JPH09132401A - 塩素含有供給ガスからの高純度の塩素の分離方法 - Google Patents
塩素含有供給ガスからの高純度の塩素の分離方法Info
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- JPH09132401A JPH09132401A JP8262162A JP26216296A JPH09132401A JP H09132401 A JPH09132401 A JP H09132401A JP 8262162 A JP8262162 A JP 8262162A JP 26216296 A JP26216296 A JP 26216296A JP H09132401 A JPH09132401 A JP H09132401A
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- Treating Waste Gases (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 塩素含有ガス流から塩素を分離するための方
法。 【解決手段】 不活性吸着剤を使用することによる塩素
の吸着および吸着剤／塩素混合物を脱着蒸留カラムに供
給することにより吸着段階から取り出された吸着剤／塩
素混合物からの塩素の下流方向への吸着によって、塩素
含有供給ガスから高純度の塩素を分離する。 【効果】 塩素分離装置を後にする流出ガスが、吸着剤
を含有せず、塩素をほとんど含有していない程度に、高
純度で塩素を分離することができ、かつ最小限の装置を
用いて実施することができる。
法。 【解決手段】 不活性吸着剤を使用することによる塩素
の吸着および吸着剤／塩素混合物を脱着蒸留カラムに供
給することにより吸着段階から取り出された吸着剤／塩
素混合物からの塩素の下流方向への吸着によって、塩素
含有供給ガスから高純度の塩素を分離する。 【効果】 塩素分離装置を後にする流出ガスが、吸着剤
を含有せず、塩素をほとんど含有していない程度に、高
純度で塩素を分離することができ、かつ最小限の装置を
用いて実施することができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ガスの混合物から
塩素を分離するための方法および回収するための方法に
関する。
塩素を分離するための方法および回収するための方法に
関する。
【０００２】
【従来の技術】有機化合物を塩素化する過程で、大量の
塩化水素が形成されるということは公知である。例え
ば、フォームおよびコーティングのための原料塩基を形
成するイソシアネートの製造は、製品１トン当たり０．
５〜１０ｔの塩化水素の形成を必然的に伴っている。
塩化水素が形成されるということは公知である。例え
ば、フォームおよびコーティングのための原料塩基を形
成するイソシアネートの製造は、製品１トン当たり０．
５〜１０ｔの塩化水素の形成を必然的に伴っている。
【０００３】前記プロセスガスまたは他のプロセスガス
またはフラッシングガスからの塩素の再利用は、種々の
方法で意図されている。電気分解の場合、例えば塩化水
素は、まず第一に水性の塩化水素酸に変換され、次に電
気分解により塩素と水素とに分解され、この場合、塩素
は、濃縮された形で得られる。
またはフラッシングガスからの塩素の再利用は、種々の
方法で意図されている。電気分解の場合、例えば塩化水
素は、まず第一に水性の塩化水素酸に変換され、次に電
気分解により塩素と水素とに分解され、この場合、塩素
は、濃縮された形で得られる。
【０００４】他方、電気分解よりもエネルギーの点で更
に有利な方法で、塩化水素が、ディーコン法の変法の１
つによって酸化され、塩素と水とになる場合には、１０
〜５０容量％の塩素含量を有する塩素ガスの希薄な流れ
だけが得られる。次に、化学薬品の生産が９９重量％以
上の高純度を有する乾燥塩素を必要とするので、この希
薄な流れは後処理されなければならない。
に有利な方法で、塩化水素が、ディーコン法の変法の１
つによって酸化され、塩素と水とになる場合には、１０
〜５０容量％の塩素含量を有する塩素ガスの希薄な流れ
だけが得られる。次に、化学薬品の生産が９９重量％以
上の高純度を有する乾燥塩素を必要とするので、この希
薄な流れは後処理されなければならない。
【０００５】従って、希薄な塩素ガス流から高純度の分
離画分を生じさせることが可能であるのと同程度に大量
の塩素を分離するための試みは多数行われていた。
離画分を生じさせることが可能であるのと同程度に大量
の塩素を分離するための試みは多数行われていた。
【０００６】例えば、塩素は、乾燥ガス流の凝縮によっ
て分離することができる（図１、Ullmanns Encyclopaed
ia der techn. Chemie、Chlor [chlorine]、第A6巻（１
９８６年）、第３９９〜４８１頁を参照のこと）。塩素
の凝縮温度は、圧力に依存しているので（図２を参照の
こと）、凝縮は、経済的な理由から、安全の理由のため
５〜１０バールを上回ってはならない圧力下で実施され
る。
て分離することができる（図１、Ullmanns Encyclopaed
ia der techn. Chemie、Chlor [chlorine]、第A6巻（１
９８６年）、第３９９〜４８１頁を参照のこと）。塩素
の凝縮温度は、圧力に依存しているので（図２を参照の
こと）、凝縮は、経済的な理由から、安全の理由のため
５〜１０バールを上回ってはならない圧力下で実施され
る。
【０００７】しかしながら、前記圧力では、塩素は、低
い塩素濃度のガスから、殊に流出ガス３中の現行法定放
出値が観察される場合には、低温凝縮によって経済的に
凝縮することはできない。前記の場合、ガス流は、流出
ガス３中で（０．１６Ｐａの部分圧に相応する）５ｍｇ
／ｍ3の塩素濃度を超えることがないような程度に、−
１３０℃以下に冷却されなければならない。このこと
は、冷却エネルギーの極めて高い投入量を用いてのみ達
成することができ、従って、不経済である。従って、大
規模工業的な使用のためには、凝縮は、有利に９５％を
上回る極めて高い塩素含量を有する塩素ガス流からの塩
素の分離のための分離法もしくは精製法だけが存在す
る。こうして、流出ガス３中の残留塩素は、従来技術に
より、例えばガス洗浄によって除去される。
い塩素濃度のガスから、殊に流出ガス３中の現行法定放
出値が観察される場合には、低温凝縮によって経済的に
凝縮することはできない。前記の場合、ガス流は、流出
ガス３中で（０．１６Ｐａの部分圧に相応する）５ｍｇ
／ｍ3の塩素濃度を超えることがないような程度に、−
１３０℃以下に冷却されなければならない。このこと
は、冷却エネルギーの極めて高い投入量を用いてのみ達
成することができ、従って、不経済である。従って、大
規模工業的な使用のためには、凝縮は、有利に９５％を
上回る極めて高い塩素含量を有する塩素ガス流からの塩
素の分離のための分離法もしくは精製法だけが存在す
る。こうして、流出ガス３中の残留塩素は、従来技術に
より、例えばガス洗浄によって除去される。
【０００８】ＮａＯＨおよび／またはＮａ2／ＳＯ3を用
いる、残留塩素を除去するためのこの種のガス洗浄は、
例えば欧州特許第０４０６６７５号明細書中に記載され
ている。しかしながら、化学的ガス洗浄は、塩素の再使
用の可能性を排除し、更に規則的な供給により廃棄処分
を必要とする塩の相応する量を生じる。もう１つの変法
は、吸着法を用いる塩素の取得からなる。吸着法の場
合、塩素含有供給ガス１は、適当な方法で、常法によれ
ば充填材料（バール・サドル、ラッシヒリング等）かま
たは適当なカラム・トレイを備えた吸着カラムＣ１の塔
底部に送り込まれる。吸着剤、例えばＣＣｌ4、ヘキサ
クロロブタジエン、種々の部分的に塩素化されたかもし
くは過塩素化されたプロパンまたはＳ2Ｃｌ2（化学的ガ
ス洗浄：Ｓ2Ｃｌ2＋Ｃｌ2 → ２ＳＣｌ2）は、塩素含
有供給ガスへの向流中で送り込まれ、かつガス流から塩
素を吸着する。吸着は、０．５〜１バールまたは加圧下
で、有利に５〜１０バールで実施される。カラム塔頂部
での吸着剤４の供給温度は、それぞれの吸着剤の作用と
して、カラム塔頂部での流出ガス２中の残留塩素含量が
必要とされた限界以下であるような程度に選択されてい
る。吸着カラムの選択された温度がより高い場合には、
流出ガス２からの残留塩素の除去は、上記のように残留
塩素ガス洗浄器の手段を必要とする。
いる、残留塩素を除去するためのこの種のガス洗浄は、
例えば欧州特許第０４０６６７５号明細書中に記載され
ている。しかしながら、化学的ガス洗浄は、塩素の再使
用の可能性を排除し、更に規則的な供給により廃棄処分
を必要とする塩の相応する量を生じる。もう１つの変法
は、吸着法を用いる塩素の取得からなる。吸着法の場
合、塩素含有供給ガス１は、適当な方法で、常法によれ
ば充填材料（バール・サドル、ラッシヒリング等）かま
たは適当なカラム・トレイを備えた吸着カラムＣ１の塔
底部に送り込まれる。吸着剤、例えばＣＣｌ4、ヘキサ
クロロブタジエン、種々の部分的に塩素化されたかもし
くは過塩素化されたプロパンまたはＳ2Ｃｌ2（化学的ガ
ス洗浄：Ｓ2Ｃｌ2＋Ｃｌ2 → ２ＳＣｌ2）は、塩素含
有供給ガスへの向流中で送り込まれ、かつガス流から塩
素を吸着する。吸着は、０．５〜１バールまたは加圧下
で、有利に５〜１０バールで実施される。カラム塔頂部
での吸着剤４の供給温度は、それぞれの吸着剤の作用と
して、カラム塔頂部での流出ガス２中の残留塩素含量が
必要とされた限界以下であるような程度に選択されてい
る。吸着カラムの選択された温度がより高い場合には、
流出ガス２からの残留塩素の除去は、上記のように残留
塩素ガス洗浄器の手段を必要とする。
【０００９】塩素負荷された吸着剤３は、吸着カラムＣ
１の塔底部１で取り出され、かつ脱着カラムＣ２の中に
送り込まれる、ここで、吸着剤によって吸着された塩素
が加熱および／または圧力低下によって吸着剤から排出
される。塩素を含有していない吸着剤４は、脱着カラム
の塔底部で取り出され、冷却され、かつ吸着カラムを通
して再利用される。脱着カラムの塔頂部で取り出された
塩素５の部分は、凝縮され、かつ返送流としてカラムの
中に返送される。
１の塔底部１で取り出され、かつ脱着カラムＣ２の中に
送り込まれる、ここで、吸着剤によって吸着された塩素
が加熱および／または圧力低下によって吸着剤から排出
される。塩素を含有していない吸着剤４は、脱着カラム
の塔底部で取り出され、冷却され、かつ吸着カラムを通
して再利用される。脱着カラムの塔頂部で取り出された
塩素５の部分は、凝縮され、かつ返送流としてカラムの
中に返送される。
【００１０】脱着カラムから取り出された塩素５は、供
給ガスからの凝縮不可能なガス成分の僅かな割合および
更に、脱着カラムの塔頂部での圧力条件および温度条件
に応じて、相対的に大量の吸着剤を含有しておらず、そ
の結果、達成することができる純度は、大多数の使用に
は不十分であり、従って、取得された塩素の付加的な精
製が必要とされる。
給ガスからの凝縮不可能なガス成分の僅かな割合および
更に、脱着カラムの塔頂部での圧力条件および温度条件
に応じて、相対的に大量の吸着剤を含有しておらず、そ
の結果、達成することができる純度は、大多数の使用に
は不十分であり、従って、取得された塩素の付加的な精
製が必要とされる。
【００１１】典型的な吸着脱着法は、米国特許第５３０
８３８３号明細書中に記載されている。前記の特徴は、
実験式Ｃ7Ｆ3Ｈ4-nＣｌn（式中、ｎは、１〜３である）
で示される特殊な吸着剤、例えば３，４−ジクロロベン
ゾトリフロリドの使用である。前記吸着剤の使用の利点
は、米国特許第５３０８３８３号明細書によれば、ガス
８８ｍｇ／ｋｇだけの低い吸着損失並びにＣＣｌ4に比
べてオゾン破壊能力が不足していることである。更に、
米国特許第５３０８３８３号明細書には、上記吸着剤と
クロロホルムとの組合せが特に適していると記載されて
いる。しかしながら次に、クロロホルムがオゾン破壊能
力を有しているので、クロロホルムの損失を制限するた
めに、−４℃の吸着剤オーバーヘッド温度を設定するこ
とが必要である。
８３８３号明細書中に記載されている。前記の特徴は、
実験式Ｃ7Ｆ3Ｈ4-nＣｌn（式中、ｎは、１〜３である）
で示される特殊な吸着剤、例えば３，４−ジクロロベン
ゾトリフロリドの使用である。前記吸着剤の使用の利点
は、米国特許第５３０８３８３号明細書によれば、ガス
８８ｍｇ／ｋｇだけの低い吸着損失並びにＣＣｌ4に比
べてオゾン破壊能力が不足していることである。更に、
米国特許第５３０８３８３号明細書には、上記吸着剤と
クロロホルムとの組合せが特に適していると記載されて
いる。しかしながら次に、クロロホルムがオゾン破壊能
力を有しているので、クロロホルムの損失を制限するた
めに、−４℃の吸着剤オーバーヘッド温度を設定するこ
とが必要である。
【００１２】塩素の吸着は、常用の吸着剤中、例えばＣ
Ｃｌ4中で、物理的溶解によって生じることは公知であ
る。前記処理工程は、相対的に任意のものであるので、
また、供給ガス中の他のガス成分の一定の割合が吸着さ
れる。結果として、得られた塩素は、凝縮されているけ
れども、他のガス成分および吸着剤で汚染されており、
他の精製、例えば低温蒸留を施さなければならない。
Ｃｌ4中で、物理的溶解によって生じることは公知であ
る。前記処理工程は、相対的に任意のものであるので、
また、供給ガス中の他のガス成分の一定の割合が吸着さ
れる。結果として、得られた塩素は、凝縮されているけ
れども、他のガス成分および吸着剤で汚染されており、
他の精製、例えば低温蒸留を施さなければならない。
【００１３】図４は、下流方向での低温蒸留を用いる吸
着／脱着法の系統図を示している。吸着カラムＣ１中で
は、適当な吸着剤４が、塩素含有供給流１からの量的な
塩素のガス洗浄のために使用されている。負荷された吸
着剤３は、脱着カラムＣ２中に送り込まれ、そこで、塩
素は、吸着剤を加熱することによって排出され、かつ塔
頂部で留去される。再生された吸着剤４は、冷却され、
かつ吸着カラムＣ１のために再利用される。
着／脱着法の系統図を示している。吸着カラムＣ１中で
は、適当な吸着剤４が、塩素含有供給流１からの量的な
塩素のガス洗浄のために使用されている。負荷された吸
着剤３は、脱着カラムＣ２中に送り込まれ、そこで、塩
素は、吸着剤を加熱することによって排出され、かつ塔
頂部で留去される。再生された吸着剤４は、冷却され、
かつ吸着カラムＣ１のために再利用される。
【００１４】脱着カラムＣ２の塔頂部から取り出された
塩素ガス５は、既に記載されたように、低い純度であ
り、従って、例えば低温蒸留カラムＣ３中で抽出凝縮に
よって精製されなければならない。凝縮不可能なガス６
は、なお少量の塩素を含有しており、従って、塩素吸着
カラムＣ１の中へ返送される。
塩素ガス５は、既に記載されたように、低い純度であ
り、従って、例えば低温蒸留カラムＣ３中で抽出凝縮に
よって精製されなければならない。凝縮不可能なガス６
は、なお少量の塩素を含有しており、従って、塩素吸着
カラムＣ１の中へ返送される。
【００１５】前記方法の欠点は、吸着剤が塔頂部で出て
こないような程度に脱着カラムが操作される場合にの
み、前記吸着剤が、“高沸点溶剤”として、低温蒸留カ
ラムの塔底部の中、従って取り出された塩素７の中に送
り込まれるので、高い純度の塩素７を取り出すことがで
きることである。
こないような程度に脱着カラムが操作される場合にの
み、前記吸着剤が、“高沸点溶剤”として、低温蒸留カ
ラムの塔底部の中、従って取り出された塩素７の中に送
り込まれるので、高い純度の塩素７を取り出すことがで
きることである。
【００１６】ＨＣｌ酸化のためのシェル−ディーコン法
によれば（The Chemical Engineer,（１９６３年）第２
２４〜２３２頁）、塩素は、吸着剤としてのＣＣｌ4を
使用する吸着／脱着法によって分離される。Ｎ2、Ｏ2お
よびＣＯ2（主要量）中で２７〜４８％の塩素含量を有
する供給ガスから、塩素は、約１．５バールおよび約１
１℃のオーバーヘッド温度で吸着カラム中でガス洗浄さ
れる。吸着液からの塩素の遊離は、脱着カラム中、約６
５．５℃のオーバーヘッド温度、約１１バールの圧力下
で行われる。遊離された塩素は、加圧下に塔頂部に取り
付けられた水コンデンサー中で部分的な凝縮によって精
製される。該水コンデンサー中になお存在する凝縮され
なかった塩素および他のガス成分は、吸着カラムに返送
されている。１つの同様の変法は、米国特許第４３９４
３６７号明細書中に記載されている。
によれば（The Chemical Engineer,（１９６３年）第２
２４〜２３２頁）、塩素は、吸着剤としてのＣＣｌ4を
使用する吸着／脱着法によって分離される。Ｎ2、Ｏ2お
よびＣＯ2（主要量）中で２７〜４８％の塩素含量を有
する供給ガスから、塩素は、約１．５バールおよび約１
１℃のオーバーヘッド温度で吸着カラム中でガス洗浄さ
れる。吸着液からの塩素の遊離は、脱着カラム中、約６
５．５℃のオーバーヘッド温度、約１１バールの圧力下
で行われる。遊離された塩素は、加圧下に塔頂部に取り
付けられた水コンデンサー中で部分的な凝縮によって精
製される。該水コンデンサー中になお存在する凝縮され
なかった塩素および他のガス成分は、吸着カラムに返送
されている。１つの同様の変法は、米国特許第４３９４
３６７号明細書中に記載されている。
【００１７】米国特許第２２２７１０５６号明細書に
は、ＣＣｌ4の放出を防ぐために、吸着カラムの上方部
分での活性炭の層の設置が提案されている。欠点は、活
性炭には、限られた吸着能力しかなく、後に交換されな
ければならないということである。
は、ＣＣｌ4の放出を防ぐために、吸着カラムの上方部
分での活性炭の層の設置が提案されている。欠点は、活
性炭には、限られた吸着能力しかなく、後に交換されな
ければならないということである。
【００１８】吸着および引き続く脱着によって塩素を分
離するための代替え案は、欧州特許第０３２９３８５号
明細書中に記載されており、かつ図５中に示されてい
る。前記の変法の場合、約１０〜３０重量％の塩素濃度
を有する最初の塩素含有供給ガス１は、該供給ガスに塩
素脱着段階からの塩素２（塩素約９０重量％）が添加さ
れている。これは、塩素の濃度を供給流３の中で、明ら
かに５０重量％を上回るよう増大させる。前記ガス流３
は、５〜９バールに圧縮され、次に、１つまたはそれ以
上の段階で冷却され、その結果、存在する塩素の大部分
が凝縮されている。凝縮された塩素は、溶解された異質
のガスを分離するために、低温蒸留カラムＣ１に送り込
まれる。精製されかつ前記のようにして分離された塩素
９は、再使用することができる。低温蒸留カラムＣ１か
らの凝縮不可能なガス７は、なお塩素を含有しており、
従って、前記の凝縮物６からの凝縮不可能なガス流と組
み合わされ、かつ脱着カラムＣ２の中に送り込まれ、こ
の中で、塩素は、凝縮不可能なガス成分から吸着によっ
て分離される。負荷された吸着剤１１は、塩素を抽出す
るための沸騰によって、脱着カラムＣ３中で再生され
る。前記の段階で脱着された塩素２は、低い純度（塩素
約９０重量％）である。該塩素２は、同様に吸着在中に
溶解していた凝縮不可能なガスの相対的に多くの量を含
有している。この塩素流２は、塩素含有供給ガス１に添
加される。
離するための代替え案は、欧州特許第０３２９３８５号
明細書中に記載されており、かつ図５中に示されてい
る。前記の変法の場合、約１０〜３０重量％の塩素濃度
を有する最初の塩素含有供給ガス１は、該供給ガスに塩
素脱着段階からの塩素２（塩素約９０重量％）が添加さ
れている。これは、塩素の濃度を供給流３の中で、明ら
かに５０重量％を上回るよう増大させる。前記ガス流３
は、５〜９バールに圧縮され、次に、１つまたはそれ以
上の段階で冷却され、その結果、存在する塩素の大部分
が凝縮されている。凝縮された塩素は、溶解された異質
のガスを分離するために、低温蒸留カラムＣ１に送り込
まれる。精製されかつ前記のようにして分離された塩素
９は、再使用することができる。低温蒸留カラムＣ１か
らの凝縮不可能なガス７は、なお塩素を含有しており、
従って、前記の凝縮物６からの凝縮不可能なガス流と組
み合わされ、かつ脱着カラムＣ２の中に送り込まれ、こ
の中で、塩素は、凝縮不可能なガス成分から吸着によっ
て分離される。負荷された吸着剤１１は、塩素を抽出す
るための沸騰によって、脱着カラムＣ３中で再生され
る。前記の段階で脱着された塩素２は、低い純度（塩素
約９０重量％）である。該塩素２は、同様に吸着在中に
溶解していた凝縮不可能なガスの相対的に多くの量を含
有している。この塩素流２は、塩素含有供給ガス１に添
加される。
【００１９】この方法は、その他の点では、不経済な大
量の塩素が、連続的に、吸着段階／脱着段階および凝縮
段階の間を循環しなければならないので、明らかに１０
容量％を上回る塩素含量を有する塩素含有ガス流１から
塩素を回収するためにのみ有利に使用することができ
る。
量の塩素が、連続的に、吸着段階／脱着段階および凝縮
段階の間を循環しなければならないので、明らかに１０
容量％を上回る塩素含量を有する塩素含有ガス流１から
塩素を回収するためにのみ有利に使用することができ
る。
【００２０】もう１つの欠点は、脱着カラムＣ３からの
塩素の豊富なガス混合物２が少量の吸着剤を含有してい
るので、この方法が、高純度の塩素を得るのに適してい
ないことである。供給ガス１へのガス混合物の添加は、
吸着剤が凝縮区間の中へ送り込まれ、この区間を介し
て、低温蒸留段階へ送り込まれ、ここで、該吸着剤が、
高沸点成分として、塩素と一緒にカラムの塔底部から取
り出されることを意味する。更に、前記変法のエネルギ
ーの損失は、凝縮不可能な全ガス成分が、低い塩素凝縮
温度に冷却されなければならないということである。
塩素の豊富なガス混合物２が少量の吸着剤を含有してい
るので、この方法が、高純度の塩素を得るのに適してい
ないことである。供給ガス１へのガス混合物の添加は、
吸着剤が凝縮区間の中へ送り込まれ、この区間を介し
て、低温蒸留段階へ送り込まれ、ここで、該吸着剤が、
高沸点成分として、塩素と一緒にカラムの塔底部から取
り出されることを意味する。更に、前記変法のエネルギ
ーの損失は、凝縮不可能な全ガス成分が、低い塩素凝縮
温度に冷却されなければならないということである。
【００２１】欧州特許出願公開第０５１８５５３号明細
書には、塩素を分離するための低温蒸留とそれに続く真
空圧力変動吸着（vacuum pressure swing adsorption）
が記載されている。
書には、塩素を分離するための低温蒸留とそれに続く真
空圧力変動吸着（vacuum pressure swing adsorption）
が記載されている。
【００２２】供給ガス１は、圧縮され、図６に示されて
いるように、まず第一に、塩素不含の流出ガス３で冷却
され、次に、凝縮または低温蒸留Ｃ１に送り込まれ、こ
こで、存在する塩素の２の部分が純粋な液体の形で塔底
部で取り出される。残留する塩素含有ガス４は、塔頂部
を介してカラムＣ１を離れ、かつ真空圧力変動吸着（VP
SA）コンテナＣ２の中に送り込まれる。吸着コンテナＣ
２ａ〜Ｃ２ｃ中では、残留ガスからの塩素の吸着分離
が、約４〜１１バールおよび０〜１５０℃、有利に周囲
温度で交互に行われている。１〜６０ｋＰａの減圧で真
空を引き続き使用することによって、交互に、吸着、高
度に濃縮された塩素５は、吸着体塔から得られる。吸着
された塩素の脱着に続いて、吸着コンテナは、新たな充
填のために再使用可能である。採用することができる吸
着剤は、合成もしくは天然のゼオライト（Ｘ、Ｙ、Ｌ、
ＺＳＭ）または非ゼオライト多孔質酸化物および有利に
炭素を基礎とする吸着剤、例えば活性炭および炭素モレ
キュラーシーブである。
いるように、まず第一に、塩素不含の流出ガス３で冷却
され、次に、凝縮または低温蒸留Ｃ１に送り込まれ、こ
こで、存在する塩素の２の部分が純粋な液体の形で塔底
部で取り出される。残留する塩素含有ガス４は、塔頂部
を介してカラムＣ１を離れ、かつ真空圧力変動吸着（VP
SA）コンテナＣ２の中に送り込まれる。吸着コンテナＣ
２ａ〜Ｃ２ｃ中では、残留ガスからの塩素の吸着分離
が、約４〜１１バールおよび０〜１５０℃、有利に周囲
温度で交互に行われている。１〜６０ｋＰａの減圧で真
空を引き続き使用することによって、交互に、吸着、高
度に濃縮された塩素５は、吸着体塔から得られる。吸着
された塩素の脱着に続いて、吸着コンテナは、新たな充
填のために再使用可能である。採用することができる吸
着剤は、合成もしくは天然のゼオライト（Ｘ、Ｙ、Ｌ、
ＺＳＭ）または非ゼオライト多孔質酸化物および有利に
炭素を基礎とする吸着剤、例えば活性炭および炭素モレ
キュラーシーブである。
【００２３】しかしながら、前記の方法は、吸着コンテ
ナ中になお存在するガス相が、ガス流４の全てのガス状
成分を含有しており、塩素だけでなくガスの他の成分
も、同様に部分的に吸着されているので、供給ガスから
高純度の形での塩素の全てを得るには不適当である。真
空が使用される場合、前記の成分は、脱着する塩素と一
緒に、吸着コンテナから出てくる塩素流５の中へ送り込
まれる。
ナ中になお存在するガス相が、ガス流４の全てのガス状
成分を含有しており、塩素だけでなくガスの他の成分
も、同様に部分的に吸着されているので、供給ガスから
高純度の形での塩素の全てを得るには不適当である。真
空が使用される場合、前記の成分は、脱着する塩素と一
緒に、吸着コンテナから出てくる塩素流５の中へ送り込
まれる。
【００２４】凝縮／低温分離段階からの塩素２だけが、
純粋な形で得られる。しかしながら、技術的および経済
的に制限された冷却温度のために、この塩素２は、流入
ガスの塩素濃度に左右されて制限された割合だけが存在
する。
純粋な形で得られる。しかしながら、技術的および経済
的に制限された冷却温度のために、この塩素２は、流入
ガスの塩素濃度に左右されて制限された割合だけが存在
する。
【００２５】VPSAから純粋な形で全ての塩素を得るため
には、分離された塩素５は、他の精製段階を施されなけ
ればならない。
には、分離された塩素５は、他の精製段階を施されなけ
ればならない。
【００２６】更に、VPSAの前に凝縮／低温蒸留を行うこ
とには、得られた全ての塩素含有供給ガス流が高い塩素
凝縮圧（５〜２０バール）に圧縮されかつ相応する塩素
凝縮温度に冷却されなければならないという欠点があ
る。
とには、得られた全ての塩素含有供給ガス流が高い塩素
凝縮圧（５〜２０バール）に圧縮されかつ相応する塩素
凝縮温度に冷却されなければならないという欠点があ
る。
【００２７】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の課題
は、塩素含有ガス流から塩素を分離するための方法を見
出すことであり、この方法を用いて、塩素を、徹底的か
つ高純度の形で分離することができ、かつこの方法は、
エネルギー的に最適化されており、最小限の装置を用い
て実施することができ、この方法の場合に、塩素分離装
置を後にする流出ガスは、吸着剤を含有せず、かつ塩素
をほとんど含有していない。
は、塩素含有ガス流から塩素を分離するための方法を見
出すことであり、この方法を用いて、塩素を、徹底的か
つ高純度の形で分離することができ、かつこの方法は、
エネルギー的に最適化されており、最小限の装置を用い
て実施することができ、この方法の場合に、塩素分離装
置を後にする流出ガスは、吸着剤を含有せず、かつ塩素
をほとんど含有していない。
【００２８】
【課題を解決するための手段】前記課題は、不活性吸着
剤を用いる塩素の吸着および吸着剤／塩素混合物を脱着
蒸留カラムに供給することにより吸着段階から取り出さ
れた吸着剤／塩素混合物からの塩素の下流方向への吸着
によって、塩素含有供給ガスから高純度の塩素を分離す
るための方法により解決されることが見出され、この方
法は、塩素分離カラムの塔頂部と脱着蒸留カラムの上部
および脱着蒸留カラムの下部と塩素分離カラムの塔底部
とがガスおよび液体の双方の側で互いに接続しているよ
うにして塩素分離カラムに接続されている脱着蒸留カラ
ム中で脱着蒸留を実施することからなり、この場合、吸
着剤／塩素混合物は、専ら、脱着蒸留カラムに供給さ
れ、かつ高純度の塩素は、塩素分離カラムの中央部から
取り出されている。
剤を用いる塩素の吸着および吸着剤／塩素混合物を脱着
蒸留カラムに供給することにより吸着段階から取り出さ
れた吸着剤／塩素混合物からの塩素の下流方向への吸着
によって、塩素含有供給ガスから高純度の塩素を分離す
るための方法により解決されることが見出され、この方
法は、塩素分離カラムの塔頂部と脱着蒸留カラムの上部
および脱着蒸留カラムの下部と塩素分離カラムの塔底部
とがガスおよび液体の双方の側で互いに接続しているよ
うにして塩素分離カラムに接続されている脱着蒸留カラ
ム中で脱着蒸留を実施することからなり、この場合、吸
着剤／塩素混合物は、専ら、脱着蒸留カラムに供給さ
れ、かつ高純度の塩素は、塩素分離カラムの中央部から
取り出されている。
【００２９】
【発明の実施の形態】本発明の好ましい実施態様が以下
に記載されており、かつ図面により説明されている。
に記載されており、かつ図面により説明されている。
【００３０】図１は、塩素分離単位装置の系統図を示
し；図２は、塩素の露点曲線を示し；図３は、塩素回収
のための吸着／脱着装置を示し；図４は、図３の場合に
塩素の精製蒸留を用いる装置としての系統図を示し；図
５は、全体の処理の系統図を示し；図６は、圧力変動吸
着を用いる塩素回収装置の系統図を示し；図７は、塩素
側カラムを有する塩素回収装置の系統図を示し；図８
は、分割カラムを有する塩素回収装置の系統図を示し；
図９は、図８に相応する流出ガス処理単位装置の系統図
を示し；図１０は、圧力変動吸着の下流方向での低温蒸
留を用いる塩素回収装置の系統図を示す。
し；図２は、塩素の露点曲線を示し；図３は、塩素回収
のための吸着／脱着装置を示し；図４は、図３の場合に
塩素の精製蒸留を用いる装置としての系統図を示し；図
５は、全体の処理の系統図を示し；図６は、圧力変動吸
着を用いる塩素回収装置の系統図を示し；図７は、塩素
側カラムを有する塩素回収装置の系統図を示し；図８
は、分割カラムを有する塩素回収装置の系統図を示し；
図９は、図８に相応する流出ガス処理単位装置の系統図
を示し；図１０は、圧力変動吸着の下流方向での低温蒸
留を用いる塩素回収装置の系統図を示す。
【００３１】本発明の有利な実施態様の場合、脱着蒸留
は、塩素分離カラムとしての側カラムを有する脱着蒸留
カラム中で実施される。
は、塩素分離カラムとしての側カラムを有する脱着蒸留
カラム中で実施される。
【００３２】本発明による方法のもう１つの有利な実施
態様の場合、脱着蒸留カラムおよび塩素分離カラムは、
１つのカラムに結合され、該カラムの一部には、分割装
置、例えば隔壁があり、該隔壁は、縦方向に作用し、か
つ該隔壁は、カラムの交差部を供給部および取り出し部
に分割し、この場合、塩素／吸着剤混合物は、供給部に
入れられ、かつ液体塩素は、取り出し部から取り出され
る。
態様の場合、脱着蒸留カラムおよび塩素分離カラムは、
１つのカラムに結合され、該カラムの一部には、分割装
置、例えば隔壁があり、該隔壁は、縦方向に作用し、か
つ該隔壁は、カラムの交差部を供給部および取り出し部
に分割し、この場合、塩素／吸着剤混合物は、供給部に
入れられ、かつ液体塩素は、取り出し部から取り出され
る。
【００３３】本発明による方法の特に有利な実施態様の
場合、室温で、１０ミリバール未満、有利に１ミリバー
ル未満の蒸気圧である、有利な不活性洗浄液を用いて吸
着段階から出てくるガス流のガス洗浄と、蒸留カラム中
で０．１〜５バール、有利に１〜２バールの圧力で再生
のための負荷された洗浄液の蒸留とによって、塩素吸着
剤は、塩素吸着段階から出てくる流出ガスから分離さ
れ、この場合、洗浄液は、塔底部で取り出され、かつ有
利にガス洗浄段階に返送され、かつ塔頂部を離れる排ガ
スは、塩素吸着段階に送り込まれる。本発明によれば、
適当な吸着法（例えば、活性炭上での塩素およびＣＣｌ
4の吸着）を用いて、吸着カラムの流出ガスから残留塩
素および／または残留吸着剤の除去を実施することも可
能である。
場合、室温で、１０ミリバール未満、有利に１ミリバー
ル未満の蒸気圧である、有利な不活性洗浄液を用いて吸
着段階から出てくるガス流のガス洗浄と、蒸留カラム中
で０．１〜５バール、有利に１〜２バールの圧力で再生
のための負荷された洗浄液の蒸留とによって、塩素吸着
剤は、塩素吸着段階から出てくる流出ガスから分離さ
れ、この場合、洗浄液は、塔底部で取り出され、かつ有
利にガス洗浄段階に返送され、かつ塔頂部を離れる排ガ
スは、塩素吸着段階に送り込まれる。本発明によれば、
適当な吸着法（例えば、活性炭上での塩素およびＣＣｌ
4の吸着）を用いて、吸着カラムの流出ガスから残留塩
素および／または残留吸着剤の除去を実施することも可
能である。
【００３４】塩素含有ガス流から塩素を分離するための
もう１つの本発明の解決策は、圧力変動吸着を用いてガ
ス流から塩素を徹底的にかまたはほぼ完全に分離し、圧
力変動吸着からの高度に塩素を含有するガスを１〜２０
バール、有利に５〜１０バールの圧力に圧縮し、次に、
有利に低温蒸留を施し、純粋な形での塩素を、蒸留カラ
ムの塔底部生成物として分離し、かつ蒸留カラムの塔頂
部生成物を、圧力変動吸着の供給ガスに返送することか
らなる。
もう１つの本発明の解決策は、圧力変動吸着を用いてガ
ス流から塩素を徹底的にかまたはほぼ完全に分離し、圧
力変動吸着からの高度に塩素を含有するガスを１〜２０
バール、有利に５〜１０バールの圧力に圧縮し、次に、
有利に低温蒸留を施し、純粋な形での塩素を、蒸留カラ
ムの塔底部生成物として分離し、かつ蒸留カラムの塔頂
部生成物を、圧力変動吸着の供給ガスに返送することか
らなる。
【００３５】本発明による方法は、以下の利点を得られ
るようにする： − 最小限の装置およびエネルギー投入量を用いる、塩
素含有ガス流からの塩素の徹底的な分離。このことは、
特に、ディーコン法による酸素を用いるＨＣｌの酸化の
場合に製造されているものとしての高度に希釈された塩
素ガス流からの塩素の回収に使用されている。
るようにする： − 最小限の装置およびエネルギー投入量を用いる、塩
素含有ガス流からの塩素の徹底的な分離。このことは、
特に、ディーコン法による酸素を用いるＨＣｌの酸化の
場合に製造されているものとしての高度に希釈された塩
素ガス流からの塩素の回収に使用されている。
【００３６】− 分離された塩素は、高純度であり、か
つこの製造法に再利用することができる。
つこの製造法に再利用することができる。
【００３７】− 例えば、塩素は、イソシアネート製造
の場合に必要とされているホスゲンの製造のために再使
用することができる。
の場合に必要とされているホスゲンの製造のために再使
用することができる。
【００３８】− 塩素吸着剤は、真空圧力変動吸着の場
合には全く必要とされないかまたは処理の際に、環境へ
の損失なしに残留する。
合には全く必要とされないかまたは処理の際に、環境へ
の損失なしに残留する。
【００３９】高純度の塩素を得るための本発明による方
法の有利な形態は、図７中に示されている。供給ガス１
は、適当な方法で、常法によれば充填材料（バール・サ
ドル、ラッシヒリング等）かまたは適当なカラム・トレ
イを備えた吸着カラムＣ１の底部に送り込まれる。吸着
剤４は、向流中で、塩素含有供給ガスに送り込まれ、か
つガス流の塩素を吸着し、該ガス流は、引き続き、吸着
カラムの塔頂部を介して流出ガス２として装置から出て
いく。塩素負荷された吸着剤３は、脱着蒸留カラムＣ２
の中に送り込まれ、該脱着蒸留カラム中で、塩素は再度
留去され、かつ塩素を含有しない吸着剤４は、脱着蒸留
カラムの塔底部で取り出され、冷却され、かつ吸着カラ
ムに再利用される。脱着蒸留カラムＣ２の下部から、上
記は取り出され、かつ側カラム、塩素分離カラムＣ３の
塔底部の中に送り込まれている。脱着蒸留カラムＣ２の
上部から、液体が取り出され、かつ側カラムＣ３の塔頂
部に送られている。側カラムＣ３から取り出された上記
は、液体の取り出し部の位置で、脱着蒸留カラムＣ２の
中に返送され、一方で、側カラムの塔底部で取り出され
た材料は、上記の取り出し位置で、脱着蒸留カラムの中
に返送されている。高純度の形での液体塩素６は、残留
ガスおよび吸着剤を含有しておらず、側カラムの中間の
部分から取り出すことができる。負荷された吸着剤３中
に同時に溶解した残留ガス成分は、少量の塩素ととも
に、塔頂部５を介して脱着蒸留カラムを離れ、かつ吸着
カラムＣ１の中に返送されている。
法の有利な形態は、図７中に示されている。供給ガス１
は、適当な方法で、常法によれば充填材料（バール・サ
ドル、ラッシヒリング等）かまたは適当なカラム・トレ
イを備えた吸着カラムＣ１の底部に送り込まれる。吸着
剤４は、向流中で、塩素含有供給ガスに送り込まれ、か
つガス流の塩素を吸着し、該ガス流は、引き続き、吸着
カラムの塔頂部を介して流出ガス２として装置から出て
いく。塩素負荷された吸着剤３は、脱着蒸留カラムＣ２
の中に送り込まれ、該脱着蒸留カラム中で、塩素は再度
留去され、かつ塩素を含有しない吸着剤４は、脱着蒸留
カラムの塔底部で取り出され、冷却され、かつ吸着カラ
ムに再利用される。脱着蒸留カラムＣ２の下部から、上
記は取り出され、かつ側カラム、塩素分離カラムＣ３の
塔底部の中に送り込まれている。脱着蒸留カラムＣ２の
上部から、液体が取り出され、かつ側カラムＣ３の塔頂
部に送られている。側カラムＣ３から取り出された上記
は、液体の取り出し部の位置で、脱着蒸留カラムＣ２の
中に返送され、一方で、側カラムの塔底部で取り出され
た材料は、上記の取り出し位置で、脱着蒸留カラムの中
に返送されている。高純度の形での液体塩素６は、残留
ガスおよび吸着剤を含有しておらず、側カラムの中間の
部分から取り出すことができる。負荷された吸着剤３中
に同時に溶解した残留ガス成分は、少量の塩素ととも
に、塔頂部５を介して脱着蒸留カラムを離れ、かつ吸着
カラムＣ１の中に返送されている。
【００４０】高純度の塩素を得るための本発明による方
法の特に有利な実施態様は、図８中に示されている。塩
素は、図７中で示されているように、吸着カラムＣ１を
用いて、供給ガスから分離され、かつ脱着蒸留カラムＣ
２中で、吸着剤から再度留去されている。脱着蒸留カラ
ムは、分割されたカラムとして形成されている。これ
は、原理的には、脱着蒸留カラムの中への、図７中に記
載された側カラム、塩素分離カラムの結合に相応してい
る。隔壁によって分離されたカラムの領域では、濃度特
性曲線は、側カラム中のものと同様に設定されている。
高純度の液体塩素６が取り出すことができるような最適
の高さは、負荷された吸着剤の組成およびカラムの配置
による関数である。隔壁の高さは、５個以上の理論段で
なければならないが、しかし、全体の高さ、脱着蒸留カ
ラムの作用部分の有利に１０〜９０％、特に有利に６０
〜７０％の高さを上回ってはならない。このことは、塩
素分離カラムが側カラムの形であったとしても適用され
る。隔壁の上および下で、２個のカラムは、互いにガス
側および液体側で接続されている。側カラムの代わりに
分割されたカラムを使用することによって、分離装置
は、１個の単位装置を減らされ、かつエネルギーの点で
相当の節約が可能である。
法の特に有利な実施態様は、図８中に示されている。塩
素は、図７中で示されているように、吸着カラムＣ１を
用いて、供給ガスから分離され、かつ脱着蒸留カラムＣ
２中で、吸着剤から再度留去されている。脱着蒸留カラ
ムは、分割されたカラムとして形成されている。これ
は、原理的には、脱着蒸留カラムの中への、図７中に記
載された側カラム、塩素分離カラムの結合に相応してい
る。隔壁によって分離されたカラムの領域では、濃度特
性曲線は、側カラム中のものと同様に設定されている。
高純度の液体塩素６が取り出すことができるような最適
の高さは、負荷された吸着剤の組成およびカラムの配置
による関数である。隔壁の高さは、５個以上の理論段で
なければならないが、しかし、全体の高さ、脱着蒸留カ
ラムの作用部分の有利に１０〜９０％、特に有利に６０
〜７０％の高さを上回ってはならない。このことは、塩
素分離カラムが側カラムの形であったとしても適用され
る。隔壁の上および下で、２個のカラムは、互いにガス
側および液体側で接続されている。側カラムの代わりに
分割されたカラムを使用することによって、分離装置
は、１個の単位装置を減らされ、かつエネルギーの点で
相当の節約が可能である。
【００４１】図８により分離された高純度の塩素ばかり
でなく、吸着カラムからの流出ガス２が、なお存在する
限り、任意の吸着剤から除去される本発明による方法の
他の特に有利な実施態様は、図９中に示されている。
でなく、吸着カラムからの流出ガス２が、なお存在する
限り、任意の吸着剤から除去される本発明による方法の
他の特に有利な実施態様は、図９中に示されている。
【００４２】吸着カラムＣ１の塔頂部から導かれている
流出ガス２は、なお若干の塩素吸着剤、例えばＣＣｌ4
を含有しいてもよく、該塩素吸着剤は、適当な洗浄液
９、例えばシスデカリンもしくはトランスデカリンまた
は他の適当な高沸点物質を用いて、吸着カラムＣ３中で
完全にガス洗浄される。吸着カラムＣ３からの清浄なガ
ス７は、環境に放出することができ、かつＯ2を用いる
ＨＣｌの酸化のための処理に返送することができる。下
流方向の脱着カラムＣ４中では、塩素吸着剤は、負荷さ
れた洗浄液８から再度留去され、洗浄液は、塔底部生成
物９として取り出され、冷却され、かつ吸着段階Ｃ３に
返送される。得られた塔頂部生成物１０は、ガス混合物
であり、該ガス混合物は、吸着カラムＣ１に、例えば流
れ５と一緒に送り込まれる。
流出ガス２は、なお若干の塩素吸着剤、例えばＣＣｌ4
を含有しいてもよく、該塩素吸着剤は、適当な洗浄液
９、例えばシスデカリンもしくはトランスデカリンまた
は他の適当な高沸点物質を用いて、吸着カラムＣ３中で
完全にガス洗浄される。吸着カラムＣ３からの清浄なガ
ス７は、環境に放出することができ、かつＯ2を用いる
ＨＣｌの酸化のための処理に返送することができる。下
流方向の脱着カラムＣ４中では、塩素吸着剤は、負荷さ
れた洗浄液８から再度留去され、洗浄液は、塔底部生成
物９として取り出され、冷却され、かつ吸着段階Ｃ３に
返送される。得られた塔頂部生成物１０は、ガス混合物
であり、該ガス混合物は、吸着カラムＣ１に、例えば流
れ５と一緒に送り込まれる。
【００４３】高純度の塩素の回収のためのもう１つの本
発明方法によれば、真空圧力変動（V-PSA）は、図１０
中に示されているように、塩素含有流入ガスから塩素を
分離するために使用されている。供給ガス１は、第一に
圧縮される。残留ガスからの塩素の分離は、コンテナＣ
２ａからＣ２ｃ中で吸着によって周期的に行われる。真
空の非周期的使用によって、高度に濃縮された塩素５
は、吸着塔から得られる。付着している塩素の脱着後
に、吸着塔は、新たな充填のために再度使用可能であ
る。吸着コンテナ中のガス相は、なお流入ガスのガス状
成分を含有している。真空が使用される場合には、前記
の成分は、脱着された塩素と一緒に、吸着コンテナから
出てくる塩素流５の中に送り込まれ、該塩素流は圧縮さ
れ、次に冷却後に、低温蒸留段階Ｃ３に送り込まれる。
この段階で、なお存在している望ましくないガス状成分
は、留去される。高純度の塩素６は、カラムの塔底部か
ら、液体の形で取り出すことができる。塔頂部で取り出
された残留ガス２は、なお塩素を含有しており、かつV-
PSA段階に返送されている。しかしながら、この残留ガ
ス流は、極少量である。
発明方法によれば、真空圧力変動（V-PSA）は、図１０
中に示されているように、塩素含有流入ガスから塩素を
分離するために使用されている。供給ガス１は、第一に
圧縮される。残留ガスからの塩素の分離は、コンテナＣ
２ａからＣ２ｃ中で吸着によって周期的に行われる。真
空の非周期的使用によって、高度に濃縮された塩素５
は、吸着塔から得られる。付着している塩素の脱着後
に、吸着塔は、新たな充填のために再度使用可能であ
る。吸着コンテナ中のガス相は、なお流入ガスのガス状
成分を含有している。真空が使用される場合には、前記
の成分は、脱着された塩素と一緒に、吸着コンテナから
出てくる塩素流５の中に送り込まれ、該塩素流は圧縮さ
れ、次に冷却後に、低温蒸留段階Ｃ３に送り込まれる。
この段階で、なお存在している望ましくないガス状成分
は、留去される。高純度の塩素６は、カラムの塔底部か
ら、液体の形で取り出すことができる。塔頂部で取り出
された残留ガス２は、なお塩素を含有しており、かつV-
PSA段階に返送されている。しかしながら、この残留ガ
ス流は、極少量である。
【００４４】
比較例 Ｃ１： 吸着−脱着（図３による方法） ７００ｋＰａの圧力および０℃の温度で、Ｃｌ2１７．
１重量％、ＨＣｌ０．５重量％およびＮ2＋Ｏ2８２．４
重量％の組成を有する塩素含有ガス流を、１００ｌ／ｈ
の容量流量（＝ガス１．１ｋｇ／ｈ；＝Ｃｌ2０．２ｋ
ｇ／ｈ）で、吸着カラムに供給した。吸着カラムは、４
０ｍｍの内径および１．３ｍの全体の高さであった。使
用されたカラム内部構造物は、１．０ｍの床高さで５×
５ｍｍのポールリングであった。液体ＣＣｌ4を、カラ
ムの塔頂部で、−２０℃の温度および２．７ｋｇ／ｈの
速度で供給した。塩素負荷された吸着剤を、４０ｍｍの
内径、１．５ｍの全体の高さおよびパールリング（５×
５ｍｍ）の１．３ｍの床を有する脱着カラムに送り込ん
だ。７００ｋＰａの圧力、１６０℃の塔底部温度および
１６℃のオーバーヘッド温度で、脱着カラムから得られ
た塔頂部生成物は、約９２重量％の純度を有する塩素ガ
スであった。ガスおよび液体中の個々の成分の濃度は、
表１中に示されている。
１重量％、ＨＣｌ０．５重量％およびＮ2＋Ｏ2８２．４
重量％の組成を有する塩素含有ガス流を、１００ｌ／ｈ
の容量流量（＝ガス１．１ｋｇ／ｈ；＝Ｃｌ2０．２ｋ
ｇ／ｈ）で、吸着カラムに供給した。吸着カラムは、４
０ｍｍの内径および１．３ｍの全体の高さであった。使
用されたカラム内部構造物は、１．０ｍの床高さで５×
５ｍｍのポールリングであった。液体ＣＣｌ4を、カラ
ムの塔頂部で、−２０℃の温度および２．７ｋｇ／ｈの
速度で供給した。塩素負荷された吸着剤を、４０ｍｍの
内径、１．５ｍの全体の高さおよびパールリング（５×
５ｍｍ）の１．３ｍの床を有する脱着カラムに送り込ん
だ。７００ｋＰａの圧力、１６０℃の塔底部温度および
１６℃のオーバーヘッド温度で、脱着カラムから得られ
た塔頂部生成物は、約９２重量％の純度を有する塩素ガ
スであった。ガスおよび液体中の個々の成分の濃度は、
表１中に示されている。
【００４５】
【表１】
【００４６】得られた塩素ガスは、僅かに約９２重量％
の純度であり、従って、もう１つの精製段階（蒸留）に
送り込まなければならない。吸着カラムからの排ガス
は、なお付加的に、塩素０．４重量％、ＣＣｌ4１．０
重量％を含有している。
の純度であり、従って、もう１つの精製段階（蒸留）に
送り込まなければならない。吸着カラムからの排ガス
は、なお付加的に、塩素０．４重量％、ＣＣｌ4１．０
重量％を含有している。
【００４７】例 １： 側カラム中での塩素の精製蒸留を用いる吸着および脱着
（図７による方法） ７００ｋＰａの圧力および０℃の温度で、Ｃｌ2１７．
１重量％、ＨＣｌ０．５重量％およびＮ2＋Ｏ2８２．４
重量％の組成を有する塩素含有ガス流１００ｌ／ｈの容
量流量（＝１．０ｋｇ／ｈ）で、脱着蒸留カラムからの
返送ガス流と一緒に、吸着カラムに供給した。吸着カラ
ムは、４０ｍｍの内径および１．３ｍの全体の高さであ
った。使用されたカラム内部構造物は、１．０ｍの床高
さで５×５ｍｍのポールリングであった。−２０℃の温
度を有する液体ＣＣｌ4を、３．０ｋｇ／ｈの速度でカ
ラム塔頂部に供給した。塩素負荷された吸着剤を、４０
ｍｍの内径、１．５ｍの全体の高さおよびパールリング
（５×５ｍｍ）の１．３ｍの床を有する脱着蒸留カラム
の中間の部分に供給した。７００ｋｐａの圧力、１６０
℃の塔底部温度および５℃のオーバーヘッド温度で、得
られた塔頂部生成物は、約７８重量％の純度を有する塩
素ガスであり、これを、吸着カラムの供給ガス流の中に
返送した。蒸気を、脱着蒸留カラム０．３５ｍ（塔底部
から計算した）の高さで除去し、液体を１．１５ｍ（塔
底部から計算した）の高さで除去し、双方を側カラム、
４０ｍｍの内径、１．０ｍの全体の高さおよび充填材料
（パールリング５×５ｍｍ）の床０．８ｍ塩素分離カラ
ムに供給した。液体の形での塩素を、前記の側カラムの
中央部から取り出した。側カラムの塔底部生成物および
塔頂部生成物を、特別な取り出し部トレイで、脱着蒸留
カラムに供給した。ガスおよび液体中の個々の成分の濃
度は、表２中に示されている。
（図７による方法） ７００ｋＰａの圧力および０℃の温度で、Ｃｌ2１７．
１重量％、ＨＣｌ０．５重量％およびＮ2＋Ｏ2８２．４
重量％の組成を有する塩素含有ガス流１００ｌ／ｈの容
量流量（＝１．０ｋｇ／ｈ）で、脱着蒸留カラムからの
返送ガス流と一緒に、吸着カラムに供給した。吸着カラ
ムは、４０ｍｍの内径および１．３ｍの全体の高さであ
った。使用されたカラム内部構造物は、１．０ｍの床高
さで５×５ｍｍのポールリングであった。−２０℃の温
度を有する液体ＣＣｌ4を、３．０ｋｇ／ｈの速度でカ
ラム塔頂部に供給した。塩素負荷された吸着剤を、４０
ｍｍの内径、１．５ｍの全体の高さおよびパールリング
（５×５ｍｍ）の１．３ｍの床を有する脱着蒸留カラム
の中間の部分に供給した。７００ｋｐａの圧力、１６０
℃の塔底部温度および５℃のオーバーヘッド温度で、得
られた塔頂部生成物は、約７８重量％の純度を有する塩
素ガスであり、これを、吸着カラムの供給ガス流の中に
返送した。蒸気を、脱着蒸留カラム０．３５ｍ（塔底部
から計算した）の高さで除去し、液体を１．１５ｍ（塔
底部から計算した）の高さで除去し、双方を側カラム、
４０ｍｍの内径、１．０ｍの全体の高さおよび充填材料
（パールリング５×５ｍｍ）の床０．８ｍ塩素分離カラ
ムに供給した。液体の形での塩素を、前記の側カラムの
中央部から取り出した。側カラムの塔底部生成物および
塔頂部生成物を、特別な取り出し部トレイで、脱着蒸留
カラムに供給した。ガスおよび液体中の個々の成分の濃
度は、表２中に示されている。
【００４８】
【表２】
【００４９】例 ２： 分割されたカラム中での吸着および脱着（図８による方
法） Ｃｌ2１７．１重量％、ＨＣｌ０．５重量％およびＮ2＋
Ｏ2８２．４重量％の組成を有する塩素含有ガス流を、
７００ｋＰａ、０℃で、１００ｌ／ｈの容量流量（＝
１．０ｋｇ／ｈ）で、脱着蒸留カラムからの返送ガス流
と一緒に、吸着カラムに供給した。吸着カラムは、４０
ｍｍの内径および１．３ｍの全体の高さだった。使用さ
れたカラム内部構造物は、１．０ｍの床高さで５×５ｍ
ｍのポールリングであった。液体ＣＣｌ4を、カラムの
塔頂部で、−２０℃の温度および３．０ｋｇ／ｈの速度
で供給した。塩素負荷された吸着剤を、４０ｍｍの内
径、１．５ｍの全体の高さおよびパールリング（５×５
ｍｍ）の床１．３ｍを有する脱着蒸留カラムの中間の部
分に供給した。前記カラムは、０．３５ｍ〜１．１５ｍ
（それぞれ塔底部から計算した）の充填材高さで垂直な
隔壁を有している。７００ｋＰａの圧力、１６０℃の塔
底部温度および５℃のオーバーヘッド温度で、得られた
塔頂部生成物波、約７８重量％の純度を有する塩素ガス
であり、これを、吸着カラムの供給ガス流の中に返送し
た。液体の形での塩素を、脱着蒸留カラムの中間の部分
から、供給部分と反対の隔壁の側で取り出した。ガスお
よび液体中の個々の成分の濃度は、表３中に示されてい
る。
法） Ｃｌ2１７．１重量％、ＨＣｌ０．５重量％およびＮ2＋
Ｏ2８２．４重量％の組成を有する塩素含有ガス流を、
７００ｋＰａ、０℃で、１００ｌ／ｈの容量流量（＝
１．０ｋｇ／ｈ）で、脱着蒸留カラムからの返送ガス流
と一緒に、吸着カラムに供給した。吸着カラムは、４０
ｍｍの内径および１．３ｍの全体の高さだった。使用さ
れたカラム内部構造物は、１．０ｍの床高さで５×５ｍ
ｍのポールリングであった。液体ＣＣｌ4を、カラムの
塔頂部で、−２０℃の温度および３．０ｋｇ／ｈの速度
で供給した。塩素負荷された吸着剤を、４０ｍｍの内
径、１．５ｍの全体の高さおよびパールリング（５×５
ｍｍ）の床１．３ｍを有する脱着蒸留カラムの中間の部
分に供給した。前記カラムは、０．３５ｍ〜１．１５ｍ
（それぞれ塔底部から計算した）の充填材高さで垂直な
隔壁を有している。７００ｋＰａの圧力、１６０℃の塔
底部温度および５℃のオーバーヘッド温度で、得られた
塔頂部生成物波、約７８重量％の純度を有する塩素ガス
であり、これを、吸着カラムの供給ガス流の中に返送し
た。液体の形での塩素を、脱着蒸留カラムの中間の部分
から、供給部分と反対の隔壁の側で取り出した。ガスお
よび液体中の個々の成分の濃度は、表３中に示されてい
る。
【００５０】
【表３】
【００５１】例 ３： 塩素吸着剤の吸着分離（図９による方法） 塩素吸着カラムからの流出ガス２を、０．８４ｋｇ／ｈ
の速度および−１５℃の温度で、ＣＣｌ4２．０重量
％、Ｃｌ2０．４重量％および残留ガス（Ｎ2＋Ｏ2、Ｈ
Ｃｌの痕跡）９８．６重量％の組成で、パールリングで
充填された吸着カラムＣ３の中に送り込んだ。カラム
は、３０ｍｍの内径および１．０ｍのパールリング高さ
であった。２０℃で冷たいシス−デカリンを、洗浄液と
して、カラムの塔頂部で、０．１２ｋｇ／ｈの速度で供
給し、これによって、塩素吸着剤ＣＣｌ4を、６５０ｋ
Ｐａの作業圧力でガス洗浄して、１ｐｐｍ未満の残留含
量に減少させた。負荷された洗浄液を、充填材料を含有
する蒸留カラムの中間の部分に送り込んだ。蒸留カラム
は、５０ｍｍの内径および１．５ｍの全体の高さ（充填
材量の高さ）であった。使用された充填材料は、パール
リング５×５ｍｍからなるものであった。１００ｋＰａ
の圧力、２００℃の塔底部温度および−３５℃のオーバ
ーヘッド温度で、得られた塔底部生成物は、９９．９重
量％を上回る純度を有するシス−デカリンであり、これ
を、２０℃に冷却後に、ガス洗浄器に返送した。得られ
た塔頂部生成物は、Ｃｌ2２．６重量％、ＣＣｌ4９３．
８重量％および残留ガス（Ｎ2＋Ｏ2、ＨＣｌ）３．５重
量％を含有するガス流であり、これを、吸着段階に送り
込んだ。ガスおよび液体中の個々の成分の濃度は、表４
中に示されている。
の速度および−１５℃の温度で、ＣＣｌ4２．０重量
％、Ｃｌ2０．４重量％および残留ガス（Ｎ2＋Ｏ2、Ｈ
Ｃｌの痕跡）９８．６重量％の組成で、パールリングで
充填された吸着カラムＣ３の中に送り込んだ。カラム
は、３０ｍｍの内径および１．０ｍのパールリング高さ
であった。２０℃で冷たいシス−デカリンを、洗浄液と
して、カラムの塔頂部で、０．１２ｋｇ／ｈの速度で供
給し、これによって、塩素吸着剤ＣＣｌ4を、６５０ｋ
Ｐａの作業圧力でガス洗浄して、１ｐｐｍ未満の残留含
量に減少させた。負荷された洗浄液を、充填材料を含有
する蒸留カラムの中間の部分に送り込んだ。蒸留カラム
は、５０ｍｍの内径および１．５ｍの全体の高さ（充填
材量の高さ）であった。使用された充填材料は、パール
リング５×５ｍｍからなるものであった。１００ｋＰａ
の圧力、２００℃の塔底部温度および−３５℃のオーバ
ーヘッド温度で、得られた塔底部生成物は、９９．９重
量％を上回る純度を有するシス−デカリンであり、これ
を、２０℃に冷却後に、ガス洗浄器に返送した。得られ
た塔頂部生成物は、Ｃｌ2２．６重量％、ＣＣｌ4９３．
８重量％および残留ガス（Ｎ2＋Ｏ2、ＨＣｌ）３．５重
量％を含有するガス流であり、これを、吸着段階に送り
込んだ。ガスおよび液体中の個々の成分の濃度は、表４
中に示されている。
【００５２】
【表４】
【００５３】例 ４： 真空圧力変動吸着と引き続く低温分離（図１０による方
法） ２５℃で加圧下（５００ｋＰａ）に、Ｃｌ2１７重量％
および不活性ガス（Ｎ2＋Ｏ2）８３重量％の組成を有す
る温かい塩素含有ガスを、ゼオライトを基礎とする吸着
剤で充填された吸着体の床を導通させた。負荷（空間速
度＝１２０ｈ-1）を、出てくるガスが塩素を含有してい
ないような程度に選択した。負荷の継続時間波、８分間
だった。塩素漏出を回避するために、吸着体床を完全に
は負荷しなかった。負荷の終了後に、塩素含有ガス流
を、第二の吸着体床に切り換えた。第一の吸着体床を、
引き続き、粗製塩素の線に降下させ、次に真空ポンプを
用いて放圧して２ｋＰａの圧力にした。加圧下に、貯蔵
された塩素の脱着を最大にするために約５分間保持し
た。吸着体床から取り出された粗製塩素（８０〜９０容
量％）を、８００ｋＰａに圧縮し、２５℃に冷却し、か
つオーバーヘッド温度が−５０℃である塩素凝縮カラム
の中に送り込んだ。９９．０重量％を上回る塩素を含有
する液体塩素を、カラムの塔底部で取り出した。塩素凝
縮カラムの塔頂部で取り出された残留ガスを、吸着体床
の供給流に送り込む。
法） ２５℃で加圧下（５００ｋＰａ）に、Ｃｌ2１７重量％
および不活性ガス（Ｎ2＋Ｏ2）８３重量％の組成を有す
る温かい塩素含有ガスを、ゼオライトを基礎とする吸着
剤で充填された吸着体の床を導通させた。負荷（空間速
度＝１２０ｈ-1）を、出てくるガスが塩素を含有してい
ないような程度に選択した。負荷の継続時間波、８分間
だった。塩素漏出を回避するために、吸着体床を完全に
は負荷しなかった。負荷の終了後に、塩素含有ガス流
を、第二の吸着体床に切り換えた。第一の吸着体床を、
引き続き、粗製塩素の線に降下させ、次に真空ポンプを
用いて放圧して２ｋＰａの圧力にした。加圧下に、貯蔵
された塩素の脱着を最大にするために約５分間保持し
た。吸着体床から取り出された粗製塩素（８０〜９０容
量％）を、８００ｋＰａに圧縮し、２５℃に冷却し、か
つオーバーヘッド温度が−５０℃である塩素凝縮カラム
の中に送り込んだ。９９．０重量％を上回る塩素を含有
する液体塩素を、カラムの塔底部で取り出した。塩素凝
縮カラムの塔頂部で取り出された残留ガスを、吸着体床
の供給流に送り込む。
【図１】塩素分離単位装置を示す系統図。
【図２】塩素の露点曲線を示す線図。
【図３】塩素回収のための吸着／脱着装置を示す系統
図。
図。
【図４】図３の場合に塩素の精製蒸留を用いる装置を示
す系統図。
す系統図。
【図５】全体の処理を示す系統図。
【図６】圧力変動吸着を用いる塩素回収装置を示す系統
図。
図。
【図７】塩素側カラムを有する塩素回収装置を示す系統
図。
図。
【図８】分割カラムを有する塩素回収装置を示す系統
図。
図。
【図９】図８に相応する流出ガス処理単位装置を示す系
統図。
統図。
【図１０】圧力変動吸着の下流方向での低温蒸留を用い
る塩素回収装置を示す系統図。
る塩素回収装置を示す系統図。
Ｃ１、Ｃ２、Ｃ３ カラム
Claims (2)
- 【請求項１】 不活性吸着剤を使用することによる塩素
の吸着および吸着剤／塩素混合物を脱着蒸留カラムに供
給することにより吸着段階から取り出された吸着剤／塩
素混合物からの塩素の下流方向への吸着によって、塩素
含有供給ガスから高純度の塩素を分離するための方法に
おいて、塩素分離カラムの塔頂部と脱着蒸留カラムの上
部および脱着蒸留カラムの下部と塩素分離カラムの塔底
部が、互いにガスおよび液体の双方の側で接続している
ように塩素分離カラムに接続されている脱着蒸留カラム
中で脱着蒸留を実施し、この場合、吸着剤／塩素混合物
は、専ら、脱着蒸留カラムに供給され、かつ高純度の塩
素は、塩素分離カラムの中央部から取り出されることを
特徴とする、塩素含有供給ガスからの高純度の塩素の分
離法。 - 【請求項２】 塩素含有ガス流から純粋な塩素を分離す
るための方法において、塩素含有ガス流に、まず、圧力
変動吸着を施し、圧力変動吸着からの塩素含有ガスを、
１〜２０バール、有利に５〜１０バールの圧力に圧縮
し、次に、低温蒸留を施し、この場合、塩素は、蒸留カ
ラムの塔底部生成物として純粋な形で分離され、かつ蒸
留カラムの塔頂部生成物は、圧力変動吸着の供給ガス流
の中に返送されることを特徴とする、塩素含有ガス流か
らの純粋な塩素の分離法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19536976A DE19536976A1 (de) | 1995-10-04 | 1995-10-04 | Verfahren zur selektiven Abtrennung und Wiedergewinnung von Chlor aus Gasgemischen |
| DE19536976.9 | 1995-10-04 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09132401A true JPH09132401A (ja) | 1997-05-20 |
| JP4011139B2 JP4011139B2 (ja) | 2007-11-21 |
Family
ID=7774017
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26216296A Expired - Fee Related JP4011139B2 (ja) | 1995-10-04 | 1996-10-02 | 塩素含有供給ガスからの高純度の塩素の分離方法 |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5788743A (ja) |
| EP (1) | EP0767138B1 (ja) |
| JP (1) | JP4011139B2 (ja) |
| KR (1) | KR100464899B1 (ja) |
| CN (2) | CN1158213C (ja) |
| DE (2) | DE19536976A1 (ja) |
| ES (1) | ES2144182T3 (ja) |
| MY (1) | MY123056A (ja) |
| TW (1) | TW328912B (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009537429A (ja) * | 2006-05-19 | 2009-10-29 | バイエル・マテリアルサイエンス・アクチェンゲゼルシャフト | ＨＣｌ酸化法の生成ガスから塩素を分離する方法 |
| JP2013545704A (ja) * | 2011-10-11 | 2013-12-26 | ホンインケミカル シーオー．，エルティディ． | 高純度塩化水素の製造方法及び製造システム |
| JP2015163556A (ja) * | 2014-01-28 | 2015-09-10 | 住友精化株式会社 | 塩化水素精製方法および塩化水素精製装置 |
Families Citing this family (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10234908B4 (de) * | 2002-07-31 | 2013-10-24 | Basf Se | Verfahren zur Herstellung von Chlor aus einem (Chlor)kohlenwasserstoffe enthaltenden Chlorwasserstoffstrom |
| US6709485B1 (en) * | 2002-12-04 | 2004-03-23 | Olin Corporation | Process of removing carbon dioxide from a chlor/alkali plant tail gas stream |
| TWI402098B (zh) * | 2005-06-22 | 2013-07-21 | Advanced Tech Materials | 整合式氣體混合用之裝置及方法 |
| CN100361891C (zh) * | 2005-12-19 | 2008-01-16 | 李安民 | 一种氯化副产物盐酸中游离氯的去除和回收利用的方法 |
| CN101343040B (zh) * | 2008-08-22 | 2010-04-07 | 山东聊城中盛蓝瑞化工有限公司 | 一种液氯闪蒸提纯生产工艺 |
| JP2011084422A (ja) * | 2009-10-14 | 2011-04-28 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 水素ガス回収システムおよび水素ガスの分離回収方法 |
| DE102011087654A1 (de) * | 2011-12-02 | 2013-06-06 | Bayer Materialscience Aktiengesellschaft | Verfahren zur Herstellung von Isocyanaten |
| CN103832975B (zh) * | 2014-01-24 | 2015-10-28 | 上海方纶新材料科技有限公司 | 从含氯和氧的混合气中回收氯气和氧气的方法 |
| CN103816768B (zh) * | 2014-02-26 | 2016-01-20 | 重庆海洲化学品有限公司 | 从生产氯甲烷或四氯乙烯尾气中回收氯化氢的方法及系统 |
| CN105344206A (zh) * | 2015-11-11 | 2016-02-24 | 天津天清环保科技股份有限公司 | 一种工业废气中VOCs的处理方法及装置 |
| EP3431859A1 (de) * | 2017-07-21 | 2019-01-23 | Covestro Deutschland AG | Verfahren zur leckage-sicheren speicherung von verflüssigtem chlor |
| EP3488914A1 (en) * | 2017-11-28 | 2019-05-29 | Max-Planck-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V. | A method and an apparatus for separating chlorine gas from a gaseous anode outlet stream of an electrochemical reactor |
| EP4069395A1 (en) * | 2019-12-05 | 2022-10-12 | ExxonMobil Technology and Engineering Company | Dividing wall column separator with intensified separations |
| WO2022203646A1 (en) * | 2021-03-21 | 2022-09-29 | Dice James Lamar | Paradice process system |
| CN113398719A (zh) * | 2021-06-15 | 2021-09-17 | 山东东岳氟硅材料有限公司 | 一种回收尾氯中氯气的装置及方法 |
Family Cites Families (28)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA615106A (en) * | 1961-02-21 | Hooker Chemical Corporation | Purification of hydrogen chloride | |
| US1617305A (en) * | 1926-04-19 | 1927-02-08 | Mathieson Alkali Works Inc | Recovery of chlorine |
| US2271056A (en) * | 1939-07-27 | 1942-01-27 | Air Reduction | Oxidation of hydrogen chloride |
| US2765873A (en) * | 1948-10-12 | 1956-10-09 | Diamond Alkali Co | Method of purifying chlorine |
| US2540905A (en) * | 1949-07-27 | 1951-02-06 | Pittsburgh Plate Glass Co | Recovery of chlorine |
| US2750002A (en) * | 1953-11-24 | 1956-06-12 | Hooker Electrochemical Co | Method for chlorine recovery |
| US2822889A (en) * | 1955-09-26 | 1958-02-11 | Diamond Alkali Co | Chlorine purification |
| US2934167A (en) * | 1955-10-12 | 1960-04-26 | Thiokol Chemical Corp | Purification of boron trichloride |
| US2800197A (en) * | 1955-12-09 | 1957-07-23 | Nat Distillers Chem Corp | Chlorine recovery |
| US2868325A (en) * | 1956-02-29 | 1959-01-13 | Cathala Marie Edouard Joseph | Method of extraction of chlorine from gaseous mixtures |
| BE568078A (ja) * | 1957-07-31 | |||
| US3029575A (en) * | 1958-11-03 | 1962-04-17 | Exxon Research Engineering Co | Chlorine separation process |
| NL286349A (ja) * | 1962-12-05 | |||
| NL126936C (ja) * | 1963-06-24 | 1900-01-01 | ||
| NL125296C (ja) * | 1965-01-20 | 1900-01-01 | ||
| US3881893A (en) * | 1972-12-04 | 1975-05-06 | Dow Chemical Co | Chlorine recovery with aqueous hydrochloric acid |
| US4394367A (en) * | 1982-03-11 | 1983-07-19 | Shell Oil Co. | Process for recovery of chlorine from hydrogen chloride |
| US5254323A (en) * | 1988-02-16 | 1993-10-19 | Mitsui Toatsu Chemicals, Incorporated | Industrial process for the separation and recovery of chlorine |
| CN1027313C (zh) * | 1988-02-16 | 1995-01-04 | 三井东压化学株式会社 | 从含氯和二氧化碳的气体混合物中除去氯的方法 |
| IL89280A0 (en) * | 1988-02-16 | 1989-09-10 | Mitsui Toatsu Chemicals | Industrial process for the separation and recovery of chlorine |
| DE3921714A1 (de) * | 1989-07-01 | 1991-01-10 | Hoechst Ag | Verfahren zur selektiven absorption von chlor aus co(pfeil abwaerts)2(pfeil abwaerts)-haltigen abgasen |
| EP0458990B1 (en) * | 1989-12-16 | 1995-04-12 | MITSUI TOATSU CHEMICALS, Inc. | Method of concentrating chlorine gas |
| US5296017A (en) * | 1991-05-28 | 1994-03-22 | Mitsui Toatsu Chemicals, Inc. | Method and apparatus for concentrating chlorine gas |
| EP0518553B1 (en) * | 1991-06-06 | 1996-09-04 | MITSUI TOATSU CHEMICALS, Inc. | Method and apparatus for industrially preparing chlorine |
| US5308383A (en) * | 1993-06-21 | 1994-05-03 | Occidental Chemical Corporation | Method for separating chlorine from a mixture of gases |
| US5500035A (en) * | 1993-08-09 | 1996-03-19 | Uop | Pressure swing adsorption process for chlorine plant offgas |
| US5376164A (en) * | 1993-08-09 | 1994-12-27 | Uop | Pressure swing adsorption process for chlorine plant offgas |
| US5437711A (en) * | 1993-12-16 | 1995-08-01 | Occidental Chemical Corporation | Method of purifying chlorine-containing gases |
-
1995
- 1995-10-04 DE DE19536976A patent/DE19536976A1/de not_active Withdrawn
-
1996
- 1996-09-12 US US08/711,907 patent/US5788743A/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-09-13 TW TW085111205A patent/TW328912B/zh not_active IP Right Cessation
- 1996-09-25 MY MYPI96003961A patent/MY123056A/en unknown
- 1996-09-28 CN CNB961228229A patent/CN1158213C/zh not_active Expired - Lifetime
- 1996-09-28 CN CNB2004100488098A patent/CN1329288C/zh not_active Expired - Lifetime
- 1996-10-02 EP EP96115820A patent/EP0767138B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-10-02 DE DE59604163T patent/DE59604163D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-10-02 JP JP26216296A patent/JP4011139B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1996-10-02 KR KR1019960043654A patent/KR100464899B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1996-10-02 ES ES96115820T patent/ES2144182T3/es not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009537429A (ja) * | 2006-05-19 | 2009-10-29 | バイエル・マテリアルサイエンス・アクチェンゲゼルシャフト | ＨＣｌ酸化法の生成ガスから塩素を分離する方法 |
| JP2013545704A (ja) * | 2011-10-11 | 2013-12-26 | ホンインケミカル シーオー．，エルティディ． | 高純度塩化水素の製造方法及び製造システム |
| JP2015163556A (ja) * | 2014-01-28 | 2015-09-10 | 住友精化株式会社 | 塩化水素精製方法および塩化水素精製装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE19536976A1 (de) | 1997-04-10 |
| JP4011139B2 (ja) | 2007-11-21 |
| EP0767138B1 (de) | 2000-01-12 |
| CN1155512A (zh) | 1997-07-30 |
| DE59604163D1 (de) | 2000-02-17 |
| EP0767138A1 (de) | 1997-04-09 |
| CN1158213C (zh) | 2004-07-21 |
| KR970020938A (ko) | 1997-05-28 |
| CN1590279A (zh) | 2005-03-09 |
| TW328912B (en) | 1998-04-01 |
| US5788743A (en) | 1998-08-04 |
| MY123056A (en) | 2006-05-31 |
| CN1329288C (zh) | 2007-08-01 |
| ES2144182T3 (es) | 2000-06-01 |
| KR100464899B1 (ko) | 2005-04-06 |
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|---|---|---|---|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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