JPH09136901A - シロキサングラフトセルロース誘導体を含有する化粧料及びその製造方法 - Google Patents

シロキサングラフトセルロース誘導体を含有する化粧料及びその製造方法

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JPH09136901A
JPH09136901A JP29398295A JP29398295A JPH09136901A JP H09136901 A JPH09136901 A JP H09136901A JP 29398295 A JP29398295 A JP 29398295A JP 29398295 A JP29398295 A JP 29398295A JP H09136901 A JPH09136901 A JP H09136901A
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 高湿度条件下では空気中の水分を吸収し、粘
着性が増加し、ヘアフォームなどの場合は髪がベトツ
キ、櫛通りが悪くまた洗髪時には整髪剤が洗い落としに
くいなどの従来の問題点を解決し、撥水性、潤滑性、光
沢付与性、皮膜形成性、生分解性、安全性などの特性を
併せ有する皮膜形成剤。 【解決手段】 皮膜形成剤としてシロキサングラフトセ
ルロース誘導体を含有する化粧料及びシロキサングラフ
トセルロース誘導体が水酸基を有する熱可塑性セルロー
ス誘導体を溶融条件下においてイソシアネート基含有オ
ルガノポリシロキサンと反応させて得られる上記の化粧
料の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は皮膜形成剤としてシ
ロキサングラフトセルロース誘導体を含有する化粧料に
関する。
【0002】
【従来の技術】従来より毛髪や皮膚の化粧料の皮膜形成
剤として使用されている化合物としてはポリビニルピロ
リドン、ポリビニルピロリドン−酢酸ビニル共重合体等
がある。しかしこのような皮膜形成剤による皮膜は吸湿
性が強いので高湿度条件下では空気中の水分を吸収し、
粘着性が増加し、例えばヘアフォームなどの整髪剤の場
合は髪がベトツキ、櫛通りが悪くまた洗髪時には整髪剤
が洗い落としにくいものとなる。また皮膜形成剤として
オルガノポリシロキサンも撥水性、潤滑性、光沢付与性
に優れていることから使用されているが、その配合量が
多くなるとベタつきを生じるという問題点がある。オル
ガノポリシロキサンについてのこの問題を解決するため
に、オルガノポリシロキサンを含むマクロモノマーを、
ビニルピロリドンやアクリレート、メタアクリレート等
のビニル化合物とラジカル重合させて、重合体として用
いることも提案されている。しかしこれらのものはいず
れも合成高分子を主体とするので生分解性は期待でき
ず、環境への悪影響も考えられる上、皮膚、粘膜、毛髪
の安全性の点でも不安がある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記従来の皮
膜形成剤に起因する化粧料の諸問題点、即ち吸湿性が強
いので高湿度条件下では空気中の水分を吸収し、粘着性
が増加し、ヘアフォームなどの場合は髪がベトツキ、櫛
通りが悪くまた洗髪時には整髪剤が洗い落としにくいこ
となどの問題点を解決する皮膜形成剤について鋭意研究
した結果、前記シロキサングラフトセルロース誘導体
が、オルガノポリシロキサンの有する撥水性、潤滑性、
光沢付与性などと、セルロース誘導体が有する皮膜形成
性、生分解性、安全性などの特性を併せ有することを発
見して本発明を完成させた。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は皮膜形成剤とし
て下記一般式(化3)
【化3】 [ここに Cell-はセルロースまたはセルロース誘導体の
グルコース残基を、R1は炭素数1〜10の2価の炭化水素
基を表し、R2、R3、R4、R5、R6、R7はそれぞれ同一また
は互いに相異なる炭素数1〜10の1価の炭化水素基を表
わし、R8、R9、R10 はそれぞれ同一または互いに相異な
る炭素数1〜10の1価の炭化水素基または-OSiR11R12R
13で示されるシロキシ基を(R11 、R12 、R13 は炭素数
1〜10の1価の炭化水素基)、mは0〜5の整数、nは
3〜200 の数、x、yはシロキサンがセルロース誘導体
に対し1〜30重量%含有されるような値]で示されるシ
ロキサングラフトセルロース誘導体を含有する化粧料で
あり、このシロキサングラフトセルロース誘導体が水酸
基を有する熱可塑性セルロース誘導体を溶融条件下にお
いて下記一般式(化4)
【化4】 [ここにR1は炭素数1〜10の2価の炭化水素基を表し、
R2、R3、R4、R5、R6、R7はそれぞれ同一または互いに相
異なる炭素数1〜10の1価の炭化水素基であり、R8
R9、R10 はそれぞれ同一または互いに相異なる炭素数1
〜10の1価の炭化水素基または−OSiR11R12R13で示され
るシロキシ基(R11 、R12 、R13 は炭素数1〜10の1価
の炭化水素基)、m は0〜5の整数、n は3〜200 の
数]で示されるイソシアネート基含有オルガノポリシロ
キサンと反応させて得られることを特徴とする化粧料の
製造方法である。
【0005】以下本発明について詳細に説明する。本発
明におけるシロキサングラフトセルロース誘導体は、
A)水酸基を有する熱可塑性セルロース誘導体とB)一
般式(化2)で示されるイソシアネート基含有オルガノ
ポリシロキサン(以下ではオルガノポリシロキサンと略
称する)を反応させて得られるものであるが、この反応
に使用可能なセルロース誘導体としてはエチルセルロー
ス、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシ
プロピルセルロースなどのセルロースエーテル誘導体、
セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレー
トなどのセルロースエステル誘導体などが例示される。
これらのセルロース誘導体においてはグルコース単位当
たりの平均水酸基数が0.3 以上であることが好ましい。
0.3 未満ではこれとオルガノポリシロキサンとの反応が
遅くなり、オルガノポリシロキサンの特性を有した目的
物が十分に得られにくい。またその重合度は通常のセル
ロース誘導体の有する範囲であれば良いが、反応時の溶
液の粘性及び得られるシロキサングラフトセルロース誘
導体を有機溶剤に溶解した際の溶解性、溶液の粘度を考
慮すると50〜 4,000が好ましい。
【0006】また本発明において使用されるオルガノポ
リシロキサンは、前記一般式(化2)で示されるもので
ある。このR1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R
10 、R11 、R12 、R13 で示される炭素数1〜10の1価
または2価の炭化水素基としては、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基;シクロペン
チル基、シクロヘキシル基などのシクロアルキル基;フ
ェニル基などのアリール基;ベンジル基などのアラルキ
ル基;ビニル基、アリル基などのアルケニル基;クロロ
メチル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基などの
置換炭化水素基などが例示され、このR1、R2、R3、R4
R5、R6、R7、R8、R9、R10 、R11 、R12 、R13はそれぞ
れ互いに同じものでも相異なるものでもよい。また、こ
のR8、R9、R10は -OSiR11R12R13で示されるシロキシ基
であってもよく、このシロキシ基としてはトリメチルシ
ロキシ基、エチルジメチルシロキシ基、フェニルジメチ
ルシロキシ基、ビニルジメチルシロキシ基、クロロメチ
ルジメチルシロキシ基、3,3,3−トリフルオロプロ
ピルジメチルシロキシ基などが例示される。
【0007】本発明において使用されるオルガノポリシ
ロキサンは、前記一般式(化2)で示されるものであ
り、n は3〜200 が好ましい 。これは nが3未満である
とオルガノポリシロキサンとしての特性がなく、またn
が200 を超えるとグラフト反応速度が遅くなり実用的で
はない。またこのオルガノポリシロキサンの製造方法の
1例は、1分子中にイソシアネート基とビニル基とをそ
れぞれ有するシリコーン化合物とSiH 基を1分子中に1
個有する直鎖オルガノハイドロジェンポリシロキサンと
を白金系触媒などのハイドロシリレーション触媒の存在
下にハイドロシリレーションすることにより、イソシア
ネート基を1分子中に1個有するオルガノポリシロキサ
ンを製造することができる。また本発明において使用さ
れるオルガノポリシロキサンは水酸基を含有する熱可塑
性セルロース誘導体に対して1〜30重量%含有されるの
が好適である。これは1重量%未満であるとシロキサン
グラフトセルロース誘導体により形成される皮膜の耐油
性、耐水性が不十分であり、30重量%を超えると洗髪時
に皮膜の除去性が悪くなり、石けんやシャンプーに溶解
しなくなる。
【0008】本発明の第2の発明は前記のように水酸基
を有する熱可塑性セルロース誘導体を溶融条件下におい
て一般式(化2)で示されるオルガノポリシロキサンと
反応させて得られるシロキサングラフトセルロース誘導
体を皮膜形成剤として含有する化粧料の製造方法であ
る。従来のシロキサングラフトセルロース誘導体の製造
方法は溶剤中でセルロース誘導体と通常のオルガノポリ
シロキサンとを反応させるもので、未反応物や触媒の洗
浄除去工程、溶剤回収工程、乾燥工程などの煩雑な後処
理工程を必要とするため、製造コストが著しく高くな
り、工業的には極めて不利であるため、このシロキサン
グラフトセルロース誘導体は特殊な用途以外に使われて
いないのが現状である。
【0009】発明者等は先に特願平7-85490 により文献
未収載の新規なシロキサングラフトセルロース誘導体及
びその製造方法について出願したが、その製造方法は溶
剤中で水酸基を有する熱可塑性セルロース誘導体とオル
ガノポリシロキサンとを反応させるものであった。本発
明の第2の発明におけるシロキサングラフトセルロース
誘導体の製造方法は、水酸基を有する熱可塑性セルロー
ス誘導体の溶融条件下において行うが、その反応温度は
セルロース誘導体の種類によって異なり、通常130 〜20
0 ℃が好適である。その反応方法はセルロース誘導体を
溶融状態で混練しながら一般式(化2)で示されるオル
ガノポリシロキサンを少量ずつ添加し混合・反応させる
方法と、両者をあらかじめ低温で混合させておき、これ
を溶融温度まで上昇させて反応させる方法があるが、こ
の孰れでもよい。反応は酸化反応防止の為に窒素などの
不活性ガス存在下で行うことが望ましい。反応生成物は
ペレットなどの成形品として得ることができる。
【0010】本発明におけるシロキサングラフトセルロ
ース誘導体の新規な製造方法は水酸基を有する熱可塑性
セルロース誘導体の溶融条件下で行なうが、重要な点は
一般式(化2)のオルガノポリシロキサンのイソシアネ
ート当量がセルロース誘導体が含有する水酸基の当量よ
りやや下まわるようなオルガノポリシロキサンの添加量
で混合・反応させることが必要である。これは比較的高
価な(化2)のオルガノポリシロキサンの未反応物をで
きるだけ少なくするためである。また前記したような理
由でオルガノポリシロキサンはセルロース誘導体に対
し、通常1〜30重量%グラフトされるように添加するの
がよい。
【0011】(化2)のオルガノポリシロキサンの製造
例としては、例えば公知の方法で製造される片末端ハイ
ドロジエンポリシロキサンと下式(化5)のビニルイソ
シアナートプロピルテトラメチルシロキサンとを付加反
応させて製造する。
【化5】 (化5)の化合物は、反応式(化6)のように、ジビニ
ルテトラメチルシロキサンとジアミノプロピルテトラメ
チルシロキサンとを不均化反応させて得られるビニルア
ミノプロピルテトラメチルシロキサンをホスゲンやクロ
ロギ酸エステルと公知の方法で反応させて得られる。
【化6】
【0012】本発明におけるシロキサングラフトセルロ
ース誘導体の製造方法の例としては、例えば(化2)の
1例として、( 化2) においてR1=-(CH2)3-,R2 〜R9=C
H3,R10=C4H9 ,m=1,n=30 とした、オルガノポリシロキサ
ンをヒドロキシプロピルセルロースに対して5重量%加
え、本発明の方法に従って反応させれば、水−エタノー
ルの混合液に可溶で且つオルガノポリシロキサンの特性
である撥水性、潤滑性、光沢付与性を有し且つセルロー
ス誘導体が有する良好な皮膜形成性を併せて有するもの
が得られ、これは本発明の化粧料の原料の皮膜形成剤と
して極めて有用である。
【0013】更にエチルセルロースに(化2)の1例と
して、( 化2) においてR1=-(CH2)3-,R2 〜R9=CH3,R10
=C4H9 ,m=1,n=30 とした、オルガノポリシロキサンを本
発明の方法でエチルセルロースに対して10重量%反応さ
せれば、オルガノポリシロキサンの特性である撥水性、
潤滑性とセルロース誘導体の皮膜形成性とを併せて有す
るシロキサングラフトセルロース誘導体が得られ、この
ものは本発明の化粧料の原料の皮膜形成剤として極めて
有用である。
【0014】このように本発明における方法で製造され
るシロキサングラフトセルロース誘導体は、オルガノポ
リシロキサンとセルロースのそれぞれの特性を併せても
つ材料であるため、上記化粧料の皮膜形成剤としての用
途の他にガス分離膜、接着剤、塗料、医療用材料などと
しても有用である。なお本発明におけるシロキサングラ
フトセルロース誘導体の製造方法は無溶媒、無触媒を特
徴とするが、水酸基を有する熱可塑性セルロース誘導体
の溶融条件下でより反応速度を大きくするために少量の
トリエチルアミンなどの触媒やジメチルホルムアミドな
どの溶媒を添加して反応させてもよい。また本発明の第
2の発明におけるシロキサングラフトセルロース誘導体
にさらに別の機能を付与する目的で、例えば下記式のよ
うなイソシアネートプロピルトリエトキシシランなどの
他の有機イソシアネート類を同時に反応させてもよい。 (H52 O)3 Si(CH23 NCO
【0015】
【発明の実施の形態】次に実施例を挙げて本発明を更に
詳しく説明する。
【実施例】
(シロキサングラフトセルロース誘導体の製造例1)ラ
ボプラストミル[東洋精機製作所(株)製]にヒドロキ
シプロピルセルロース[信越化学工業(株)のHPC、LE-G
タイプ] 100重量部と平均組成式が下記式(化7)(A)
で示されるオルガノポリシロキサン5重量部とをよく混
合して仕込み、窒素雰囲気下、 140〜150 ℃で10分間溶
融・混合し反応させた。これを冷却してとり出し、赤外
線吸収スペクトルでNCO 基の吸収波数(2,350cm-1)がな
くなったことを確認し、反応が完結していることを確認
した。シロキサングラフトヒドロキシプロピルセルロー
ス 105重量部が得られた。
【0016】[実施例1]このものはエチルアルコール
と水との混合溶液(重量比1:1)、エチルアルコー
ル、イソプロピルアルコールに各々溶解することを確認
した。ついでこのシロキサングラフトヒドロキシプロピ
ルセルロースの5重量%エタノール溶液をポリエステル
フィルム表面に塗布し、乾燥後動摩擦係数を測定したと
ころ0.21であった。ヒドロキシプロピルセルロースにつ
いて同様にして動摩擦係数を測定したところ0.39であ
り、この結果からオルガノポリシロキサンのもつ潤滑性
がシロキサングラフトヒドロキシプロピルセルロースに
付与されていることを確認した。[なお動摩擦係数は、
協和界面科学(株)製の装置を用い、50g のSUS ボール
の荷重で、速度20cm/minで測定して得た値である。]
【0017】(シロキサングラフトセルロース誘導体の
製造例2)エチルセルロース[信越化学工業(株)製商
品名N-7-G,グルコース単位当りエチル基=2.3,水酸基=
0.7 含有] 100重量部と平均組成式が下記式(化7)
(B)で示されるオルガノポリシロキサン10重量部とをよ
く混合し、製造例1と同様にラボプラストミルで 195〜
205 ℃で20分間溶融・混合し反応させた。次いでこれを
冷却してとり出し、赤外線吸収スペクトルでNCO 基の吸
収波数がなくなったことを確認して、反応が完結してい
ることを確認した。シロキサングラフトエチルセルロー
ス 110重量部が得られた。
【0018】[実施例2]このものをトルエン−ブチル
セロソルブ(重量比9:1)の混合溶剤に5重量%溶解
し実施例1と同様にして動摩擦係数を測定したところ、
0.14を示しオルガノポリシロキサンの潤滑性がシロキサ
ングラフトエチルセルロースによく付与されていること
を確認した。一方エチルセルロースの動摩擦係数は0.32
であった。
【化7】
【0019】[実施例3〜4] (ヘアフォーム剤の調製)実施例1、2により得られた
シロキサングラフトセルロース誘導体を用いて、下記組
成によりヘアフォーム剤を調製し、それぞれ実施例3、
4の本発明品とした。 (ヘアフォーム剤組成) シロキサングラフトセルロース誘導体(実施例1及び2) 5.0重量% 流動パラフィン 5.0〃 ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油 1.0〃 香料 適量〃 脱イオン水 適量〃 エタノール 15.0〃 液化石油ガス 8.0〃 合計 100.0 重量%
【0020】[比較例1]比較例として実施例3〜4で
使ったシロキサングラフトセルロース誘導体に替えてヒ
ドロキシプロピルセルロースを配合した以外は、実施例
3〜4と同一の成分組成でヘアフォームを調製し、表1
の各項目について下記の基準で実施例と比較例の調製品
を比較評価し、その結果を表1に示した。 (評価基準) ○:本発明品の方が比較例の製品よりすぐれている。 △:本発明品と比較例の製品とは同等である。 ×:比較例の製品の方が本発明品よりすぐれている。
【0021】
【表1】
【0022】以上の実施例の結果から、潤滑性等に優れ
たシロキサングラフトセルロース誘導体を皮膜形成剤と
して使用した本発明の化粧料は比較例の製品に比較して
極めて優れたものであることが確認された。
【0023】
【発明の効果】シロキサングラフトセルロース誘導体を
皮膜形成剤として使用した本発明の化粧料は従来品、競
合品に比較して潤滑性などの点で優れ、皮膜の除去性に
ついては同等である。また本発明の第2の発明における
皮膜形成剤のシロキサングラフトセルロース誘導体の製
造方法は洗浄工程や溶剤回収工程が不要であるだけでな
く、反応収率も高く、従ってロスも少なく、殆ど定量的
に短時間で目的物が得られるという利点があり、極めて
工業的有利な方法であるため、これを使用して製造され
る化粧料は潤滑性などの点で優れているのに加えて、安
価で安全なものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 亀井 正直 群馬県碓氷郡松井田町大字人見1番地10 信越化学工業株式会社シリコーン電子材料 技術研究所内

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 皮膜形成剤として下記一般式(化1) 【化1】 [ここに Cell-はセルロースまたはセルロース誘導体の
    グルコース残基を、R1は炭素数1〜10の2価の炭化水素
    基を表し、R2、R3、R4、R5、R6、R7はそれぞれ同一また
    は互いに相異なる炭素数1〜10の1価の炭化水素基を表
    わし、R8、R9、R10 はそれぞれ同一または互いに相異な
    る炭素数1〜10の1価の炭化水素基または-OSiR11R12R
    13で示されるシロキシ基を(R11 、R12 、R13 は炭素数
    1〜10の1価の炭化水素基)、mは0〜5の整数、nは
    3〜200 の数、x、yはシロキサンがセルロース誘導体
    に対し1〜30重量%含有されるような値]で示されるシ
    ロキサングラフトセルロース誘導体を含有する化粧料。
  2. 【請求項2】 シロキサングラフトセルロース誘導体が
    水酸基を有する熱可塑性セルロース誘導体を溶融条件下
    において下記一般式(化2) 【化2】 [ここにR1は炭素数1〜10の2価の炭化水素基を表し、
    R2、R3、R4、R5、R6、R7はそれぞれ同一または互いに相
    異なる炭素数1〜10の1価の炭化水素基であり、R8
    R9、R10 はそれぞれ同一または互いに相異なる炭素数1
    〜10の1価の炭化水素基または−OSiR11R12R13で示され
    るシロキシ基(R11 、R12 、R13 は炭素数1〜10の1価
    の炭化水素基)、m は0〜5の整数、n は3〜200 の
    数]で示されるイソシアネート基含有オルガノポリシロ
    キサンと反応させて得られることを特徴とする請求項1
    記載の化粧料の製造方法。
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