JPH09118671A - オレフィンからのエポキシドの製造法 - Google Patents

オレフィンからのエポキシドの製造法

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JPH09118671A
JPH09118671A JP8200246A JP20024696A JPH09118671A JP H09118671 A JPH09118671 A JP H09118671A JP 8200246 A JP8200246 A JP 8200246A JP 20024696 A JP20024696 A JP 20024696A JP H09118671 A JPH09118671 A JP H09118671A
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catalyst
salt
treatment
epoxidation
reaction
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JP8200246A
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Georg Dr Thiele
ティーレ ゲオルク
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Evonik Operations GmbH
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Degussa GmbH
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    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D301/00Preparation of oxiranes
    • C07D301/02Synthesis of the oxirane ring
    • C07D301/03Synthesis of the oxirane ring by oxidation of unsaturated compounds, or of mixtures of unsaturated and saturated compounds
    • C07D301/12Synthesis of the oxirane ring by oxidation of unsaturated compounds, or of mixtures of unsaturated and saturated compounds with hydrogen peroxide or inorganic peroxides or peracids
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J29/00Catalysts comprising molecular sieves
    • B01J29/89Silicates, aluminosilicates or borosilicates of titanium, zirconium or hafnium

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  • Epoxy Compounds (AREA)
  • Catalysts (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 オレフィンからのエポキシドの製造法 【解決手段】 反応の前又は間に、中性又は酸性の反応
を示す塩を添加される触媒としてのチタン原子を含有し
ているゼオライトの存在下に、オレフィン及び過酸化水
素からエポキシドを製造する方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、オレフィンからエ
ポキシドを製造する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】チタンシリカライト TS1の存在下に
オレフィンを過酸化水素と反応させることによりエポキ
シドを製造することは公知である(ヨーロッパ特許(E
P−A)第0100119号明細書)。この公知の方法
は、弱酸性のチタンシリカライト TS1により開始さ
れる、エポキシドと水又は反応混合物中に存在する溶剤
との酸性触媒作用後続反応により、エポキシドの収率が
低下されるという欠点を有する。
【0003】更に、塩基で前処理されたチタンシリカラ
イト TS1の存在下でオレフィンを過酸化水素と反応
させることによりエポキシドを製造することは公知であ
る(ヨーロッパ特許(EP−A)第0230949号明
細書)。この方法の場合には、触媒(チタンシリカライ
ト TS1)の中和のために使用された塩基量は、その
範囲の超過は触媒の強い活性損失をもたらすので、狭い
範囲で選択されなければならない[M. G. Clerici et a
l., Journal of Catalysis 140, 71 - 83 (1993)]。こ
の公知の方法は、比較的大きな塩基量を用いての処理
が、反応が完全に停止するまでの強い活性損失をもたら
すという欠点を有する。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、触媒
としての、チタン原子を含有しているゼオライトの存在
下に、オレフィン及び過酸化水素からエポキシドを製造
する方法であり、これは、この触媒に反応の前又は間に
中性又は酸性の反応を示す塩を添加することを特徴とす
る。
【0005】中性又は酸性の反応を示す塩は、Li+
Na+、K+、NH4 +、RNH3 +又はR2NH2 +の群から
の単一又は複数の陽イオンを含有していてよく、ここ
で、Rは1〜6個の炭素原子を有するアルキル基を表
す。
【0006】中性−又は酸性の反応を示す塩として、有
利に組成M+-又は組成M2SO4の塩の1種を使用する
ことができ、ここで、M+はLi+、Na+、K+又はNH
4 +を表し、X-はNO3 -、ClO4 -、Cl-又はH2PO4
-を表す。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の1実施形では、
チタン原子を含有している触媒を、エポキシ化のために
使用する前に水中又はアルコール中の中性又は酸性の反
応を示す塩の溶液と反応させ、この溶液から分離し、場
合によっては水及び/又は溶剤で洗浄し、引き続いて、
オレフィンのエポキシ化のために使用する。触媒の処理
のために使用される塩溶液の濃度は、0.0001モル
/l〜飽和限界の間で、有利に0.01〜1モル/lの
間で変動させることができ、その際に、技術水準とは対
照的に0.1モル/l及び比較的高い濃度でも、エポキ
シ化反応での処理された触媒の触媒活性に対して不利な
作用を有しない。触媒処理の温度及び時間は、広い範囲
で選択することができ、低温及び短い処理時間での触媒
と塩溶液との間の物質交換の速度、並びに高温及び長い
処理時間での加水分解に対する触媒の安定性により制限
されるだけである。触媒の処理のために使用された塩溶
液を、有利に複数回再使用することができ、その場合
に、可能な再使用の回数は塩溶液の濃度及び塩溶液と処
理された触媒との量比に左右される。
【0008】本発明のもう1つの実施形では、触媒の処
理をエポキシ化反応の間に行う。このために、塩を場合
によっては水中又は他の溶剤中の溶液として、エポキシ
化の反応混合物に直接又はエポキシ化反応の使用物質の
1種に添加する。その際に、塩量を、反応混合物中の塩
濃度が0.0001〜1モル/l、有利には0.001〜
1モル/lにあるように選択する。その場合に、中性又
は酸性の反応を示す塩を、有利にエポキシ化のために使
用される過酸化水素に添加することができ、その貯蔵安
定性に不利な影響を及ぼすことはない。
【0009】エポキシ化反応の連続的な実施の場合に
は、触媒の本発明による処理を、触媒処理のために使用
される塩を連続的に又は断続的に添加することにより行
うことができる。
【0010】エポキシ化反応の前又は間に中性又は酸性
の水溶性塩を用いて処理される、チタン原子を含有して
いる触媒の存在下で、過酸化水素を用いてオレフィンを
エポキシ化することは、公知の方法と比べて、低い副産
物形成で、触媒の処理のために使用される物質の量の変
化が、エポキシ化反応の際の触媒の触媒活性に不利な影
響を及ぼさないという利点を有する。
【0011】本発明による方法は、前処理されていない
触媒を用いてもエポキシ化されうる全てのオレフィンに
適用することができる。例えば、ヨーロッパ特許(EP
−A)第0100119号明細書中に記載のオレフィン
を使用することができる。有利に、2〜16個の炭素原
子を有する分枝していないか又はメチル基で置換されて
いるオレフィン、塩化アリル及びアリルアルコール、殊
にプロピレン、1−ブテン、2−ブテン、イソブテン又
は1−ペンテンを使用することができる。
【0012】チタン原子を含有しているゼオライトとし
ては、下記の公知の化合物を使用することができる:M
FI−構造を有するチタンシリカライト−1、MEL−
構造を有するチタンシリカライト−2、チタン−ベータ
−ゼオライト、ゼオライトZSM−48の構造を有する
TS−48及びMOR−構造を有するチタン−モルデナ
イト。これらのゼオライトは、下記の文献から公知であ
る:
【0013】
【外1】
【0014】チタンシリカライト−1及びチタンシリカ
ライト−2を使用するのが有利であり、特にチタンシリ
カライト−1が有利である。
【0015】
【実施例】下記の例のために、J.P.A. Martens et al.,
Appl. Catal. A 99 (1993) 71 -84 中の記載に基づい
て製造され、下記に触媒1、2及び3として称されるチ
タンシリカライトの3試料を使用する。
【0016】例1 過酸化水素を用いるプロピレンのエポキシ化におけるチ
タンシリカライトの触媒活性の測定 ガス−分散式撹拌機付きの、サーモスタットを備えた実
験室用オートクレーブ中に、メタノール300ml中の
触媒1 1gを40℃でプロピレンガス雰囲気下で装入
し、過剰圧3バールでプロピレンを用いて飽和させた。
次いで、撹拌下に30重量%過酸化水素水溶液13.1
gを少量宛添加し、反応混合物を40℃及び3バールに
保持し、その際に反応による消費を補うために、圧力調
整器を経由してプロピレンを後配量する。定期的な間隔
で、フィルターを介して試料を採取し、反応混合物の過
酸化水素含有率を硫酸セリウム(IV)−溶液を用いて
の酸化還元滴定により測定する。時間tに対するln
(C/C0)[ここで、Cは時点tでの測定H22−濃
度であり、C0は反応の開始時での計算H22−濃度で
ある]のプロットは、直線になる。直線の勾配から、
式:
【0017】
【数1】
【0018】[式中、Ckatは、反応混合物1kg当た
りのkgでの触媒濃度を表す]を用いて、15.0min-1
での活量係数kが測定される。
【0019】例2〜4 プロピレンのエポキシ化における、本発明により処理さ
れたチタンシリカライトの触媒活性 触媒1 5gを、完全脱塩水中の中性又は酸性塩の0.
1モル/l溶液500mlに20℃で4時間懸濁させ、
引き続き濾過し、完全脱塩水及びメタノールを用いて洗
浄し、20℃で通気により乾燥させた。この方法で処理
された触媒試料の、プロピレンのエポキシ化における触
媒活性を、例1に従って測定する。第1表は、触媒の処
理のために使用された塩及び処理された触媒試料の触媒
活性を示している。
【0020】第1表 中性又は酸性塩を用いる処理後の、プロピレンのエポキ
シ化におけるチタンシリカライトの触媒活性
【0021】
【表1】
【0022】比較例5〜8 プロピレンのエポキシ化における、技術水準により塩基
を用いて処理されたチタンシリカライトの触媒活性 例2〜4を繰り返すが、中性又は酸性塩の代わりに、完
全脱塩水中の塩基含有溶液0.1モル/lを触媒の処理
のために使用する。第2表は、触媒の処理のために使用
された塩基及び処理された触媒試料の触媒活性を示して
いる: 第2表 塩基を用いる処理後の、プロピレンのエポキシ化におけ
るチタンシリカライトの触媒活性
【0023】
【表2】
【0024】例2〜4及び比較例5〜8は、触媒の本発
明による処理は、プロピレンのエポキシ化における触媒
の活性に僅かに影響を及ぼすだけであるが、技術水準に
よる塩基を用いる触媒の処理は、他は同じ条件下で触媒
活性の強い損失をもたらすことを示している。
【0025】例9 過酸化水素及びチタンシリカライト−触媒を用いるプロ
ピレンのエポキシ化の際の副産物形成の測定 例1を、触媒2を用いて繰り返す。活量係数は23.7m
in-1で測定される。付加的に、過酸化水素の添加2時間
後に、試料を採取し、ガスクロマトグラフィーにより主
生成物であるプロピレンオキシド及び副産物である1−
メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシ−1−プロ
パノール及び1,2−プロパンジオールの含有率を測定
する。生成物の総量に対するこの3種類の副産物の割合
は、8.6モル%であると測定される。
【0026】例10〜12 本発明により処理されたチタンシリカライトを用いる、
プロピレンのエポキシ化における副産物形成 例2〜4を、触媒2を用いて繰り返す。処理された触媒
試料の触媒活性及び副産物形成の割合を、例9における
と同様に測定する。第3表は、例10〜12の結果を示
している。
【0027】比較例13 技術水準により処理されたチタンシリカライトを用いる
プロピレンのエポキシ化における副産物形成 比較例5を触媒2を用いて繰り返す。中和された触媒試
料の触媒活性及び副産物の割合を、例9におけると同様
に測定し、第3表中に記載する。
【0028】第3表 前処理されたチタンシリカライトを用いるプロピレンの
エポキシ化の際の触媒活性及び生成物の総量に対する副
産物の割合
【0029】
【表3】
【0030】例10〜12は、例9と比べて、中性又は
酸性の塩を用いて触媒を本発明により処理することが、
過酸化水素を用いるオレフィンのエポキシ化の際の副産
物形成の割合の実質的な減少をもたらすことを示してい
る。
【0031】例14 例1を、触媒3を用いて繰り返す。活量係数は、21.
2min-1で測定される。
【0032】例15 プロピレンのエポキシ化におけるNaH2PO4を用いて
処理されたチタンシリカライトの触媒活性 例2〜4を、触媒3を用いて繰り返すが、酸性塩として
NaH2PO4を使用する。触媒活性を、例1におけると
同様に測定し、第4表に記載する。
【0033】例16(比較例) プロピレンのエポキシ化におけるNa2HPO4を用いて
中和されたチタンシリカライトの触媒活性 例5〜8を、触媒3を用いて繰り返すが、塩基としてN
2HPO4を使用する。触媒活性を、例1におけると同
様に測定し、第4表に記載する。
【0034】第4表 NaH2PO4又はNa2HPO4を用いる処理の後の、プ
ロピレンのエポキシ化におけるチタンシリカライトの触
媒活性
【0035】
【表4】
【0036】例15及び比較例16は、酸性の反応を示
す塩NaH2PO4を用いて触媒を本発明により処理する
ことが、プロピレンのエポキシ化における触媒の活性に
僅かにのみ影響を及ぼすことを示している。これと比べ
て、塩基性の反応を示す塩Na2HPO4を用いる触媒の
処理は、他は同じ条件下で触媒活性の強い損失をもたら
す。
【0037】例17 プロピレンの連続的エポキシ化におけるチタンシリカラ
イトの触媒活性 ガス−分散式撹拌機付きの、サーモスタットを備えた実
験室用オートクレーブ中に、メタノール295g中の触
媒3 5gを40℃でプロピレンガス雰囲気下で装入
し、過剰圧3バールでプロピレンを用いて飽和させた。
次いで、撹拌下に50重量%過酸化水素475g、メタ
ノール2225g及び完全脱塩水560gからの混合物
を、300g/hの割合で配量添加し、同時に、反応器
内容物の重量が一定になるような量の反応混合物をフィ
ルターを介して取り出す。その際に、触媒はフィルター
により反応器中に保持する。過酸化水素配量の間に、圧
力調整器を経由して、反応器中の圧力を一定に保つため
に、プロピレンを後配量する。反応器出口で定期的な間
隔で試料を採取し、反応生成物(プロピレンオキシド、
1−メトキシ−2−プロパノール及び2−メトキシ−1
−プロパノール)の含有率をガスクロマトグラフィーに
より測定する。時間(分)に対する反応器出口における
反応生成物の濃度(モル/kg)を図1に示す。
【0038】例18 プロピレンの連続的エポキシ化の際の、本発明により処
理されたチタンシリカライトの触媒活性 例17を繰り返す。しかしながら、メタノール、水及び
過酸化水素からの混合物に付加的に硝酸アンモニウム
0.1モル/kgを添加する。時間(分)に対する反応
器出口における反応生成物の濃度(モル/kg)を図2
に示す。
【0039】例19 プロピレンの連続的エポキシ化における、技術水準によ
り中和されたチタンシリカライトの触媒活性 例17を繰り返す。しかしながら、メタノール、水及び
過酸化水素からの混合物に付加的に酢酸リチウム0.1
モル/kgを添加する。時間(分)に対する反応器出口
における反応生成物の濃度(モル/kg)を図3に示
す。
【0040】例17及び18並びに比較例19は、他は
同じ条件下で、本発明による触媒の処理は、プロピレン
の連続的エポキシ化における触媒の活性に、技術水準に
よる塩基を用いる触媒の処理よりも、与える不利な影響
は少ないことを示している。
【図面の簡単な説明】
【図1】時間に対する反応器出口における反応生成物の
濃度を示す図。
【図2】時間に対する反応器出口における反応生成物の
濃度を示す図。
【図3】時間に対する反応器出口における反応生成物の
濃度を示す図。

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 触媒としてのチタン原子を含有している
    ゼオライトの存在下にオレフィン及び過酸化水素からエ
    ポキシドを製造する方法において、この触媒に反応の前
    又は間に、中性又は酸性の反応を示す塩を添加すること
    を特徴とする、オレフィンからのエポキシドの製造法。
  2. 【請求項2】 触媒の処理のために使用される塩が、L
    +、Na+、K+、NH4 +、RNH3 +又はR2NH2 +の群
    からの単一又は複数の陽イオンを含有し、その際に、R
    は1〜6個のC原子を有するn−アルキル基を表す、請
    求項1に記載の方法。
  3. 【請求項3】 触媒の処理のために、組成M+-(ここ
    で、M+はLi+、Na+、K+又はNH4 +を表し、X-
    NO3 -、ClO4 -、Cl-又はH2PO4 -を表す)の塩1
    種を使用する、請求項1又は2のいずれかに記載の方
    法。
  4. 【請求項4】 触媒の処理のために組成M2SO4(ここ
    で、M+はLi+、Na+、K+又はNH4 +を表す)の塩を
    使用する、請求項1又は2のいずれかに記載の方法。
  5. 【請求項5】 触媒を塩の水溶液又はアルコール溶液を
    用いて処理する、請求項1から4のいずれかに記載の方
    法。
  6. 【請求項6】 エポキシ化のための使用の前に、触媒を
    塩溶液を用いて処理し、処理のために使用された塩溶液
    を新しい触媒量の処理のために複数回再使用する、請求
    項5に記載の方法。
  7. 【請求項7】 触媒の処理を塩溶液の添加により、エポ
    キシ化反応のために行う、請求項5に記載の方法。
  8. 【請求項8】 触媒の処理のために使用される塩をエポ
    キシ化反応の使用物質の1種に添加する、請求項1から
    4のいずれかに記載の方法。
JP8200246A 1995-08-01 1996-07-30 オレフィンからのエポキシドの製造法 Pending JPH09118671A (ja)

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