JPH09155728A - 平面研磨方法 - Google Patents
平面研磨方法Info
- Publication number
- JPH09155728A JPH09155728A JP33998695A JP33998695A JPH09155728A JP H09155728 A JPH09155728 A JP H09155728A JP 33998695 A JP33998695 A JP 33998695A JP 33998695 A JP33998695 A JP 33998695A JP H09155728 A JPH09155728 A JP H09155728A
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- JP
- Japan
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- surface plate
- work
- center
- distance
- works
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- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ワーク２と定盤１との相対速度をワーク２の
揺動位置に拘らず常に一定に保ちながら研磨することが
できる平面研磨方法を得る。 【解決手段】 ワーク２を定盤１と同じ方向に同じ回転
数で回転させながら、定盤中心Ｏからの距離が変化する
方向に揺動させると共に、定盤１及びワーク２の回転数
を、定盤中心Ｏからのワーク２の揺動距離に反比例して
増減させる。
揺動位置に拘らず常に一定に保ちながら研磨することが
できる平面研磨方法を得る。 【解決手段】 ワーク２を定盤１と同じ方向に同じ回転
数で回転させながら、定盤中心Ｏからの距離が変化する
方向に揺動させると共に、定盤１及びワーク２の回転数
を、定盤中心Ｏからのワーク２の揺動距離に反比例して
増減させる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハやガ
ラスウエハ、あるいはその他の精密機械部品のような、
実質的に平面状をしたワークを研磨するための平面研磨
方法に関するものである。
ラスウエハ、あるいはその他の精密機械部品のような、
実質的に平面状をしたワークを研磨するための平面研磨
方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】この種の平面状のワークを研磨する方法
として、例えば、研磨パッドを貼り付けた定盤を使用
し、回転する該定盤にワークを押し付けて研磨する方法
が用いられている。このときワークは、定盤の内外周の
周速差に基づく摩擦力差に応じた速度で自動的に回転さ
せるか、あるいは適当な駆動手段によって一定速度で強
制的に回転させている。そして、上記研磨加工中、研磨
パッドの偏摩耗を防いで作業面の状態を定盤の内外周で
均一にするため、ワークを定盤の内外方向に揺動させる
ようにしている。
として、例えば、研磨パッドを貼り付けた定盤を使用
し、回転する該定盤にワークを押し付けて研磨する方法
が用いられている。このときワークは、定盤の内外周の
周速差に基づく摩擦力差に応じた速度で自動的に回転さ
せるか、あるいは適当な駆動手段によって一定速度で強
制的に回転させている。そして、上記研磨加工中、研磨
パッドの偏摩耗を防いで作業面の状態を定盤の内外周で
均一にするため、ワークを定盤の内外方向に揺動させる
ようにしている。
【０００３】ところが、定盤の周速は内周と外周とで異
なるため、ワークが内周側にある場合と外周側にある場
合とでワークと定盤との相対速度、即ち摺接長に差が生
じ、これがパッドを偏摩耗させたり、発熱温度に差を生
じさせる原因となり、ワークを揺動させても作業面の状
態を均一にすることができないばかりでなく、研磨速度
を一定にすることもできなかった。また、ワークと定盤
との相対回転により、該ワークの定盤内周側に位置する
部分と外周側に位置する部分との間において定盤との相
対速度に差が生じるため、ワークの全面は均一に研磨さ
れにくく、平面精度が悪いという欠点もあった。
なるため、ワークが内周側にある場合と外周側にある場
合とでワークと定盤との相対速度、即ち摺接長に差が生
じ、これがパッドを偏摩耗させたり、発熱温度に差を生
じさせる原因となり、ワークを揺動させても作業面の状
態を均一にすることができないばかりでなく、研磨速度
を一定にすることもできなかった。また、ワークと定盤
との相対回転により、該ワークの定盤内周側に位置する
部分と外周側に位置する部分との間において定盤との相
対速度に差が生じるため、ワークの全面は均一に研磨さ
れにくく、平面精度が悪いという欠点もあった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、ワー
クと定盤との相対速度をワークの揺動位置に拘らず常に
一定に保ちつつ研磨することができる平面研磨方法を提
供することにある。
クと定盤との相対速度をワークの揺動位置に拘らず常に
一定に保ちつつ研磨することができる平面研磨方法を提
供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明によれば、回転する定盤にワークを押し付け
て研磨する平面研磨方法において、上記ワークを定盤と
同じ方向に同じ回転数で自転させながら、定盤中心から
の距離が変化する方向に揺動させると共に、これらの定
盤及びワークの回転数を、定盤中心からのワークの距離
に反比例して増減させることを特徴とする平面研磨方法
が提供される。上記ワークの揺動直線距離は、該ワーク
の直径より大きいことが望ましい。また、本発明の他の
方法によれば、複数のワークをホルダに保持させて、こ
れらのワークを回転する定盤に押し付けて研磨する平面
研磨方法において、上記ホルダを定盤と同じ方向に同じ
回転数で自転させながら、定盤中心からの距離が変化す
る方向に揺動させると共に、これらの定盤及びホルダの
回転数を、定盤中心からのホルダの距離に反比例して増
減させるようにする。上記ホルダの揺動直線距離は、揺
動内側端と外側端とにおいてワークの研磨領域が重複し
ない大きさであることが望ましい。
め、本発明によれば、回転する定盤にワークを押し付け
て研磨する平面研磨方法において、上記ワークを定盤と
同じ方向に同じ回転数で自転させながら、定盤中心から
の距離が変化する方向に揺動させると共に、これらの定
盤及びワークの回転数を、定盤中心からのワークの距離
に反比例して増減させることを特徴とする平面研磨方法
が提供される。上記ワークの揺動直線距離は、該ワーク
の直径より大きいことが望ましい。また、本発明の他の
方法によれば、複数のワークをホルダに保持させて、こ
れらのワークを回転する定盤に押し付けて研磨する平面
研磨方法において、上記ホルダを定盤と同じ方向に同じ
回転数で自転させながら、定盤中心からの距離が変化す
る方向に揺動させると共に、これらの定盤及びホルダの
回転数を、定盤中心からのホルダの距離に反比例して増
減させるようにする。上記ホルダの揺動直線距離は、揺
動内側端と外側端とにおいてワークの研磨領域が重複し
ない大きさであることが望ましい。
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明の研磨方法について、図面
を参照しながら詳細に説明する。図１において、１は回
転自在の定盤であって、モータ等の図示しない駆動源に
接続され、所望の速度で回転されるようになっている。
また、２は半導体ウエハやガラスウエハ、あるいはその
他の精密機械部品のような実質的に円板形をしたワーク
であって、定盤１上の１箇所又は複数箇所に図示しない
ホルダに保持されて配置され、所望の力で該定盤に押し
付けられて研磨加工されるもので、加工中に該ワーク２
は、上記ホルダを介してモータ等の駆動源で強制的に回
転（自転）せしめられると共に、定盤中心Ｏからの距離
が変化する方向に揺動せしめられるようになっている。
上記定盤１及びワーク２の回転速度とワーク２の揺動速
度とは、図示しない制御手段で任意に制御することがで
きる。
を参照しながら詳細に説明する。図１において、１は回
転自在の定盤であって、モータ等の図示しない駆動源に
接続され、所望の速度で回転されるようになっている。
また、２は半導体ウエハやガラスウエハ、あるいはその
他の精密機械部品のような実質的に円板形をしたワーク
であって、定盤１上の１箇所又は複数箇所に図示しない
ホルダに保持されて配置され、所望の力で該定盤に押し
付けられて研磨加工されるもので、加工中に該ワーク２
は、上記ホルダを介してモータ等の駆動源で強制的に回
転（自転）せしめられると共に、定盤中心Ｏからの距離
が変化する方向に揺動せしめられるようになっている。
上記定盤１及びワーク２の回転速度とワーク２の揺動速
度とは、図示しない制御手段で任意に制御することがで
きる。
【０００７】いま、ワーク２を定盤１の半径方向に直線
的に揺動させながら研磨する場合について考える。この
ときのワーク２の半径をｒ、揺動ストロークの内側端及
び外側端におけるワークの中心位置をそれぞれＷ1 及び
Ｗ2 、定盤１の中心Ｏから内側端Ｗ1 までの距離をＲ
1 、定盤１の中心Ｏから外側端Ｗ2 までの距離をＲ2 、
定盤１の回転数をＮ、ワーク２の回転数をｎとし、定盤
１とワーク２の回転方向は同じとする。
的に揺動させながら研磨する場合について考える。この
ときのワーク２の半径をｒ、揺動ストロークの内側端及
び外側端におけるワークの中心位置をそれぞれＷ1 及び
Ｗ2 、定盤１の中心Ｏから内側端Ｗ1 までの距離をＲ
1 、定盤１の中心Ｏから外側端Ｗ2 までの距離をＲ2 、
定盤１の回転数をＮ、ワーク２の回転数をｎとし、定盤
１とワーク２の回転方向は同じとする。
【０００８】先ず、ワーク２が揺動ストロークの内側端
Ｗ1 にある場合において、該ワーク２が定盤１と最も内
周側で接する点ａ1 と外周側で接する点ｂ1 とにおける
該ワーク２と定盤１との相対速度Ｖa1，Ｖb1を求める
と、 Ｖa1＝２π（Ｒ1 −ｒ）・Ｎ＋２πｒ・ｎ Ｖb1＝２π（Ｒ1 ＋ｒ）・Ｎ−２πｒ・ｎ となる。
Ｗ1 にある場合において、該ワーク２が定盤１と最も内
周側で接する点ａ1 と外周側で接する点ｂ1 とにおける
該ワーク２と定盤１との相対速度Ｖa1，Ｖb1を求める
と、 Ｖa1＝２π（Ｒ1 −ｒ）・Ｎ＋２πｒ・ｎ Ｖb1＝２π（Ｒ1 ＋ｒ）・Ｎ−２πｒ・ｎ となる。
【０００９】理論上、これらの相対速度Ｖa1，Ｖb1が互
いに等しい時にワーク２は全面が均一に加工されること
になるから、Ｖa1＝Ｖb1とすると、 ２π（Ｒ1 −ｒ）・Ｎ＋２πｒ・ｎ＝２π（Ｒ1 ＋ｒ）
・Ｎ−２πｒ・ｎ ４πｒ・ｎ＝２π（Ｒ1 ＋ｒ）・Ｎ−２π（Ｒ1 −ｒ）
・Ｎ ４πｒ・ｎ＝４πｒ・Ｎ ∴ ｎ＝Ｎ となり、ワーク２の回転数ｎと定盤１の回転数Ｎとが等
しい時にワーク２は均一に加工されることが分る。
いに等しい時にワーク２は全面が均一に加工されること
になるから、Ｖa1＝Ｖb1とすると、 ２π（Ｒ1 −ｒ）・Ｎ＋２πｒ・ｎ＝２π（Ｒ1 ＋ｒ）
・Ｎ−２πｒ・ｎ ４πｒ・ｎ＝２π（Ｒ1 ＋ｒ）・Ｎ−２π（Ｒ1 −ｒ）
・Ｎ ４πｒ・ｎ＝４πｒ・Ｎ ∴ ｎ＝Ｎ となり、ワーク２の回転数ｎと定盤１の回転数Ｎとが等
しい時にワーク２は均一に加工されることが分る。
【００１０】次に、ワーク２が揺動ストロークの外側端
Ｗ2 にある場合について、該ワーク２が定盤１と最も内
周側で接する点ａ2 と外周側で接する点ｂ2 とにおける
該ワーク２と定盤１との相対速度Ｖa2，Ｖb2を求める
と、 Ｖa2＝２π（Ｒ2 −ｒ）・Ｎ＋２πｒ・ｎ Ｖb2＝２π（Ｒ2 ＋ｒ）・Ｎ−２πｒ・ｎ となる。そこで、上記の場合と同様にＶa2＝Ｖb2とする
と、ｎ＝Ｎが得られ、この位置においてもワーク２の回
転数ｎと定盤１の回転数Ｎとが等しい時にワーク２は均
一に加工されることが分る。
Ｗ2 にある場合について、該ワーク２が定盤１と最も内
周側で接する点ａ2 と外周側で接する点ｂ2 とにおける
該ワーク２と定盤１との相対速度Ｖa2，Ｖb2を求める
と、 Ｖa2＝２π（Ｒ2 −ｒ）・Ｎ＋２πｒ・ｎ Ｖb2＝２π（Ｒ2 ＋ｒ）・Ｎ−２πｒ・ｎ となる。そこで、上記の場合と同様にＶa2＝Ｖb2とする
と、ｎ＝Ｎが得られ、この位置においてもワーク２の回
転数ｎと定盤１の回転数Ｎとが等しい時にワーク２は均
一に加工されることが分る。
【００１１】これらのことは、ワーク２と定盤１とを常
に同じ方向に同じ速度で回転させてやれば、ワーク２の
揺動位置や揺動経路及び揺動速度等には関係なく、該ワ
ーク２の全面を均一に加工することができるということ
を意味している。
に同じ方向に同じ速度で回転させてやれば、ワーク２の
揺動位置や揺動経路及び揺動速度等には関係なく、該ワ
ーク２の全面を均一に加工することができるということ
を意味している。
【００１２】しかしながら、ワーク２と定盤１との相対
速度は該ワーク２の揺動位置によって異なるため、上記
のようにワーク２と定盤１との回転数及び回転方向を等
しくしただけでは、定盤１の内外周における作業面の状
態を均一にすることはできない。即ち、ワーク２が揺動
ストロークの内側端Ｗ1 にある場合と外側端Ｗ2 にある
場合との、それぞれの中心位置における該ワーク２と定
盤１との相対速度ＶW1及びＶW2を求めると、 ＶW1＝２πＲ1 ・Ｎ ＶW2＝２πＲ2 ・Ｎ であって、外側端Ｗ2 にある場合の方が相対速度は大き
い。
速度は該ワーク２の揺動位置によって異なるため、上記
のようにワーク２と定盤１との回転数及び回転方向を等
しくしただけでは、定盤１の内外周における作業面の状
態を均一にすることはできない。即ち、ワーク２が揺動
ストロークの内側端Ｗ1 にある場合と外側端Ｗ2 にある
場合との、それぞれの中心位置における該ワーク２と定
盤１との相対速度ＶW1及びＶW2を求めると、 ＶW1＝２πＲ1 ・Ｎ ＶW2＝２πＲ2 ・Ｎ であって、外側端Ｗ2 にある場合の方が相対速度は大き
い。
【００１３】そこで、ワーク２を揺動させる際に、揺動
ストローク外側端での相対速度ＶW2が内側端での相対速
度ＶW1に等しくなるように定盤１の回転数を漸次変化さ
せることにより、ワーク２の揺動位置とは無関係に該ワ
ーク２と定盤１との相対速度を一定にすることができ
る。この場合、上記相対速度は、定盤１の回転数が一定
の場合に定盤中心Ｏからのワーク２の揺動距離に比例し
て増減するから、定盤１の回転数を変化させる場合は、
ワーク２の揺動距離に反比例してそれを増減させるよう
にすれば良い。具体的には、ワーク２の任意の揺動位置
での定盤回転数をＮX 、定盤中心Ｏからの距離をＲX 、
揺動内側端Ｗ1 における定盤の回転数をＮとした場合
に、ＮX ＝（Ｒ1 ／ＲX ）・Ｎに従って定盤１の回転数
を変化させれば良く、これにより、ワーク２と定盤１と
の相対速度を常に一定に保つことができる。
ストローク外側端での相対速度ＶW2が内側端での相対速
度ＶW1に等しくなるように定盤１の回転数を漸次変化さ
せることにより、ワーク２の揺動位置とは無関係に該ワ
ーク２と定盤１との相対速度を一定にすることができ
る。この場合、上記相対速度は、定盤１の回転数が一定
の場合に定盤中心Ｏからのワーク２の揺動距離に比例し
て増減するから、定盤１の回転数を変化させる場合は、
ワーク２の揺動距離に反比例してそれを増減させるよう
にすれば良い。具体的には、ワーク２の任意の揺動位置
での定盤回転数をＮX 、定盤中心Ｏからの距離をＲX 、
揺動内側端Ｗ1 における定盤の回転数をＮとした場合
に、ＮX ＝（Ｒ1 ／ＲX ）・Ｎに従って定盤１の回転数
を変化させれば良く、これにより、ワーク２と定盤１と
の相対速度を常に一定に保つことができる。
【００１４】この場合、上述したように、ワーク２を均
一に加工するにはワーク２の回転数を常に定盤１と同じ
にしなければならないから、該ワーク２の回転数も同時
に制御する必要がある。なお、定盤の外側を基準（原
点）として考えた場合には、該外側から定盤中心に向け
てのワークの揺動距離が大きくなるほど、比例的に定盤
及びワークの回転数を増大させることになるが、これ
は、単に原点のとりかたを変えただけであって、その意
味するところは、定盤中心からの距離に反比例して定盤
及びワークの回転速度を変化させることと実質的に同じ
である。
一に加工するにはワーク２の回転数を常に定盤１と同じ
にしなければならないから、該ワーク２の回転数も同時
に制御する必要がある。なお、定盤の外側を基準（原
点）として考えた場合には、該外側から定盤中心に向け
てのワークの揺動距離が大きくなるほど、比例的に定盤
及びワークの回転数を増大させることになるが、これ
は、単に原点のとりかたを変えただけであって、その意
味するところは、定盤中心からの距離に反比例して定盤
及びワークの回転速度を変化させることと実質的に同じ
である。
【００１５】かくして、ワーク２を定盤１と同じ方向に
同じ回転数で回転させると同時に、これら定盤１及びワ
ーク２の回転数を、定盤中心Ｏからのワーク２の揺動距
離に反比例して増減させることにより、ワーク２と定盤
１との相対速度を常に一定に保つことが可能となり、こ
の結果、ワーク２の平面精度の向上と、定盤１の内外周
における作業面の均一化、及び発熱温度の一定化を同時
に実現することができる。
同じ回転数で回転させると同時に、これら定盤１及びワ
ーク２の回転数を、定盤中心Ｏからのワーク２の揺動距
離に反比例して増減させることにより、ワーク２と定盤
１との相対速度を常に一定に保つことが可能となり、こ
の結果、ワーク２の平面精度の向上と、定盤１の内外周
における作業面の均一化、及び発熱温度の一定化を同時
に実現することができる。
【００１６】上述した例では、ワーク２の揺動距離Ｌ1
を該ワークの直径２ｒよりも大きく設定することによ
り、揺動内側端Ｗ1 で研磨する場合と揺動外側端Ｗ2 で
研磨する場合とで研磨領域が重複しないようにし、それ
によって定盤１の作業面の状態をより均一化できるよう
にしているが、要求される研磨精度によっては、上記揺
動距離Ｌ1 をワークの直径より小さく設定することもで
きる。
を該ワークの直径２ｒよりも大きく設定することによ
り、揺動内側端Ｗ1 で研磨する場合と揺動外側端Ｗ2 で
研磨する場合とで研磨領域が重複しないようにし、それ
によって定盤１の作業面の状態をより均一化できるよう
にしているが、要求される研磨精度によっては、上記揺
動距離Ｌ1 をワークの直径より小さく設定することもで
きる。
【００１７】また、ワーク２を定盤１の半径方向に直線
的に揺動させているが、定盤中心Ｏからの距離が変化す
る方向であれば揺動方向や揺動経路及び揺動速度等は任
意であり、例えば、Ｗ1 とＷ3 との間で半径と交差する
方向に直線的に揺動させても良く、あるいは、任意の方
向に曲線的に揺動させても良い。そして、これらの場合
においても、ワークの揺動端間の直線距離（揺動直線距
離）が該ワークの直径より大きくても小さくても良いこ
とは、上述した場合と同様である。
的に揺動させているが、定盤中心Ｏからの距離が変化す
る方向であれば揺動方向や揺動経路及び揺動速度等は任
意であり、例えば、Ｗ1 とＷ3 との間で半径と交差する
方向に直線的に揺動させても良く、あるいは、任意の方
向に曲線的に揺動させても良い。そして、これらの場合
においても、ワークの揺動端間の直線距離（揺動直線距
離）が該ワークの直径より大きくても小さくても良いこ
とは、上述した場合と同様である。
【００１８】本発明はまた、図２に示すように、１つの
ホルダ１３に複数のワーク１２を保持させて研磨する場
合にも適用することができる。この場合、上記ホルダ１
３を定盤１１と同じ方向に同じ回転数で回転（自転）さ
せながら、定盤中心Ｏからの距離が変化する方向に揺動
させると共に、これらの定盤１１及びホルダ１２の回転
数を、定盤中心からのホルダの距離に反比例して増減さ
せるようにする。上記ホルダ１３の揺動直線距離Ｌ2
は、図示したように、揺動内側端Ｗ1 においてワークを
研磨する場合と、揺動外側端Ｗ2 においてワークを研磨
する場合とで、ワーク１２の研磨領域が重複しないよう
にするのが望ましいが、要求される研磨精度によって
は、上記研磨領域が若干重複するような大きさに揺動距
離Ｌ2を設定することもできる。
ホルダ１３に複数のワーク１２を保持させて研磨する場
合にも適用することができる。この場合、上記ホルダ１
３を定盤１１と同じ方向に同じ回転数で回転（自転）さ
せながら、定盤中心Ｏからの距離が変化する方向に揺動
させると共に、これらの定盤１１及びホルダ１２の回転
数を、定盤中心からのホルダの距離に反比例して増減さ
せるようにする。上記ホルダ１３の揺動直線距離Ｌ2
は、図示したように、揺動内側端Ｗ1 においてワークを
研磨する場合と、揺動外側端Ｗ2 においてワークを研磨
する場合とで、ワーク１２の研磨領域が重複しないよう
にするのが望ましいが、要求される研磨精度によって
は、上記研磨領域が若干重複するような大きさに揺動距
離Ｌ2を設定することもできる。
【００１９】なお、上記ホルダ１３は、定盤中心Ｏから
の距離が変化する方向であれば、任意の方向に直線又は
曲線に沿って任意の速度で揺動させることができる。ま
た、本発明は、研磨パッドを貼り付けた定盤による研磨
だけでなく、砥石定盤やそれ以外の定盤を使用する通常
の平面研磨にも同様に適用できることは言うまでもない
ことである。
の距離が変化する方向であれば、任意の方向に直線又は
曲線に沿って任意の速度で揺動させることができる。ま
た、本発明は、研磨パッドを貼り付けた定盤による研磨
だけでなく、砥石定盤やそれ以外の定盤を使用する通常
の平面研磨にも同様に適用できることは言うまでもない
ことである。
【００２０】
【発明の効果】このように本発明によれば、ワーク又は
該ワークを保持するホルダを定盤と同じ方向に同じ回転
数で回転させながら、定盤中心からの距離が変化する方
向に揺動させると共に、ワーク又はホルダの回転数を、
定盤中心からの揺動距離に反比例して増減させるように
したので、ワークと定盤との相対速度を常に一定に保つ
ことが可能となって、ワークの平面精度の向上と、定盤
の内外周における作業面の均一化、及び発熱温度の一定
化を同時に実現することができる。
該ワークを保持するホルダを定盤と同じ方向に同じ回転
数で回転させながら、定盤中心からの距離が変化する方
向に揺動させると共に、ワーク又はホルダの回転数を、
定盤中心からの揺動距離に反比例して増減させるように
したので、ワークと定盤との相対速度を常に一定に保つ
ことが可能となって、ワークの平面精度の向上と、定盤
の内外周における作業面の均一化、及び発熱温度の一定
化を同時に実現することができる。
【図１】本発明の研磨方法の一例を説明するための模式
図である。
図である。
【図２】本発明の研磨方法の他例を説明するための模式
図である。
図である。
１，１１ 定盤 ２，１２ ワーク Ｏ 定盤中心 Ｎ 定盤回転数 ｎ ワーク回転数 Ｌ1 ，Ｌ2 揺動
距離
距離
Claims (4)
- 【請求項１】回転する定盤にワークを押し付けて研磨す
る平面研磨方法において、上記ワークを定盤と同じ方向
に同じ回転数で自転させながら、定盤中心からの距離が
変化する方向に揺動させると共に、これらの定盤及びワ
ークの回転数を、定盤中心からのワークの距離に反比例
して増減させることを特徴とする平面研磨方法。 - 【請求項２】ワークの揺動直線距離が該ワークの直径よ
り大きいことを特徴とする請求項１に記載の平面研磨方
法。 - 【請求項３】複数のワークをホルダに保持させて、これ
らのワークを回転する定盤に押し付けて研磨する平面研
磨方法において、上記ホルダを定盤と同じ方向に同じ回
転数で自転させながら、定盤中心からの距離が変化する
方向に揺動させると共に、これらの定盤及びホルダの回
転数を、定盤中心からのホルダの距離に反比例して増減
させることを特徴とする平面研磨方法。 - 【請求項４】ホルダの揺動直線距離が、揺動内側端と外
側端とにおいてワークの研磨領域が重複しない大きさで
あることを特徴とする請求項３に記載の平面研磨方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33998695A JPH09155728A (ja) | 1995-12-04 | 1995-12-04 | 平面研磨方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33998695A JPH09155728A (ja) | 1995-12-04 | 1995-12-04 | 平面研磨方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09155728A true JPH09155728A (ja) | 1997-06-17 |
Family
ID=18332660
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33998695A Pending JPH09155728A (ja) | 1995-12-04 | 1995-12-04 | 平面研磨方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09155728A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6062954A (en) * | 1998-01-09 | 2000-05-16 | Speedfam Co., Ltd. | Semiconductor wafer surface flattening apparatus |
| US6280296B1 (en) | 1998-12-02 | 2001-08-28 | Noritake Co., Ltd. | Surface polishing method and apparatus wherein axis of autorotation of workpiece is revolved about an axis within circumscribed circle of the workpiece |
| CN117300886A (zh) * | 2022-06-27 | 2023-12-29 | 不二越机械工业株式会社 | 双面研磨装置 |
-
1995
- 1995-12-04 JP JP33998695A patent/JPH09155728A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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