JPH09143125A - ビシクロヘキシル−４，４’−ジオールの不飽和カルボン酸ジエステル - Google Patents
ビシクロヘキシル−４，４’−ジオールの不飽和カルボン酸ジエステルInfo
- Publication number
- JPH09143125A JPH09143125A JP7305586A JP30558695A JPH09143125A JP H09143125 A JPH09143125 A JP H09143125A JP 7305586 A JP7305586 A JP 7305586A JP 30558695 A JP30558695 A JP 30558695A JP H09143125 A JPH09143125 A JP H09143125A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- diol
- bicyclohexyl
- unsaturated carboxylic
- carboxylic acid
- acid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F22/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof
- C08F22/10—Esters
- C08F22/1006—Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols, e.g. ethylene glycol dimethacrylate
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】新規な不飽和カルボン酸ジエステルを提供する
ことにある。 【解決手段】本発明によれば、一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｒは、水素又は炭素原子数が１〜４のアルキル
基を示す。）で表わされるビシクロヘキシル−4,4'−ジ
オールの不飽和カルボン酸ジエステルが提供される。
ことにある。 【解決手段】本発明によれば、一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｒは、水素又は炭素原子数が１〜４のアルキル
基を示す。）で表わされるビシクロヘキシル−4,4'−ジ
オールの不飽和カルボン酸ジエステルが提供される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規なビシクロヘ
キシル−4,4'−ジオールの不飽和カルボン酸ジエステル
に関する。このようなビシクロヘキシル−4,4'−ジオー
ルの不飽和カルボン酸ジエステルは、光重合性の不飽和
結合を有するところから、光硬化性樹脂の基材や基材成
分として特に有用である。その具体的な用途の例として
は、例えば、印刷用インキ用の基材成分、ガラス・無機
材料用塗料、金属用塗料、プラスチック用塗料、紙・木
工用塗料等の各種塗料の基材成分、各種接着剤の基材成
分、プリント配線基板のレジストインキ、ドライフィル
ムレジストや液状レジストの基材成分、樹脂凸版やフレ
キソ版の感光性印刷版の基材成分等を挙げることができ
る。また、生体適合性材料として、人工歯、義歯床用材
料、虫歯充填用材料等、メタクリル系材料の代替や組合
わせ材料としても用いることができる。更に、不飽和ポ
リエステルの耐熱・耐候性向上剤や、メタクリル樹脂の
靱性向上のための改質成分等としても、有用に用いるこ
とができる。
キシル−4,4'−ジオールの不飽和カルボン酸ジエステル
に関する。このようなビシクロヘキシル−4,4'−ジオー
ルの不飽和カルボン酸ジエステルは、光重合性の不飽和
結合を有するところから、光硬化性樹脂の基材や基材成
分として特に有用である。その具体的な用途の例として
は、例えば、印刷用インキ用の基材成分、ガラス・無機
材料用塗料、金属用塗料、プラスチック用塗料、紙・木
工用塗料等の各種塗料の基材成分、各種接着剤の基材成
分、プリント配線基板のレジストインキ、ドライフィル
ムレジストや液状レジストの基材成分、樹脂凸版やフレ
キソ版の感光性印刷版の基材成分等を挙げることができ
る。また、生体適合性材料として、人工歯、義歯床用材
料、虫歯充填用材料等、メタクリル系材料の代替や組合
わせ材料としても用いることができる。更に、不飽和ポ
リエステルの耐熱・耐候性向上剤や、メタクリル樹脂の
靱性向上のための改質成分等としても、有用に用いるこ
とができる。
【０００２】
【従来の技術】従来、多価アルコールの不飽和カルボン
酸エステルとしては、フタル酸／1,６−ヘキサンジオー
ル／アクリル酸からなる所謂エステルアクリレート、エ
ポキシ樹脂にアクリル酸を付加させた所謂エポキシアク
リレート等がよく知られており、広い分野において用い
られている。しかしながら、これらの多くは、常温で固
体であるか、又は粘稠な液体であって、取扱い性に問題
があるために、多くの場合、主として、脂肪族アルコー
ルのアクリル酸エステルやメタクリル酸エステルが反応
性希釈剤として組み合わせて用いられている。
酸エステルとしては、フタル酸／1,６−ヘキサンジオー
ル／アクリル酸からなる所謂エステルアクリレート、エ
ポキシ樹脂にアクリル酸を付加させた所謂エポキシアク
リレート等がよく知られており、広い分野において用い
られている。しかしながら、これらの多くは、常温で固
体であるか、又は粘稠な液体であって、取扱い性に問題
があるために、多くの場合、主として、脂肪族アルコー
ルのアクリル酸エステルやメタクリル酸エステルが反応
性希釈剤として組み合わせて用いられている。
【０００３】このような脂肪族アルコールのアクリル酸
エステルやメタクリル酸エステルとしては、単官能性の
ものとしては、例えば、２−エチルヘキシルアクリレー
ト、エトキシジエチレングリコールアクリレート、フェ
ノキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルア
クリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、シ
クロペンテニルアクリレート等が用いられている。ま
た、二官能性のものとしては、例えば、ネオペンチルグ
リコールジアクリレート、1,６−ヘキサンジオールジア
クリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート等
が、更に、多官能性のものとしては、例えば、トリメチ
ロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトー
ルトリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサア
クリレート等が用いられている。
エステルやメタクリル酸エステルとしては、単官能性の
ものとしては、例えば、２−エチルヘキシルアクリレー
ト、エトキシジエチレングリコールアクリレート、フェ
ノキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルア
クリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、シ
クロペンテニルアクリレート等が用いられている。ま
た、二官能性のものとしては、例えば、ネオペンチルグ
リコールジアクリレート、1,６−ヘキサンジオールジア
クリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート等
が、更に、多官能性のものとしては、例えば、トリメチ
ロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトー
ルトリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサア
クリレート等が用いられている。
【０００４】しかしながら、従来、脂環式アルコールの
不飽和カルボン酸エステルは、極めて限られたものし
か、知られていない。例えば、単官能脂環族アルコール
のアクリレートとしては、シクロヘキシルアクリレート
とシクロヘキシルメタアクリレートが特開昭５８−２１
３７３３号公報に記載されている。また、二官能以上の
脂環族アルコールのアクリレートとしては、例えば、2,
２−ビス（４−ヒドロキシシクロヘキシル）プロパンの
ジアクリレートが特開昭６１−２２１２１０号公報に、
また、2,２−ビス（４−ヒドロキシシクロヘキシル）プ
ロパンのジメタクリレートが特公昭４７−５０１０６号
公報及び特開昭６１−２２１２１０号公報にそれぞれ記
載されている。しかし、従来、ビシクロヘキシル−4,4'
−ジオールの不飽和カルボン酸ジエステルは、知られて
いない。
不飽和カルボン酸エステルは、極めて限られたものし
か、知られていない。例えば、単官能脂環族アルコール
のアクリレートとしては、シクロヘキシルアクリレート
とシクロヘキシルメタアクリレートが特開昭５８−２１
３７３３号公報に記載されている。また、二官能以上の
脂環族アルコールのアクリレートとしては、例えば、2,
２−ビス（４−ヒドロキシシクロヘキシル）プロパンの
ジアクリレートが特開昭６１−２２１２１０号公報に、
また、2,２−ビス（４−ヒドロキシシクロヘキシル）プ
ロパンのジメタクリレートが特公昭４７−５０１０６号
公報及び特開昭６１−２２１２１０号公報にそれぞれ記
載されている。しかし、従来、ビシクロヘキシル−4,4'
−ジオールの不飽和カルボン酸ジエステルは、知られて
いない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、新規なビシ
クロヘキシル−4,4'−ジオールの不飽和カルボン酸ジエ
ステルを提供することを目的とする。
クロヘキシル−4,4'−ジオールの不飽和カルボン酸ジエ
ステルを提供することを目的とする。
【０００６】
【発明を解決するための手段】本発明によるビシクロヘ
キシル−4,4'−ジオールの不飽和カルボン酸ジエステル
は、一般式（Ｉ）
キシル−4,4'−ジオールの不飽和カルボン酸ジエステル
は、一般式（Ｉ）
【０００７】
【化２】
【０００８】（式中、Ｒは、水素又は炭素原子数が１〜
４のアルキル基を示す。）で表わされる。
４のアルキル基を示す。）で表わされる。
【０００９】
【発明の実施の形態】前記一般式（Ｉ）で表わされるビ
シクロヘキシル−4,4'−ジオールの不飽和カルボン酸ジ
エステルにおいて、Ｒは水素又はアルキル基であり、ア
ルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロ
ピル基又はブチル基を挙げることができる。本発明にお
いて、Ｒは、好ましくは、水素又はメチル基である。
シクロヘキシル−4,4'−ジオールの不飽和カルボン酸ジ
エステルにおいて、Ｒは水素又はアルキル基であり、ア
ルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロ
ピル基又はブチル基を挙げることができる。本発明にお
いて、Ｒは、好ましくは、水素又はメチル基である。
【００１０】従って、本発明によるかかるビシクロヘキ
シル−4,4'−ジオールの不飽和カルボン酸ジエステルの
好ましい具体例として、例えば、(1) ビシクロヘキシル
−4,4'−ジオールのジアクリレート、(2) ビシクロヘキ
シル−4,4'−ジオールのジメタクリレート、(3) ビシク
ロヘキシル−4,4'−ジオールのジ（α−エチルアクリレ
ート）、(4) ビシクロヘキシル−4,4'−ジオールのジ
（α−プロピルアクリレート）、(5) ビシクロヘキシル
−4,4'−ジオールのジ（α−ブチルアクリレート）等を
挙げることができる。
シル−4,4'−ジオールの不飽和カルボン酸ジエステルの
好ましい具体例として、例えば、(1) ビシクロヘキシル
−4,4'−ジオールのジアクリレート、(2) ビシクロヘキ
シル−4,4'−ジオールのジメタクリレート、(3) ビシク
ロヘキシル−4,4'−ジオールのジ（α−エチルアクリレ
ート）、(4) ビシクロヘキシル−4,4'−ジオールのジ
（α−プロピルアクリレート）、(5) ビシクロヘキシル
−4,4'−ジオールのジ（α−ブチルアクリレート）等を
挙げることができる。
【００１１】これらのなかでは、不飽和カルボン酸原料
が容易に入手できるところから、ビシクロヘキシル−4,
4'−ジオールジアクリレートとビシクロヘキシル−4,4'
−ジオールジメタクリレートが特に好ましい。
が容易に入手できるところから、ビシクロヘキシル−4,
4'−ジオールジアクリレートとビシクロヘキシル−4,4'
−ジオールジメタクリレートが特に好ましい。
【００１２】本発明によるビシクロヘキシル−4,4'−ジ
オールの不飽和カルボン酸ジエステルは、ビシクロヘキ
シル−4,4'−ジオールを酸触媒及び重合禁止剤の存在下
に、一般式（II）
オールの不飽和カルボン酸ジエステルは、ビシクロヘキ
シル−4,4'−ジオールを酸触媒及び重合禁止剤の存在下
に、一般式（II）
【００１３】
【化３】
【００１４】（式中、Ｒは、水素又は炭素原子数が１〜
４のアルキル基を示す。）で表わされる不飽和カルボン
酸と反応させることによって得ることができる。
４のアルキル基を示す。）で表わされる不飽和カルボン
酸と反応させることによって得ることができる。
【００１５】以下に、本発明によるビシクロヘキシル−
4,4'−ジオールの不飽和カルボン酸ジエステルの製造方
法について詳細に説明する。上記一般式（II）で表わさ
れる不飽和カルボン酸としては、例えば、アクリル酸、
メタクリル酸、α−エチルアクリル酸、α−プロピルア
クリル酸、α−ブチルアクリル酸等を挙げることができ
る。これらのなかでは、工業的に製造されており、経済
的に容易に入手することができるアクリル酸又はメタク
リル酸が特に好ましい。
4,4'−ジオールの不飽和カルボン酸ジエステルの製造方
法について詳細に説明する。上記一般式（II）で表わさ
れる不飽和カルボン酸としては、例えば、アクリル酸、
メタクリル酸、α−エチルアクリル酸、α−プロピルア
クリル酸、α−ブチルアクリル酸等を挙げることができ
る。これらのなかでは、工業的に製造されており、経済
的に容易に入手することができるアクリル酸又はメタク
リル酸が特に好ましい。
【００１６】ビシクロヘキシル−4,4'−ジオールと不飽
和カルボン酸とのエステル化反応において、不飽和カル
ボン酸は、特に限定されるものではないが、エステル化
反応の効率やエステル化反応によって得られた目的物の
精製の容易性を考慮して、ビシクロヘキシル−4,4'−ジ
オール１モル部に対して、2.０〜6.０モル部、好ましく
は2.４〜3.６モル部の範囲で用いられる。
和カルボン酸とのエステル化反応において、不飽和カル
ボン酸は、特に限定されるものではないが、エステル化
反応の効率やエステル化反応によって得られた目的物の
精製の容易性を考慮して、ビシクロヘキシル−4,4'−ジ
オール１モル部に対して、2.０〜6.０モル部、好ましく
は2.４〜3.６モル部の範囲で用いられる。
【００１７】本発明によれば、ビシクロヘキシル−4,4'
−ジオールと不飽和カルボン酸とのエステル化反応は、
酸触媒及び重合禁止剤の存在下に行なわれる。上記酸触
媒としては、特に、限定されるものではないが、好まし
い酸触媒として、例えば、塩酸、臭化水素酸、硫酸、リ
ン酸等の無機酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンス
ルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスル
ホン酸、トリクロロ酢酸、シュウ酸、ギ酸等の有機酸、
陽イオン交換樹脂等の固体酸、塩化亜鉛、塩化スズ、塩
化第二鉄、塩化第二銅、硫酸第二銅等のルイス酸、活性
白土等を挙げることができる。
−ジオールと不飽和カルボン酸とのエステル化反応は、
酸触媒及び重合禁止剤の存在下に行なわれる。上記酸触
媒としては、特に、限定されるものではないが、好まし
い酸触媒として、例えば、塩酸、臭化水素酸、硫酸、リ
ン酸等の無機酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンス
ルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスル
ホン酸、トリクロロ酢酸、シュウ酸、ギ酸等の有機酸、
陽イオン交換樹脂等の固体酸、塩化亜鉛、塩化スズ、塩
化第二鉄、塩化第二銅、硫酸第二銅等のルイス酸、活性
白土等を挙げることができる。
【００１８】ビシクロヘキシル−4,4'−ジオールと不飽
和カルボン酸とのエステル化反応において、用いる酸触
媒と反応温度によっては、ビシクロヘキシル−4,4'−ジ
オールの分子内脱水反応が引き起こされることがある。
しかし、用いる酸触媒の量と反応温度を適正に選択する
ことによって、分子内脱水反応を抑制することができ
る。特に、硫酸、リン酸及びｐ−トルエンスルホン酸
は、このようなビシクロヘキシル−4,4'−ジオールの分
子内脱水反応を起こし難いので、本発明においては、特
に、硫酸、リン酸又はｐ−トルエンスルホン酸が酸触媒
として好ましく用いられる。
和カルボン酸とのエステル化反応において、用いる酸触
媒と反応温度によっては、ビシクロヘキシル−4,4'−ジ
オールの分子内脱水反応が引き起こされることがある。
しかし、用いる酸触媒の量と反応温度を適正に選択する
ことによって、分子内脱水反応を抑制することができ
る。特に、硫酸、リン酸及びｐ−トルエンスルホン酸
は、このようなビシクロヘキシル−4,4'−ジオールの分
子内脱水反応を起こし難いので、本発明においては、特
に、硫酸、リン酸又はｐ−トルエンスルホン酸が酸触媒
として好ましく用いられる。
【００１９】このような酸触媒の使用量は、一般のエス
テル化反応における量と同じでよく、従って、ビシクロ
ヘキシル−4,4'−ジオールの１モル部に対して、通常、
0.０００１〜0.１モル部、好ましくは、0.００１〜0.０
５モル部の範囲である。
テル化反応における量と同じでよく、従って、ビシクロ
ヘキシル−4,4'−ジオールの１モル部に対して、通常、
0.０００１〜0.１モル部、好ましくは、0.００１〜0.０
５モル部の範囲である。
【００２０】重合禁止剤としては、例えば、ハイドロキ
ノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ハイドロキ
ノンモノエチルエーテル、メチルハイドロキノン、フェ
ノチアジン、ｔ−ブチルクレゾール等、従来より知られ
ている通常の重合禁止剤が用いられる。その使用量は、
不飽和カルボン酸に対して、通常、１０〜１００００ｐ
ｐｍ、好ましくは、１００〜５０００ｐｐｍの範囲であ
る。
ノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ハイドロキ
ノンモノエチルエーテル、メチルハイドロキノン、フェ
ノチアジン、ｔ−ブチルクレゾール等、従来より知られ
ている通常の重合禁止剤が用いられる。その使用量は、
不飽和カルボン酸に対して、通常、１０〜１００００ｐ
ｐｍ、好ましくは、１００〜５０００ｐｐｍの範囲であ
る。
【００２１】本発明においては、反応は、好ましくは、
有機溶媒の存在下で行なわれる。有機溶媒としては、例
えば、不飽和カルボン酸と反応するアルコール類やアミ
ン類等を除けば、特に、限定されるものではないが、水
に不溶性で、且つ、水と共沸し得る有機溶媒が好まし
く、そのような有機溶媒として、例えば、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン、ジクロロエタン等を挙げることがで
きる。これらのなかでは、特に、トルエンが好ましく用
いられる。
有機溶媒の存在下で行なわれる。有機溶媒としては、例
えば、不飽和カルボン酸と反応するアルコール類やアミ
ン類等を除けば、特に、限定されるものではないが、水
に不溶性で、且つ、水と共沸し得る有機溶媒が好まし
く、そのような有機溶媒として、例えば、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン、ジクロロエタン等を挙げることがで
きる。これらのなかでは、特に、トルエンが好ましく用
いられる。
【００２２】このような有機溶媒の使用量は、特に、限
定されるものではないが、通常、ビシクロヘキシル−4,
4'−ジオールの１０重量倍以下であり、好ましくは、ビ
シクロヘキシル−4,4'−ジオールの１〜６重量倍の範囲
である。
定されるものではないが、通常、ビシクロヘキシル−4,
4'−ジオールの１０重量倍以下であり、好ましくは、ビ
シクロヘキシル−4,4'−ジオールの１〜６重量倍の範囲
である。
【００２３】本発明において、エステル化反応は、通
常、８０〜２００℃、好ましくは、９０℃〜１３０℃の
範囲で行なわれる。エステル化反応は、通常、常圧下で
行なわれるが、用いる有機溶媒の沸点によっては、反応
温度が前記範囲内になるように、加圧下又は減圧下に行
なってもよい。このような条件下にエステル化反応を行
なえば、反応は、通常、１〜２０時間で終了する。
常、８０〜２００℃、好ましくは、９０℃〜１３０℃の
範囲で行なわれる。エステル化反応は、通常、常圧下で
行なわれるが、用いる有機溶媒の沸点によっては、反応
温度が前記範囲内になるように、加圧下又は減圧下に行
なってもよい。このような条件下にエステル化反応を行
なえば、反応は、通常、１〜２０時間で終了する。
【００２４】このようにして、エステル化反応を行なっ
た後、得られた反応混合物にアルカリ水溶液を加えて、
反応系を中和した後、油層と水層とを分離し、得られた
油層から有機溶媒を減圧留去するか、得られた油層をそ
のまま、又は得られた油層から有機溶媒を留去して濃縮
した後、得られた不飽和カルボン酸ジエステルに対する
貧溶媒を加えて、晶析する方法によって、目的とする不
飽和カルボン酸ジエステルを回収することができる。
た後、得られた反応混合物にアルカリ水溶液を加えて、
反応系を中和した後、油層と水層とを分離し、得られた
油層から有機溶媒を減圧留去するか、得られた油層をそ
のまま、又は得られた油層から有機溶媒を留去して濃縮
した後、得られた不飽和カルボン酸ジエステルに対する
貧溶媒を加えて、晶析する方法によって、目的とする不
飽和カルボン酸ジエステルを回収することができる。
【００２５】この晶析のために用いる上記貧溶媒として
は、例えば、アセトンやメチルエチルケトン等のような
低級アルキルケトン、メタノール、エタノール、プロパ
ノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノー
ル、ｔ−ブタノール等の脂肪族低級アルコールが好まし
く用いられるが、しかし、これらに限定されるものでは
ない。
は、例えば、アセトンやメチルエチルケトン等のような
低級アルキルケトン、メタノール、エタノール、プロパ
ノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノー
ル、ｔ−ブタノール等の脂肪族低級アルコールが好まし
く用いられるが、しかし、これらに限定されるものでは
ない。
【００２６】また、経済性の観点からと収率を高めるた
めに、反応の終了後、反応混合物をアルカリ水溶液で中
和し、油層と水層とを分離し、得られた油層を水洗し、
有機溶媒を留去することによって、目的とする不飽和カ
ルボン酸ジエステルを回収することもできる。
めに、反応の終了後、反応混合物をアルカリ水溶液で中
和し、油層と水層とを分離し、得られた油層を水洗し、
有機溶媒を留去することによって、目的とする不飽和カ
ルボン酸ジエステルを回収することもできる。
【００２７】ビシクロヘキシル−4,4'−ジオールの不飽
和カルボン酸ジエステルの製造において、用いる不飽和
カルボン酸の量が前記範囲よりも少ない場合や、反応が
完結しない場合には、目的とするジエステルのほかに、
モノエステルを含む混合物を得る。しかしながら、この
ようなモノエステルの不飽和結合の反応性も、ジエステ
ルのそれと同じであるので、モノエステルを含む混合物
も、ジエステルと同様に有用であり、用途や必要に応じ
て、混合物のまま、用いることができる。
和カルボン酸ジエステルの製造において、用いる不飽和
カルボン酸の量が前記範囲よりも少ない場合や、反応が
完結しない場合には、目的とするジエステルのほかに、
モノエステルを含む混合物を得る。しかしながら、この
ようなモノエステルの不飽和結合の反応性も、ジエステ
ルのそれと同じであるので、モノエステルを含む混合物
も、ジエステルと同様に有用であり、用途や必要に応じ
て、混合物のまま、用いることができる。
【００２８】
【発明の効果】本発明によれば、前記一般式（Ｉ）で表
わされる新規なビシクロヘキシル−4,4'−ジオールの不
飽和カルボン酸ジエステルが提供される。このような不
飽和カルボン酸ジエステルは、分子中に光重合性の不飽
和結合を２つ有する多官能性光重合性化合物であって、
例えば、光硬化性樹脂の基材や基材成分として有用であ
る。
わされる新規なビシクロヘキシル−4,4'−ジオールの不
飽和カルボン酸ジエステルが提供される。このような不
飽和カルボン酸ジエステルは、分子中に光重合性の不飽
和結合を２つ有する多官能性光重合性化合物であって、
例えば、光硬化性樹脂の基材や基材成分として有用であ
る。
【００２９】
【実施例】次に、本発明を実施例により具体的に説明す
るが、本発明はこれら実施例により何ら限定されるもの
ではない。
るが、本発明はこれら実施例により何ら限定されるもの
ではない。
【００３０】実施例１ エステル化水分離装置、温度計及び攪拌棒を備えた５０
０ｍＬ容量四つ口フラスコにトルエン６０ｇ、ｐ−トル
エンスルホン酸0.５５ｇ（0.００２９ｍｏｌ）、ハイド
ロキノンモノエチルエーテル0.０５ｇ及びビシクロヘキ
シル−4,4'−ジオール１1.４ｇ（0.０５８ｍｏｌ）を仕
込み、攪拌しながら、１１０℃まで昇温し、同じ温度で
１時間加熱処理を行なった。引き続いて、アクリル酸１
0.０ｇ（0.１３９ｍｏｌ）を滴下し、更に昇温を続ける
と、内温が１１５℃に達して、還流が始まり、反応と共
に生成する水の留出が始まった。そのまま、還流を続
け、水の生成量が理論量の2.１ｇに達するまで、１０時
間反応を行なった。
０ｍＬ容量四つ口フラスコにトルエン６０ｇ、ｐ−トル
エンスルホン酸0.５５ｇ（0.００２９ｍｏｌ）、ハイド
ロキノンモノエチルエーテル0.０５ｇ及びビシクロヘキ
シル−4,4'−ジオール１1.４ｇ（0.０５８ｍｏｌ）を仕
込み、攪拌しながら、１１０℃まで昇温し、同じ温度で
１時間加熱処理を行なった。引き続いて、アクリル酸１
0.０ｇ（0.１３９ｍｏｌ）を滴下し、更に昇温を続ける
と、内温が１１５℃に達して、還流が始まり、反応と共
に生成する水の留出が始まった。そのまま、還流を続
け、水の生成量が理論量の2.１ｇに達するまで、１０時
間反応を行なった。
【００３１】反応の終了後、得られた反応混合物を冷却
し、１６％水酸化ナトリウム水溶液を加えて中和し、析
出していた結晶を濾別した。この結晶をトルエンに加熱
下に溶解させ、得られた溶液を洗浄液が中性になるまで
水洗した後、冷却し、析出した結晶を濾別した。この結
晶をエバポレータにて乾燥して、ビシクロヘキシル−4,
4'−ジオールジアクリレート3.７６ｇ（純度９9.１％）
を白色結晶として得た。収率は、ビシクロヘキシル−4,
4'−ジオールに対して２1.２％であった。
し、１６％水酸化ナトリウム水溶液を加えて中和し、析
出していた結晶を濾別した。この結晶をトルエンに加熱
下に溶解させ、得られた溶液を洗浄液が中性になるまで
水洗した後、冷却し、析出した結晶を濾別した。この結
晶をエバポレータにて乾燥して、ビシクロヘキシル−4,
4'−ジオールジアクリレート3.７６ｇ（純度９9.１％）
を白色結晶として得た。収率は、ビシクロヘキシル−4,
4'−ジオールに対して２1.２％であった。
【００３２】融点：１７2.６℃ 元素分析（％）： 計算値 C: 70.56; H: 8.55; O: 20.89 実験値 C: 71.50; H: 8.88; O: 19.63 プロトン核磁気共鳴スペクトル（４００ＭＨｚ、溶媒Ｃ
ＤＣｌ3 ）：
ＤＣｌ3 ）：
【００３３】
【表１】
【００３４】
【００３５】実施例２ エステル化水分離装置、温度計及び攪拌棒を備えた５０
０ｍＬ容量四つ口フラスコにトルエン６０ｇ、ｐ−トル
エンスルホン酸0.４６ｇ（0.００２４ｍｏｌ）、ハイド
ロキノンモノエチルエーテル0.０５ｇ及びビシクロヘキ
シル−4,4'−ジオール9.５８ｇ（0.０４８ｍｏｌ）を仕
込み、攪拌しながら、１１０℃まで昇温し、同じ温度で
１時間加熱処理を行なった。引き続いて、メタクリル酸
１0.０ｇ（0.１１６ｍｏｌ）を滴下し、更に昇温を続け
ると、内温が１１５℃に達して、還流が始まり、反応と
共に生成する水の留出が始まった。そのまま、還流を続
け、水の生成量が理論量の1.７ｇに達するまで、１８時
間反応を行なった。
０ｍＬ容量四つ口フラスコにトルエン６０ｇ、ｐ−トル
エンスルホン酸0.４６ｇ（0.００２４ｍｏｌ）、ハイド
ロキノンモノエチルエーテル0.０５ｇ及びビシクロヘキ
シル−4,4'−ジオール9.５８ｇ（0.０４８ｍｏｌ）を仕
込み、攪拌しながら、１１０℃まで昇温し、同じ温度で
１時間加熱処理を行なった。引き続いて、メタクリル酸
１0.０ｇ（0.１１６ｍｏｌ）を滴下し、更に昇温を続け
ると、内温が１１５℃に達して、還流が始まり、反応と
共に生成する水の留出が始まった。そのまま、還流を続
け、水の生成量が理論量の1.７ｇに達するまで、１８時
間反応を行なった。
【００３６】反応の終了後、得られた反応混合物を冷却
し、１６％水酸化ナトリウム水溶液を加えて中和し、析
出していた結晶を濾別した。この結晶をトルエンに加熱
下に溶解させ、得られた溶液を洗浄液が中性になるまで
水洗した後、冷却し、析出した結晶を濾別した。この結
晶をエバポレータにて乾燥して、ビシクロヘキシル−4,
4'−ジオールジメタクリレート0.６５ｇ（純度９4.３
％）を白色結晶として得た。収率は、ビシクロヘキシル
−4,4'−ジオールに対して4.１％であった。
し、１６％水酸化ナトリウム水溶液を加えて中和し、析
出していた結晶を濾別した。この結晶をトルエンに加熱
下に溶解させ、得られた溶液を洗浄液が中性になるまで
水洗した後、冷却し、析出した結晶を濾別した。この結
晶をエバポレータにて乾燥して、ビシクロヘキシル−4,
4'−ジオールジメタクリレート0.６５ｇ（純度９4.３
％）を白色結晶として得た。収率は、ビシクロヘキシル
−4,4'−ジオールに対して4.１％であった。
【００３７】融点：１１3.５℃ 元素分析（％）： 計算値 C: 71.82; H: 9.04; O: 19.13 実験値 C: 71.36; H: 9.13; O: 19.50 プロトン核磁気共鳴スペクトル（４００ＭＨｚ、溶媒Ｃ
ＤＣｌ3 ）：
ＤＣｌ3 ）：
【００３８】
【表２】
【００３９】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 谷津 忠男 和歌山市小雑賀二丁目５番115号 本州化 学工業株式会社内
Claims (3)
- 【請求項１】一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｒは水素又は炭素数１〜４のアルキル基を示
す。）で表わされるビシクロヘキシル−4,4'−ジオール
の不飽和カルボン酸ジエステル。 - 【請求項２】ビシクロヘキシル−4,4'−ジオールジアク
リレート。 - 【請求項３】ビシクロヘキシル−4,4'−ジオールジメタ
クリレート。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30558695A JP3583843B2 (ja) | 1995-11-24 | 1995-11-24 | ビシクロヘキシル−４，４’−ジオールの不飽和カルボン酸ジエステル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30558695A JP3583843B2 (ja) | 1995-11-24 | 1995-11-24 | ビシクロヘキシル−４，４’−ジオールの不飽和カルボン酸ジエステル |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09143125A true JPH09143125A (ja) | 1997-06-03 |
| JP3583843B2 JP3583843B2 (ja) | 2004-11-04 |
Family
ID=17946931
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30558695A Expired - Fee Related JP3583843B2 (ja) | 1995-11-24 | 1995-11-24 | ビシクロヘキシル−４，４’−ジオールの不飽和カルボン酸ジエステル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3583843B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005239673A (ja) * | 2004-02-27 | 2005-09-08 | Daicel Chem Ind Ltd | テトラヒドロキシビシクロヘキサンジ（メタ）アクリル酸エステル類、その組成物、及び硬化成形体 |
| JP2006104171A (ja) * | 2004-10-08 | 2006-04-20 | Honshu Chem Ind Co Ltd | 新規なジ（メタ）アクリレート類 |
| WO2020094540A1 (en) | 2018-11-07 | 2020-05-14 | Merck Patent Gmbh | Liquid crystal media comprising polymerisable compounds |
-
1995
- 1995-11-24 JP JP30558695A patent/JP3583843B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005239673A (ja) * | 2004-02-27 | 2005-09-08 | Daicel Chem Ind Ltd | テトラヒドロキシビシクロヘキサンジ（メタ）アクリル酸エステル類、その組成物、及び硬化成形体 |
| JP4498769B2 (ja) * | 2004-02-27 | 2010-07-07 | ダイセル化学工業株式会社 | テトラヒドロキシビシクロヘキサンジ（メタ）アクリル酸エステル類、その組成物、及び硬化成形体 |
| JP2006104171A (ja) * | 2004-10-08 | 2006-04-20 | Honshu Chem Ind Co Ltd | 新規なジ（メタ）アクリレート類 |
| JP4602732B2 (ja) * | 2004-10-08 | 2010-12-22 | 本州化学工業株式会社 | 新規なジ（メタ）アクリレート類 |
| WO2020094540A1 (en) | 2018-11-07 | 2020-05-14 | Merck Patent Gmbh | Liquid crystal media comprising polymerisable compounds |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3583843B2 (ja) | 2004-11-04 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2006315960A (ja) | トリシクロデカンジオールジ（メタ）アクリレート及びその製造方法 | |
| JP2860549B2 (ja) | モノエチレン性不飽和化合物及びそれらのポリマー | |
| JP3583843B2 (ja) | ビシクロヘキシル−４，４’−ジオールの不飽和カルボン酸ジエステル | |
| JP3583842B2 (ja) | 新規な不飽和カルボン酸トリエステル | |
| EP0103684B1 (en) | Acryloyloxy groups containing 1,3-dioxane derivatives, and process for producing them | |
| JP4102033B2 (ja) | 新規な（メタ）アクリル酸トリエステル類 | |
| JP4963545B2 (ja) | （メタ）アクリロイロオキシテトラヒドロフラン類およびその製造方法 | |
| JPH0239495B2 (ja) | ||
| JP3051191B2 (ja) | エポキシ化された（メタ）アクリレ―ト化合物の製造方法 | |
| JP2007106749A (ja) | ハイドロキノンモノ（メタ）アクリレートの製造方法 | |
| JPH0629277B2 (ja) | アクリレ−ト化合物およびその製造法 | |
| JPH03120263A (ja) | （メタ）アクリレート化合物の製造方法 | |
| JP2702249B2 (ja) | アクリル酸またはメタクリル酸のアルキルアミノアルキルエステルの製造方法 | |
| JPH0475904B2 (ja) | ||
| JP2515586B2 (ja) | 新規な（メタ）アクリレ―ト化合物 | |
| JP2006089431A (ja) | ４，４’−オキシジシクロヘキサノールの不飽和カルボン酸ジエステル及びその製造方法 | |
| JP3028141B2 (ja) | （メタ）アクリレ−ト化合物およびその製造方法 | |
| EP0358074A2 (de) | Neue Bisester ungesättigter Carbonsäuren, ihre Herstellung und Verwendung in härtbaren Gemischen | |
| JPS60142990A (ja) | 新規なアクリル酸エステルおよびメタアクリル酸エステル | |
| JP4046813B2 (ja) | アクリル酸エステル誘導体およびその製造方法 | |
| JPH0376312B2 (ja) | ||
| JPH0145470B2 (ja) | ||
| JPH0368870B2 (ja) | ||
| JP2500540B2 (ja) | カプロラクトン変性ポリオ―ルポリ（メタ）アクリレ―トの製造方法 | |
| JPH0931018A (ja) | ペンタエリスリトール（メタ）アクリルエステル類の製造法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20040720 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20040730 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080806 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080806 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090806 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100806 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110806 Year of fee payment: 7 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |