CA1032293A - Mousses en chlorure de polyvinyle contenant des stabilisants organosiliciques - Google Patents
Mousses en chlorure de polyvinyle contenant des stabilisants organosiliciquesInfo
- Publication number
- CA1032293A CA1032293A CA205,843A CA205843A CA1032293A CA 1032293 A CA1032293 A CA 1032293A CA 205843 A CA205843 A CA 205843A CA 1032293 A CA1032293 A CA 1032293A
- Authority
- CA
- Canada
- Prior art keywords
- symbol
- sio2
- radical
- ratio
- carbon atoms
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000006260 foam Substances 0.000 title claims abstract description 18
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 title claims abstract description 15
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 42
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 20
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims abstract description 20
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 20
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract description 20
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims abstract description 20
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 20
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 14
- 239000004999 plastisol Substances 0.000 claims abstract description 14
- 229920001944 Plastisol Polymers 0.000 claims abstract description 13
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 12
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims abstract description 10
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims abstract description 8
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims abstract description 7
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims abstract description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims abstract description 5
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims abstract description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 27
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 27
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 11
- -1 hydrocarbon radical Chemical class 0.000 claims description 10
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 7
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 claims description 7
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 claims description 6
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 claims 5
- 229960003328 benzoyl peroxide Drugs 0.000 claims 1
- BUMGIEFFCMBQDG-UHFFFAOYSA-N dichlorosilicon Chemical compound Cl[Si]Cl BUMGIEFFCMBQDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims 1
- WCYWZMWISLQXQU-UHFFFAOYSA-N methyl Chemical compound [CH3] WCYWZMWISLQXQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 3
- 229910004674 SiO0.5 Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 abstract 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 25
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 7
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 5
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 241000195940 Bryophyta Species 0.000 description 4
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 3
- 229920001515 polyalkylene glycol Polymers 0.000 description 3
- MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N Di-n-octyl phthalate Natural products CCCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCCC MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 239000003570 air Substances 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical class Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N cumene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1 RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N dibutyl phthalate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N dichlorosilane Chemical class Cl[SiH2]Cl MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N methylcyclohexane Chemical compound CC1CCCCC1 UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- AOJFQRQNPXYVLM-UHFFFAOYSA-N pyridin-1-ium;chloride Chemical compound [Cl-].C1=CC=[NH+]C=C1 AOJFQRQNPXYVLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000012258 stirred mixture Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGQVJOPQTOUKDI-UHFFFAOYSA-N 2-dodecoxycarbonylbenzoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O WGQVJOPQTOUKDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000088885 Chlorops Species 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000156978 Erebia Species 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 241000382928 Oxya Species 0.000 description 1
- 206010035148 Plague Diseases 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N TOTP Chemical compound CC1=CC=CC=C1OP(=O)(OC=1C(=CC=CC=1)C)OC1=CC=CC=C1C YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000607479 Yersinia pestis Species 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000002671 adjuvant Substances 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000005083 alkoxyalkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012080 ambient air Substances 0.000 description 1
- 229940045985 antineoplastic platinum compound Drugs 0.000 description 1
- 150000007514 bases Chemical class 0.000 description 1
- 238000010009 beating Methods 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 244000221110 common millet Species 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- UCVPKAZCQPRWAY-UHFFFAOYSA-N dibenzyl benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)OCC=2C=CC=CC=2)C=1C(=O)OCC1=CC=CC=C1 UCVPKAZCQPRWAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002380 dibutyl phthalate Drugs 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 1
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- 239000003701 inert diluent Substances 0.000 description 1
- JQJCSZOEVBFDKO-UHFFFAOYSA-N lead zinc Chemical compound [Zn].[Pb] JQJCSZOEVBFDKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HGPXWXLYXNVULB-UHFFFAOYSA-M lithium stearate Chemical compound [Li+].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O HGPXWXLYXNVULB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N methyl-cycloheptane Natural products CC1CCCCCC1 GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 210000000056 organ Anatomy 0.000 description 1
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000466 oxiranyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 150000003058 platinum compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920000233 poly(alkylene oxides) Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 239000012429 reaction media Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000007790 scraping Methods 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- 125000004469 siloxy group Chemical group [SiH3]O* 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000012815 thermoplastic material Substances 0.000 description 1
- 229920001221 xylan Polymers 0.000 description 1
- 150000004823 xylans Chemical class 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J9/00—Working-up of macromolecular substances to porous or cellular articles or materials; After-treatment thereof
- C08J9/0061—Working-up of macromolecular substances to porous or cellular articles or materials; After-treatment thereof characterized by the use of several polymeric components
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2327/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Derivatives of such polymers
- C08J2327/02—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
- C08J2327/04—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment containing chlorine atoms
- C08J2327/06—Homopolymers or copolymers of vinyl chloride
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2483/00—Characterised by the use of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Derivatives of such polymers
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
- Manufacture Of Porous Articles, And Recovery And Treatment Of Waste Products (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
PRECIS DE LA DIVULGATION:
Procédé de préparation de mousses en chlorure de poly-vinyle à cellules ouvertes par introduction de fluides gazeux.
dans des plastisols qui contiennent 0,5 à 10 % de leur poids de stabilisants organosiliciques, Ces stabilisants organosiliciques sont des copolymères constitués de motifs We2R SiO0,5, Q(CnH2n?)y R'R SiO et SiO2 dans des rapports numériques compris entre 0,55/0,005/1 et 0,75/0,1/1 et dans lesquels le symbole R repré-sente un groupe alcoyle ayant de 1 à 3 atomes de carbone, un groupe vinyle, le symbole R' représente un radical hydrocarboné
divalent ayant de 1 à 10 ?tomes de carbone, le symbole Q représente un radical organique choisi parmi les radicaux de formules -OG, ,
Procédé de préparation de mousses en chlorure de poly-vinyle à cellules ouvertes par introduction de fluides gazeux.
dans des plastisols qui contiennent 0,5 à 10 % de leur poids de stabilisants organosiliciques, Ces stabilisants organosiliciques sont des copolymères constitués de motifs We2R SiO0,5, Q(CnH2n?)y R'R SiO et SiO2 dans des rapports numériques compris entre 0,55/0,005/1 et 0,75/0,1/1 et dans lesquels le symbole R repré-sente un groupe alcoyle ayant de 1 à 3 atomes de carbone, un groupe vinyle, le symbole R' représente un radical hydrocarboné
divalent ayant de 1 à 10 ?tomes de carbone, le symbole Q représente un radical organique choisi parmi les radicaux de formules -OG, ,
Description
1~32:~93 ~ a présente invention a pour objet un procédé de prépa-ration de mousses ~ cellules ouvertes en polychlorure de vinyle par introduction de ~luides gazeux dans des plastisols en présence, comme stabilisants des cellules~ de copolymares organopolysiloxa-niques constitués d'une combinaison de motifs triorganosiloxyles, diorganosilox~les et siloxyles distribuës dans un rapport bien déterminé, l'un des deux groupes organiques de chacun des moti~s diorganosiloxyles dérivant d'un polyalcoylèneglycol. Elle a éga-~ lement pour objet les copolymères organopolysiloxaniques précités,On sait que pour la préparation de mousses en polychloru-re de vinyle à partir de plastisols il est recommandé d'.introduire dans ces derniers des copolymares organopolysiloxaniques dont la ~onction est de régulariser et stabiliser les cellules à la ~ois pendant la ~ormation des mousses crues et pendant leur ~usion (brevets ~rançais 1~423~704; 1,462J753; 1~575~049; 2~100~49~), ~oute~ois au stade de l'utilisation industrielle on demande en outre à ces stabilisants de conduire a des mousses qui présentent:
- à l'état cru d'une part une stabilité su~isante pour subir sans dommage les opérations de ~açonnage ou de moulage, par exemple l'étalement ~ la râcle, d,'autre part une densité la plus ~aible possible compatible avec cette stabilité, ~ pendant leur ~usion le maintien de la densité à l'~tat cru et par~ois mame un all~gement de oette densit~, Il e~t malaisé en employant les stabilisants organopoly-siloxani~ues connus d'obtenir des mousses ayant l'ensemble des cara¢t~ristiques précitées, ~ a présente invention a donc pour objet un procédé ~e prëparation de mousses en polychlorure de vinyle ~ cellules ouver~
tes a~ant les qualités recherchées par les ~abricants industriels;
plus précisément ce procédé consiste à introduire des fluides gazeux dans des plastisols qui contiennent de 0~5 a 10 ~0 de leur - ~ , .
~3'~ 93 poids de stabilisants organosiliciques, ce procédé étant caracté-risé en ce que les stabilisants sont choisis parmi les copolymères constitués de motifs de ~ormules (CH3)2~SiOo 5~ Q(CnH2nO)y R'SiO
et SiO2 dans lesquelles le symbole R représente un groupe alcoyle ayant de 1 à 3 atomes de carbone, un groupe vinyle, le symbole R~
représente un radical hydrocarboné divalent ayant de 1 à 10 atomes de carbone, le symbole Q représente un radical organique choisi parmi les radicaux de formules -OG ,-OCIG, -OCUOG, -OSiR3 dans les-O O
quelles le symbole G représente un radical alcoyle ayant de 1 à 4 atomes de carbone, les symboles R identiques ou di~érents ayant la signi~ication précitée, le symbole n représente un nombre entier ;
allant de 2 à 4~ le symbole y représente un nombre quelconque al-lant de 4 à 60 ; dans ces copolymares le rapport du nombre de mo-ti~s (CH3)2RSiOo 5 au nombre de moti~s SiO2 s~étend de 0,55/1 à
0,75/1 et le rapport du nombre de moti~s Q(CnH2nO)yR'SiO au nom-bre de motifs SiO2 s~étend de 0,005/1 ~ 0~1/1.
~ a présente invention concerne de même les stabilisants organosiliciques venant d~être décrits.
A titre indicatif, dans les formules ci-dessus le sym-bole R peut représenter~ en tant qùe radical alcoyle ayant de 1 ~ ~ 3 atomes de carbone~ un radical tel que m~thyl~ ~thyle~ pro-pgle ; le sylmbole R~ peut représenter 1. un radical alcoylène ayant de 1 à 5 atomes de carbone choisi dans le groupe constitué par les radicaux de ~or-mules:
$j CH2 ~ (CH2 ) 2~ E2) 3--~ -CH2CH-CH2- ~ -(CH2~ 4_ ~ - CrI2CH2CH_CH2_ ~ 2, un radical alcoylène arylène ayant de 6 à 10 atomes ~; de carbone choisi dans le groupe constitué par les radicaux de ~ 30 fonmules:
.i -- _ 2 -~3Z~93 - (CH2)2-e~, - (C~12)~_~; - (C~l2)3- 4~;
H
,~ 3 le sy~bole G peut représenter un radical tel que méthyle, éthyle, propyle~ butyle, isobutyle.
~ es moti~s (CnH2nO) sont le plus sou~ent des groupes (CH2CH20) et/ou (CHCH20).
1: 3 :
I ~ t tre d'exemples concrets de motifs difonctionnels : 10 Q(CnH2nO)yR~~b~0 peuvent être mentionnés ceux répondant aux formu-les ci-après:
~ CH3 3 CH30(CH2CH20)yl-(CHCH20)yll (CH2) 3~iO
. CH3 1 3 C4HgO(CH2CH20)yt (CHCH20)y,t CH2SiO
- CH~ C3H7 eH3C00 (CH2CH20)yCH2C~ICH2SiO
. fH3 ~H3 CE3C00(CH2C~I20)yl (C~lCH20)yn (CH2) 3SiO
: (C~3)3SiO(CH2CH20)y, (CH-CI~20)yl,(CH2)3SiO
C~I3 CH3 50COO (CI~CH20)yCH2CH2SiO
CH3COO(CII2CH20)y~ (CH-CH20)yll~ ~ ~ (CII2)3SiO
~es symboles y~ et y" représentent des nombres quelconques non nuls dont la somme s~étend de 4 à 60.
. Pour préparer les copolymères caractérisant le procédé
de l~invention, divers processus peuvent atre mis en oeuvre ; on . peut cohydrolyser par exemple des mélanges~ choisis en propor-tion molaire adéquate, de silanes de ~onmules (CH3)2RSiX, ~ 3 -., . ~ .. . . . . -R 1(~3 2 ~ 9 3 Q(CnH2nO)yX~SiX2 et SiX4, les symboles X, identiques ou di~érents~
représentant des groupes facilement hydrolysables tels que des atomes d'halogène~ des radicaux alcoxyles~ alcoxyalcoxyles, imino-. xyles, aminoxyles, acyloxyles. On peut également partir decondensats constitués de motifs de ~ormules (CII3)2RSiOo 5, HSiO et SiO2 distribu~s dans le rapport numérique approprié, sur lesquels on ~ait réagir~ en présence dlun catalyseur à base d'un dérivé du platine~ des composés (dérivant de polyalcoyleneglycols) de formule Q(CnE~2nO)yRII, le symbole R" représentant un radical hydrocarboné possèdant une insaturation aliphatique et ayant de
- à l'état cru d'une part une stabilité su~isante pour subir sans dommage les opérations de ~açonnage ou de moulage, par exemple l'étalement ~ la râcle, d,'autre part une densité la plus ~aible possible compatible avec cette stabilité, ~ pendant leur ~usion le maintien de la densité à l'~tat cru et par~ois mame un all~gement de oette densit~, Il e~t malaisé en employant les stabilisants organopoly-siloxani~ues connus d'obtenir des mousses ayant l'ensemble des cara¢t~ristiques précitées, ~ a présente invention a donc pour objet un procédé ~e prëparation de mousses en polychlorure de vinyle ~ cellules ouver~
tes a~ant les qualités recherchées par les ~abricants industriels;
plus précisément ce procédé consiste à introduire des fluides gazeux dans des plastisols qui contiennent de 0~5 a 10 ~0 de leur - ~ , .
~3'~ 93 poids de stabilisants organosiliciques, ce procédé étant caracté-risé en ce que les stabilisants sont choisis parmi les copolymères constitués de motifs de ~ormules (CH3)2~SiOo 5~ Q(CnH2nO)y R'SiO
et SiO2 dans lesquelles le symbole R représente un groupe alcoyle ayant de 1 à 3 atomes de carbone, un groupe vinyle, le symbole R~
représente un radical hydrocarboné divalent ayant de 1 à 10 atomes de carbone, le symbole Q représente un radical organique choisi parmi les radicaux de formules -OG ,-OCIG, -OCUOG, -OSiR3 dans les-O O
quelles le symbole G représente un radical alcoyle ayant de 1 à 4 atomes de carbone, les symboles R identiques ou di~érents ayant la signi~ication précitée, le symbole n représente un nombre entier ;
allant de 2 à 4~ le symbole y représente un nombre quelconque al-lant de 4 à 60 ; dans ces copolymares le rapport du nombre de mo-ti~s (CH3)2RSiOo 5 au nombre de moti~s SiO2 s~étend de 0,55/1 à
0,75/1 et le rapport du nombre de moti~s Q(CnH2nO)yR'SiO au nom-bre de motifs SiO2 s~étend de 0,005/1 ~ 0~1/1.
~ a présente invention concerne de même les stabilisants organosiliciques venant d~être décrits.
A titre indicatif, dans les formules ci-dessus le sym-bole R peut représenter~ en tant qùe radical alcoyle ayant de 1 ~ ~ 3 atomes de carbone~ un radical tel que m~thyl~ ~thyle~ pro-pgle ; le sylmbole R~ peut représenter 1. un radical alcoylène ayant de 1 à 5 atomes de carbone choisi dans le groupe constitué par les radicaux de ~or-mules:
$j CH2 ~ (CH2 ) 2~ E2) 3--~ -CH2CH-CH2- ~ -(CH2~ 4_ ~ - CrI2CH2CH_CH2_ ~ 2, un radical alcoylène arylène ayant de 6 à 10 atomes ~; de carbone choisi dans le groupe constitué par les radicaux de ~ 30 fonmules:
.i -- _ 2 -~3Z~93 - (CH2)2-e~, - (C~12)~_~; - (C~l2)3- 4~;
H
,~ 3 le sy~bole G peut représenter un radical tel que méthyle, éthyle, propyle~ butyle, isobutyle.
~ es moti~s (CnH2nO) sont le plus sou~ent des groupes (CH2CH20) et/ou (CHCH20).
1: 3 :
I ~ t tre d'exemples concrets de motifs difonctionnels : 10 Q(CnH2nO)yR~~b~0 peuvent être mentionnés ceux répondant aux formu-les ci-après:
~ CH3 3 CH30(CH2CH20)yl-(CHCH20)yll (CH2) 3~iO
. CH3 1 3 C4HgO(CH2CH20)yt (CHCH20)y,t CH2SiO
- CH~ C3H7 eH3C00 (CH2CH20)yCH2C~ICH2SiO
. fH3 ~H3 CE3C00(CH2C~I20)yl (C~lCH20)yn (CH2) 3SiO
: (C~3)3SiO(CH2CH20)y, (CH-CI~20)yl,(CH2)3SiO
C~I3 CH3 50COO (CI~CH20)yCH2CH2SiO
CH3COO(CII2CH20)y~ (CH-CH20)yll~ ~ ~ (CII2)3SiO
~es symboles y~ et y" représentent des nombres quelconques non nuls dont la somme s~étend de 4 à 60.
. Pour préparer les copolymères caractérisant le procédé
de l~invention, divers processus peuvent atre mis en oeuvre ; on . peut cohydrolyser par exemple des mélanges~ choisis en propor-tion molaire adéquate, de silanes de ~onmules (CH3)2RSiX, ~ 3 -., . ~ .. . . . . -R 1(~3 2 ~ 9 3 Q(CnH2nO)yX~SiX2 et SiX4, les symboles X, identiques ou di~érents~
représentant des groupes facilement hydrolysables tels que des atomes d'halogène~ des radicaux alcoxyles~ alcoxyalcoxyles, imino-. xyles, aminoxyles, acyloxyles. On peut également partir decondensats constitués de motifs de ~ormules (CII3)2RSiOo 5, HSiO et SiO2 distribu~s dans le rapport numérique approprié, sur lesquels on ~ait réagir~ en présence dlun catalyseur à base d'un dérivé du platine~ des composés (dérivant de polyalcoyleneglycols) de formule Q(CnE~2nO)yRII, le symbole R" représentant un radical hydrocarboné possèdant une insaturation aliphatique et ayant de
2 à 10 atomes de carbone ; cette dernière technique ne peut pas toute~ois conduire à des prépolymères ayant des moti~s di~onction-,nels du type Q(CnH2nO)ycH2siO~
~ es composés de ~ormule Q(CnH2nO)yR" peuvent etre trou-vés sur le marché industriel mais on peut également les préparer en utilisant des réactions classi~ues de la chimie organique. Par exemple on traite le groupe hydroxyle terminal des polyéthers de ~ormule HO(CnH2nO)yRII par un anhydride d~acide, un chloroP:ormiate dlalcoyle, un silane de ~ormule R3SiCl ou bien on remplace l~ato-. 20 me d~hydrog~ne terminal des polyéthers de ~ormule Q(CnH2nO)~I p.arun atome d!un métal alcalin et ~ait réagir les polyéthersainsi métallés avec un chlorure d!.alcényle tel que le chlorure do vinyl~
ou d!allyle.
, Ces polyéthers sont eux-meme préparés par mise en con-tact d~un alcool ayant ou non uneinsaturation aliphatique ou d~.un acide avec des composés à groupes oxirannes~ tels que l'.oxyde d'.éthylène ou de propylène ou le mélange de ces deux Oxyaes.
j Des détails sur ces polymères ~igurent en particnlier j -- dans llouvrage de N.G. Gaylord intitulé "Polyethers.Part. I
~ ~~ Polyalkylene oxides and other polyethers".
_ ~ _ ~ ~3 2 ~ ~ 3 On préfère cependant utili~er le proces~us qui consi~e ~ mettre en contact, au sein ae diluant~ o~ganiques, les ~ilanes de ~ormule Q(CnH2nO)yRISiCl2 avec des résines organosiliciques constituées de moti~s (CH3)2RSiOo 5 et SiO2 distribués dans le rapport numérique 0,55/1 ~ 0,75/1, et ayant 0,5 ~ 4 ~0 en poids de groupes hydroxyles liés aux atomes de silicium ; la réaction est e~ectué à une température allant de 0~C à 150~~ et le rap-port molaire sil~nes/résines est en relation directe avec le rap-port précité du nombre de motiis de ~ormule Q(CnH2nO)~RR'SiO au nombre de motif~ SiO2 des copolymères, ce de~nier rapport s'éten-dant de 0,005/1 à 0,1/1.
~es silanes peuvent atre obtenus par réaction des chlo-rosilanes de formule X' R~.SiRC12 (le symbole X~ repré~entant un atome de chlore ou de brome) avec les sels de métaux alcalins des dérivé~ de polyalcoylèneglycol~ de formule précitée Q(CnH2nO)yH
~brevets ~rançais 19291,821; 1~326,879) de m~me ils peu~ent être obtenus par ~i~ation de chlorosilanes de ~ormule RSiHC12, en pré-sence de composés de platine, sur le~ dérivés de polyalooylene-' glycols de formule précitée Q(~I12nO)yRII (brevet français 2~132,781). Ces réactions ont lieu de pré~érence au sein de . diluants. ~es résines sont des produit~ industriels en outre elles peuvent atre aisément préparées ~oit par réaction de chlo-rosilanes de iormules (CH3)2RSiCl et/ou d!hexaorganodi~iloxanos de ~ormule (CH3)2RSiOSiR(CH~)2 sur un hydro801 de ~illoe (brevet ~rançais 1,0~6~736) soit par cohydrolyse de silicates d~.alcoyle, dont les groupes ~lcoyles sont principalement méthyles, éthyles . ou propyles aveo des chlorosilanes de ~ormule (CH3)2RSiCl(brevet ~rançais 1,134,005); on opère en milieu diluants inertes et con-.. . .
sexve les résines dans ces diluants ou les remplace en totalité
--30 ou en partie par d'autres diluants ~galement inertes.
Ces xésines dont la concentration dan~ le~ diluants est ~ - 5 -., ~3 Z ~ ~ 3 de l~ordre de 50 à 90~,' en poids, possèdent de 0t5 ~ 4 ~ en poids de groupes hydroxyles liés aux atomes de silicium.
Comme diluant8 appropri~s peu~ent être mentionnés le toluène, le xyl~ne, le cumène, le cyclohexane, le méthyl-cyclohe-xane, le chlorobenzane, llacétate dléthyle, lléther isopropylique.
Ces diluants servent ~galement de milieu réactionnel pour la ' ",,;
, .
. . ~ .
- 5a -~ : ,-' , ,, ~
~ . . ~ : . . - .
~(~3Z~93 préparatio~ des silanes Yenant d'être mentiolméS ainsi que pour ~ leur réaction ultérieure avec les résines.
~ or~ du contact des silanes avec les résines la réaction des liaisons SiCl des silanes avec les groupes hydroxyles des ré-sines provoque la ~ormation de ga~ chlorhydrique~ il est alors avantageux de piéger ce gaz par une base organique telle qu'une amine tertiaire.
.~es ~ilanes et les résines sont utilisés dans un rapport molaire tel que les copolymères obtenus ont des motiis distribués ~elon les rapports numériques déjà mentionnés : le rapport du nom-bre de motifs (CH3)2RSiOo 5 au nombre de moti~s SiO~ s'étend de 0,55/1 à 0,75/1, de préférence 0,58/1 à 0,70/1 et le rapport du nombre de moti~s Q(CnH2nO)yR'SiO au nombre de moti~s SiO2 s'étend de 0,005/1 à 0,1/1 et de pré~érence 0,01/1 à 0,06/1.
~ a réaction peut être exécutée dans un domaine de tem~
pératures allantde 0~C à 150~C, une $empérature élevée accel~e la reaction mais de bons résultats sont obtenus à des températures proches de la température ambiante vers 10-50~C. Après achèvement de la réaction les solutions sont amenées à la concentration désirée en copolymères en vue de l'emploi ultérieur de ces der-niers pour r~gulariser et stabiliser les cellule# de mou8ses en polychlorure de ~i~gle. Cette concentration peut atre queloon-que mais pour des raisons de commodités d'emploi il e~t pr~férable qu'elle se ~itue dan~ l'intervalle 40 ~ 80 % en poids. Ces copolymères~ sous forme de solutions, sont alors introduits dans des plastisols à b.ase de polychlorure de vinyle dans la proportion de 0,5 à 10~o du poids des plàstisols, de pré~érence 1 ~ 8 %.
Ces plastisols, que l'on peut fabriquer ~ partir de composés industriels très accessibles, sont connus déjà depuis de nombreuses années ; ce sont des dispersions de r~sines en polychlorurs de vinyle dars un ou plusieurs plastiiiants. Par .
~ 3Z~293 chauf~age les résines vinyliques se dissol~ent dans les plasti-iiants, il en résulte la fusion de l'ensemble et l'obtention de matiares thermoplastiques. ~es résines en polychlorure de vinyle peuvent atre des homopolymare~ ou des copolymères, dans ce dernier cas elles dérivent de la copolymérisation de chlorure de vinyle et de composés organigues ~ insaturation aliphatique tels que l'acétate de vinyle~ l'acrylate de méthyle~ l'acrylate -d'éthyle, les méthacrylates correspondants~ l'acrylonitrile, le chlorure de vinylidène ; en général ces copolymères résineux ren-ferment au moins 80 % de polychlorure de vinyle.
~ es plastifiants utilisés pour la fabrication des plas-tisols sont généralement des esters d'acides carboxyliques ou de l'acide phosphorique comme le phtalate de butyle et de benzyle, le phtalate de dioctyle~ le phtalate de dodécyle, le trimellate de trioct~le, le phosphate de tricrésyle.
De nombreuses in~ormations ~ur les résines en poly-chlorure de vinyle et ~ur leurs plastifiants figurent da~s les brevets français 1~575~049 et 2~100~494 Egalement dans ces plastisols, outre }e~ ré~ines vinyliques et le~ plasti~iants~
peuvent être introduits des adjuvants divers tels que des pigments, de~ charges~ des stabilisants vis-a-vis des agents atmosphériques et de la ¢haleur. Dans la pratique les adjuvants repr~sentent au plus 6 % du poids des plastlsols.
~ e moussage des plastisols ren*ermant les copolymères organopolysiloxaniques est obtenu par expansion à l'aide de gaz;
plusieurs techniques peuvent atre mises en oeuvre pour introduire le~ gaz dans ¢es plastisols comme le barbotage, l'incorporation de produits porogènes~ le battage mécanique. Cette dernière technique est préféré étant donné que~ basées sur elle, des ma-chines industrielles ont été construites pour effectuer les di-. .
ver~es opérations ayant trait, dans l'ordre, à la préparation .
, ~(~32Z9'3 ~ des plastisols pàr mélange des composés de base, à l'addition des stabilisants organopolysiloxaniques, à la trans~ormation de l'en-semble en mousses par battage méca~ique en présence d'air par exem-ple.
~ es mousses crues ainsi ~ormée~ sont chau~fees ver~
70~C-200~C pendant une durée allant de quelques minutes à plusieurs heures pour réali~er leur géli~ication et ~usion. Il en résulte de~ produ~ts ayant une structure alvéolaire homogène, constituée de cellules ouvertes. ~a densité de ces mousses est fonction des composants des plasti~ols et de la quantité de gaz introduite, elle peut.donc varier entre de larges limites allant de 0,2 ~
0,9, il est cependant intéressant pour les applications les plus communes de ~abriquer des mousses de faible densité comprise dans l'intervalle 0,2 à 0,5.
~ e proc~dé faisant I'objet de l'invention permet non seulement de fabriquer des mousses homogènes, souples, ayant la ~;
den~ité recherchée mais aussi de pouvoir façonner, modeler à volon-té les mousGes crues ava~t leur ~usion. ~ors de cette fusion les mousses conservent la forme et la densité qu'elles avaient à
:~ 20 l'état cru et par~oi8 mame cette densité se trouve allégée.
f~ Ces mousses peuvent servir comme mat~riaux de rev8te-ment à l'envers de moguettes, tapis, tentures, papiers décorati~, ~; toiles~ ~ute~ plagues métalligues ou en matières plastiques. El-les ag~#sent principalement comme i~olants thermiques et phoniques et procurent du confort ~u fait de leur ~lasticit~, en outre elles ~vitent aux tapis et moquettes de glisser trop facilement sur les . #ols. .~lles peuvent atre utilisées également comme matériaux de rembourrage dans l'ameublement et l'industrie automobile ainsi que pour la ~abrication de filtres, de couvertures, de jouets.
~es exemples suivants illustrent l'invention, sans tou-te~ois la limlter. Danstoutce qui suit les parties et les pour-.
. - 8 - . .
11~32~93 centages sont exprimés en poids.
EX~ ~I~ 1 (Préparation d'un intermédiaire) Dans un ballon en verre de 1 litre, protégé de l'air ambiant par le pa~sage d'un léger courant dlazote sec~ on place 300 g d'un polyéther de formule CH2=CH-CH2(0C~2CE2)22(0CH-CH2)23 CH
OCOCH3 et 120 g de xylène~
- A oe mélange agité, on a~oute, en l'espace de 5 mn, 29~2 g du silane de formule (CH3)HSiC12 puis introduit 1,2 cm3 d'une solution d'acide chloroplatinique dans l'isopropanol, solu-tion ren~ermant 8 mg de platine par cm3.
~ !ensemble e~t porté lentement au re~lux et des le début du reflux la température du contenu du ballon est de 100~C, on poursuit le chau~age au reflux et lorsque la température du contenu du ballon atteint 125~C on éli~ine le ~ilane en excès ainsi qu'une partie du xylène. On opare d'abord à la pression atmosphérique puis sous une pression inférieure ~ la pression at-mosphérique qui se stabilise vers 200 mm de mercure.
On recueille 385,5 g d'une solution xylénique de visco-sité 55 cSt à 25~C, contenant 81 % du produit dtaddition de 2Q formule:
C12Si~
( 2)3(0C~I2C~I2)22(0lCH-CH2)230COCH3 CH~
jEXE~ E 2 Dans un ballon en verre de 250 cm3, également protégé
de l'air ambiant par le passage d'un léger courant d'azote sec, on introduit successivement 100 g d'une solution ~ 73 ~0 dans le xylane~ d'une résine organosilicique, 31 g de xyl~ne et 1 g de ;30 pyridine.
~ .
~' .
~()32'~93 ~ a résine orga~osilicique renferme 2,1% de groupes hydroxyles liés aux atomes de silicium et elle est constituée de moti~s de formules (CH3)3SiOo 5 et~SiO2 distribués respecti~ement dans le rapport numérique 0~61/1.
On ajoute au mélange agité~ en l'espace de 15 ~inutes, 25 g de la solution xylénique préparée à l~exemple 1 contenant 81 % du produit de ~ormule C12Si¢H3(CH2)3(0CH2CH2)22 (O~H CH2)23 OCOCH3 ; pe~dant cette addition du chlorhydrate de pyridine précipite et la température évolue de 24~C ~ 28~C.
Après rin de l~addition on introduit 30 g de xyl~ne pour diluer l~ensemble et maintient l'agitation pendant 30 minutes.
~e mélange est filtré et on recueille 175 g d~une solution xylé-niqùe (A) de viscosité 10 cSt à 25~C contenant 50 % de résine.
~ Ianalyse montre que cette résine ren~erme 1~8 ~ en poids de groupes hydroxyles et qulelle est constituée de motifs de iormules (cH3)3sioo~5 ~ CH3Si10 (CE2)3(0~H2C~2)22(Oc~-cH3)23ococH3 et SiO2 distribués respectivement dans le rapport numérique 0,61/0,012/1. ~-~
EXEM2~E 3 a) Dans un récipient de 5 1 équipé d~un agitateur pla-nétaire Kenwood (possèdant un fouet qui tourne sur lui-même en-tra~né par le planétaire) on introduit 1500 g d~une résine solide commerciali~ée par la Société ~hône-Progil sous le nom de ~UCOVYL PA 1302 puis 6?5 g de phtalate de dioctyle. Cette résine solide~ de diamètre particulaire moyen 10 miorons, de masse volu-mique apparente 0,31 ~ cm3 e~t un copolymère ~ormé à partir de Qhlorure de vinyle et d'acétate de vinyle, le chlorure de ~inyle 3o représentant au moins 90 ~ de l~ensemble lQ322g3 On malaxe pendant 5 minute~ ces deux produits ~ l'aide de l'agitateur plan~taire dont le variateur est sur la position 1 ( le planétaire tou me alors ~ 125 t/mn et le fouet à 415 t/mn~
sur lui-m8me) ensuite ajoute lentement ~ la pate obtenue un mélan-ge constitué de 450 g de phtalate de butyle e~ de benzyle, 45 g d'un ~tabilisant époxydé~ commercialisé par la Société Stavinor sous le nom de "OXY ~S" et 30 g d'un autre stabilisant à based'un sel organique plomb-zinc, commexcialisé par la Société Argus Chemical sous le nom de "MARE 21".
~e tout est agité? à la vite~se précitée~ pendant 15 minutes et le plastisol en résultant est abandonné ~ llair ambiant.
b) Dans un récipient de 1 1, sur lequel on adapte l'agi-tateur planétaire utilisé sous (a) on irltroduit 360 g du plastisol cl-dessus prépar~ depuis 2 heures et 20 g de la solution (A) de la résine à 50 % dans le xylène prépaxée à l!exemple 2 puis agite l!ensemble pendant 30 minutes à vitesse moyenne, le ~ariateur ; étant sur la position 3 ( le planétaire tourne à 155 t/mn et le iouet sur lui-m~me à 525 ~/mn).
Pendant cette agitation~ toutes les 3 minutes on pxé-lève un échantillon de mousse que l'on place dans une coupellem~tallique cylindrique d'une contenance de 17,5 cm3, celle-ci est .. .
~lors laissée pendant 15 minutes dans un iour porté à 150~C, ~ ar pe~ée on en d~dult aisément la den~ité de la mousse en ~onction du temps d'agitation.
A titre comparatii on remplace les 20 g de la solution (A) par 20 g d'une solution de résine choisie parmi 1/ une solu-tion (~ à 50 % dans le xylène, de la résine utilisée à l'exem-ple 2 constituée de moti~s de iormules (C~3~SiOo 5 et SiO2 dis-tribués respectivement dans le rapport numérique 0,61/1, 2/ une solution (A2), ~ 50 % dans le xyl~ne, d'une résine ren~er~ant 2,6 ~ de groupes bydroxyles, ¢onstituée également de motiis - 11 -' ~0 3 Z~3 (CH3)3SiOo 5 et SiO2 mais distribués dans le rapport numérique 0~68/1 Ces résines sont analogues ~ celles ~igurant aux exemples I des brevets ~rançais 1,462,753; 1,575,049; 2,100,494.
~ es densités de mousses en fonction de~ temps d!agita-tion sont portées au tableau I ci-après:
~AB~EAU I
. e~- . __ _ _ \ ~emps d!agitation ~ . ....... . . . .
en~mi~utes .
. \ 3 6 9 12 15 21 3o Résines utilisées \ . .
_ . _ . Solution A 0,45 o,i2 0,41 0,41 0,410,41 0,41 Solution A1 0,58 0,56 0,53 0,530,51 0,52 0,53 Solution A2 0,57 0,56 0,54 0,530,52 0,53 0,54 _ , . . . .. ~, .. ...... . . . . . . . .
: On constate que seule la solution A conduit aux mousses ~yant les densit~s le~ plus ~aibles, lesquelles mousses comme il ressort du tableau, ne sont pas a~ectées par une durée.d~agita-tio~ de 30 minutes, elles ont donc également une bo~ne stabilité
~ tat cru ,~MPI~E 4 ...;
~ n suivant le mode opératoire de l!exemple 2 on modiiie une résine organosilicique, en solution à 86 ~ dans le xglene tr~sine utilisée à l'exemple ~ pour ~ormer la solution A2), par des quantités diverses de dichlorosil~nes chcHsis parmi les deux silanes de formule C12Si (CH2)3(0CH2CH2)X(0 2)x 3 da~s laguelle les symboles x identiques ont la valeur 4 ou 9, Ces dichlorosilanes sont obtenus de la ~ani~re indiquée ~ l'exem-; 30 ple 1.
~es résines modi~iées (M) en découlant sont toutes _ ~2 -.
~ ~ z z 9 3 obtenues en solution à 64 ~ dans le xylène~ elles sont constituées chacune de moti~s de ~ormules (CH3)3SiOo 5 , C~3SiO
(CH2)3(0CH2CH2)X(OfH-~H2)XOCOCH~ et SiO2 distribués respective-ment dans le rapport numérique 0,68~ /1, les symboles x ayant ~ .
la valeur précitée.
Dans le tableau ci-dessous ~igurent d'une part les quan-tités de dichlorosilanes mises en oeuvre pour 100 g de la solution .
~ 86 % de re~ine et dtautre part la valeur de Y.
TA~EAU II
. . I
DichlorosiianesQuantités Réslnes modifiées M
. utilisé~ employées en g - valeurs de Y
x _ 4 . .. . . j . 0,032 ~
x = 4 7~9 0,021 x = 9 21~3 0~032 . :
x - 9 12,4 0~018 . , - , .. . . . . . . . . . . . . . . . . . .. . . . . . . .
20. A titre comparatii on prépare une solution à 64 % dans le xyl~ne du copolym~re de motifs (CH3)3sloo~5~ H(~CH2CH2)11 20(CH2)~sioo 5 et SiO2 (CH3)2 en reproduisant l'exemple 6 du bxe~et ~rançais 1,423~704; cette ~olution est appel~e ~'. Avec 20 g de chacune des solutions et Ml on opère comme décrit à l'exemple 3 sous (b) et obtient de~ mous3es dont on détermine également les densités.
On constate que ces densités~ en ~onction des temps d'a~itation~ s'étalent de 0~48 à 0~42 dans le cas de l'emploi des solutions ~ et de 0,70 à 0,64 dans le cas de l'emploi de la solution M'.
~ es composés de ~ormule Q(CnH2nO)yR" peuvent etre trou-vés sur le marché industriel mais on peut également les préparer en utilisant des réactions classi~ues de la chimie organique. Par exemple on traite le groupe hydroxyle terminal des polyéthers de ~ormule HO(CnH2nO)yRII par un anhydride d~acide, un chloroP:ormiate dlalcoyle, un silane de ~ormule R3SiCl ou bien on remplace l~ato-. 20 me d~hydrog~ne terminal des polyéthers de ~ormule Q(CnH2nO)~I p.arun atome d!un métal alcalin et ~ait réagir les polyéthersainsi métallés avec un chlorure d!.alcényle tel que le chlorure do vinyl~
ou d!allyle.
, Ces polyéthers sont eux-meme préparés par mise en con-tact d~un alcool ayant ou non uneinsaturation aliphatique ou d~.un acide avec des composés à groupes oxirannes~ tels que l'.oxyde d'.éthylène ou de propylène ou le mélange de ces deux Oxyaes.
j Des détails sur ces polymères ~igurent en particnlier j -- dans llouvrage de N.G. Gaylord intitulé "Polyethers.Part. I
~ ~~ Polyalkylene oxides and other polyethers".
_ ~ _ ~ ~3 2 ~ ~ 3 On préfère cependant utili~er le proces~us qui consi~e ~ mettre en contact, au sein ae diluant~ o~ganiques, les ~ilanes de ~ormule Q(CnH2nO)yRISiCl2 avec des résines organosiliciques constituées de moti~s (CH3)2RSiOo 5 et SiO2 distribués dans le rapport numérique 0,55/1 ~ 0,75/1, et ayant 0,5 ~ 4 ~0 en poids de groupes hydroxyles liés aux atomes de silicium ; la réaction est e~ectué à une température allant de 0~C à 150~~ et le rap-port molaire sil~nes/résines est en relation directe avec le rap-port précité du nombre de motiis de ~ormule Q(CnH2nO)~RR'SiO au nombre de motif~ SiO2 des copolymères, ce de~nier rapport s'éten-dant de 0,005/1 à 0,1/1.
~es silanes peuvent atre obtenus par réaction des chlo-rosilanes de formule X' R~.SiRC12 (le symbole X~ repré~entant un atome de chlore ou de brome) avec les sels de métaux alcalins des dérivé~ de polyalcoylèneglycol~ de formule précitée Q(CnH2nO)yH
~brevets ~rançais 19291,821; 1~326,879) de m~me ils peu~ent être obtenus par ~i~ation de chlorosilanes de ~ormule RSiHC12, en pré-sence de composés de platine, sur le~ dérivés de polyalooylene-' glycols de formule précitée Q(~I12nO)yRII (brevet français 2~132,781). Ces réactions ont lieu de pré~érence au sein de . diluants. ~es résines sont des produit~ industriels en outre elles peuvent atre aisément préparées ~oit par réaction de chlo-rosilanes de iormules (CH3)2RSiCl et/ou d!hexaorganodi~iloxanos de ~ormule (CH3)2RSiOSiR(CH~)2 sur un hydro801 de ~illoe (brevet ~rançais 1,0~6~736) soit par cohydrolyse de silicates d~.alcoyle, dont les groupes ~lcoyles sont principalement méthyles, éthyles . ou propyles aveo des chlorosilanes de ~ormule (CH3)2RSiCl(brevet ~rançais 1,134,005); on opère en milieu diluants inertes et con-.. . .
sexve les résines dans ces diluants ou les remplace en totalité
--30 ou en partie par d'autres diluants ~galement inertes.
Ces xésines dont la concentration dan~ le~ diluants est ~ - 5 -., ~3 Z ~ ~ 3 de l~ordre de 50 à 90~,' en poids, possèdent de 0t5 ~ 4 ~ en poids de groupes hydroxyles liés aux atomes de silicium.
Comme diluant8 appropri~s peu~ent être mentionnés le toluène, le xyl~ne, le cumène, le cyclohexane, le méthyl-cyclohe-xane, le chlorobenzane, llacétate dléthyle, lléther isopropylique.
Ces diluants servent ~galement de milieu réactionnel pour la ' ",,;
, .
. . ~ .
- 5a -~ : ,-' , ,, ~
~ . . ~ : . . - .
~(~3Z~93 préparatio~ des silanes Yenant d'être mentiolméS ainsi que pour ~ leur réaction ultérieure avec les résines.
~ or~ du contact des silanes avec les résines la réaction des liaisons SiCl des silanes avec les groupes hydroxyles des ré-sines provoque la ~ormation de ga~ chlorhydrique~ il est alors avantageux de piéger ce gaz par une base organique telle qu'une amine tertiaire.
.~es ~ilanes et les résines sont utilisés dans un rapport molaire tel que les copolymères obtenus ont des motiis distribués ~elon les rapports numériques déjà mentionnés : le rapport du nom-bre de motifs (CH3)2RSiOo 5 au nombre de moti~s SiO~ s'étend de 0,55/1 à 0,75/1, de préférence 0,58/1 à 0,70/1 et le rapport du nombre de moti~s Q(CnH2nO)yR'SiO au nombre de moti~s SiO2 s'étend de 0,005/1 à 0,1/1 et de pré~érence 0,01/1 à 0,06/1.
~ a réaction peut être exécutée dans un domaine de tem~
pératures allantde 0~C à 150~C, une $empérature élevée accel~e la reaction mais de bons résultats sont obtenus à des températures proches de la température ambiante vers 10-50~C. Après achèvement de la réaction les solutions sont amenées à la concentration désirée en copolymères en vue de l'emploi ultérieur de ces der-niers pour r~gulariser et stabiliser les cellule# de mou8ses en polychlorure de ~i~gle. Cette concentration peut atre queloon-que mais pour des raisons de commodités d'emploi il e~t pr~férable qu'elle se ~itue dan~ l'intervalle 40 ~ 80 % en poids. Ces copolymères~ sous forme de solutions, sont alors introduits dans des plastisols à b.ase de polychlorure de vinyle dans la proportion de 0,5 à 10~o du poids des plàstisols, de pré~érence 1 ~ 8 %.
Ces plastisols, que l'on peut fabriquer ~ partir de composés industriels très accessibles, sont connus déjà depuis de nombreuses années ; ce sont des dispersions de r~sines en polychlorurs de vinyle dars un ou plusieurs plastiiiants. Par .
~ 3Z~293 chauf~age les résines vinyliques se dissol~ent dans les plasti-iiants, il en résulte la fusion de l'ensemble et l'obtention de matiares thermoplastiques. ~es résines en polychlorure de vinyle peuvent atre des homopolymare~ ou des copolymères, dans ce dernier cas elles dérivent de la copolymérisation de chlorure de vinyle et de composés organigues ~ insaturation aliphatique tels que l'acétate de vinyle~ l'acrylate de méthyle~ l'acrylate -d'éthyle, les méthacrylates correspondants~ l'acrylonitrile, le chlorure de vinylidène ; en général ces copolymères résineux ren-ferment au moins 80 % de polychlorure de vinyle.
~ es plastifiants utilisés pour la fabrication des plas-tisols sont généralement des esters d'acides carboxyliques ou de l'acide phosphorique comme le phtalate de butyle et de benzyle, le phtalate de dioctyle~ le phtalate de dodécyle, le trimellate de trioct~le, le phosphate de tricrésyle.
De nombreuses in~ormations ~ur les résines en poly-chlorure de vinyle et ~ur leurs plastifiants figurent da~s les brevets français 1~575~049 et 2~100~494 Egalement dans ces plastisols, outre }e~ ré~ines vinyliques et le~ plasti~iants~
peuvent être introduits des adjuvants divers tels que des pigments, de~ charges~ des stabilisants vis-a-vis des agents atmosphériques et de la ¢haleur. Dans la pratique les adjuvants repr~sentent au plus 6 % du poids des plastlsols.
~ e moussage des plastisols ren*ermant les copolymères organopolysiloxaniques est obtenu par expansion à l'aide de gaz;
plusieurs techniques peuvent atre mises en oeuvre pour introduire le~ gaz dans ¢es plastisols comme le barbotage, l'incorporation de produits porogènes~ le battage mécanique. Cette dernière technique est préféré étant donné que~ basées sur elle, des ma-chines industrielles ont été construites pour effectuer les di-. .
ver~es opérations ayant trait, dans l'ordre, à la préparation .
, ~(~32Z9'3 ~ des plastisols pàr mélange des composés de base, à l'addition des stabilisants organopolysiloxaniques, à la trans~ormation de l'en-semble en mousses par battage méca~ique en présence d'air par exem-ple.
~ es mousses crues ainsi ~ormée~ sont chau~fees ver~
70~C-200~C pendant une durée allant de quelques minutes à plusieurs heures pour réali~er leur géli~ication et ~usion. Il en résulte de~ produ~ts ayant une structure alvéolaire homogène, constituée de cellules ouvertes. ~a densité de ces mousses est fonction des composants des plasti~ols et de la quantité de gaz introduite, elle peut.donc varier entre de larges limites allant de 0,2 ~
0,9, il est cependant intéressant pour les applications les plus communes de ~abriquer des mousses de faible densité comprise dans l'intervalle 0,2 à 0,5.
~ e proc~dé faisant I'objet de l'invention permet non seulement de fabriquer des mousses homogènes, souples, ayant la ~;
den~ité recherchée mais aussi de pouvoir façonner, modeler à volon-té les mousGes crues ava~t leur ~usion. ~ors de cette fusion les mousses conservent la forme et la densité qu'elles avaient à
:~ 20 l'état cru et par~oi8 mame cette densité se trouve allégée.
f~ Ces mousses peuvent servir comme mat~riaux de rev8te-ment à l'envers de moguettes, tapis, tentures, papiers décorati~, ~; toiles~ ~ute~ plagues métalligues ou en matières plastiques. El-les ag~#sent principalement comme i~olants thermiques et phoniques et procurent du confort ~u fait de leur ~lasticit~, en outre elles ~vitent aux tapis et moquettes de glisser trop facilement sur les . #ols. .~lles peuvent atre utilisées également comme matériaux de rembourrage dans l'ameublement et l'industrie automobile ainsi que pour la ~abrication de filtres, de couvertures, de jouets.
~es exemples suivants illustrent l'invention, sans tou-te~ois la limlter. Danstoutce qui suit les parties et les pour-.
. - 8 - . .
11~32~93 centages sont exprimés en poids.
EX~ ~I~ 1 (Préparation d'un intermédiaire) Dans un ballon en verre de 1 litre, protégé de l'air ambiant par le pa~sage d'un léger courant dlazote sec~ on place 300 g d'un polyéther de formule CH2=CH-CH2(0C~2CE2)22(0CH-CH2)23 CH
OCOCH3 et 120 g de xylène~
- A oe mélange agité, on a~oute, en l'espace de 5 mn, 29~2 g du silane de formule (CH3)HSiC12 puis introduit 1,2 cm3 d'une solution d'acide chloroplatinique dans l'isopropanol, solu-tion ren~ermant 8 mg de platine par cm3.
~ !ensemble e~t porté lentement au re~lux et des le début du reflux la température du contenu du ballon est de 100~C, on poursuit le chau~age au reflux et lorsque la température du contenu du ballon atteint 125~C on éli~ine le ~ilane en excès ainsi qu'une partie du xylène. On opare d'abord à la pression atmosphérique puis sous une pression inférieure ~ la pression at-mosphérique qui se stabilise vers 200 mm de mercure.
On recueille 385,5 g d'une solution xylénique de visco-sité 55 cSt à 25~C, contenant 81 % du produit dtaddition de 2Q formule:
C12Si~
( 2)3(0C~I2C~I2)22(0lCH-CH2)230COCH3 CH~
jEXE~ E 2 Dans un ballon en verre de 250 cm3, également protégé
de l'air ambiant par le passage d'un léger courant d'azote sec, on introduit successivement 100 g d'une solution ~ 73 ~0 dans le xylane~ d'une résine organosilicique, 31 g de xyl~ne et 1 g de ;30 pyridine.
~ .
~' .
~()32'~93 ~ a résine orga~osilicique renferme 2,1% de groupes hydroxyles liés aux atomes de silicium et elle est constituée de moti~s de formules (CH3)3SiOo 5 et~SiO2 distribués respecti~ement dans le rapport numérique 0~61/1.
On ajoute au mélange agité~ en l'espace de 15 ~inutes, 25 g de la solution xylénique préparée à l~exemple 1 contenant 81 % du produit de ~ormule C12Si¢H3(CH2)3(0CH2CH2)22 (O~H CH2)23 OCOCH3 ; pe~dant cette addition du chlorhydrate de pyridine précipite et la température évolue de 24~C ~ 28~C.
Après rin de l~addition on introduit 30 g de xyl~ne pour diluer l~ensemble et maintient l'agitation pendant 30 minutes.
~e mélange est filtré et on recueille 175 g d~une solution xylé-niqùe (A) de viscosité 10 cSt à 25~C contenant 50 % de résine.
~ Ianalyse montre que cette résine ren~erme 1~8 ~ en poids de groupes hydroxyles et qulelle est constituée de motifs de iormules (cH3)3sioo~5 ~ CH3Si10 (CE2)3(0~H2C~2)22(Oc~-cH3)23ococH3 et SiO2 distribués respectivement dans le rapport numérique 0,61/0,012/1. ~-~
EXEM2~E 3 a) Dans un récipient de 5 1 équipé d~un agitateur pla-nétaire Kenwood (possèdant un fouet qui tourne sur lui-même en-tra~né par le planétaire) on introduit 1500 g d~une résine solide commerciali~ée par la Société ~hône-Progil sous le nom de ~UCOVYL PA 1302 puis 6?5 g de phtalate de dioctyle. Cette résine solide~ de diamètre particulaire moyen 10 miorons, de masse volu-mique apparente 0,31 ~ cm3 e~t un copolymère ~ormé à partir de Qhlorure de vinyle et d'acétate de vinyle, le chlorure de ~inyle 3o représentant au moins 90 ~ de l~ensemble lQ322g3 On malaxe pendant 5 minute~ ces deux produits ~ l'aide de l'agitateur plan~taire dont le variateur est sur la position 1 ( le planétaire tou me alors ~ 125 t/mn et le fouet à 415 t/mn~
sur lui-m8me) ensuite ajoute lentement ~ la pate obtenue un mélan-ge constitué de 450 g de phtalate de butyle e~ de benzyle, 45 g d'un ~tabilisant époxydé~ commercialisé par la Société Stavinor sous le nom de "OXY ~S" et 30 g d'un autre stabilisant à based'un sel organique plomb-zinc, commexcialisé par la Société Argus Chemical sous le nom de "MARE 21".
~e tout est agité? à la vite~se précitée~ pendant 15 minutes et le plastisol en résultant est abandonné ~ llair ambiant.
b) Dans un récipient de 1 1, sur lequel on adapte l'agi-tateur planétaire utilisé sous (a) on irltroduit 360 g du plastisol cl-dessus prépar~ depuis 2 heures et 20 g de la solution (A) de la résine à 50 % dans le xylène prépaxée à l!exemple 2 puis agite l!ensemble pendant 30 minutes à vitesse moyenne, le ~ariateur ; étant sur la position 3 ( le planétaire tourne à 155 t/mn et le iouet sur lui-m~me à 525 ~/mn).
Pendant cette agitation~ toutes les 3 minutes on pxé-lève un échantillon de mousse que l'on place dans une coupellem~tallique cylindrique d'une contenance de 17,5 cm3, celle-ci est .. .
~lors laissée pendant 15 minutes dans un iour porté à 150~C, ~ ar pe~ée on en d~dult aisément la den~ité de la mousse en ~onction du temps d'agitation.
A titre comparatii on remplace les 20 g de la solution (A) par 20 g d'une solution de résine choisie parmi 1/ une solu-tion (~ à 50 % dans le xylène, de la résine utilisée à l'exem-ple 2 constituée de moti~s de iormules (C~3~SiOo 5 et SiO2 dis-tribués respectivement dans le rapport numérique 0,61/1, 2/ une solution (A2), ~ 50 % dans le xyl~ne, d'une résine ren~er~ant 2,6 ~ de groupes bydroxyles, ¢onstituée également de motiis - 11 -' ~0 3 Z~3 (CH3)3SiOo 5 et SiO2 mais distribués dans le rapport numérique 0~68/1 Ces résines sont analogues ~ celles ~igurant aux exemples I des brevets ~rançais 1,462,753; 1,575,049; 2,100,494.
~ es densités de mousses en fonction de~ temps d!agita-tion sont portées au tableau I ci-après:
~AB~EAU I
. e~- . __ _ _ \ ~emps d!agitation ~ . ....... . . . .
en~mi~utes .
. \ 3 6 9 12 15 21 3o Résines utilisées \ . .
_ . _ . Solution A 0,45 o,i2 0,41 0,41 0,410,41 0,41 Solution A1 0,58 0,56 0,53 0,530,51 0,52 0,53 Solution A2 0,57 0,56 0,54 0,530,52 0,53 0,54 _ , . . . .. ~, .. ...... . . . . . . . .
: On constate que seule la solution A conduit aux mousses ~yant les densit~s le~ plus ~aibles, lesquelles mousses comme il ressort du tableau, ne sont pas a~ectées par une durée.d~agita-tio~ de 30 minutes, elles ont donc également une bo~ne stabilité
~ tat cru ,~MPI~E 4 ...;
~ n suivant le mode opératoire de l!exemple 2 on modiiie une résine organosilicique, en solution à 86 ~ dans le xglene tr~sine utilisée à l'exemple ~ pour ~ormer la solution A2), par des quantités diverses de dichlorosil~nes chcHsis parmi les deux silanes de formule C12Si (CH2)3(0CH2CH2)X(0 2)x 3 da~s laguelle les symboles x identiques ont la valeur 4 ou 9, Ces dichlorosilanes sont obtenus de la ~ani~re indiquée ~ l'exem-; 30 ple 1.
~es résines modi~iées (M) en découlant sont toutes _ ~2 -.
~ ~ z z 9 3 obtenues en solution à 64 ~ dans le xylène~ elles sont constituées chacune de moti~s de ~ormules (CH3)3SiOo 5 , C~3SiO
(CH2)3(0CH2CH2)X(OfH-~H2)XOCOCH~ et SiO2 distribués respective-ment dans le rapport numérique 0,68~ /1, les symboles x ayant ~ .
la valeur précitée.
Dans le tableau ci-dessous ~igurent d'une part les quan-tités de dichlorosilanes mises en oeuvre pour 100 g de la solution .
~ 86 % de re~ine et dtautre part la valeur de Y.
TA~EAU II
. . I
DichlorosiianesQuantités Réslnes modifiées M
. utilisé~ employées en g - valeurs de Y
x _ 4 . .. . . j . 0,032 ~
x = 4 7~9 0,021 x = 9 21~3 0~032 . :
x - 9 12,4 0~018 . , - , .. . . . . . . . . . . . . . . . . . .. . . . . . . .
20. A titre comparatii on prépare une solution à 64 % dans le xyl~ne du copolym~re de motifs (CH3)3sloo~5~ H(~CH2CH2)11 20(CH2)~sioo 5 et SiO2 (CH3)2 en reproduisant l'exemple 6 du bxe~et ~rançais 1,423~704; cette ~olution est appel~e ~'. Avec 20 g de chacune des solutions et Ml on opère comme décrit à l'exemple 3 sous (b) et obtient de~ mous3es dont on détermine également les densités.
On constate que ces densités~ en ~onction des temps d'a~itation~ s'étalent de 0~48 à 0~42 dans le cas de l'emploi des solutions ~ et de 0,70 à 0,64 dans le cas de l'emploi de la solution M'.
Claims (4)
1. Procédé de préparation de mousses en polychlorure de vinyle à cellules ouvertes par introduction de fluides gazeux dans des plastisols qui contiennent de 0,5 à 10 % de leur poids de stabilisants organosiliciques, ce procédé étant caractérisé
en ce que ces stabilisants sont choisis parmi les copolymères constitués de motifs de formules (CH3)2RSiO0,5, Q(CnH2nO)yR'?iO et SiO2 dans lesquelles le symbole R
représente un groupe alcoyle ayant de 1 à 3 atomes de carbone, un groupe vinyle, le symbole R' représente un radical hydrocarbo-né divalent ayant de 1 à 10 atomes de carbone, le symbole Q repré-sente un radical organique choisi parmi les radicaux de formules -OG , -O?G, -O?OG, -OSiR3 dans lesquelles le symbole G représente un radical alcoyle ayant de 1 à 4 atomes de carbone, les symboles R identiques ou différents ayant la signification précitée, le symbole n représente un nombre entier allant de 2 à 4, le symbole y représente un nombre quelconque allant de 4 à 60 ; dans ces copolymères le rapport du nombre de motifs (CH3)2RSiO0,5 au nombre de motif SiO2 varie entre 0,55/1 et 0,75/1 et le rapport du nom-bre de motifs Q(CnH2nO)yR'?iO au nombre de motifs SiO2 varie entre 0,005/1 et 0,1/1.
en ce que ces stabilisants sont choisis parmi les copolymères constitués de motifs de formules (CH3)2RSiO0,5, Q(CnH2nO)yR'?iO et SiO2 dans lesquelles le symbole R
représente un groupe alcoyle ayant de 1 à 3 atomes de carbone, un groupe vinyle, le symbole R' représente un radical hydrocarbo-né divalent ayant de 1 à 10 atomes de carbone, le symbole Q repré-sente un radical organique choisi parmi les radicaux de formules -OG , -O?G, -O?OG, -OSiR3 dans lesquelles le symbole G représente un radical alcoyle ayant de 1 à 4 atomes de carbone, les symboles R identiques ou différents ayant la signification précitée, le symbole n représente un nombre entier allant de 2 à 4, le symbole y représente un nombre quelconque allant de 4 à 60 ; dans ces copolymères le rapport du nombre de motifs (CH3)2RSiO0,5 au nombre de motif SiO2 varie entre 0,55/1 et 0,75/1 et le rapport du nom-bre de motifs Q(CnH2nO)yR'?iO au nombre de motifs SiO2 varie entre 0,005/1 et 0,1/1.
2. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que le symbole R représente le radical méthyle, le symbole R' re-présente le radical alcoylène de formule -(CH2)3-, le symbole Q
représente le radical acétoxyle, le symbole n est choisi parmi les nombres 2 et 3 et le symbole y représente un nombre quelconque allant de 8 à 45.
représente le radical acétoxyle, le symbole n est choisi parmi les nombres 2 et 3 et le symbole y représente un nombre quelconque allant de 8 à 45.
3. Copolymères organosiliciques, constitués de motifs de formules (CH3)2RSiO0,5, Q(CnH2nO)yR'?iO et SiO2 dans lesquelles le symbole R représente un groupe alcoyle ayant de 1 à 3 atomes de carbone, un groupe vinyle, le symbole R' représente un radical hydrocarboné divalent ayant de 1 à 10 atomes de carbone, le sym-bole Q représente un radical organique choisi parmi les radicaux de formules -OG, -O?G, -O?OG, -OSiR3 dans lesquelles le symbole G
représente un radical alcoyle ayant de 1 à 4 atomes de carbone, les symboles R identiques ou différents ayant la signification préci-tée, le symbole n représente un nombre entier allant de 2 à 4, le symbole y représente un nombre quelconque allant de 4 à 60 ; dans ces copolymères le rapport du nombre de motifs (CH3)2RSiO0,5 au nombre de motifs SiO2 varie entre 0,55/1 et 0,75/1 et le rapport du nombre de motifs Q(CnH2nO)yR'?iO au nombre de motifs SiO2 varie entre 0,005/1 et 0,1/1.
représente un radical alcoyle ayant de 1 à 4 atomes de carbone, les symboles R identiques ou différents ayant la signification préci-tée, le symbole n représente un nombre entier allant de 2 à 4, le symbole y représente un nombre quelconque allant de 4 à 60 ; dans ces copolymères le rapport du nombre de motifs (CH3)2RSiO0,5 au nombre de motifs SiO2 varie entre 0,55/1 et 0,75/1 et le rapport du nombre de motifs Q(CnH2nO)yR'?iO au nombre de motifs SiO2 varie entre 0,005/1 et 0,1/1.
4. Procédé de préparation des copolymères organosi-liciques employés selon la revendication 1, caractérisé en ce que l'on met en contact au sein de diluants organiques des si-lanes de formule Q(CnH2nO)yR'SiCl2 avec des résines organosili-ciques constitués demotifs (CH3)2RSiO0,5 et SiO2 distribués dans le rapport numérique 0,55/1 à 0,75/1 et ayant 0,5 à 4% en poids de groupes hydroxylés liés aux atomes de silicium, la réaction étant effectuée à une température allant de 0°C à 150°C et le rapport molaire silanes/résines étant en relation directe avec le rapport précité du nombre de motifs de formule Q(CnH2nO)yR'RSiO au nom-bre de motifs SiO2 des copolymères, ce dernier rapport s'étendant de 0,005/1 à 0,1/1.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR7328211A FR2239494B1 (fr) | 1973-08-01 | 1973-08-01 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CA1032293A true CA1032293A (fr) | 1978-05-30 |
Family
ID=9123481
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CA205,843A Expired CA1032293A (fr) | 1973-08-01 | 1974-07-29 | Mousses en chlorure de polyvinyle contenant des stabilisants organosiliciques |
Country Status (18)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3975361A (fr) |
JP (2) | JPS5316825B2 (fr) |
AT (1) | AT334096B (fr) |
AU (1) | AU467291B2 (fr) |
BE (1) | BE818340A (fr) |
BR (1) | BR7406231D0 (fr) |
CA (1) | CA1032293A (fr) |
CH (1) | CH592124A5 (fr) |
DE (1) | DE2437158C3 (fr) |
DK (1) | DK138657B (fr) |
ES (1) | ES428852A1 (fr) |
FR (1) | FR2239494B1 (fr) |
GB (1) | GB1439115A (fr) |
IE (1) | IE39649B1 (fr) |
IT (1) | IT1017825B (fr) |
NL (1) | NL7410007A (fr) |
SE (1) | SE397196B (fr) |
ZA (1) | ZA744861B (fr) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5642931U (fr) * | 1979-09-07 | 1981-04-18 | ||
DE3004984A1 (de) * | 1980-02-11 | 1981-09-10 | Bör-, Mübör- és Cipöipari Kutató Intézet, Budapest | Verfahren zur herstellung von wasserdampfdurchlaessigen kunstlederplattenmaterialien |
JPS5735324U (fr) * | 1980-07-31 | 1982-02-24 | ||
JPS57176421U (fr) * | 1981-04-30 | 1982-11-08 | ||
JPS61176215U (fr) * | 1985-04-18 | 1986-11-04 | ||
DE19603357B4 (de) * | 1995-02-10 | 2004-09-23 | General Electric Co. | Siloxysilicatharze geringer Viskosität mit organischen, funktionellen Gruppen |
KR100512355B1 (ko) * | 2003-02-19 | 2005-09-02 | 주식회사 엘지화학 | 폴리염화비닐 발포체 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3511788A (en) * | 1965-02-03 | 1970-05-12 | Dow Corning | Foams,compositions,method for making foams and foam covered substrate ii |
US3730931A (en) * | 1970-11-10 | 1973-05-01 | Gen Electric | Silicone resins used as surfactants in vinyl chloride foam |
US3814706A (en) * | 1970-11-10 | 1974-06-04 | Gen Electric | Silicone resins used as surfactants in vinyl chloride foam |
US3833512A (en) * | 1971-04-08 | 1974-09-03 | Union Carbide Corp | Solution compositions of organo-silicone polymers |
US3796676A (en) * | 1972-09-29 | 1974-03-12 | Union Carbide Corp | Organosilicone polymeric foam stabilizer composition and polyester urethane foam produced therewith |
-
1973
- 1973-08-01 FR FR7328211A patent/FR2239494B1/fr not_active Expired
-
1974
- 1974-07-24 NL NL7410007A patent/NL7410007A/xx not_active Application Discontinuation
- 1974-07-29 BR BR6231/74A patent/BR7406231D0/pt unknown
- 1974-07-29 CA CA205,843A patent/CA1032293A/fr not_active Expired
- 1974-07-30 JP JP8742474A patent/JPS5316825B2/ja not_active Expired
- 1974-07-30 AU AU71828/74A patent/AU467291B2/en not_active Expired
- 1974-07-30 ZA ZA00744861A patent/ZA744861B/xx unknown
- 1974-07-31 CH CH1052374A patent/CH592124A5/xx not_active IP Right Cessation
- 1974-07-31 GB GB3384574A patent/GB1439115A/en not_active Expired
- 1974-07-31 IE IE1624/74A patent/IE39649B1/xx unknown
- 1974-07-31 DK DK409674AA patent/DK138657B/da unknown
- 1974-07-31 SE SE7409902A patent/SE397196B/xx unknown
- 1974-07-31 US US05/493,458 patent/US3975361A/en not_active Expired - Lifetime
- 1974-07-31 BE BE147160A patent/BE818340A/fr unknown
- 1974-08-01 DE DE2437158A patent/DE2437158C3/de not_active Expired
- 1974-08-01 IT IT25875/74A patent/IT1017825B/it active
- 1974-08-01 AT AT631974A patent/AT334096B/de not_active IP Right Cessation
- 1974-08-01 ES ES428852A patent/ES428852A1/es not_active Expired
-
1977
- 1977-08-09 JP JP9548177A patent/JPS5327699A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5344520B2 (fr) | 1978-11-29 |
FR2239494A1 (fr) | 1975-02-28 |
JPS5045048A (fr) | 1975-04-22 |
DE2437158C3 (de) | 1980-02-07 |
ATA631974A (de) | 1976-04-15 |
SE7409902L (fr) | 1975-02-03 |
GB1439115A (en) | 1976-06-09 |
AU467291B2 (en) | 1975-11-27 |
FR2239494B1 (fr) | 1976-06-18 |
CH592124A5 (fr) | 1977-10-14 |
ZA744861B (en) | 1975-08-27 |
JPS5327699A (en) | 1978-03-15 |
NL7410007A (nl) | 1975-02-04 |
AU7182874A (en) | 1975-11-27 |
IE39649B1 (en) | 1978-11-22 |
DK409674A (fr) | 1975-04-01 |
DK138657C (fr) | 1979-03-12 |
ES428852A1 (es) | 1976-08-16 |
DK138657B (da) | 1978-10-09 |
DE2437158A1 (de) | 1975-02-27 |
SE397196B (sv) | 1977-10-24 |
AT334096B (de) | 1976-12-27 |
JPS5316825B2 (fr) | 1978-06-03 |
DE2437158B2 (de) | 1979-05-23 |
US3975361A (en) | 1976-08-17 |
BE818340A (fr) | 1975-01-31 |
BR7406231D0 (pt) | 1975-05-27 |
IT1017825B (it) | 1977-08-10 |
IE39649L (en) | 1975-02-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0165849B1 (fr) | Copolymère greffé de silicone et de polylactone lié par une liaison uréthanne | |
JPS61146349A (ja) | ヒドロシリル反応触媒としての白金/トリエン錯体及びその製造法 | |
JPH08134103A (ja) | シロキサン含有プルラン及びその製造方法 | |
CA1032293A (fr) | Mousses en chlorure de polyvinyle contenant des stabilisants organosiliciques | |
FR2638752A1 (fr) | Procede de preparation de diorganopolysiloxanes a groupements terminaux alcoxy | |
JPH0551459A (ja) | 有機ケイ素重合体の製造方法 | |
EP3689944A1 (fr) | Composé polysiloxazane, son procédé de production, composition le contenant et produit durci correspondant | |
FR2635780A1 (fr) | Diorganopolysiloxane a fonction benzotriazole | |
FR2786497A1 (fr) | Compositions organopolysiloxanes durcissant en elastomeres translucides des la temperature ambiante en presence d'humidite | |
FR2509737A1 (fr) | Procede de preparation d'une composition organo-silicique avec inhibiteur de durcissement produit in situ et composition ainsi produite | |
FR2543561A1 (fr) | Procede de preparation d'une composition de polyorganosiloxane vulcanisable a froid contenant un accelerateur de durcissement et un materiau a groupe fonctionnel enoxy | |
FR2465741A1 (fr) | Solutions aqueuses de siliconates de metal-ammines, matieres amorphes derivees de ces solutions et leurs applications | |
WO2000075234A1 (fr) | Compositions a base d'organopolysiloxanes et de polymere silyle durcissant en elastomeres des la temperature ambiante en presence d'humidite | |
FR2522671A1 (fr) | Composition de caoutchouc de silicone vulcanisable a temperature ambiante a un composant auto-liant | |
US4861906A (en) | Process for the synthesis of acylamino organosilicon compounds | |
JPH09136901A (ja) | シロキサングラフトセルロース誘導体を含有する化粧料及びその製造方法 | |
JP3024473B2 (ja) | 熱可塑性フルオロシリコーン樹脂及びその製造方法 | |
EP0421895B1 (fr) | Composés d'étain (IV) éventuellement chélatés utilisables notamment comme catalyseurs latents | |
FR2463165A1 (fr) | Melanges a base de mercapto-organosiloxanes durcissables par l'oxygene catalyses par des cobaltocenes, procede pour former des produits de masse moleculaire plus elevee a partir de ces melanges et compositions durcies obtenues a partir de ces melanges | |
EP0008997A2 (fr) | Elastomères thermoplastiques polystyréniques diorganopolysiloxaniques; procédé d'obtention de ces élastomères | |
FR2543559A1 (fr) | Procede de fabrication d'une composition de caoutchouc de silane vulcanisable a la temperature ambiante a un composant | |
FR2648676A1 (fr) | Nouveau compose pour la realisation de resine a proprietes bioactives et procede pour la preparation de ce compose | |
CA1072241A (fr) | Thermoplastic polysiloxanic elastomers_ | |
CN115916793A (zh) | 用于制备硅氧烷的方法 | |
JP3009092B2 (ja) | シロキサン含有プルラン及びその製造方法 |