JPH09159806A - マイクロレンズ基板およびその製造方法および液晶表示装置 - Google Patents
マイクロレンズ基板およびその製造方法および液晶表示装置Info
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Abstract
高いマイクロレンズ基板を作製し、さらにこれにより高
品位、高信頼性の液晶表示素子を提供する。 【解決手段】 マイクロレンズが形成された第1の透明
基板1と、この基板上のレンズと対向するように配置さ
れたカバーガラス5とが貼り合わされており、その接着
方法において、マイクロレンズ2からなるマイクロレン
ズアレイの外周部には接着力の強い熱硬化型樹脂から成
るシール部4が形成され、マイクロレンズ2の表面には
低屈折率の透明な紫外線硬化型樹脂がレベリングされて
いる。これにより、一つの樹脂では満足できなかった接
着性と低屈折率性とが兼備できる。その結果、製造面で
はカバーガラス5またはフィルムの剥離防止、光学特性
においてはマイクロレンズ2の短焦点化という効果を奏
する。
Description
晶表示装置において、画素への集光素子としてのマイク
ロレンズまたはレンチキュラーレンズを備えたマイクロ
レンズ基板およびその製造方法およびマイクロレンズ基
板を用いた液晶表示装置に関する。
く、プロジェクションテレビ等の投影型表示素子として
も需要が高まってきている。この液晶パネルには画素と
呼ばれる最小の表示単位が規則的に配列され、それらの
画素に各々独立して電圧を印加し、各画素を構成する液
晶の光学特性を変化させることにより、画像や文字が表
示される。さらにこの液晶パネルに外部から光を入射さ
せ、これに表示される画像をミラーやレンズなどの光学
系を用いて拡大して投影するタイプのものを投影型とい
う。この拡大率が大きいほど、投影される画面サイズが
大きいことになるが、直視型などに用いられている従来
のパネルの画素数のまま拡大率を高めると、画像の粗さ
が大変目立ってしまうことになる。そこで、高い拡大率
でも精細な表示画像を得るために、画素数を増やすこと
が必要となる。
と、特にアクティブマトリクス型の液晶パネルでは液晶
の駆動電圧を与えるラインなどを画素間に配線する構成
となっているために、画素以外の部分が占める面積が相
対的に大きくなる。すると、通常この部分を遮光するた
めに形成されるブラックマトリクスの面積が増大し、そ
の結果、画面表示に寄与する画素の面積、すなわち液晶
パネルの開口率が低下してしまうことになる。この開口
率が低いほど画素を透過する光が少なくなって画面が暗
くなり、画像品位を低下させることになる。
下を回避するために、液晶パネルの一方の面にマイクロ
レンズアレイを二次元的に形成することが提案されてい
る(特開昭60−165621号〜165624号公
報、特開昭60−262131号公報等)。ここで示さ
れているマイクロレンズアレイには各画素に対応する複
数のマイクロレンズが形成されており、従来ではブラッ
クマトリクスによって遮光されていた光を画素内に集光
するような構成となっている。これにより、液晶パネル
の開口率が低くても入射光を効率よく利用することがで
きるので実際に画像表示に寄与する、実効開口率は非常
に高くなる。
パネル、画素ピッチが数十μmで画素数が多く高精細な
表示を行うプロジェクションテレビ用の液晶パネル
(1)と画素ピッチが数百μmの通常の液晶パネル
(2)とを比較すると、一般に(1)の方が遮光部分の
占める面積の割合が大きい。つまり開口率が低いことに
なる。しかし、これらのパネルにマイクロレンズを用い
れば遮光部分に遮断されていた光を画素開口部に採り入
れて表示に活用することができるので、実効開口率はパ
ネル自体の開口率によらず非常に向上する。しかしこの
時、上記(1)に用いるマイクロレンズの集光スポット
の大きさは上記(2)に用いるマイクロレンズの集光ス
ポットの大きさよりも小さくする必要がある。これは、
マイクロレンズの集光スポットが画素開口部よりも大き
くなると画素開口部に入射しない光が表示に寄与できな
くなるためである。開口率の低い液晶パネルにおいても
マイクロレンズによって集光されるスポットを画素開口
部の大きさよりも小さくすれば、極めて高い実効開口率
を得ることができる。
る光の発散度(半頂角)をθ、マイクロレンズの焦点距
離をfしたとき、D=2・f・tanθという関係が成
り立つ。集光効果を高める、つまりマイクロレンズの集
光スポットの面積を小さくするためには、前記関係式よ
り入射光の発散度θを小さくすることおよびマイクロレ
ンズの焦点距離fを短くすればよいことが考えられる。
に考えられることは使用する光源の発光領域を小さく
し、光源からパネルまでの距離を大きくすることであ
る。しかしながら、現状の光源技術では長寿命性および
表示に必要な明るさを確保するために発散度θを数度以
下にするのは極めて困難である。従って、一方のマイク
ロレンズの焦点距離fを短くすると共に、マイクロレン
ズの焦点を液晶パネルの画素開口部近傍に位置させる技
術(以下、短焦点化技術と称す)を向上させるほかな
い。
にとって以下に説明する。現在、一般的に画素ピッチP
が50μm、画素開口部の一辺が約30μmのパネルが
製作されている。照明光の発散度θを5°とすると、前
記の式D=2・f・tanθより求められるように、集
光スポットの直径Dを30μmφにするためには焦点距
離fを170μm以下にしなければならない。一方、マ
イクロレンズの集光量はマイクロレンズ自身の面積に比
例するので、マイクロレンズを画素ピッチと同じピッチ
で隙間なく敷き詰めた状態、つまりマイクロレンズの径
が画素ピッチと等しい時に最大となる。この時のマイク
ロレンズの開口数N.A.(Numerical Ap
erture=N.A.)は、N.A.=P/2・fと
いう式から0.147と算出される。従って、画素ピッ
チが数十μm程度の高精細な液晶パネルではマイクロレ
ンズの集光スポットを小さくするための開口数の値は少
なくとも0.1以上とすることが好ましい。 ところで、上記のように例えば焦点距離fが170μm
以下の短焦点のマイクロレンズ基板を作成する際には、
次のような観点から検討がなされている。すなわち、上
記の空気中での焦点距離fに相当する厚さ250μm
(空気中の焦点距離にガラスの屈折率をかけて求められ
た値)のカバーガラスを間に挟み、焦点が液晶パネルの
画素開口部に位置するように設定するというものであ
る。
さ250μmのカバーガラス基板を一方の基板として液
晶パネルを作成し、その後マイクロレンズを貼り合わせ
る方法が考えられるが、この方法では厚さ250μmと
いう極めて薄いカバーガラス基板の取り扱いが難しいた
め、量産には不向きである。
焦点化技術が特開平3−248125号公報に開示され
ている。図4にこの短焦点化技術を用いた従来のマイク
ロレンズ基板を用いた液晶表示装置の断面図を示す。図
4において、マイクロレンズ102表面に焦点距離に対
応した厚さのカバーガラス105又はフィルムを接着
し、マイクロレンズ102が内部に作り込まれた基板1
06(以下、マイクロレンズが内部に作り込まれた基板
をマイクロレンズ内蔵基板と称する)を作成し、このマ
イクロレンズ内蔵基板106を液晶表示素子の一方の対
向基板110として使用するという方法が採られてい
る。つまり、マイクロレンズ102を液晶表示素子の一
方の基板の中に作り込むわけである。
ば、同じく図4に示すように、レンズ形状部分を感光性
樹脂で形成し、これと異なる屈折率の接着剤層103
で、上にマイクロレンズ102を形成した透明基板10
1と、同じ熱膨張率のカバーガラス105とを接着する
ことで、量産性と密着性を高める方法が開示されてい
る。
においては、短焦点化などを目的としてマイクロレンズ
を基板の内部に作り込む手法が従来、採用されている。
更に、この基板を対向基板110とするためにはカバー
ガラス105側の表面に透明電極108、配向膜109
および必要に応じてブラックマトリクス107が形成さ
れる。そして、こうして得た対向基板110とアクティ
ブマトリクス基板113とが液晶層112を介して貼り
合わされ、液晶表示素子が完成することとなる。
従来、イオン交換法(Appl.Optics, 21
(6)p.1052(1984),Electron
Lett.,17 p.452(1981))膨潤法(鈴
木他、”プラスチックマイクロレンズの新しい作製法”
第24回微小光学研究会)熱ダレ法(Zoran D.
Popovic et al.,Appl.Optic
s,27p.1281(1988))、機械加工法等が
採用されてきた。
るために一枚の大面積の透明基板上からの多数枚取りが
なされている。したがって、上記のようにマイクロレン
ズアレイにカバーガラス等を貼り付けてなるマイクロレ
ンズ基板を液晶表示素子の対向基板として用いる場合
も、大面積の透明基板の上に多数枚配置されるように作
り込むことが望ましい。上記の製造方法の中でも熱ダレ
法とは、レジストをガラス基板上に塗布・パターニング
後、レジストを加熱して凸レンズ形状に変形させるだけ
の簡単な製造方法であり、大きなガラス基板からマイク
ロレンズを多数枚採る方法としてはこの方法が最も適し
ている。さらに、熱ダレ法にはレジストの厚さを変える
だけでレンズの焦点距離をコントロールできるという特
長があり、このように、量産性が高くかつ短焦点化を実
現できるという理由からマイクロレンズの製法には熱ダ
レ法が広く用いられてきた。
面に低屈折率の透明樹脂を接着剤として用いてカバーガ
ラスを接着し、マイクロレンズを内蔵する基板を作製
し、かつ、この基板を対向基板としてアクティブマトリ
クス基板と貼り合わせて液晶表示素子の多数枚取りの基
板が完成する。
来の方法でマイクロレンズを内蔵する対向基板を製造す
ると以下のような問題が生じる。
06を対向基板110に加工するには、前述のように、
カバーガラス105またはフィルムの表面に必要に応じ
てブラックマトリクス107および透明電極108を形
成し、更に配向膜109を塗布・焼成するという工程を
経る。何れの工程においても一般に200℃前後の高温
下での処理が行われている。一対の基板を貼り合わせた
後(すなわち、熱処理工程を経た後)に一方の基板にマ
イクロレンズを貼り合わせる場合には問題ないのである
が、上記のようにマイクロレンズ102を対向基板11
0内に作り込んだ後に熱処理工程を経ると、接着剤層1
03の温度特性のために接着剤層103やカバーガラス
105またはフィルムが剥離する等の不具合を招くこと
となる。ここで接着層の温度特性とは熱による接着剤の
分解・変質と熱膨張のことを指す。特に、後者の熱膨張
においては、一般にカバーガラス105側の線膨張係数
は10- 6 〜10- 5 K- 1 のオーダーであるのに対
し、接着剤層103の線膨張係数は10- 5 〜10- 4
K- 1 のオーダーであるために、両者の差が加熱により
極めて大きな熱膨張差を生じ、しかも基板サイズが大き
いほどこの熱膨張差は顕著になるために、上記のような
不具合が生じる。
ーガラス105とを接着する接着剤層103には耐熱性
および勿論高い接着性が要求される。これと同時に、前
述の短焦点化の観点(マイクロレンズの焦点距離がレン
ズと接着剤の屈折率差に反比例するという光学特性上の
理由による)から、熱ダレ法で作製されたマイクロレン
ズを短焦点化するためには上記の接着剤層103にはさ
らに低屈折率性も要求される。つまり、マイクロレンズ
102とカバーガラス105とを接着する接着剤層10
3には接着性、耐熱性および低屈折率性を同時に有する
ことが望まれるわけである。
103を低屈折率化するには、接着剤層103として用
いる樹脂をフッ素化すればよいことが一般に知られてい
る。しかしながら、フッ素化された樹脂接着剤は高い耐
熱性を有するものの、その發水性のために接着力が極度
に低く、特に樹脂のフィルムに対しては全く接着性を示
さない。
とカバーガラス105またはフィルムとを接着する一種
類の接着剤層103に高接着性・耐熱性・低屈折率性と
いった、望まれる3つの特性を同時に兼備させることは
極めて困難である。
なされたものであり、その目的とするところは、従来の
ように一種類の接着剤では達成することのできなかっ
た、量産性に優れ、焦点距離が短くかつ集光効果の高い
マイクロレンズ基板を作製することにあり、さらには、
このマイクロレンズ基板を使用することで高品位・高信
頼性で画面の明るい液晶表示素子を提供することにあ
る。
ズが形成された第1の透明基板と、該第1の透明基板上
のレンズと対向するように配置された第2の透明基板と
が樹脂により貼り合わされてなるマイクロレンズ基板に
おいて、前記第1および第2の透明基板間に、マイクロ
レンズを囲うように樹脂からなるシール部が形成されて
いることを特徴とし、そのことにより上記目的が達成さ
れる。
調整樹脂が介在し、前記シール部が、前記屈折率調整樹
脂より接着力の強いものであることが望ましい。
の耐熱性を有する紫外線硬化型樹脂であることが望まし
い。
マイクロレンズを有するマイクロレンズ基板の製造方法
において、前記第1の基板上にマイクロレンズを形成す
る工程と、前記第1の基板上のマイクロレンズの周囲に
シール樹脂を塗布する工程と、前記第1の基板上のシー
ル樹脂塗布領域内に屈折率調整樹脂を塗布する工程と、
前記第1の基板上のマイクロレンズと対向するように前
記第2の透明基板を配置して加圧硬化させる工程とを含
むことを特徴とし、そのことにより上記目的が達成され
る。
ンズを形成したマイクロレンズ基板を備えた液晶表示装
置において、前記マイクロレンズ基板が、マイクロレン
ズを囲うように形成されたシール部を有することを特徴
とし、そのことにより上記目的が達成される。
樹脂によるシール部を設け、マイクロレンズ表面のレベ
リングには透明な屈折率調整樹脂を使用する。さらに、
この屈折率調整樹脂には耐熱温度150℃以上の紫外線
硬化型樹脂を使用するのがよい。紫外線硬化型樹脂は他
の光学部品の接着用途にも使用されている例から、優れ
た透明性を有する。紫外線硬化型樹脂にも耐熱性を付与
することで、高温条件でマイクロレンズ基板に対して様
々な加工が施せるという効果が得られる。以上のよう
に、二種類の樹脂をその機能に応じて使い分けることに
よって、従来のように一種類の樹脂ではできなかった、
低屈折率性、優れた耐熱性ならびに接着性を兼備するこ
とができる。これによって、製造工程においてはカバー
ガラスまたはフィルムの剥離防止、光学特性においては
マイクロレンズの短焦点化という効果が得られる。
ブラックマトリクスと透明電極および配向膜を形成して
対向基板とし、これをアクティブマトリクス基板と貼り
合わせて液晶表示素子を構成することができる。この結
果、高精細な液晶表示素子の内部に、焦点距離の短いマ
イクロレンズを形成することができ、液晶表示素子の実
効開口率の向上、さらには表示画面の明るさの増大とい
った効果を得ることが可能となる。
図2に基づいて以下に説明を行う。なお、本実施形態1
においては本発明のマイクロレンズ基板を液晶表示素子
の対向基板に用いたものを例示して説明するが、本発明
のマイクロレンズ基板は、本実施形態1に限定されるも
のではない。さらに、以下、マイクロレンズ2について
言及した箇所は同様にレンチキュラーレンズについても
実施可能のものとする。
ロレンズ基板を用いたアクティブマトリクス型液晶表示
素子の断面図を示す。
13は、無アルカリガラスからなる透明基板上に画素電
極、スイッチング素子、バス配線等が形成されて成るも
のである(図示せず)。このアクティブマトリクス基板
13に対向する対向基板10との間には、液晶層12が
シール材11によって封入されている。対向基板10は
マイクロレンズ基板6を有している。このマイクロレン
ズ基板6は本実施形態1によるマイクロレンズ基板の製
造方法によって作製されたものであり、その製造方法に
ついては後述する。マイクロレンズ基板6は透明基板
(第1の透明基板)1上に複数のマイクロレンズ2と、
他方の透明基板であるカバーガラス5とが樹脂からなる
平坦化部3およびシール部4を介して貼り合わされた構
成である。マイクロレンズ基板6におけるカバーガラス
(第2の透明基板)5の液晶層12側の面には、ブラッ
クマトリクス7、透明電極8、配向膜9が順に形成され
ている。以上1〜9までを含む基板が液晶表示素子の対
向基板10となる。
た図示しない各画素電極に対応して、複数のマイクロレ
ンズが二次元的に配列されている。また、これら複数の
マイクロレンズ2は本実施形態1においては凸レンズの
形状を有しており、前述の熱ダレ法によって作製され
る。
用いられる、マイクロレンズ2が内部に作り込まれたマ
イクロレンズ基板6の製造方法について図2に従って説
明する。
るマイクロレンズ基板の製造工程を順に示すものであ
る。
明基板1の一方の面上に、前述の熱ダレ法を用いて凸型
のマイクロレンズ2を複数形成する。
する樹脂として屈折率1.56のレジストを用い、画素
ピッチ100μm×100μmとしてマイクロレンズ2
を作成した。このレジストは150℃以上の温度で熱ダ
レを起こし、かつ熱硬化型の樹脂であるのでそれ自身が
耐熱性を有する。また、後述する低屈折率の樹脂でレン
ズ表面をレベリングすることにより、マイクロレンズ2
の空気中の焦点距離は0.33mmとなり、屈折率が
1.52の無アルカリガラス中での焦点距離は0.50
mmとなる。
大面積のものが用いられ、多数の対向基板10が取れる
ようにマイクロレンズは多数枚分形成した。
基板1の周囲および複数のマイクロレンズを囲うように
熱硬化温度170℃、熱分解温度350℃のエポキシ系
熱硬化型樹脂と微小球状のプラスチックスペーサーの混
合物から成るシール部4を、印刷またはディスペンサー
等で塗布する。
工程で薬品等が透明基板1とカバーガラス5との間に浸
入するなどしてマイクロレンズ基板6内部が汚染される
のを防止するためである。また、シール部4にスペーサ
ーを混合させるのは、カバーガラス5を貼り合わせ時に
カバーガラス5と複数のマイクロレンズ2が形成された
透明基板1との間隔を均一にし、反りやうねりをなくす
ためである。また、スペーサーの直径はマイクロレンズ
2の厚さと同じとした。
温度が170℃以上であって300℃以上の耐熱性があ
るものである。このような樹脂は、低屈折率性は要求さ
れず、従ってフッ素化する必要がないので、前記の低屈
折率を有する紫外線硬化型樹脂よりも接着力がはるかに
強い。このような樹脂を選択することにより、後に配向
膜やブラックマトリックスを形成する工程において加熱
処理を行っても、剥離や変形したりすることなく接着力
を維持することができる。
クロレンズ2の表面に平坦化部3となる紫外線硬化型樹
脂を滴下、レベリングする。このとき、樹脂がシール部
4を越えて外にあふれ出ないよう滴下量をコントロール
する。また、本実施形態1において、平坦化部3の形成
には屈折率が1.38、熱分解温度が300℃以上のフ
ッ素化合物である紫外線硬化型樹脂を用いたが、好まし
くは耐熱温度が150℃以上で、マイクロレンズ2より
も低い屈折率を有する樹脂である。さらに好ましくは、
上記の低屈折率とはマイクロレンズのそれよりも低く、
かつ両者の屈折率差が0.1以上のものである。このよ
うに低屈折率の樹脂を選択する理由は、従来技術の項で
前述した、『画素ピッチが数十μm程度の高精細な液晶
パネルでは、マイクロレンズの集光スポットを小さくす
るための開口数の値は少なくとも0.1以上とすること
が好ましい。』という条件を満たし得るものとなるから
である。すなわち、マイクロレンズ2の半径をR、焦点
距離をf、マイクロレンズ2と平坦化部3の形成に用い
る樹脂との屈折率差をΔnとすると、レンズの開口数は
近似的にR/fで表されるので、R/f≧0.1が条件
となる。一方、幾何光学よりこれら3つの変数の間に
は、R=Δn・fの関係が成立する。したがって、前述
の『…』内の条件は、Δn≧0.1と書き換えることが
できる。
が、これとは異なる屈折率を有する平坦化部3を介して
取り付けられていると、マイクロレンズ2と平坦化部3
が接した状態でもレンズ効果が発揮され、このため、マ
イクロレンズ2の焦点距離を短いものとし、集光力を高
めることができる。
は、後の工程でシール部4を硬化させ、さらにガラス基
板上にブラックマトリクス、透明電極、配向膜等を形成
する際に、何れも一般に150℃以上の高温下での加熱
処理が行われるためである。
紫外線硬化型樹脂を用いたが、前述の低屈折率性、高い
耐熱性および接着性を有する樹脂であれば紫外線硬化型
樹脂に限らず、他の感光性樹脂、熱硬化型樹脂等も使用
することができる。
5mmのカバーガラス5をマイクロレンズ表面に接触さ
せた後、基板全面に均一に荷重をかけながら、紫外線を
照射し、平坦化部3を形成する上記の紫外線硬化型樹脂
を硬化させる。
全面に均一に荷重をかけながらオーブンで170℃で1
時間加熱してシール部4を硬化させると、マイクロレン
ズを内蔵したマイクロレンズ基板6が得られる。このよ
うに、シール部4を加熱硬化することにより、本発明の
マイクロレンズ基板は、従来実現しなかった極めて高い
接着性を有することとなる。また、本実施形態1におい
てはシール部4として熱硬化型樹脂を用いたが、高い耐
熱性および接着性を有する樹脂であればこれに限定しな
い。
マイクロレンズ基板6のカバーガラス5の表面にブラッ
クマトリクス7、透明電極8、配向膜9を高温条件下で
形成する。特に、配向膜9にはポリイミドが用いられる
が、イミド化を促進するために180℃前後の温度で焼
成が行われる。カバーガラスの線膨張係数は3.65×
10- 6 K- 1 であるのに対し平坦化部3の線膨張係数
は1.2×10- 4 K- 1 と大きな開きがあるので、こ
のような高温下では基板サイズに比例してカバーガラス
5と平坦化部3との熱膨張量の差が大きくなる。このた
めに、従来はカバーガラス5が平坦化部3から剥離し易
かったが、本発明によれば、このような状態に陥っても
上記の強力な熱硬化樹脂によりシール部4が形成されて
いるため、カバーガラス5と透明基板1が強く密着し、
剥離しにくい。
を更に上げて配向膜の品質を改善することもできる。
板からなる透明基板1、カバーガラス5、アクティブマ
トリクス基板13中の透明基板はいずれも同じ材質のも
のが用いられた。これについても上記と同様に、線膨張
係数の差を原因としたマイクロレンズや基板などの剥離
を防ぐためである。また、同様の理由により、透明基板
1とカバーガラス5には線膨張係数がアクティブマトリ
クス基板13中の透明基板と同程度の樹脂フィルムを用
いても構わない。
子を用いた液晶プロジェクターの光学系38を示す。図
3において、液晶プロジェクターはメタルハライドラン
プ等の白色光源30、UV−IRフィルター31、光源
30からの光を赤,緑,青の三原色それぞれに分解する
ためのダイクロイックミラー32群、反射鏡33、本発
明のマイクロレンズ基板を備えた映像信号に基づいて各
原色画像を表示するための液晶表示素子34、液晶表示
素子からの出射光を投影レンズへ集光するためのフィー
ルドレンズ35、各液晶表示素子を透過した原色光を合
成するためのダイクロイックミラー36群、および投影
レンズ37であり、図示されていないスクリーン上に映
像を拡大投影する。以上30から37までを含めた全体
が液晶プロジェクターの光学系38となる。
ェクターでは、液晶表示素子の画素サイズの縮小化(高
精細化)に応じて、焦点距離の短いマイクロレンズが画
素一つ一つに取り付けられている。その結果、従来の高
精細な液晶表示素子においてブラックマトリクスで遮ら
れていた光を、マイクロレンズによって無駄無く画素開
口部に集光し、明るい表示画面を得ることができた。
基板の製造方法では、マイクロレンズ又はレンチキュラ
ーレンズが形成された第1の透明基板と、該第1の透明
基板上のレンズと対向するように第2の透明基板(カバ
ーガラス)とが貼り合わされており、その接着方法にお
いて、マイクロレンズを囲うように接着力の強い樹脂か
ら成るシール部が形成され、マイクロレンズの表面は透
明樹脂でレベリングされている。これにより、本発明の
マイクロレンズ基板は、従来一つの樹脂では満足できな
かった接着性と低屈折率性とを兼備できる。その結果、
製造面ではカバーガラスまたはフィルムの剥離防止、光
学特性においてはマイクロレンズの短焦点化という効果
を奏する。
樹脂が、さらに、マイクロレンズのレベリングには15
0℃以上の耐熱性を有する紫外線硬化型樹脂が用いられ
る。これにより、上記効果に加えて、基板の耐熱性が向
上し、第2の透明基板の剥がれ防止効果が増す。その結
果、マイクロレンズ基板の信頼性が増し、大面積の基板
に対して高い温度で様々な加工が行えるという効果を奏
する。
造方法により作製された前記マイクロレンズ基板の第2
の透明基板の外側表面に透明電極と配向膜および必要に
応じてブラックマトリクスを形成して対向基板とし、前
記対向基板とアクティブマトリクス基板とを貼り合わせ
て液晶表示素子を構成する。これにより、高精細な液晶
表示素子の対向基板内部に焦点距離の短いマイクロレン
ズを形成することができる。その結果、液晶表示素子の
実効開口率の向上、さらに表示画面の明るさの増大とい
う効果を奏する。
用した液晶表示素子の構造を説明するための断面図であ
る。
ロレンズ基板の製造工程を説明するための断面図であ
る。
学系を説明するための図である。
置の構造を説明するための断面図である。
り合わせ用)シール材 12、112 液晶層 13、113 アクティブマトリクス基板 30 光源 31 UV−IRフィルター 32 ダイクロイックミラー 33 反射鏡 34 液晶表示素子 35 フィールドレンズ 36 ダイクロイックミラー 37 投影レンズ 38 液晶プロジェクターの光学系 103 接着剤層 106 マイクロレンズ内蔵基板
Claims (5)
- 【請求項1】 マイクロレンズが形成された第1の透明
基板と、該第1の透明基板上のレンズと対向するように
配置された第2の透明基板とが樹脂により貼り合わされ
てなるマイクロレンズ基板において、 前記第1および第2の透明基板間に、マイクロレンズを
囲うように樹脂からなるシール部が形成されていること
を特徴とするマイクロレンズ基板。 - 【請求項2】 前記第1および第2の透明基板間に屈折
率調整樹脂が介在し、前記シール部が、前記屈折率調整
樹脂より接着力の強いものであることを特徴とする請求
項1記載のマイクロレンズ基板。 - 【請求項3】 前記屈折率調整樹脂が150℃以上の耐
熱性を有する紫外線硬化型樹脂であることを特徴とする
請求項1または2記載のマイクロレンズ基板。 - 【請求項4】 第1および第2の透明基板間にマイクロ
レンズを有するマイクロレンズ基板の製造方法におい
て、 前記第1の基板上にマイクロレンズを形成する工程と、 前記第1の基板上のマイクロレンズの周囲にシール樹脂
を塗布する工程と、 前記第1の基板上のシール樹脂塗布領域内に屈折率調整
樹脂を塗布する工程と、 前記第1の基板上のマイクロレンズと対向するように前
記第2の透明基板を配置して加圧硬化させる工程と、 を含むことを特徴とするマイクロレンズ基板の製造方
法。 - 【請求項5】 2枚の透明基板間にマイクロレンズを形
成したマイクロレンズ基板を備えた液晶表示装置におい
て、 前記マイクロレンズ基板が、マイクロレンズを囲うよう
に形成されたシール部を有することを特徴とする液晶表
示装置。
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JP32172395A JP3410598B2 (ja) | 1995-12-11 | 1995-12-11 | 表示素子の製造方法 |
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JPH09159806A true JPH09159806A (ja) | 1997-06-20 |
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Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1195197A (ja) * | 1997-09-18 | 1999-04-09 | Ricoh Opt Ind Co Ltd | 液晶プロジェクタ用の液晶デバイスおよび液晶デバイス用の対向基板 |
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JP2009037199A (ja) * | 2007-07-06 | 2009-02-19 | Seiko Epson Corp | レンズアレイ、ラインヘッドおよびそれを用いた画像形成装置 |
JP2021060617A (ja) * | 2020-12-29 | 2021-04-15 | ソニー株式会社 | 表示装置、及び、電子機器 |
-
1995
- 1995-12-11 JP JP32172395A patent/JP3410598B2/ja not_active Expired - Fee Related
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