JPS641946Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS641946Y2 JPS641946Y2 JP4836383U JP4836383U JPS641946Y2 JP S641946 Y2 JPS641946 Y2 JP S641946Y2 JP 4836383 U JP4836383 U JP 4836383U JP 4836383 U JP4836383 U JP 4836383U JP S641946 Y2 JPS641946 Y2 JP S641946Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fluidized bed
- independent
- gas
- heat
- gas chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 16
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 claims description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
- Crucibles And Fluidized-Bed Furnaces (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は金属製品等を加熱された流動粒子群の
中で熱処理するための流動層加熱炉に関するもの
である。
中で熱処理するための流動層加熱炉に関するもの
である。
従来用いられている流動層加熱炉はその中に一
の流動層と一のガス室を備えたものであつた。そ
して一の流動層の中に種々の製品を投入して熱処
理を行なつていた。
の流動層と一のガス室を備えたものであつた。そ
して一の流動層の中に種々の製品を投入して熱処
理を行なつていた。
しかるに既に投入した製品の熱処理中に後で追
加して種々の製品を投入する場合、既に一定の温
度に保たれている流動層の温度が低下するという
ことがあつた。このため処理中の製品の温度が下
がり熱処理が不良になるという欠点があるため、
このような追加投入作業は実質上不可能であつ
た。また少量の製品しか投入しない場合、実際に
は流動層の一部しか使用しないのに、一の流動層
全部を一定の雰囲気温度にしなければならなかつ
た。このため流動層を加熱するための熱エネルギ
ーを浪費しているという欠点があつた。
加して種々の製品を投入する場合、既に一定の温
度に保たれている流動層の温度が低下するという
ことがあつた。このため処理中の製品の温度が下
がり熱処理が不良になるという欠点があるため、
このような追加投入作業は実質上不可能であつ
た。また少量の製品しか投入しない場合、実際に
は流動層の一部しか使用しないのに、一の流動層
全部を一定の雰囲気温度にしなければならなかつ
た。このため流動層を加熱するための熱エネルギ
ーを浪費しているという欠点があつた。
そこで本考案は上記の欠点を解決することを目
的とし、後で製品を追加しても処理中の製品に悪
影響を及ぼさずかつ少量の製品であつても熱エネ
ルギーを浪費することなしに熱処理しうるように
した流動層加熱炉に関するものである。
的とし、後で製品を追加しても処理中の製品に悪
影響を及ぼさずかつ少量の製品であつても熱エネ
ルギーを浪費することなしに熱処理しうるように
した流動層加熱炉に関するものである。
すなわち本考案は、流動層及びガス室を断熱材
にて区画し複数個の独立した部屋を設け、独立ガ
ス室には流入ガス送入口を、及び独立流動層の外
上方には排出ガス吸引口をそれぞれ備えかつ独立
した部屋には各々炉蓋が設けられていることを特
徴とする流動層加熱炉に関するものである。
にて区画し複数個の独立した部屋を設け、独立ガ
ス室には流入ガス送入口を、及び独立流動層の外
上方には排出ガス吸引口をそれぞれ備えかつ独立
した部屋には各々炉蓋が設けられていることを特
徴とする流動層加熱炉に関するものである。
以下本考案を図面に基づいて説明する。
第1図は本考案に係る流動層炉熱加熱炉の概略
断面図である。流動層及びガス室は断熱材1で所
定間隔をおいて区画され、独立した部屋を形成し
ている。断熱材1は例えば二枚の断熱ボードの間
にキヤスタを詰め込んだものが用いられる。独立
した部屋には各々独立ガス室2及び独立流動層3
が形成される。独立ガス室2にはガス送入口4が
設置されており、ここから流入ガスが送り込まれ
る。従つて独立ガス室2は他の独立ガス室2とは
関係なく、その室のみに流入ガスを送り込むこと
ができる。独立流動層3も各々断熱ボード1の区
画によつて形成されており、他の独立流動層3の
粒子群が入り込むことはない。独立流動層3の外
上方には排出ガス吸引口5が設置されている。
尚、各々の吸引口4を図示した如く一本のパイプ
に設ければ、複数個の部屋を熱処理のため用いる
際、その一本のパイプから集中的に吸引すればよ
く便利である。このことはまた送入口4について
も同様である。そして各々の独立をした部屋には
炉蓋6が設けられており、各々の部屋に独立して
製品を投入、搬出することができるようになつて
いる。尚、分散板12は各部屋毎に取り付けても
よいし、全体を一枚の板で取り付けてもよい。
断面図である。流動層及びガス室は断熱材1で所
定間隔をおいて区画され、独立した部屋を形成し
ている。断熱材1は例えば二枚の断熱ボードの間
にキヤスタを詰め込んだものが用いられる。独立
した部屋には各々独立ガス室2及び独立流動層3
が形成される。独立ガス室2にはガス送入口4が
設置されており、ここから流入ガスが送り込まれ
る。従つて独立ガス室2は他の独立ガス室2とは
関係なく、その室のみに流入ガスを送り込むこと
ができる。独立流動層3も各々断熱ボード1の区
画によつて形成されており、他の独立流動層3の
粒子群が入り込むことはない。独立流動層3の外
上方には排出ガス吸引口5が設置されている。
尚、各々の吸引口4を図示した如く一本のパイプ
に設ければ、複数個の部屋を熱処理のため用いる
際、その一本のパイプから集中的に吸引すればよ
く便利である。このことはまた送入口4について
も同様である。そして各々の独立をした部屋には
炉蓋6が設けられており、各々の部屋に独立して
製品を投入、搬出することができるようになつて
いる。尚、分散板12は各部屋毎に取り付けても
よいし、全体を一枚の板で取り付けてもよい。
本考案に用いる流動層加熱炉の各部屋の内部構
造は、例えば第2図に示す如きものである。独立
流動層内には放熱体7があり、それは熱源8とそ
れを納めた伝熱性筒体9とよりなつている。放熱
体7としては、いわゆるラジエントバーナーが用
いられる。放熱体7の近傍でかつその位置より少
し下方にプロパン等の可燃性ガスを放出する吹出
口10が設置される。また独立流動層の外上方に
はパイロツトバーナー11が置かれている。吹出
口10より放出した可燃性ガスが燃焼しないで流
動層外へ排出された場合それを完全に燃焼させ安
全性を高めるためである。この内部構造によれば
独立流動層3を加熱する場合、まず放熱体7を所
定の温度にしておきその後吹出口10より可燃性
ガスを放出してそれを燃焼させることによつて炉
の昇温を行なう。この際独立ガス室2へ送り込ま
れる流入ガスは空気を用いるのがよい。このよう
に可燃性ガスによる直接加熱を行なうと比較的短
時間で流動層を一定の温度に昇温することができ
経済的である。従つて各部屋は比較的小回りよく
稼動することができる。
造は、例えば第2図に示す如きものである。独立
流動層内には放熱体7があり、それは熱源8とそ
れを納めた伝熱性筒体9とよりなつている。放熱
体7としては、いわゆるラジエントバーナーが用
いられる。放熱体7の近傍でかつその位置より少
し下方にプロパン等の可燃性ガスを放出する吹出
口10が設置される。また独立流動層の外上方に
はパイロツトバーナー11が置かれている。吹出
口10より放出した可燃性ガスが燃焼しないで流
動層外へ排出された場合それを完全に燃焼させ安
全性を高めるためである。この内部構造によれば
独立流動層3を加熱する場合、まず放熱体7を所
定の温度にしておきその後吹出口10より可燃性
ガスを放出してそれを燃焼させることによつて炉
の昇温を行なう。この際独立ガス室2へ送り込ま
れる流入ガスは空気を用いるのがよい。このよう
に可燃性ガスによる直接加熱を行なうと比較的短
時間で流動層を一定の温度に昇温することができ
経済的である。従つて各部屋は比較的小回りよく
稼動することができる。
以上説明したように本考案は一の流動層及びガ
ス室を断熱材にて区画し独立した部屋とし独立流
動層は他の独立流動層と無関係に加熱しうる。従
つて流動層加熱炉の一部のみを嫁動することがで
き、熱エネルギーの浪費をなくすことができると
いう効果がある。また後で製品を追加したい場合
には、未嫁動の独立流動層を加熱して熱処理に用
いることができ、処理中の流動層中へ追加したい
製品を投入しなくともよいので、処理中の製品に
悪影響を及ぼすことがないという効果を奏する。
また第2図に示す如き内部構造を持つ部屋を作れ
ば、比較的短時間に独立流動層を加熱することが
できるので経済的である。
ス室を断熱材にて区画し独立した部屋とし独立流
動層は他の独立流動層と無関係に加熱しうる。従
つて流動層加熱炉の一部のみを嫁動することがで
き、熱エネルギーの浪費をなくすことができると
いう効果がある。また後で製品を追加したい場合
には、未嫁動の独立流動層を加熱して熱処理に用
いることができ、処理中の流動層中へ追加したい
製品を投入しなくともよいので、処理中の製品に
悪影響を及ぼすことがないという効果を奏する。
また第2図に示す如き内部構造を持つ部屋を作れ
ば、比較的短時間に独立流動層を加熱することが
できるので経済的である。
第1図は本考案に係る流動層加熱炉の概略断面
図であり、第2図は各部屋の内部構造を示した概
略断面図である。1は断熱ボード、2は独立ガス
室、3は独立流動層、4は流入ガス送入口、5は
排出ガス吸引口、6は各部屋の炉蓋である。
図であり、第2図は各部屋の内部構造を示した概
略断面図である。1は断熱ボード、2は独立ガス
室、3は独立流動層、4は流入ガス送入口、5は
排出ガス吸引口、6は各部屋の炉蓋である。
Claims (1)
- 流動層及びガス室を断熱材にて区画し複数個の
独立した部屋を設け、独立ガス室には流入ガス送
入口を、及び独立流動層の外上方には排出ガス吸
引口をそれぞれ備え、かつ独立をした部屋には
各々炉蓋が備えられていることを特徴とする流動
層加熱炉。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4836383U JPS59152394U (ja) | 1983-03-31 | 1983-03-31 | 流動層加熱炉 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4836383U JPS59152394U (ja) | 1983-03-31 | 1983-03-31 | 流動層加熱炉 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59152394U JPS59152394U (ja) | 1984-10-12 |
JPS641946Y2 true JPS641946Y2 (ja) | 1989-01-18 |
Family
ID=30178892
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4836383U Granted JPS59152394U (ja) | 1983-03-31 | 1983-03-31 | 流動層加熱炉 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59152394U (ja) |
-
1983
- 1983-03-31 JP JP4836383U patent/JPS59152394U/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS59152394U (ja) | 1984-10-12 |
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