用ノズル２が設
けられている。４は駆動装置１１を介して上下に移動す
ることにより上記注湯用ノズル２を開閉するロッド状の
注湯弁である。３はレーザー測距装置で、上記溶湯槽１
０の側部に固定されており、ここから上記鋳型１におけ
る溶湯レベル測定用凹部１Ｄに向けてレーザー光を照射
し、かつ、その反射光を受光することによってレーザー
光照射点から上記凹部１Ｄ内の溶湯レベルまでの距離Ｌ
１を測定する。１２はコントローラで、上記レーザー測
距装置３により測定された距離Ｌ１がフィードバックさ
れる。
【０００４】上記のような構成を備えた注湯装置による
溶湯レベルの制御方法として、従来では、注湯時に上記
レーザー測距装置３を介してそのレーザー光照射点から
注湯に伴い上昇する上記溶湯レベル測定用凹部１Ｄ内の
溶湯レベルまでの距離Ｌ１を測定するとともに、その測
定距離Ｌ１をコントローラ１２にフィードバックし、そ
のフィードバックされた測定距離Ｌ１と予め設定されて
いる目標値とを比較して、その偏差の大きさに応じて上
記駆動装置１１を介して上記注湯弁４をノズル２に対し
て開閉動作させて上記鋳型１内への注湯流量を制御する
とともに、鋳型１内に溶湯が満たされて、測定距離Ｌ１
が所定の値になったときに、上記注湯弁４をノズル２に
対して閉塞動作させて注湯を自動停止させるという制御
方法が採られていた。
溶湯レベルの制御方法として、従来では、注湯時に上記
レーザー測距装置３を介してそのレーザー光照射点から
注湯に伴い上昇する上記溶湯レベル測定用凹部１Ｄ内の
溶湯レベルまでの距離Ｌ１を測定するとともに、その測
定距離Ｌ１をコントローラ１２にフィードバックし、そ
のフィードバックされた測定距離Ｌ１と予め設定されて
いる目標値とを比較して、その偏差の大きさに応じて上
記駆動装置１１を介して上記注湯弁４をノズル２に対し
て開閉動作させて上記鋳型１内への注湯流量を制御する
とともに、鋳型１内に溶湯が満たされて、測定距離Ｌ１
が所定の値になったときに、上記注湯弁４をノズル２に
対して閉塞動作させて注湯を自動停止させるという制御
方法が採られていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記した従来の注湯装
置の溶湯レベル制御方法は、鋳型の厚さ（高さ）が一定
で、鋳型の上面とレーザー測距装置のレーザー光照射点
との距離が変動しないことを前提とする垂直割造型機に
対しては有効に適用することが可能であるけれども、上
述した水平割造型機のように、鋳物砂の性状のばらつ
き、例えば含有水分量の多少などに起因して型締まり程
度に差があって、鋳型の厚さが一定にならないもので
は、鋳型の上面とレーザー測距装置のレーザー光照射点
との距離が変動するために、レーザー光照射点から溶湯
レベル測定用凹部１Ｄ内の溶湯レベルまでの距離Ｌ１が
目標値になるように制御したとしても、厚さの異なる鋳
型１に各々対応した適切な注湯が行えず、注湯量に過不
足を招くという不具合があった。
置の溶湯レベル制御方法は、鋳型の厚さ（高さ）が一定
で、鋳型の上面とレーザー測距装置のレーザー光照射点
との距離が変動しないことを前提とする垂直割造型機に
対しては有効に適用することが可能であるけれども、上
述した水平割造型機のように、鋳物砂の性状のばらつ
き、例えば含有水分量の多少などに起因して型締まり程
度に差があって、鋳型の厚さが一定にならないもので
は、鋳型の上面とレーザー測距装置のレーザー光照射点
との距離が変動するために、レーザー光照射点から溶湯
レベル測定用凹部１Ｄ内の溶湯レベルまでの距離Ｌ１が
目標値になるように制御したとしても、厚さの異なる鋳
型１に各々対応した適切な注湯が行えず、注湯量に過不
足を招くという不具合があった。
【０００６】詳述すると、上記制御目標値を例えば図４
に示すように、鋳物砂６Ａ，６Ｂの含有水分量が少ない
ことから型締まりが悪くて厚さｔ´の大きい鋳型１に対
する注湯量が適正となるような値に設定したとすると、
図７に示すように、鋳物砂６Ａ，６Ｂの含有水分量が多
いことから型締まりが良くて厚さｔの小さい鋳型１に対
する注湯量が過剰となって、溶湯９が鋳型１からオーバ
ーフローすることになり、逆に、上記制御目標値を図７
に示すような厚さｔの小さい鋳型１に対する注湯量が適
正となるような値に設定すると、図４に示すような厚さ
ｔ´の大きい鋳型１に対する注湯量が不足することにな
り、鋳造作業の安全性や製品の仕上がりに悪影響を与え
る問題がある。
に示すように、鋳物砂６Ａ，６Ｂの含有水分量が少ない
ことから型締まりが悪くて厚さｔ´の大きい鋳型１に対
する注湯量が適正となるような値に設定したとすると、
図７に示すように、鋳物砂６Ａ，６Ｂの含有水分量が多
いことから型締まりが良くて厚さｔの小さい鋳型１に対
する注湯量が過剰となって、溶湯９が鋳型１からオーバ
ーフローすることになり、逆に、上記制御目標値を図７
に示すような厚さｔの小さい鋳型１に対する注湯量が適
正となるような値に設定すると、図４に示すような厚さ
ｔ´の大きい鋳型１に対する注湯量が不足することにな
り、鋳造作業の安全性や製品の仕上がりに悪影響を与え
る問題がある。
【０００７】また、このような不具合を解消する手段と
して、サンドカッターなどを用いて上型６の厚さのばら
つきを吸収させることも考えられるが、下型７の厚さの
ばらつきは吸収することができないために、注湯量に過
不足が発生することは避けられないものである。
して、サンドカッターなどを用いて上型６の厚さのばら
つきを吸収させることも考えられるが、下型７の厚さの
ばらつきは吸収することができないために、注湯量に過
不足が発生することは避けられないものである。
【０００８】本発明は上記のような実情に鑑みてなされ
たもので、鋳型の厚さの大小にかかわらず、注湯量に過
不足を招くことなく、各鋳型に対応して常に最適な注湯
制御を行なわせることができる注湯装置の溶湯レベル制
御方法を提供することを目的としている。
たもので、鋳型の厚さの大小にかかわらず、注湯量に過
不足を招くことなく、各鋳型に対応して常に最適な注湯
制御を行なわせることができる注湯装置の溶湯レベル制
御方法を提供することを目的としている。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明に係る注湯装置の溶湯レベル制御方法は、鋳
型の上面の湯口カップ近傍に形成された溶湯レベル測定
用凹部内の溶湯レベルをレーザー測距装置を用いて測定
し、その測定値に基づいて注湯弁を開閉動作させて上記
鋳型内への注湯を自動制御する注湯装置の溶湯レベル制
御方法であって、注湯開始直前に上記レーザー測距装置
により上記溶湯レベル測定用凹部の底面とレーザー測距
装置との間の距離を測定する工程と、その測定した距離
を原点として、注湯に伴い変化する上記溶湯レベル測定
用凹部内の溶湯レベルの高さを上記レーザー測距装置に
より測定して、溶湯レベルが所定の高さに保持されるよ
うに上記注湯弁の開閉をフィードバック制御する工程
と、鋳型内に溶湯が満たされ、その測定した溶湯レベル
の高さが所定の値になったとき、上記注湯弁を閉塞動作
させて上記鋳型内への注湯を自動停止する工程とを備え
ていることを特徴とするものである。すなわち、注湯開
始直前にレーザー測距装置により測定した溶湯レベル測
定用凹部の底面とレーザー測距装置との間の距離を原点
として、鋳型内への注湯に伴い変化する溶湯レベル測定
用凹部内の溶湯レベルの高さを上記レーザー測距装置に
より測定しながら、溶湯レベルの高さが所定の高さに保
持されるように注湯弁の開閉をフィードバック制御し、
鋳型内に溶湯が満たされてその測定値が予め設定された
所定値になったとき、注湯を自動停止することによっ
て、鋳型の厚さが異なっていても、上記溶湯レベル測定
用凹部内の溶湯レベルの高さを常に一定とするような注
湯制御が可能となり、鋳型の厚さの大小にかかわらず、
注湯量に過不足を招くことなく、鋳型各々に対応して常
に最適な注湯を行なわせることができる。
に、本発明に係る注湯装置の溶湯レベル制御方法は、鋳
型の上面の湯口カップ近傍に形成された溶湯レベル測定
用凹部内の溶湯レベルをレーザー測距装置を用いて測定
し、その測定値に基づいて注湯弁を開閉動作させて上記
鋳型内への注湯を自動制御する注湯装置の溶湯レベル制
御方法であって、注湯開始直前に上記レーザー測距装置
により上記溶湯レベル測定用凹部の底面とレーザー測距
装置との間の距離を測定する工程と、その測定した距離
を原点として、注湯に伴い変化する上記溶湯レベル測定
用凹部内の溶湯レベルの高さを上記レーザー測距装置に
より測定して、溶湯レベルが所定の高さに保持されるよ
うに上記注湯弁の開閉をフィードバック制御する工程
と、鋳型内に溶湯が満たされ、その測定した溶湯レベル
の高さが所定の値になったとき、上記注湯弁を閉塞動作
させて上記鋳型内への注湯を自動停止する工程とを備え
ていることを特徴とするものである。すなわち、注湯開
始直前にレーザー測距装置により測定した溶湯レベル測
定用凹部の底面とレーザー測距装置との間の距離を原点
として、鋳型内への注湯に伴い変化する溶湯レベル測定
用凹部内の溶湯レベルの高さを上記レーザー測距装置に
より測定しながら、溶湯レベルの高さが所定の高さに保
持されるように注湯弁の開閉をフィードバック制御し、
鋳型内に溶湯が満たされてその測定値が予め設定された
所定値になったとき、注湯を自動停止することによっ
て、鋳型の厚さが異なっていても、上記溶湯レベル測定
用凹部内の溶湯レベルの高さを常に一定とするような注
湯制御が可能となり、鋳型の厚さの大小にかかわらず、
注湯量に過不足を招くことなく、鋳型各々に対応して常
に最適な注湯を行なわせることができる。
【００１０】このような溶湯レベル制御方法は、鋳物砂
の性状のばらつきなどにより鋳型の厚さが変動しやすい
造型機、つまり、請求項２に記載のように、鋳型が水平
面に沿って上下に分割されてなり、かつ、この鋳型の複
数個を列状に配置して水平面に沿って移送しつつ、各鋳
型に対して順次注湯する水平割造型機に一層有効に適用
することができるものである。
の性状のばらつきなどにより鋳型の厚さが変動しやすい
造型機、つまり、請求項２に記載のように、鋳型が水平
面に沿って上下に分割されてなり、かつ、この鋳型の複
数個を列状に配置して水平面に沿って移送しつつ、各鋳
型に対して順次注湯する水平割造型機に一層有効に適用
することができるものである。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
にもとづいて説明する。図１及び図２はそれぞれ本発明
に係る注湯装置の溶湯レベル制御方法の実施状況を説明
する一部破断側面図であり、これら図１及び図２におけ
る各構成部材は図４〜図７に示すものと同一であるた
め、該当部分に同一の符号を付して、それらの説明を省
略する。
にもとづいて説明する。図１及び図２はそれぞれ本発明
に係る注湯装置の溶湯レベル制御方法の実施状況を説明
する一部破断側面図であり、これら図１及び図２におけ
る各構成部材は図４〜図７に示すものと同一であるた
め、該当部分に同一の符号を付して、それらの説明を省
略する。
【００１２】図１は図４に対応するもので、鋳物砂６
Ａ，６Ｂの含有水分量が少ないことから型締まりが悪く
て厚さｔ´の大きい鋳型１に対する溶湯９の注湯状態を
示し、図２は図７に対応するもので、鋳物砂６Ａ，６Ｂ
の含有水分量が多いことから型締まりが良くて厚さｔの
小さい鋳型１に対する溶湯９の注湯状態を示し、これら
図１及び図２のいずれの場合も、コントローラ１２にお
いて図３のフローチャートに示すような制御動作が行な
われる。
Ａ，６Ｂの含有水分量が少ないことから型締まりが悪く
て厚さｔ´の大きい鋳型１に対する溶湯９の注湯状態を
示し、図２は図７に対応するもので、鋳物砂６Ａ，６Ｂ
の含有水分量が多いことから型締まりが良くて厚さｔの
小さい鋳型１に対する溶湯９の注湯状態を示し、これら
図１及び図２のいずれの場合も、コントローラ１２にお
いて図３のフローチャートに示すような制御動作が行な
われる。
【００１３】すなわち、注湯開始直前にレーザー測距装
置３から鋳型１における溶湯レベル測定用凹部１Ｄ内に
向けてレーザー光を照射して、そのレーザー光照射点と
上記凹部１Ｄの底面との間の距離Ｌ０を測定し、その測
定距離Ｌ０をコントローラ１２にフィードバックし記憶
する（ステップＳ２０）。しかる後、ロッド状注湯弁４
をノズル２に対して開放動作させてノズル２から湯口カ
ップ１Ｃに向けて溶湯槽１０内の溶湯９を注出し、鋳型
１内の注湯空間１Ａに溶湯９を流し込む（ステップ２
１）。
置３から鋳型１における溶湯レベル測定用凹部１Ｄ内に
向けてレーザー光を照射して、そのレーザー光照射点と
上記凹部１Ｄの底面との間の距離Ｌ０を測定し、その測
定距離Ｌ０をコントローラ１２にフィードバックし記憶
する（ステップＳ２０）。しかる後、ロッド状注湯弁４
をノズル２に対して開放動作させてノズル２から湯口カ
ップ１Ｃに向けて溶湯槽１０内の溶湯９を注出し、鋳型
１内の注湯空間１Ａに溶湯９を流し込む（ステップ２
１）。
【００１４】上記のような注湯に伴って注湯空間１Ａ、
湯道１Ｂ内に溶湯９が充填され、その一部が湯口カップ
１Ｃに達して溶湯レベル測定用凹部１Ｄ内に流れ込み、
該凹部１Ｄ内の溶湯レベルが上昇する。このとき、上記
レーザー測距装置３から照射されているレーザー光が凹
部１Ｄ内の溶湯９の表面で反射され該溶湯表面とレーザ
ー照射点との距離Ｌ１が測定され、その測定距離Ｌ１が
上記コントローラ１２にフィードバックされる（ステッ
プＳ２２）。このように、溶湯レベル測定用凹部１Ｄ内
に流れ込んだ溶湯９の表面とレーザー光照射点との間の
測定距離Ｌ１がフィードバックされるコントローラ１２
では、上記注湯開始直前に測定され記憶されている距離
Ｌ０を原点（零点）として、上記凹部１Ｄ内の溶湯レベ
ルの高さ（Ｈ＝Ｌ１−Ｌ０）の変化を算出し、その算出
される高さＨと予め設定されている所定値Ｈ１との偏差
ΔＨ（Ｈ１−Ｈ）に応じて駆動装置１１を介して上記注
湯弁４をノズル２に対して開閉動作させて上記鋳型１内
への注湯流量を制御するとともに、上記鋳型１内に溶湯
９が満たされて上記偏差ΔＨが零になったとき、上記駆
動装置１１を介して上記注湯弁４をノズル２に対して閉
塞動作させて注湯が自動停止するといった制御を行なう
（ステップＳ２３〜Ｓ２５）。
湯道１Ｂ内に溶湯９が充填され、その一部が湯口カップ
１Ｃに達して溶湯レベル測定用凹部１Ｄ内に流れ込み、
該凹部１Ｄ内の溶湯レベルが上昇する。このとき、上記
レーザー測距装置３から照射されているレーザー光が凹
部１Ｄ内の溶湯９の表面で反射され該溶湯表面とレーザ
ー照射点との距離Ｌ１が測定され、その測定距離Ｌ１が
上記コントローラ１２にフィードバックされる（ステッ
プＳ２２）。このように、溶湯レベル測定用凹部１Ｄ内
に流れ込んだ溶湯９の表面とレーザー光照射点との間の
測定距離Ｌ１がフィードバックされるコントローラ１２
では、上記注湯開始直前に測定され記憶されている距離
Ｌ０を原点（零点）として、上記凹部１Ｄ内の溶湯レベ
ルの高さ（Ｈ＝Ｌ１−Ｌ０）の変化を算出し、その算出
される高さＨと予め設定されている所定値Ｈ１との偏差
ΔＨ（Ｈ１−Ｈ）に応じて駆動装置１１を介して上記注
湯弁４をノズル２に対して開閉動作させて上記鋳型１内
への注湯流量を制御するとともに、上記鋳型１内に溶湯
９が満たされて上記偏差ΔＨが零になったとき、上記駆
動装置１１を介して上記注湯弁４をノズル２に対して閉
塞動作させて注湯が自動停止するといった制御を行なう
（ステップＳ２３〜Ｓ２５）。
【００１５】以上のような溶湯レベル制御動作によっ
て、鋳型１の厚さｔ´が大きい図１および鋳型１の厚さ
ｔが小さい図２のいずれの場合でも、上記溶湯レベル測
定用凹部１Ｄ内の溶湯レベル高さが所定値Ｈ１になった
とき、鋳型１内への注湯が自動停止されることになっ
て、鋳型１の厚さの大小に関係なく、注湯量に過不足を
招くことなく、鋳型１各々に対応して常に最適な注湯を
行なわせることが可能である。
て、鋳型１の厚さｔ´が大きい図１および鋳型１の厚さ
ｔが小さい図２のいずれの場合でも、上記溶湯レベル測
定用凹部１Ｄ内の溶湯レベル高さが所定値Ｈ１になった
とき、鋳型１内への注湯が自動停止されることになっ
て、鋳型１の厚さの大小に関係なく、注湯量に過不足を
招くことなく、鋳型１各々に対応して常に最適な注湯を
行なわせることが可能である。
【００１６】なお、上記のような溶湯レベル制御方法
は、鋳型１の厚さが個々に変動しやすい水平割造型機に
適用することによって特に有効であるけれども、これ以
外に鋳型１の厚さが変動する造型機に適用することで、
その有効性を発揮させることが可能である。
は、鋳型１の厚さが個々に変動しやすい水平割造型機に
適用することによって特に有効であるけれども、これ以
外に鋳型１の厚さが変動する造型機に適用することで、
その有効性を発揮させることが可能である。
【００１７】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、鋳物砂
の含有水分の多少などに起因して鋳型の厚さにばらつき
があっても、溶湯レベル測定用凹部内の溶湯レベルの高
さを常に一定とするような注湯制御によって、鋳型の厚
さの大小にかかわらず、オーバーフローや注湯量不足な
どを招くことなく、鋳型各々に対応して常に最適な注湯
を行なわせることができ、したがって、鋳造作業の安全
性および製品の良好な仕上がり性を確保できるという効
果を奏する。
の含有水分の多少などに起因して鋳型の厚さにばらつき
があっても、溶湯レベル測定用凹部内の溶湯レベルの高
さを常に一定とするような注湯制御によって、鋳型の厚
さの大小にかかわらず、オーバーフローや注湯量不足な
どを招くことなく、鋳型各々に対応して常に最適な注湯
を行なわせることができ、したがって、鋳造作業の安全
性および製品の良好な仕上がり性を確保できるという効
果を奏する。
【図１】本発明に係る注湯装置の溶湯レベル制御方法の
実施状況のうち、厚さの大きい鋳型に対する注湯状態を
説明する一部破断側面図である。
実施状況のうち、厚さの大きい鋳型に対する注湯状態を
説明する一部破断側面図である。
【図２】同上実施状況のうち、厚さの小さい鋳型に対す
る注湯状態を説明する一部破断側面図である。
る注湯状態を説明する一部破断側面図である。
【図３】注湯制御動作を説明するフローチャートであ
る。
る。
【図４】水平割造型機に適用される注湯装置で、従来の
溶湯レベル制御方法の実施状況のうち、厚さの大きい鋳
型に対する注湯状態を説明する一部破断側面図である。
溶湯レベル制御方法の実施状況のうち、厚さの大きい鋳
型に対する注湯状態を説明する一部破断側面図である。
【図５】図４の平面図である。
【図６】鋳型の詳細を説明する縦断側面図である。
【図７】従来の溶湯レベル制御方法の実施状況のうち、
厚さの小さい鋳型に対する注湯状態を説明する一部破断
側面図である。
厚さの小さい鋳型に対する注湯状態を説明する一部破断
側面図である。
１ 鋳型 １Ｃ 注湯カップ １Ｄ 溶湯レベル測定用凹部 ２ 注湯用ノズル ３ レーザー測距装置 ４ ロッド状注湯弁 １２ コントローラ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｓ 3/00 Ｇ０１Ｆ 23/28 Ｊ
Claims (2)
- 【請求項１】 鋳型の上面の湯口カップ近傍に形成され
た溶湯レベル測定用凹部内の溶湯レベルをレーザー測距
装置を用いて測定し、その測定値に基づいて注湯弁を開
閉動作させて上記鋳型内への注湯を自動制御する注湯装
置の溶湯レベル制御方法であって、 注湯開始直前に上記レーザー測距装置により上記溶湯レ
ベル測定用凹部の底面とレーザー測距装置との間の距離
を測定する工程と、 その測定した距離を原点として、注湯に伴い変化する上
記溶湯レベル測定用凹部内の溶湯レベルの高さを上記レ
ーザー測距装置により測定して、溶湯レベルが所定の高
さに保持されるように上記注湯弁の開閉をフィードバッ
ク制御する工程と、 鋳型内に溶湯が満たされ、その測定した溶湯レベルの高
さが所定の値になったとき、上記注湯弁を閉塞動作させ
て上記鋳型内への注湯を自動停止する工程とを備えてい
ることを特徴とする注湯装置の溶湯レベル制御方法。 - 【請求項２】 上記鋳型が水平面に沿って上下に分割さ
れてなり、かつ、この鋳型の複数個を列状に配置して水
平面に沿って移送しつつ、各鋳型に対して順次注湯する
水平割造型機に適用されるものである請求項１に記載の
注湯装置の溶湯レベル制御方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32426295A JPH09164474A (ja) | 1995-12-13 | 1995-12-13 | 注湯装置の溶湯レベル制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32426295A JPH09164474A (ja) | 1995-12-13 | 1995-12-13 | 注湯装置の溶湯レベル制御方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09164474A true JPH09164474A (ja) | 1997-06-24 |
Family
ID=18163849
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32426295A Pending JPH09164474A (ja) | 1995-12-13 | 1995-12-13 | 注湯装置の溶湯レベル制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09164474A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102010062705A1 (de) | 2010-12-09 | 2012-06-14 | Robert Bosch Gmbh | Verfahren zum Betreiben einer Gießanlage |
| US20140008846A1 (en) * | 2012-07-06 | 2014-01-09 | Specialty Minerals (Michigan) Inc. | Shallow metallurgical wire injection method and related depth control |
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| CN112595228A (zh) * | 2020-10-20 | 2021-04-02 | 银邦金属复合材料股份有限公司 | 测量工具及用于控制熔炉内熔体体积的方法 |
-
1995
- 1995-12-13 JP JP32426295A patent/JPH09164474A/ja active Pending
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040302 |