JPH09152279A - 熱処理炉 - Google Patents
熱処理炉Info
- Publication number
- JPH09152279A JPH09152279A JP7333887A JP33388795A JPH09152279A JP H09152279 A JPH09152279 A JP H09152279A JP 7333887 A JP7333887 A JP 7333887A JP 33388795 A JP33388795 A JP 33388795A JP H09152279 A JPH09152279 A JP H09152279A
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- JP
- Japan
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- heat treatment
- insulating material
- heat
- heat insulating
- furnace
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- Furnace Housings, Linings, Walls, And Ceilings (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 断熱材から発生するタール分や被熱処理物か
ら発生して断熱材中に滲み込んだバインダーの分解物質
などが、熱処理ゾーンに流出することを防止して、良好
な熱処理を行うことを可能にする。 【解決手段】 内部の主要部分に断熱材8を内張りした
炉体1の、断熱材8の表面及び/又は内部に、断熱材8
から発生する分解ガスなどが炉内に流出することを阻止
するためのガス遮断層14を配設する。また、ガス遮断
層14を、高密度セラミック板又は金属板から構成す
る。また、断熱材の表面に、乾燥すると緻密に硬化する
セラミック接着剤を塗布、乾燥することにより、ガス遮
断層を形成する。
ら発生して断熱材中に滲み込んだバインダーの分解物質
などが、熱処理ゾーンに流出することを防止して、良好
な熱処理を行うことを可能にする。 【解決手段】 内部の主要部分に断熱材8を内張りした
炉体1の、断熱材8の表面及び/又は内部に、断熱材8
から発生する分解ガスなどが炉内に流出することを阻止
するためのガス遮断層14を配設する。また、ガス遮断
層14を、高密度セラミック板又は金属板から構成す
る。また、断熱材の表面に、乾燥すると緻密に硬化する
セラミック接着剤を塗布、乾燥することにより、ガス遮
断層を形成する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、熱処理炉に関し、
詳しくは、電子部品用のセラミック素体などを熱処理す
る場合に用いられる、炉内雰囲気を精密に制御すること
が必要な熱処理炉に関する。
詳しくは、電子部品用のセラミック素体などを熱処理す
る場合に用いられる、炉内雰囲気を精密に制御すること
が必要な熱処理炉に関する。
【0002】
【従来の技術】セラミック電子部品などを製造する工程
において用いられる熱処理炉の一つに、例えば、図4に
示すような熱処理炉(炉床回転式熱処理炉)がある。こ
の熱処理炉は、炉体51、被熱処理物(例えばセラミッ
ク素体)56の熱処理を行う熱処理ゾーン52に雰囲気
ガスを供給するための雰囲気ガス供給管53、熱処理ゾ
ーン52内で発生する燃焼ガスや未消費の雰囲気ガスな
どを排気するためのアルミナなどからなる排気管54、
炉体51の下部に昇降可能に配設された炉床55、熱処
理ゾーン52を所定の温度にまで加熱するためのヒータ
(図示せず)などを備えて構成されている。
において用いられる熱処理炉の一つに、例えば、図4に
示すような熱処理炉(炉床回転式熱処理炉)がある。こ
の熱処理炉は、炉体51、被熱処理物(例えばセラミッ
ク素体)56の熱処理を行う熱処理ゾーン52に雰囲気
ガスを供給するための雰囲気ガス供給管53、熱処理ゾ
ーン52内で発生する燃焼ガスや未消費の雰囲気ガスな
どを排気するためのアルミナなどからなる排気管54、
炉体51の下部に昇降可能に配設された炉床55、熱処
理ゾーン52を所定の温度にまで加熱するためのヒータ
(図示せず)などを備えて構成されている。
【0003】また、図5は、この従来の熱処理炉の断熱
構造を示す炉体51の炉壁の断面図である。図5に示す
ように、炉壁は、炉体51を構成する炉体フレーム57
の内側に、フェルト状やボード状などの種々の態様の断
熱材58(58a,58b,58c)を複数層(この例
では3層)配設した構造を有している。
構造を示す炉体51の炉壁の断面図である。図5に示す
ように、炉壁は、炉体51を構成する炉体フレーム57
の内側に、フェルト状やボード状などの種々の態様の断
熱材58(58a,58b,58c)を複数層(この例
では3層)配設した構造を有している。
【0004】そして、断熱材58(58a,58b,5
8c)は、例えば、アルミナ製のスタッドピン59を、
アルミナ製のワッシャ62を介して、炉体フレーム57
に取り付けられたソケット60の内部に配設されたナッ
ト61と係合させることにより、炉体フレーム57に固
定されている。また、炉内を気密に保つために、ソケッ
ト60にはシール用プラグ63が施されるようになって
いる。
8c)は、例えば、アルミナ製のスタッドピン59を、
アルミナ製のワッシャ62を介して、炉体フレーム57
に取り付けられたソケット60の内部に配設されたナッ
ト61と係合させることにより、炉体フレーム57に固
定されている。また、炉内を気密に保つために、ソケッ
ト60にはシール用プラグ63が施されるようになって
いる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来の熱
処理炉においては、被熱処理物56を所定の条件で熱処
理を行った場合、炉体51を構成する断熱材58(58
a,58b,58c)も加熱され、分解ガスや燃焼ガス
を発生して、これが被熱処理物の熱処理に悪影響を与え
るという問題点がある。
処理炉においては、被熱処理物56を所定の条件で熱処
理を行った場合、炉体51を構成する断熱材58(58
a,58b,58c)も加熱され、分解ガスや燃焼ガス
を発生して、これが被熱処理物の熱処理に悪影響を与え
るという問題点がある。
【0006】一般に、断熱材が加熱されることにより発
生するタール分などの熱分解生成物は、セラミック素体
などの被熱処理物に含まれるバインダーと同様、空気雰
囲気中で1000℃程度にまで加熱すると燃焼してしま
うが、通常の熱処理条件で熱処理した場合、炉体51を
構成する断熱材58全体が1000℃にまで加熱される
ことはない。すなわち、断熱材58の内部(炉体51の
外周に近い部分)はその断熱効果により、低温領域に保
持されたままであり、タール分が完全に燃焼除去される
ことがない。そのため、被熱処理物56の熱処理工程
で、断熱材からタール分などの熱分解生成物が徐々に発
生して、熱処理雰囲気に悪影響を及ぼし、良好な熱処理
を行うことを妨げるという問題点がある。例えば、断熱
材58や被熱処理物56の成形時に使用するバインダー
が分解して発生する炭素や水素が、雰囲気中の酸素と結
合し、所望の熱処理雰囲気よりも還元性雰囲気になり、
意図するような熱処理を行うことができなくなる場合が
ある。
生するタール分などの熱分解生成物は、セラミック素体
などの被熱処理物に含まれるバインダーと同様、空気雰
囲気中で1000℃程度にまで加熱すると燃焼してしま
うが、通常の熱処理条件で熱処理した場合、炉体51を
構成する断熱材58全体が1000℃にまで加熱される
ことはない。すなわち、断熱材58の内部(炉体51の
外周に近い部分)はその断熱効果により、低温領域に保
持されたままであり、タール分が完全に燃焼除去される
ことがない。そのため、被熱処理物56の熱処理工程
で、断熱材からタール分などの熱分解生成物が徐々に発
生して、熱処理雰囲気に悪影響を及ぼし、良好な熱処理
を行うことを妨げるという問題点がある。例えば、断熱
材58や被熱処理物56の成形時に使用するバインダー
が分解して発生する炭素や水素が、雰囲気中の酸素と結
合し、所望の熱処理雰囲気よりも還元性雰囲気になり、
意図するような熱処理を行うことができなくなる場合が
ある。
【0007】また、被熱処理物中のバインダーなどが分
解して発生する気体状やミスト状などの分解物質が断熱
材中に滲み込み、その後の熱処理工程で再び熱処理ゾー
ンに流出して熱処理雰囲気に悪影響を及ぼすという問題
点がある。
解して発生する気体状やミスト状などの分解物質が断熱
材中に滲み込み、その後の熱処理工程で再び熱処理ゾー
ンに流出して熱処理雰囲気に悪影響を及ぼすという問題
点がある。
【0008】本発明は、上記問題点を解決するものであ
り、断熱材から発生するタール分や被熱処理物から発生
して断熱材中に滲み込んだバインダーの分解物質など
が、熱処理ゾーンに流出することを防止して、良好な熱
処理を行うことが可能な熱処理炉を提供することを目的
とする。
り、断熱材から発生するタール分や被熱処理物から発生
して断熱材中に滲み込んだバインダーの分解物質など
が、熱処理ゾーンに流出することを防止して、良好な熱
処理を行うことが可能な熱処理炉を提供することを目的
とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の熱処理炉は、内部の主要部分に断熱材を内
張りした炉体の、前記断熱材の表面及び/又は内部に、
断熱材から発生する分解ガスなどが炉内に流出すること
を阻止するためのガス遮断層を配設したことを特徴とし
ている。
に、本発明の熱処理炉は、内部の主要部分に断熱材を内
張りした炉体の、前記断熱材の表面及び/又は内部に、
断熱材から発生する分解ガスなどが炉内に流出すること
を阻止するためのガス遮断層を配設したことを特徴とし
ている。
【0010】また、前記ガス遮断層が、高密度セラミッ
ク板又は金属板からなるものであることを特徴としてい
る。
ク板又は金属板からなるものであることを特徴としてい
る。
【0011】また、前記断熱材の表面に、乾燥すると緻
密に硬化するセラミック接着剤を塗布、乾燥することに
より前記ガス遮断層を形成したことを特徴としている。
密に硬化するセラミック接着剤を塗布、乾燥することに
より前記ガス遮断層を形成したことを特徴としている。
【0012】
【作用】炉体を構成する断熱材の表面及び/又は内部に
ガス遮断層が配設されているため、断熱材から発生する
分解ガスなどが炉体内(熱処理ゾーン)に流出すること
が確実に阻止され、所望の熱処理雰囲気を保って良好な
熱処理を行うことができるようになる。
ガス遮断層が配設されているため、断熱材から発生する
分解ガスなどが炉体内(熱処理ゾーン)に流出すること
が確実に阻止され、所望の熱処理雰囲気を保って良好な
熱処理を行うことができるようになる。
【0013】なお、高密度セラミック板又は金属板を用
いることにより、断熱材の表面及び/又は内部に、確実
にガスの通過を阻止することが可能なガス遮断層を設け
ることが可能になる。
いることにより、断熱材の表面及び/又は内部に、確実
にガスの通過を阻止することが可能なガス遮断層を設け
ることが可能になる。
【0014】さらに、前記断熱材の表面に、乾燥すると
緻密に硬化するセラミック接着剤を塗布して乾燥させる
ことにより、容易にガス遮断層としてのセラミック層を
形成することが可能になり、本発明をより実効あらしめ
ることができる。
緻密に硬化するセラミック接着剤を塗布して乾燥させる
ことにより、容易にガス遮断層としてのセラミック層を
形成することが可能になり、本発明をより実効あらしめ
ることができる。
【0015】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を示し
てその特徴とするところをさらに詳しく説明する。
てその特徴とするところをさらに詳しく説明する。
【0016】図1は、本発明の実施の形態にかかる熱処
理炉の構造を示す断面図である。この熱処理炉は、炉体
1、被熱処理物6の熱処理を行う熱処理ゾーン2に雰囲
気ガスを供給するアルミナなどからなる雰囲気ガス供給
管3、熱処理ゾーン2内で発生する燃焼ガスや未消費の
雰囲気ガスなどを排気するためのアルミナなどからなる
排気管4、炉体1の下部に昇降可能に配設された炉床
5、熱処理ゾーン2を加熱するためのヒータ(図示せ
ず)などを備えて構成されている。
理炉の構造を示す断面図である。この熱処理炉は、炉体
1、被熱処理物6の熱処理を行う熱処理ゾーン2に雰囲
気ガスを供給するアルミナなどからなる雰囲気ガス供給
管3、熱処理ゾーン2内で発生する燃焼ガスや未消費の
雰囲気ガスなどを排気するためのアルミナなどからなる
排気管4、炉体1の下部に昇降可能に配設された炉床
5、熱処理ゾーン2を加熱するためのヒータ(図示せ
ず)などを備えて構成されている。
【0017】また、図2は、この熱処理炉の炉体1を構
成する炉壁の断面図である。図2に示すように、炉壁
は、炉体1を構成する金属製の炉体フレーム7の内側
に、フェルト状やボード状などの種々の態様の断熱材8
(8a,8b,8c)が複数層(この例では3層)配設
された構造を有している。さらに、断熱材8の表面(内
周面)には、熱処理ゾーン2に断熱材8が露出しないよ
うにインコネルからなる耐熱金属板(ガス遮断層)14
が張り付けられている。
成する炉壁の断面図である。図2に示すように、炉壁
は、炉体1を構成する金属製の炉体フレーム7の内側
に、フェルト状やボード状などの種々の態様の断熱材8
(8a,8b,8c)が複数層(この例では3層)配設
された構造を有している。さらに、断熱材8の表面(内
周面)には、熱処理ゾーン2に断熱材8が露出しないよ
うにインコネルからなる耐熱金属板(ガス遮断層)14
が張り付けられている。
【0018】そして、断熱材8(8a,8b,8c)及
び耐熱金属板(ガス遮断層)14は、例えば、アルミナ
製のスタッドピン9を、アルミナ製のワッシャ12を介
して、炉体フレーム7に取り付けられたソケット10の
内部に配設されたナット11と係合させることにより、
炉体フレーム7に固定されている。また、炉内を気密に
保つことができるように、ソケット10にはシール用プ
ラグ13が施されている。
び耐熱金属板(ガス遮断層)14は、例えば、アルミナ
製のスタッドピン9を、アルミナ製のワッシャ12を介
して、炉体フレーム7に取り付けられたソケット10の
内部に配設されたナット11と係合させることにより、
炉体フレーム7に固定されている。また、炉内を気密に
保つことができるように、ソケット10にはシール用プ
ラグ13が施されている。
【0019】上述のように構成された熱処理炉において
は、炉体1を構成する断熱材8の表面が耐熱金属板14
により覆われているので、熱処理工程で断熱材8の温度
が上昇し、タール分などが発生するような条件になって
も、耐熱金属板(ガス遮断層)14により、タール分や
その分解ガスなどが熱処理ゾーン2に流出することが確
実に阻止される。その結果、所望の熱処理雰囲気を保持
して良好な熱処理を行うことが可能になる。
は、炉体1を構成する断熱材8の表面が耐熱金属板14
により覆われているので、熱処理工程で断熱材8の温度
が上昇し、タール分などが発生するような条件になって
も、耐熱金属板(ガス遮断層)14により、タール分や
その分解ガスなどが熱処理ゾーン2に流出することが確
実に阻止される。その結果、所望の熱処理雰囲気を保持
して良好な熱処理を行うことが可能になる。
【0020】なお、上記の実施の形態においては、ガス
遮断層14として、インコネルからなる耐熱金属板を用
いているが、他の金属板を用いることも可能である。ま
た、金属板以外にも、高密度セラミック板などの、ガス
を通過させず、かつ、耐熱性を有するような種々の材料
を用いることが可能である。
遮断層14として、インコネルからなる耐熱金属板を用
いているが、他の金属板を用いることも可能である。ま
た、金属板以外にも、高密度セラミック板などの、ガス
を通過させず、かつ、耐熱性を有するような種々の材料
を用いることが可能である。
【0021】また、ガス遮断層14を形成するにあたっ
て、炉体1の内周面を覆うように耐熱金属板や高密度セ
ラミック板を一体に加工することが困難な場合には、耐
熱金属板や高密度セラミック板を複数片からなる構成と
し、これを継ぎ合せるようにしてもよい。また、その場
合の耐熱金属板や高密度セラミック板の具体的な形状に
ついては特に制約はない。
て、炉体1の内周面を覆うように耐熱金属板や高密度セ
ラミック板を一体に加工することが困難な場合には、耐
熱金属板や高密度セラミック板を複数片からなる構成と
し、これを継ぎ合せるようにしてもよい。また、その場
合の耐熱金属板や高密度セラミック板の具体的な形状に
ついては特に制約はない。
【0022】また、図3は、本発明の他の実施の形態に
かかる熱処理炉の要部を示す断面図である。この熱処理
炉においては、上記の実施の形態(図1及び図2)にか
かる熱処理炉の場合と同様に、炉体1の炉壁は、炉体1
を構成する炉体フレーム7と、フェルト状やボード状な
どの複数層の断熱材8(8a,8b,8c)と、断熱材
8の表面(内周面)に配設されたガス遮断層15とを備
えた構造を有している。なお、図3において、図2と同
一の符号を付した部分は、図2の各部分と同一の部分を
示している。
かかる熱処理炉の要部を示す断面図である。この熱処理
炉においては、上記の実施の形態(図1及び図2)にか
かる熱処理炉の場合と同様に、炉体1の炉壁は、炉体1
を構成する炉体フレーム7と、フェルト状やボード状な
どの複数層の断熱材8(8a,8b,8c)と、断熱材
8の表面(内周面)に配設されたガス遮断層15とを備
えた構造を有している。なお、図3において、図2と同
一の符号を付した部分は、図2の各部分と同一の部分を
示している。
【0023】そして、この実施の形態にかかる熱処理炉
において、ガス遮断層15は、スタッドピン9、ワッシ
ャ12及びナット11により断熱材8を炉体フレーム7
に固定した後、断熱材8の表面(炉体1の内周面)に、
乾燥すると緻密に硬化するセラミック接着剤を塗布、乾
燥することにより形成されている。
において、ガス遮断層15は、スタッドピン9、ワッシ
ャ12及びナット11により断熱材8を炉体フレーム7
に固定した後、断熱材8の表面(炉体1の内周面)に、
乾燥すると緻密に硬化するセラミック接着剤を塗布、乾
燥することにより形成されている。
【0024】この熱処理炉においても、ガス遮断層(セ
ラミック接着剤を塗布、乾燥することにより形成された
セラミック層)15が、断熱材から発生する分解ガスな
どを確実に遮断することができる。その結果、所望の熱
処理雰囲気を保持して良好な熱処理を行うことが可能に
なる。
ラミック接着剤を塗布、乾燥することにより形成された
セラミック層)15が、断熱材から発生する分解ガスな
どを確実に遮断することができる。その結果、所望の熱
処理雰囲気を保持して良好な熱処理を行うことが可能に
なる。
【0025】また、この熱処理炉おいては、セラミック
接着剤を塗布、乾燥するだけでガス遮断層(セラミック
層)15を形成することができるため、製造工程を簡略
化してコストの低減を図ることが可能になる。
接着剤を塗布、乾燥するだけでガス遮断層(セラミック
層)15を形成することができるため、製造工程を簡略
化してコストの低減を図ることが可能になる。
【0026】なお、上記実施例では、断熱材の表面(炉
体の内周面)にガス遮断層を形成した場合について説明
したが、ガス遮断層は、断熱材の内部に設けることも可
能であり、また、表面と内部の両方に設けることも可能
である。
体の内周面)にガス遮断層を形成した場合について説明
したが、ガス遮断層は、断熱材の内部に設けることも可
能であり、また、表面と内部の両方に設けることも可能
である。
【0027】また、断熱材の内部にのみガス遮断層を設
ける場合には、熱処理ゾーンに露出する断熱材として、
熱処理時に熱処理雰囲気に悪影響を及ぼすような分解ガ
スを発生しないものを用いることが望ましい。但し、露
出部分の厚みが小さい場合には、熱処理を何度か繰り返
すうちに、熱分解するような物質が完全に分解除去さ
れ、その後問題なく使用することが可能になることもあ
る。
ける場合には、熱処理ゾーンに露出する断熱材として、
熱処理時に熱処理雰囲気に悪影響を及ぼすような分解ガ
スを発生しないものを用いることが望ましい。但し、露
出部分の厚みが小さい場合には、熱処理を何度か繰り返
すうちに、熱分解するような物質が完全に分解除去さ
れ、その後問題なく使用することが可能になることもあ
る。
【0028】なお、本発明はさらにその他の点において
も、上記の実施の形態に限定されるものではなく、炉体
の具体的な形状や構造、断熱材の種類、ガス遮断層の具
体的な配設態様などに関し、発明の要旨の範囲内におい
て、種々の応用、変形を加えることが可能である。
も、上記の実施の形態に限定されるものではなく、炉体
の具体的な形状や構造、断熱材の種類、ガス遮断層の具
体的な配設態様などに関し、発明の要旨の範囲内におい
て、種々の応用、変形を加えることが可能である。
【0029】
【発明の効果】上述のように、本発明の熱処理炉は、内
部の主要部分に断熱材を内張りした炉体の、断熱材の表
面及び/又は内部に、断熱材から発生する分解ガスなど
が炉内に流出することを阻止するためのガス遮断層を配
設しているので、断熱材から炉体内(熱処理ゾーン)
に、断熱材中の分解ガスなどが流出することを阻止する
ことができる。したがって、所望の熱処理雰囲気を保っ
て良好な熱処理を行うことが可能になる。
部の主要部分に断熱材を内張りした炉体の、断熱材の表
面及び/又は内部に、断熱材から発生する分解ガスなど
が炉内に流出することを阻止するためのガス遮断層を配
設しているので、断熱材から炉体内(熱処理ゾーン)
に、断熱材中の分解ガスなどが流出することを阻止する
ことができる。したがって、所望の熱処理雰囲気を保っ
て良好な熱処理を行うことが可能になる。
【0030】なお、高密度セラミック板又は金属板を用
いることにより、断熱材の表面及び/又は内部に、確実
にガスの通過を阻止することが可能なガス遮断層を設け
ることが可能になる。
いることにより、断熱材の表面及び/又は内部に、確実
にガスの通過を阻止することが可能なガス遮断層を設け
ることが可能になる。
【0031】さらに、断熱材の表面に、乾燥すると緻密
に硬化するセラミック接着剤を塗布して乾燥させること
により、容易にガス遮断層としてのセラミック層を形成
することが可能になり、本発明をさらに実効あらしめる
ことができる。
に硬化するセラミック接着剤を塗布して乾燥させること
により、容易にガス遮断層としてのセラミック層を形成
することが可能になり、本発明をさらに実効あらしめる
ことができる。
【図1】本発明の実施の形態にかかる熱処理炉の構成を
示す断面図である。
示す断面図である。
【図2】本発明の実施の形態にかかる熱処理炉の要部を
示す断面図である。
示す断面図である。
【図3】本発明の他の実施の形態にかかる熱処理炉の要
部を示す断面図である。
部を示す断面図である。
【図4】従来の熱処理炉の構成を示す断面図である。
【図5】従来の熱処理炉の要部を示す断面図である。
1 炉体 2 熱処理ゾーン 3 雰囲気ガス供給管 4 排気管 5 炉床 6 被熱処理物 7 炉体フレーム 8(8a,8b,8c) 断熱材 9 スタッドピン 10 ソケット 11 ナット 12 ワッシャ 13 プラグ 14,15 ガス遮断層
Claims (3)
- 【請求項1】 内部の主要部分に断熱材を内張りした炉
体の、前記断熱材の表面及び/又は内部に、断熱材から
発生する分解ガスなどが炉内に流出することを阻止する
ためのガス遮断層を配設したことを特徴とする熱処理
炉。 - 【請求項2】 前記ガス遮断層が、高密度セラミック板
又は金属板からなるものであることを特徴とする請求項
1記載の熱処理炉。 - 【請求項3】 前記断熱材の表面に、乾燥すると緻密に
硬化するセラミック接着剤を塗布、乾燥することにより
前記ガス遮断層を形成したことを特徴とする請求項1記
載の熱処理炉。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7333887A JPH09152279A (ja) | 1995-11-28 | 1995-11-28 | 熱処理炉 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7333887A JPH09152279A (ja) | 1995-11-28 | 1995-11-28 | 熱処理炉 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09152279A true JPH09152279A (ja) | 1997-06-10 |
Family
ID=18271073
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7333887A Pending JPH09152279A (ja) | 1995-11-28 | 1995-11-28 | 熱処理炉 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH09152279A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003050090A (ja) * | 2001-08-06 | 2003-02-21 | Murata Mfg Co Ltd | 熱処理炉 |
WO2006001098A1 (ja) * | 2004-06-24 | 2006-01-05 | Chugai Ro Co., Ltd. | 炉設備および炉設備のシーズニング方法 |
-
1995
- 1995-11-28 JP JP7333887A patent/JPH09152279A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Legal Events
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040706 |
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A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040906 |
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A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20041124 |