JPH09153506A - 半導体樹脂封止用金型及びそれを用いた半導体装置の製造方法 - Google Patents

半導体樹脂封止用金型及びそれを用いた半導体装置の製造方法

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JPH09153506A
JPH09153506A JP31382995A JP31382995A JPH09153506A JP H09153506 A JPH09153506 A JP H09153506A JP 31382995 A JP31382995 A JP 31382995A JP 31382995 A JP31382995 A JP 31382995A JP H09153506 A JPH09153506 A JP H09153506A
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mold
cavity
resin
die
semiconductor
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JP31382995A
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English (en)
Inventor
Isamu Yoshida
勇 吉田
Junichi Saeki
準一 佐伯
Shigeharu Tsunoda
重晴 角田
Kunio Matsumoto
邦夫 松本
Naoya Isada
尚哉 諌田
Ichiro Miyano
一郎 宮野
Hideo Yamakura
英雄 山倉
Kunihiko Nishi
邦彦 西
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】薄型の半導体装置でも樹脂封止する際に、半導
体素子の割れの発生を防止して離型することが可能な半
導体樹脂封止用金型と信頼性の高い樹脂封止された半導
体装置の製造方法とを実現する。 【解決手段】上型1、中型2及び下型3の三つのブロッ
クから構成される半導体樹脂封止用金型であって、上型
1と中型2との間でランナ8及びそれに連結されたゲー
ト6を形成し、中型2と下型3との間でゲート6に連結
されたキャビティを形成し、下型のキャビティ面に貫通
穴10を設けると共に、貫通穴内にエジェクタピン9を
配設する。エジェクタピン9の上面は、下キャビティ4
の底面より低い位置に設けることが好ましい。インサー
ト品となる半導体素子の裏面を下キャビティ4の底面に
接触させて樹脂を注入し、離型工程においては、エジェ
クタピン9を上方向に動かし、半導体素子14の裏面を
押圧して離型するように制御する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置の樹脂
封止用金型及びそれを用いた半導体装置の製造方法に係
り、特に半導体素子、あるいは放熱板の裏面が露出して
いる半導体装置を製造するのに有効な樹脂封止用金型及
びそれを用いた半導体装置の製造方法に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】樹脂封止型半導体装置の薄型化が進むと
成形金型からの離型時に、成形品にクラックやインサー
ト品(半導体素子、リードフレーム等の樹脂封止対象物
の総称)の界面剥離等の信頼性を低下させる要因が増大
する傾向にある。
【0003】また、薄型化に伴い成形時にインサート品
が金型内を移動し、成形不良が増加する傾向がある。こ
れに対処する一つの方法として、成形金型構造に改良を
加えて解決する方法がある。例えば、特開平4−326
529号公報に記載されているように、樹脂封止型半導
体装置を成形金型から離型する時に、半導体装置の樹脂
部の下面をエジェクタピンで押圧して離型することは、
半導体素子や樹脂などにクラックを発生させる懸念があ
るため、半導体装置の周辺のリードフレームをエジェク
タピンで押圧して離型するか、半導体装置の周辺に樹脂
溜り部を設置し、その樹脂溜り部をエジェクタピンで押
圧して離型する構造となっていた。
【0004】また、特開平5−109800号公報に記
載の例では、半導体素子が搭載されるキャビティに樹脂
を供給する経路(ランナ、ゲートなど)と半導体装置の
安定した離型を目的として、ランナ、ゲート、樹脂溜り
部などに離型時に用いるエジェクタピンが設置されてい
る構造となっていた。
【0005】さらに、特開昭55−134940号公報
に記載の例では、樹脂封止中に発生する半導体素子のエ
ッジ部とインナーリードの短絡を防止するために半導体
素子の保持部に吸引孔を設け、半導体素子を真空吸着に
て固定し樹脂封止する方法となっていた。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の金型におい
ては、半導体装置の側面に樹脂を供給するためのゲート
を有しており、半導体装置の薄型化が進むとともに半導
体装置の厚さとゲート出口部の樹脂の厚さの差が小さく
なってくるので、ゲート切断時に半導体装置の樹脂部
に、欠けやクラックなどの損傷が生じるという問題があ
った。また、半導体装置の薄型化が進むとともにリード
フレームも薄くなり、剛性が低下する。従って、離型時
にリードフレームをエジェクタピンで押圧するとリード
フレームが変形し、離型しにくくなるという問題があっ
た。
【0007】さらに、樹脂溜り部を設けることによって
樹脂の材料歩留まりが低下するという問題があった。そ
して、上記従来技術はランナ、ゲートなどにもエジェク
タピンが設けられているので金型コストが高くなるとい
う問題があった。
【0008】また、真空吸引により半導体素子をキャビ
ティに固定する方式では、吸引装置が必要でありそれに
対応して金型構造も複雑となり装置全体のコストが高く
なるという問題があった。
【0009】したがって、本発明の目的は上記従来技術
の問題点を解決することにあり、その第1の目的は、低
コストの金型で薄型の半導体装置でも樹脂封止し離型す
ることが可能な改良された半導体樹脂封止用金型を提供
することにあり、第2の目的は、この金型を使用して薄
型の半導体装置でも容易に樹脂封止し離型することが可
能な、樹脂封止された半導体装置の製造方法を提供する
ことにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記第1の目的は、上
型、中型及び下型の三つのブロックから構成される半導
体樹脂封止用金型であって、上型と中型との間で形成さ
れたランナと、このランナに連結されて中型に形成され
たゲートと、ゲートに連結されて中型と下型との間で形
成されたキャビティと、半導体素子を搭載したリードフ
レームを中型と下型の間に挟持し、半導体素子が接触す
る下型のキャビティ底面に形成された貫通穴と、この貫
通穴内に配設されたエジェクタピンとを有して成る半導
体樹脂封止用金型により、達成することができる。
【0011】そして好ましくは、貫通穴内に配設される
エジェクタピンの上面を、キャビティの底面より低い位
置に設けることである。この場合の金型の装置構成とし
ては、貫通穴内に配設されたエジェクタピンの上面を、
キャビティ内への樹脂注入及び成形時には下型のキャビ
ティ底面より低い位置に、成形後の離型時には成形品の
裏面を押圧してキャビティ底面より高い位置に突出させ
るエジェクタピンの位置制御装置による離型手段を有し
ていることである。
【0012】以下、上型、中型及び下型について代表例
を示し、その特徴点を具体的に説明する。まず、上型で
あるが、裏面の中型との対向面には、ランナの主要部を
構成する溝が所望のランナのパターンに応じて形成され
ており、この溝が中型の上面と接触してトンネル状のラ
ンナを構成する。
【0013】中型には、このランナに連結するゲートが
貫通して設けられ、このゲート開口部を含む中型の裏面
には、一方のキャビティ部を構成する凹部が形成されて
いる。
【0014】そして、下型の表面には、中型の裏面の一
方のキャビティ部に対向する位置に、他方のキャビティ
部となる凹部が形成され、これら両キャビティ部が合体
して成形用のキャビティを構成する。下型のキャビティ
部の底面には貫通口が設けられ、その内部にエジェクタ
ピンが配設されている。
【0015】このような構成から成る金型を用いて、イ
ンサート品となるリードフレームに搭載された半導体素
子を、下型のキャビティの底面に接触するように設置す
ると共に、リードフレームを中型及び下型とで固定した
状態で、樹脂をランナ及びゲートを介してキャビティ内
に注入すれば、インサート品の位置ずれ無しに容易に半
導体素子を樹脂封止することができる。
【0016】また、上記第2の目的を達成する本発明の
樹脂封止された半導体装置の製造法は、上記の樹脂封止
用金型を用いて製造するものであり、インサート品とな
るリードフレームに搭載された半導体素子を、下型のキ
ャビティの底面に接触するように設置すると共に、リー
ドフレームを中型と下型とで固定した状態で、樹脂をラ
ンナ及びゲートを介してキャビティ内に流動して半導体
素子を樹脂封止成形した後、上型、中型を離型し、次い
でエジェクタピンを用いて半導体素子の裏面を押圧して
下型からこの樹脂封止成形品を離型することを特徴とし
ている。
【0017】なお、リードフレームの固定方法として
は、中型と下型とでリードフレームを挟持して固定する
方法、もしくは下型のキャビティ周囲にリードフレーム
の厚さ相当分か、それよりわずかに浅い深さの凹部を形
成して固定する方法が適用される。
【0018】
【発明の実施の形態】この発明における半導体樹脂封止
用金型は、半導体素子を下型のキャビティ面に接触する
ように設置し、キャビティ部の上面からゲートを用いて
樹脂を封止するので、樹脂の下向きに流れる力により半
導体素子は固定され半導体素子のエッジ部とインナーリ
ードの接触を防止する。
【0019】また、ゲートをキャビティ部の上面に設け
たことによりゲートの樹脂と半導体装置の切離しが容易
になる。また、半導体素子を下型のキャビティ面に接触
するように設置されているので、樹脂と下型のキャビテ
ィ底面の接触面積は減少し離型時のエジェクタピンの離
型力も小さくなり、半導体素子の裏面を押圧しても割れ
ることなく離型することが可能になる。さらに、従来の
ように樹脂溜り部を設けなくても離型できるので、樹脂
の材料歩留りを向上できる。
【0020】
【実施例】以下、本発明の具体的な実施例を図面に基づ
いて説明する。 〈実施例1〉図1は、本発明の半導体樹脂封止用金型の
要部を示す一部切欠き断面斜視図である。半導体樹脂封
止用金型は、上型にあたるランナプレート1、中型にあ
たる上キャビティプレート2、下型にあたる下キャビテ
ィプレート3の3枚のプレートで構成している。
【0021】下キャビティプレート3には、半導体装置
の下半分を形成する下キャビティ4、上キャビティプレ
ート2には半導体装置の上半分を形成する上キャビティ
5、樹脂(図示せず)を供給するゲート6、ランナプレ
ート1には樹脂が最初に供給されるカル7、及びカル7
からゲート6へ樹脂を供給するランナ8で構成されてい
る。また、樹脂封止後、半導体装置(図示せず)を下キ
ャビティ4から離型するときに用いるエジェクタピン
9、エジェクタピン9が収納されている貫通穴10が下
キャビティプレート3に構成されている。なお、ゲート
6と貫通穴10とは、図示のようにキャビティ4、5の
中央部に位置し、互いに対向して配置することが望まし
い。
【0022】図2は、ランナプレート1を上から見たと
きの平面図を示す。ランナ8は、カル7から2分岐して
さらに4つに分岐し8本のランナとなってゲート(図示
せず)へ接続する構造になっている。
【0023】図3は、図2のA−Aの断面図を示す。カ
ル7は、樹脂封止後のランナプレート1の離型時に上キ
ャビティプレート2からランナ、カル部の樹脂も同時に
離型するように上面の方が下面の面積より大きい形状に
なっている。
【0024】図4は、上キャビティプレート2を上から
見たときの平面図を示す。上キャビティプレート2には
上キャビティ5とゲート6が形成されており、ゲート6
は上キャビティ5の上面の中心部に位置するところで接
続されている。
【0025】図5は、図4のB−Bの断面図を示す。ゲ
ート6は、離型時にゲートの樹脂がランナの樹脂と同時
に離型するようにゲート上面の面積は広くゲート下面の
面積は小さくなるように先細りになっている。
【0026】図6は、下キャビティプレート3を上から
見たときの平面図を示す。下キャビティプレート3には
下キャビティ4と貫通穴10が形成されており、貫通穴
10は下キャビティ4の上面の中心部に位置するところ
で接続されている。
【0027】図7は、図6のC−Cの断面図を示す。貫
通穴10には、エジェクタピン9が設置されており、エ
ジェクタピン9の上面は離型時以外は下キャビティ4の
下面より低い位置に設置されている。
【0028】また、下キャビティプレート3のキャビテ
ィ周縁部、すなわち、リードフレーム(図示せず)を搭
載するリードフレーム搭載部11では、リードフレーム
の厚み分だけ低くなって凹部を形成し、上キャビティプ
レート2と合わせた時に合わせ面が平面を保つようにな
っている。
【0029】図2〜7で各プレートについて説明した
が、各プレートとの位置合わせ機能、リードフレームの
位置合わせ機能が設けられているのは言うまでもない。
また、この実施例では8個取りの金型について述べた
が、必要に応じて取り数を増減させても何ら支障のない
ことは言うまでもない。
【0030】〈実施例2〉図8〜図13は、実施例1の
金型を用いたときの樹脂封止半導体装置の製造方法の工
程図を示す。すなわち、図8は、リードフレーム12を
設置したときの金型の断面図を示す。上キャビティプレ
ート2と下キャビティプレート3の間にはリードフレー
ム12が設置され、リードフレーム12には金バンプ1
3を介して半導体素子14が搭載されている。この状態
で樹脂封止の準備ができたことになる。
【0031】図9は、樹脂封止中の金型の状態を示す。
樹脂15は、ランナ8、ゲート6を流れて上下キャビテ
ィ部4、5によって構成されたキャビティ16に充填さ
れる。このとき、樹脂15の流れは、半導体素子14の
中心部の上面にあるゲート6から流れるので半導体素子
14を下キャビティ4に押さえつけるように働き、半導
体素子14の移動防止の効果がある。また、半導体素子
14の裏面には貫通穴10が設けられており、エアベン
トとしての働きもあるので半導体装置のボイド発生を防
ぐ効果がある。
【0032】図10は、樹脂充填を完了したときの金型
の断面図を示す。樹脂15がキャビティ内に隅々まで充
填すると完了となる。
【0033】図11は、ランナプレート1(上型)を離
型したときの金型の状態を断面図で示す。図2で説明し
たようにランナプレート1を離型すると、ランナ8、ゲ
ート6の樹脂15もいっしょに離型する。この後、ラン
ナプレート1から樹脂15を離型させる。
【0034】図12は、上キャビティプレート2(中
型)を離型させたときの金型の状態を断面図で示す。上
キャビティプレート2には、エジェクタピンを設けてな
いため、インサート品(リードフレームや半導体素子な
ど)が上キャビティプレート2の方に接着して離型する
と上キャビティプレート2から離型できなくなるので、
必ず下キャビティプレート3に残るような構造にしてお
く必要がある。そこで、上キャビティ5の抜き角θ1を
大きくし下キャビティ4の抜き角θ2を小さくすること
により必ず下キャビティプレート3に残るようにした。
【0035】図13は、下キャビティプレート3(下
型)からインサート品を離型させたときの金型の状態を
断面図で示す。貫通穴10の中に下キャビティ4の底面
より低い位置に設置されているエジェクタピン9を上方
向に移動させて半導体素子14の裏面を直接押圧して離
型させる構造になっている。
【0036】この実施例によれば、半導体素子14の裏
面を樹脂15で封止していないので下キャビティ4と樹
脂15の接着面積が少なく離型力が小さくてすみ半導体
素子14を直接押圧して離型させても半導体素子14は
割れずに離型できるという効果がある。また、半導体素
子14を半導体装置の裏面に露出させているので放熱性
を向上できるという効果もある。
【0037】〈実施例3〉図14〜図15は、本発明の
他の実施例となる樹脂封止半導体装置の製造方法の工程
を断面図で示したものである。使用した金型は、図1に
示した実施例1のものと同一であるが、樹脂封止するイ
ンサート品の構成が異なる。
【0038】すなわち、図14は金型にインサート品が
挿入され、樹脂注入前の状態を示している。上キャビテ
ィ5と下キャビティ4の間には、リードフレーム12が
設置され金バンプ13を介して半導体素子14が搭載さ
れ、半導体素子14の裏面に放熱板17が固着搭載され
下キャビティ4の底面と接触している。樹脂充填、並び
にランナプレート1、上キャビティプレート2の離型工
程は、実施例2と同様な過程を経る。
【0039】図15は、下キャビティプレート3からイ
ンサート品を離型させたときの金型の状態を断面図で示
す。貫通穴10の中に下キャビティ4の底面より低い位
置に設置されているエジェクタピン9を、上方向に移動
させて放熱板17の裏面を直接押圧して離型させる構造
になっている。
【0040】この実施例によれば、放熱板17の裏面を
樹脂で封止していないので、下キャビティ4と樹脂の接
着面積が少なく離型力が小さくてすみ、放熱板17を直
接押圧して離型させてもその上に搭載されている半導体
素子14は、割れずに離型できるという効果がある。ま
た、放熱板17を半導体装置の裏面に露出させているの
で放熱性を向上できるという効果もある。
【0041】〈実施例4〉図16〜図17は、本発明の
他の実施例となる樹脂封止半導体装置の製造方法の工程
を断面図で示したものである。使用した金型は、実施例
1のものと同一であるが、インサート品は、リードフレ
ーム12に半導体装置14を金線19でワイヤーボンデ
ィングした構造ものを使用した。
【0042】図16に示のように、上キャビティ5(中
型2)と下キャビティ4(下型3)の間には、リードフ
レーム12が設置され耐熱性の絶縁テープ18を介して
半導体素子14が搭載され、下キャビティ4の底面と接
触している。また、半導体素子14とリードフレーム1
2は金線19により電気的に接続されている。樹脂充
填、並びにランナプレート1、上キャビティプレート2
の離型工程は、実施例2と同様な過程を経る。
【0043】図17は、下キャビティプレート3(下型
3)からインサート品を離型させたときの金型の状態を
示している。貫通穴10の中に下キャビティ4の底面よ
り低い位置に設置されているエジェクタピン9を上方向
に移動させて、半導体素子14の裏面を直接押圧して離
型させる構造になっている。この実施例によれば、半導
体素子14とリードフレーム12の接続を金線19によ
り接続しているので、実施例2、3の金バンプ13によ
る接続に比べて安価で接続でき製品コストを低減できる
効果がある。
【0044】
【発明の効果】以上説明したように、本発明により所期
の目的を達成することができた。すなわち、半導体素子
の裏面を直接エジェクタピンで押圧して金型から離型さ
せても、半導体素子を割ることなく離型させることがで
きる金型と、それを使用することにより信頼性の高い樹
脂封止半導体装置の製造方法とを実現することができ
た。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例となる半導体樹脂封止用金型の
一部切欠き要部断面斜視図。
【図2】図1に示したランナプレートの平面図。
【図3】図1に示したランナプレートの断面図。
【図4】図1に示した上キャビティプレートの平面図。
【図5】図1に示した上キャビティプレートの断面図。
【図6】図1に示した下キャビティプレートの平面図。
【図7】図1に示した下キャビティプレートの断面図。
【図8】図1の金型を用いて半導体装置を製造する樹脂
注入前の工程図。
【図9】図1の金型を用いて半導体装置を製造する樹脂
注入中の状態を示す工程図。
【図10】図1の金型を用いて半導体装置を製造する樹
脂注入終了時点の状態を示す工程図。
【図11】図1の金型を用いて上型を離型する状態を示
す工程図。
【図12】図1の金型を用いて中型を離型する状態を示
す工程図。
【図13】図1の金型を用いて下型からインサート品を
離型する状態を示す工程図。
【図14】図1の金型を用いて半導体装置を製造する他
の実施例となる樹脂注入前の工程図。
【図15】図1の金型を用いて下型からインサート品を
離型する状態を示す工程図。
【図16】図1の金型を用いて半導体装置を製造する他
の実施例となる樹脂注入前の工程図。
【図17】図1の金型を用いて下型からインサート品を
離型する状態を示す工程図。
【符号の説明】
1…ランナプレート(上型)、 2…上キャビティプレート(中型)、 3…下キャビティプレート(下型)、 4…下キャビティ、 5…上キャビティ、 6…ゲート、 7…カル、 8…ランナ、 9…エジェクタピン、 10…貫通穴、 11…凹部、 12…リードフレーム、 13…金バンプ、 14…半導体素子、 15…樹脂、 16…キャビティ、 17…放熱板、 18…絶縁テープ、 19…金線。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松本 邦夫 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地 株 式会社日立製作所生産技術研究所内 (72)発明者 諌田 尚哉 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地 株 式会社日立製作所生産技術研究所内 (72)発明者 宮野 一郎 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地 株 式会社日立製作所生産技術研究所内 (72)発明者 山倉 英雄 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地 株 式会社日立製作所生産技術研究所内 (72)発明者 西 邦彦 東京都小平市上水本町五丁目20番1号 株 式会社日立製作所半導体事業部内

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】上型、中型及び下型の三つのブロックから
    構成される半導体樹脂封止用金型であって、上型と中型
    との間で形成されたランナと、このランナに連結されて
    中型に形成されたゲートと、ゲートに連結されて中型と
    下型との間で形成されたキャビティと、半導体素子を搭
    載したリードフレームを中型と下型の間に挟持し、半導
    体素子が接触する下型のキャビティ底面に形成された貫
    通穴と、この貫通穴内に配設されたエジェクタピンとを
    有して成る半導体樹脂封止用金型。
  2. 【請求項2】貫通穴内に配設されたエジェクタピンの上
    面を、キャビティ内への樹脂注入及び成形時には下型の
    キャビティ底面より低い位置に、成形後の離型時には成
    形品の裏面を押圧してキャビティ底面より高い位置に突
    出させるエジェクタピンの位置制御装置による離型手段
    を有して成る請求項1記載の半導体樹脂封止用金型。
  3. 【請求項3】貫通穴及び貫通穴内に配設されたエジェク
    タピンを、下型のキャビティ底面の少なくとも中央部近
    傍に有して成る請求項1もしくは2記載の半導体樹脂封
    止用金型。
  4. 【請求項4】中型と下型との対向面にそれぞれ形成され
    た凹部が合体することによってキャビティが形成され、
    中型に形成されたキャビティ面の中央部にランナに連結
    されたゲートが開口し、下型に形成されたキャビティ面
    の中央部にエジェクタピンを嵌装した貫通口が形成され
    ると共に、ゲートと貫通口の中心が略同軸上に配置され
    て成る請求項1乃至3の何れか一つに記載の半導体樹脂
    封止用金型。
  5. 【請求項5】中型に形成されたゲートの直径が、樹脂の
    流動方向に移行するにしたがい絞られて先細りとなって
    キャビティ面に開口して成る請求項1乃至4の何れか一
    つに記載の半導体樹脂封止用金型。
  6. 【請求項6】中型に対面する下型のキャビティ周縁部
    に、リードフレームの厚さ相当分の深さの凹部を形成し
    て、中型と下型とでリードフレームを挟持したときにリ
    ードフレーム表面と下型の表面とを同一平面として段差
    を解消して成る請求項1乃至5の何れか一つに記載の半
    導体樹脂封止用金型。
  7. 【請求項7】中型に形成したキャビティの型抜き角θ1
    を、下型に形成したキャビティの型抜き角θ2より大き
    くして成る請求項1乃至6の何れか一つに記載の半導体
    樹脂封止用金型。
  8. 【請求項8】上型と中型の間でランナを、中型でゲート
    を、中型と下型でキャビティをそれぞれ形成し、リード
    フレームに半導体素子を搭載し、この半導体素子をキャ
    ビティの底面に接触するように設置し、半導体素子が接
    触するキャビティ面には貫通穴を設け、貫通穴の中には
    キャビティ面より低い位置に上面があるエジェクタピン
    を設置してランナ、ゲート及びキャビティの順に樹脂を
    流動させる工程と、樹脂を硬化させた後、上型、中型を
    順次離型させる工程と、エジェクタピンを動作させて半
    導体素子の裏面を直接押圧して下型から樹脂成形された
    半導体装置を離型させる工程とを有して成る半導体装置
    の製造方法。
  9. 【請求項9】上型と中型の間でランナを、中型でゲート
    を、中型と下型でキャビティをそれぞれ形成し、リード
    フレームに半導体素子を搭載し、半導体素子の裏面に放
    熱板を搭載し、放熱板をキャビティの底面に接触するよ
    うに設置し、放熱板が接触するキャビティ面には貫通穴
    を設け、貫通穴の中にはキャビティ面より低い位置に上
    面があるエジェクタピンを設置してランナ、ゲート及び
    キャビティの順に樹脂を流動させる工程と、樹脂を硬化
    させた後、上型、中型を順次離型させる工程と、エジェ
    クタピンを動作させて放熱板の裏面を直接押圧して下型
    から樹脂成形された半導体装置を離型させる工程とを有
    して成る半導体装置の製造方法。
  10. 【請求項10】半導体素子が搭載されたリードフレーム
    を、中型と下型との間に挟持し、半導体素子をキャビテ
    ィの底面に接触させて樹脂成形する工程を有して成る請
    求項8もしくは9記載の半導体装置の製造方法。
  11. 【請求項11】半導体素子が搭載されたリードフレーム
    を、キャビティ周縁部に設けられたリードフレーム厚さ
    相当分の深さの凹部に装着し、中型と下型との合わせ面
    を平坦に保持しつつ半導体素子をキャビティの底面に接
    触させて樹脂成形する工程を有して成る請求項8もしく
    は9記載の半導体装置の製造方法。
JP31382995A 1995-12-01 1995-12-01 半導体樹脂封止用金型及びそれを用いた半導体装置の製造方法 Pending JPH09153506A (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US8928157B2 (en) 2000-06-09 2015-01-06 Vishay-Siliconix Encapsulation techniques for leadless semiconductor packages

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