JPH09111495A - アルミニウム合金製装飾用カバー - Google Patents
アルミニウム合金製装飾用カバーInfo
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- JPH09111495A JPH09111495A JP7267445A JP26744595A JPH09111495A JP H09111495 A JPH09111495 A JP H09111495A JP 7267445 A JP7267445 A JP 7267445A JP 26744595 A JP26744595 A JP 26744595A JP H09111495 A JPH09111495 A JP H09111495A
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- C23C28/30—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
- C23C28/34—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates
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- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
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- C25D5/10—Electroplating with more than one layer of the same or of different metals
- C25D5/12—Electroplating with more than one layer of the same or of different metals at least one layer being of nickel or chromium
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Abstract
(57)【要約】
【解決手段】 クランクケースカバー１０をＳｉを含む
アルミニウム材で形成し、このアルミニウム材の表面を
バフ研磨し、このバフ研磨した面に、錯化性を有する
陰イオンを含む化合物＋酸素酸アニオンを含む有機酸
＋ハロゲン化物からなる電解液で陽極酸化膜１１を生
成する。これにより、クランクケースカバー１０の表面
に露出した鋳巣を陽極酸化膜１１で微細孔にすること
や、穴埋めすることができる。従って、陽極酸化膜１１
にＮｉメッキ１２を施し、Ｎｉメッキ膜１２の表面にＣ
ｒメッキ１３を施すことにより、陽極酸化膜１１に残存
した微細孔を塞ぐことができる。 【効果】 クランクケースカバー１０の表面に露出した
鋳巣を十分に穴埋めするアルミニウム合金製装飾用カバ
ーを提供する。
アルミニウム材で形成し、このアルミニウム材の表面を
バフ研磨し、このバフ研磨した面に、錯化性を有する
陰イオンを含む化合物＋酸素酸アニオンを含む有機酸
＋ハロゲン化物からなる電解液で陽極酸化膜１１を生
成する。これにより、クランクケースカバー１０の表面
に露出した鋳巣を陽極酸化膜１１で微細孔にすること
や、穴埋めすることができる。従って、陽極酸化膜１１
にＮｉメッキ１２を施し、Ｎｉメッキ膜１２の表面にＣ
ｒメッキ１３を施すことにより、陽極酸化膜１１に残存
した微細孔を塞ぐことができる。 【効果】 クランクケースカバー１０の表面に露出した
鋳巣を十分に穴埋めするアルミニウム合金製装飾用カバ
ーを提供する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は自動二輪車に使用す
るアルミニウム合金製装飾用カバーに関する。
るアルミニウム合金製装飾用カバーに関する。
【０００２】
【従来の技術】自動二輪車に使用するアルミニウム合金
製装飾用カバーは、外観性を重視するために、表面を平
滑に且つ光沢のあるものにする必要がある。図６は従来
例のアルミニウム合金製装飾用カバーの表面処理工程を
示すフローチャートであり、図中ＳＴ×××はステップ
番号を示す。この処理工程は、アルミニウム合金製装飾
用カバーをダイカスト成形した後、ＳＴ１００で装飾用
カバーの表面をバフ研磨し、次に、ＳＴ１０１で装飾用
カバーの表面から油脂などを除去する脱脂処置を施す。
製装飾用カバーは、外観性を重視するために、表面を平
滑に且つ光沢のあるものにする必要がある。図６は従来
例のアルミニウム合金製装飾用カバーの表面処理工程を
示すフローチャートであり、図中ＳＴ×××はステップ
番号を示す。この処理工程は、アルミニウム合金製装飾
用カバーをダイカスト成形した後、ＳＴ１００で装飾用
カバーの表面をバフ研磨し、次に、ＳＴ１０１で装飾用
カバーの表面から油脂などを除去する脱脂処置を施す。
【０００３】次いで、ＳＴ１０２で装飾用カバーの表面
にアルカリエッチング及び混酸エッチングを施して装飾
用カバーの表面からＳｉを除去する。続いて、ＳＴ１０
３で第１亜鉛置換処理して装飾用カバーの表面上にＺｎ
下地を生成する。その後、ＳＴ１０４で硝酸浸漬処理し
てＺｎ被膜を剥離し、ＳＴ１０５で第２亜鉛置換処理し
てＺｎ下地を生成する。次に、ＳＴ１０６でＺｎ下地の
表面にＮｉメッキを施し、最後にＳＴ１０７でＮｉメッ
キ膜の表面にＣｒメッキを施す。
にアルカリエッチング及び混酸エッチングを施して装飾
用カバーの表面からＳｉを除去する。続いて、ＳＴ１０
３で第１亜鉛置換処理して装飾用カバーの表面上にＺｎ
下地を生成する。その後、ＳＴ１０４で硝酸浸漬処理し
てＺｎ被膜を剥離し、ＳＴ１０５で第２亜鉛置換処理し
てＺｎ下地を生成する。次に、ＳＴ１０６でＺｎ下地の
表面にＮｉメッキを施し、最後にＳＴ１０７でＮｉメッ
キ膜の表面にＣｒメッキを施す。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、ＳＴ１００で
装飾用カバーの表面をバフ研磨すると、装飾用カバーの
鋳造時に急冷したチル層が除去されチル層近傍の鋳巣が
露出する場合がある。また、バフ研磨の際に鋳巣が露出
しなくても、バフ研磨後に行なうアルカリエッチングや
混酸エッチングで鋳巣が露出する場合がある。このよう
に、鋳巣が装飾用カバーの表面に露出すると、後工程で
ＮｉメッキやＣｒメッキを施しても、鋳巣を十分に埋め
ることができない。
装飾用カバーの表面をバフ研磨すると、装飾用カバーの
鋳造時に急冷したチル層が除去されチル層近傍の鋳巣が
露出する場合がある。また、バフ研磨の際に鋳巣が露出
しなくても、バフ研磨後に行なうアルカリエッチングや
混酸エッチングで鋳巣が露出する場合がある。このよう
に、鋳巣が装飾用カバーの表面に露出すると、後工程で
ＮｉメッキやＣｒメッキを施しても、鋳巣を十分に埋め
ることができない。
【０００５】図７（ａ），（ｂ）は従来のアルミニウム
合金製装飾用カバーの鋳巣分布を示すグラフであり、縦
軸が鋳巣等価円直径である。ここで、縦軸の鋳巣等価円
直径は、アルミニウム合金製装飾用カバーの表面をバフ
研磨後、浸透探傷試験で発見した鋳巣について画像解析
して鋳巣形状を等価円として求めた直径寸法である。ま
た、破線は鋳巣を目で確認できる限度を示す目視境界線
であり、鋳巣等価円直径が目視境界線を越える鋳巣は不
良とし、目視境界線以下の鋳巣は良とする。この目視境
界線は鋳巣等価円直径１００μｍより僅かに下方に位置
する。また、///を付した領域Ｚは鋳巣を目視できる部
分である。尚、装飾用カバーは、Ｓｉの含有量が１１％
のアルミニウム合金鋳物で成形したものである。
合金製装飾用カバーの鋳巣分布を示すグラフであり、縦
軸が鋳巣等価円直径である。ここで、縦軸の鋳巣等価円
直径は、アルミニウム合金製装飾用カバーの表面をバフ
研磨後、浸透探傷試験で発見した鋳巣について画像解析
して鋳巣形状を等価円として求めた直径寸法である。ま
た、破線は鋳巣を目で確認できる限度を示す目視境界線
であり、鋳巣等価円直径が目視境界線を越える鋳巣は不
良とし、目視境界線以下の鋳巣は良とする。この目視境
界線は鋳巣等価円直径１００μｍより僅かに下方に位置
する。また、///を付した領域Ｚは鋳巣を目視できる部
分である。尚、装飾用カバーは、Ｓｉの含有量が１１％
のアルミニウム合金鋳物で成形したものである。
【０００６】（ａ）はバフ研磨後の鋳巣分布を示し、横
軸が装飾用カバー表面のバフ研磨後の鋳巣数である。グ
ラフから明らかなようにバフ研磨後の装飾用カバー表面
の鋳巣分布は、目視境界線１００μｍ近傍でピークにな
り、不良の状態の鋳巣の数は過半数を占める。
軸が装飾用カバー表面のバフ研磨後の鋳巣数である。グ
ラフから明らかなようにバフ研磨後の装飾用カバー表面
の鋳巣分布は、目視境界線１００μｍ近傍でピークにな
り、不良の状態の鋳巣の数は過半数を占める。
【０００７】（ｂ）はＣｒメッキ処理後の鋳巣分布を示
し、横軸が装飾用カバー表面のＣｒメッキ処理後の鋳巣
数である。グラフから明らかなようにＣｒメッキ処理後
の装飾用カバー表面の鋳巣分布は４０μｍ近傍でピーク
になり、良の状態の鋳巣が多くなるが、不良の状態の鋳
巣も存在する。このように、従来の処理方法では、上述
したように鋳巣を十分に埋めることができない。
し、横軸が装飾用カバー表面のＣｒメッキ処理後の鋳巣
数である。グラフから明らかなようにＣｒメッキ処理後
の装飾用カバー表面の鋳巣分布は４０μｍ近傍でピーク
になり、良の状態の鋳巣が多くなるが、不良の状態の鋳
巣も存在する。このように、従来の処理方法では、上述
したように鋳巣を十分に埋めることができない。
【０００８】そこで、本発明の目的は、装飾用カバーの
表面に露出した鋳巣を十分に穴埋めすることができるア
ルミニウム合金製装飾用カバーの技術を提供することに
ある。
表面に露出した鋳巣を十分に穴埋めすることができるア
ルミニウム合金製装飾用カバーの技術を提供することに
ある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明の請求項１は、自動二輪車用の装飾用カバーを
Ｓｉを含むアルミニウム材で形成し、このアルミニウム
材の表面をバフ研磨し、このバフ研磨した面に、 錯化性を有する陰イオンを含む化合物、 酸素酸アニオンを含む有機酸、 ハロゲン化物 からなる電解液で陽極酸化膜を生成し、この陽極酸化膜
にＮｉメッキを施し、Ｎｉメッキ膜の表面にＣｒメッキ
を施したことを特徴とする。なお、「錯化能」とは金属
イオンに配位子として配位して錯体をつくる能力のこと
をいう。「錯体」とは金属又は金属類似元素の原子を中
心原子として、それに他の原子又は原子団すなわち配位
子が結合して１つの原子団をつくるとき、その原子団を
錯体という。「アニオン」は陰イオンを意味する。
に本発明の請求項１は、自動二輪車用の装飾用カバーを
Ｓｉを含むアルミニウム材で形成し、このアルミニウム
材の表面をバフ研磨し、このバフ研磨した面に、 錯化性を有する陰イオンを含む化合物、 酸素酸アニオンを含む有機酸、 ハロゲン化物 からなる電解液で陽極酸化膜を生成し、この陽極酸化膜
にＮｉメッキを施し、Ｎｉメッキ膜の表面にＣｒメッキ
を施したことを特徴とする。なお、「錯化能」とは金属
イオンに配位子として配位して錯体をつくる能力のこと
をいう。「錯体」とは金属又は金属類似元素の原子を中
心原子として、それに他の原子又は原子団すなわち配位
子が結合して１つの原子団をつくるとき、その原子団を
錯体という。「アニオン」は陰イオンを意味する。
【００１０】また、前記錯化性を有する陰イオンを含む
化合物は、リン酸水素ナトリウム、リン酸３ナトリウム
から選ばれた少なくとも１つであり、前記酸素酸アニオ
ンを含む有機酸は、クエン酸ナトリウム、酒石酸ナトリ
ウム、ソルビトールから選ばれた少なくとも１つであ
り、前記ハロゲン化物は、フッ化カリウム、フッ化ナト
リウムから選ばれた少なくとも１つである。
化合物は、リン酸水素ナトリウム、リン酸３ナトリウム
から選ばれた少なくとも１つであり、前記酸素酸アニオ
ンを含む有機酸は、クエン酸ナトリウム、酒石酸ナトリ
ウム、ソルビトールから選ばれた少なくとも１つであ
り、前記ハロゲン化物は、フッ化カリウム、フッ化ナト
リウムから選ばれた少なくとも１つである。
【００１１】このように、上記〜からなる電解液を
用いて陽極酸化すると、以下に示す作用で、Ｓｉを含む
アルミニウム合金製装飾用カバーの表面に所望の陽極酸
化膜を形成することができる。すなわち、電解液中の
〜は各々次の作用をなす。 酸素酸アニオンは、ＯＨ-イオンを陽極に供給し、皮
膜の生成効率を向上させる。 ハロゲン化物は、酸素酸アニオンとともに、Ｓｉなど
の介在物、その他添加金属、金属間化合物を選択的に溶
解し、陽極酸化膜から除去する。 錯化性を有する陰イオンを含む化合物は、陽極酸化膜
を平坦にする作用をなす。即ち、生成途中に陽極酸化膜
の外表面に凹凸があるとすると、前記陰イオンを含む化
合物は、凹部に厚く、凸部に薄く付着する。見掛け上、
Ａｌイオンの溶出速度は凹部で遅く、凸部で早くなるこ
とから、結果的に陽極酸化膜の外表面は平坦になる。従
って、
用いて陽極酸化すると、以下に示す作用で、Ｓｉを含む
アルミニウム合金製装飾用カバーの表面に所望の陽極酸
化膜を形成することができる。すなわち、電解液中の
〜は各々次の作用をなす。 酸素酸アニオンは、ＯＨ-イオンを陽極に供給し、皮
膜の生成効率を向上させる。 ハロゲン化物は、酸素酸アニオンとともに、Ｓｉなど
の介在物、その他添加金属、金属間化合物を選択的に溶
解し、陽極酸化膜から除去する。 錯化性を有する陰イオンを含む化合物は、陽極酸化膜
を平坦にする作用をなす。即ち、生成途中に陽極酸化膜
の外表面に凹凸があるとすると、前記陰イオンを含む化
合物は、凹部に厚く、凸部に薄く付着する。見掛け上、
Ａｌイオンの溶出速度は凹部で遅く、凸部で早くなるこ
とから、結果的に陽極酸化膜の外表面は平坦になる。従
って、
【００１２】なお、上記〜の具体的化合物及びその
好適濃度範囲は次の通りである。 錯化性を有する陰イオンを含む化合物； 好適化合物；リン酸水素ナトリウム、リン酸３ナトリウ
ム 好適濃度；リン酸水素ナトリウムは、０．２〜０．５モ
ル リン酸３ナトリウムは、０．２〜０．４モル 下限値より少ないと陽極酸化膜の生成速度が例えば０．
０１μｍ／分の如く遅くなり、生産性が悪化する。ま
た、上限値を越えると過飽和となり浴中に沈殿してしま
い意味が無くなる。
好適濃度範囲は次の通りである。 錯化性を有する陰イオンを含む化合物； 好適化合物；リン酸水素ナトリウム、リン酸３ナトリウ
ム 好適濃度；リン酸水素ナトリウムは、０．２〜０．５モ
ル リン酸３ナトリウムは、０．２〜０．４モル 下限値より少ないと陽極酸化膜の生成速度が例えば０．
０１μｍ／分の如く遅くなり、生産性が悪化する。ま
た、上限値を越えると過飽和となり浴中に沈殿してしま
い意味が無くなる。
【００１３】酸素酸アニオンを含む有機酸； 好適化合物；クエン酸ナトリウム、酒石酸ナトリウム、
ソルビトール 好適濃度；クエン酸ナトリウムは、０．１〜０．７５モ
ル 酒石酸ナトリウムは、０．１〜０．５５モル ソルビトールは、０．２５〜０．７５モル 下限値より少ないと増膜効果がなく、また、上限値を越
えるとバーニング（焼け）が発生して膜の成長が止ま
る。
ソルビトール 好適濃度；クエン酸ナトリウムは、０．１〜０．７５モ
ル 酒石酸ナトリウムは、０．１〜０．５５モル ソルビトールは、０．２５〜０．７５モル 下限値より少ないと増膜効果がなく、また、上限値を越
えるとバーニング（焼け）が発生して膜の成長が止ま
る。
【００１４】ハロゲン化物； 好適化合物；フッ化カリウム、フッ化ナトリウム 好適濃度；フッ化カリウムは、０．１〜０．７５モル フッ化ナトリウムは、０．１〜０．７５モル 下限値より少ないと合金成分の残存量が過多となり、ま
た、上限値を越えると膜の成長が止まる。
た、上限値を越えると膜の成長が止まる。
【００１５】続いて、前工程で生成した陽極酸化膜にＮ
ｉメッキを施し、Ｎｉメッキ膜の表面にＣｒメッキを施
す。この処理は封孔処理であるから、前工程の陽極酸化
膜に残存した微細孔を塞ぐものである。この場合、陽極
酸化膜は、Ｓｉ等が少ないので、Ｓｉを電極とする水の
電気分解が無視できる程度の微量となり、電気メッキ等
における電流の無駄な消費を抑えることができ、処理能
率が高くなる。
ｉメッキを施し、Ｎｉメッキ膜の表面にＣｒメッキを施
す。この処理は封孔処理であるから、前工程の陽極酸化
膜に残存した微細孔を塞ぐものである。この場合、陽極
酸化膜は、Ｓｉ等が少ないので、Ｓｉを電極とする水の
電気分解が無視できる程度の微量となり、電気メッキ等
における電流の無駄な消費を抑えることができ、処理能
率が高くなる。
【００１６】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を添付図に基
づいて以下に説明する。なお、図面は符号の向きに見る
ものとする。図１は本発明に係るアルミニウム合金製装
飾用カバーを使用した自動二輪車の側面図であり、自動
二輪車１は、車体フレーム２と、車体フレーム２の前端
に配置したフロントフォーク３と、フロントフォーク３
に取り付けた前輪４と、車体フレーム２の後端に配置し
たスイングアーム５と、スイングアーム５に取り付けた
後輪６と、フレームボディ２の上端部に設けたフューエ
ルタンク７と、フレームボディ２の中央に設けたエンジ
ン８とからなる。このエンジン８のクランクケース８ａ
の両側部に、本発明に係るアルミニウム合金製装飾用カ
バーであるクランクケースカバー１０（片側のみ図示）
を取り付けた。
づいて以下に説明する。なお、図面は符号の向きに見る
ものとする。図１は本発明に係るアルミニウム合金製装
飾用カバーを使用した自動二輪車の側面図であり、自動
二輪車１は、車体フレーム２と、車体フレーム２の前端
に配置したフロントフォーク３と、フロントフォーク３
に取り付けた前輪４と、車体フレーム２の後端に配置し
たスイングアーム５と、スイングアーム５に取り付けた
後輪６と、フレームボディ２の上端部に設けたフューエ
ルタンク７と、フレームボディ２の中央に設けたエンジ
ン８とからなる。このエンジン８のクランクケース８ａ
の両側部に、本発明に係るアルミニウム合金製装飾用カ
バーであるクランクケースカバー１０（片側のみ図示）
を取り付けた。
【００１７】図２は本発明に係るアルミニウム合金製装
飾用カバー（クランクケースカバー）の斜視図であり、
クランクケースカバー１０に、バフ研磨したダイカスト
表面１０ａに陽極酸化膜１１と、Ｎｉメッキ膜１２と、
Ｃｒメッキ膜１３とをこの順に積層した状態を示す。
飾用カバー（クランクケースカバー）の斜視図であり、
クランクケースカバー１０に、バフ研磨したダイカスト
表面１０ａに陽極酸化膜１１と、Ｎｉメッキ膜１２と、
Ｃｒメッキ膜１３とをこの順に積層した状態を示す。
【００１８】このクランクケースカバー１０の表面に、
上述した陽極酸化膜１１、Ｎｉメッキ膜１２、Ｃｒメッ
キ膜１３を施す方法を次に説明する。図３は本発明に係
るクランクケースカバーの表面処理工程を示すフローチ
ャートであり、図中ＳＴ××はステップ番号を示す。ア
ルミニウム合金製装飾用カバーをダイカスト成形した
後、ＳＴ０１で装飾用カバーの表面をバフ研磨する。次
に、ＳＴ０２で装飾用カバーの表面から油脂などを除去
した後、ＳＴ０３でバフ研磨したダイカスト表面１０ａ
に陽極酸化処理をする。次いで、ＳＴ０４で陽極酸化膜
の表面にＮｉメッキを施し、ＳＴ０５でＮｉメッキ膜の
表面にＣｒメッキを施す。
上述した陽極酸化膜１１、Ｎｉメッキ膜１２、Ｃｒメッ
キ膜１３を施す方法を次に説明する。図３は本発明に係
るクランクケースカバーの表面処理工程を示すフローチ
ャートであり、図中ＳＴ××はステップ番号を示す。ア
ルミニウム合金製装飾用カバーをダイカスト成形した
後、ＳＴ０１で装飾用カバーの表面をバフ研磨する。次
に、ＳＴ０２で装飾用カバーの表面から油脂などを除去
した後、ＳＴ０３でバフ研磨したダイカスト表面１０ａ
に陽極酸化処理をする。次いで、ＳＴ０４で陽極酸化膜
の表面にＮｉメッキを施し、ＳＴ０５でＮｉメッキ膜の
表面にＣｒメッキを施す。
【００１９】表１は次に述べる第１実施例及び第１比較
例を対象とした前処理の条件を示す。この前処理は、図
３のＳＴ０２に相当し、母材（アルミニウム材）の表面
から油脂などを除去する処置である。
例を対象とした前処理の条件を示す。この前処理は、図
３のＳＴ０２に相当し、母材（アルミニウム材）の表面
から油脂などを除去する処置である。
【００２０】
【表１】
【００２１】第１実施例及び第１比較例；第１実施例及
び第１比較例での母材は、アルミニウム合金ダイカスト
材のＡＤＣ１２−ＪＩＳＨ５３０２であり、その主成分
は表２に示す通り、１．５〜３．５ｗｔ％のＣｕ、９．
６〜１２．０ｗｔ％のＳｉ、０．３〜０．６ｗｔ％のＦ
ｅを含むアルミニウム合金である。
び第１比較例での母材は、アルミニウム合金ダイカスト
材のＡＤＣ１２−ＪＩＳＨ５３０２であり、その主成分
は表２に示す通り、１．５〜３．５ｗｔ％のＣｕ、９．
６〜１２．０ｗｔ％のＳｉ、０．３〜０．６ｗｔ％のＦ
ｅを含むアルミニウム合金である。
【００２２】
【表２】
【００２３】第１実施例は前記前処理を施したＡＤＣ１
２−ＪＩＳＨ５３０２に、表３に示す通りのリン酸３ナ
トリウム９ｗｔ％、ソルビトール５ｗｔ％及びフッ化カ
リウム３ｗｔ％からなる電解液を用いて、図３のＳＴ２
２のように陽極酸化膜を施した。液温は２０℃、電圧は
５０Ｖ（直流）とし、通電時間を３０minとした。
２−ＪＩＳＨ５３０２に、表３に示す通りのリン酸３ナ
トリウム９ｗｔ％、ソルビトール５ｗｔ％及びフッ化カ
リウム３ｗｔ％からなる電解液を用いて、図３のＳＴ２
２のように陽極酸化膜を施した。液温は２０℃、電圧は
５０Ｖ（直流）とし、通電時間を３０minとした。
【００２４】
【表３】
【００２５】そして、陽極酸化膜処理完了後、メッキの
前処理として塩化第１スズ４％の水溶液及び塩化パラジ
ウム０．０３％の水溶液に、各々３０秒間浸漬した。次
に、図３のＳＴ０４のように、ワット浴で１．８Ａ／ｄ
ｍ2の電流密度で１時間Ｎｉメッキを施した。次いで、
図３のＳＴ０５のように、Ｎｉメッキ膜の表面にＣｒメ
ッキを施した。
前処理として塩化第１スズ４％の水溶液及び塩化パラジ
ウム０．０３％の水溶液に、各々３０秒間浸漬した。次
に、図３のＳＴ０４のように、ワット浴で１．８Ａ／ｄ
ｍ2の電流密度で１時間Ｎｉメッキを施した。次いで、
図３のＳＴ０５のように、Ｎｉメッキ膜の表面にＣｒメ
ッキを施した。
【００２６】第１比較例はＡＤＣ１２−ＪＩＳ材に、従
来技術と同様に、装飾用カバーの表面にアルカリエッチ
ング及び混酸エッチングを施して装飾用カバーの表面か
らＳｉを除去し、次に、第１亜鉛置換処理をおこなっ
た。その後、硝酸浸漬処理で有害なＳｉを除去し、第２
亜鉛置換処理でＺｎ下地を生成した。続いて、第１実施
例と同様に、ワット浴で１．８Ａ／ｄｍ2の電流密度で
１時間Ｎｉメッキを施し、Ｎｉメッキ膜の表面にＣｒメ
ッキを施した。
来技術と同様に、装飾用カバーの表面にアルカリエッチ
ング及び混酸エッチングを施して装飾用カバーの表面か
らＳｉを除去し、次に、第１亜鉛置換処理をおこなっ
た。その後、硝酸浸漬処理で有害なＳｉを除去し、第２
亜鉛置換処理でＺｎ下地を生成した。続いて、第１実施
例と同様に、ワット浴で１．８Ａ／ｄｍ2の電流密度で
１時間Ｎｉメッキを施し、Ｎｉメッキ膜の表面にＣｒメ
ッキを施した。
【００２７】図４は陽極酸化膜処理時間と装飾用カバー
のＳｉ含有量との関係を示すグラフであり、縦軸がＳｉ
含有量、横軸が陽極酸化膜処理時間である。また、●は
ＡＤＣ１２−ＪＩＳ材、△はＡＣ８Ｃ−ＪＩＳ材、○は
ＡＣ４Ｃ−ＪＩＳ材を示す。図４から明らかなように陽
極酸化膜処理時間が増えるとＳｉ含有量が減少する。例
えば、表３と同様にＡＤＣ１２−ＪＩＳ材の陽極酸化膜
処理を３０分間行なうと、ＡＤＣ１２−ＪＩＳ材のＳｉ
含有量は約６％に減少する。また、ＡＣ８Ｃ−ＪＩＳ材
やＡＣ４Ｃ−ＪＩＳ材の場合はＳｉ含有量が６％以下ま
で減少する。
のＳｉ含有量との関係を示すグラフであり、縦軸がＳｉ
含有量、横軸が陽極酸化膜処理時間である。また、●は
ＡＤＣ１２−ＪＩＳ材、△はＡＣ８Ｃ−ＪＩＳ材、○は
ＡＣ４Ｃ−ＪＩＳ材を示す。図４から明らかなように陽
極酸化膜処理時間が増えるとＳｉ含有量が減少する。例
えば、表３と同様にＡＤＣ１２−ＪＩＳ材の陽極酸化膜
処理を３０分間行なうと、ＡＤＣ１２−ＪＩＳ材のＳｉ
含有量は約６％に減少する。また、ＡＣ８Ｃ−ＪＩＳ材
やＡＣ４Ｃ−ＪＩＳ材の場合はＳｉ含有量が６％以下ま
で減少する。
【００２８】図５（ａ）〜（ｃ）は本発明のアルミニウ
ム合金製装飾用カバーの鋳巣分布を示すグラフであり、
縦軸が鋳巣等価円直径である。ここで、縦軸の鋳巣等価
円直径は、従来技術で説明したように、アルミニウム合
金製装飾用カバーの表面をバフ研磨後、浸透探傷試験で
発見した鋳巣について画像解析して鋳巣形状を等価円と
して求めた直径寸法である。また、破線は鋳巣を目で確
認できる限度を示す目視境界線であり、鋳巣等価円直径
が目視境界線を越える鋳巣は不良とし、目視境界線以下
の鋳巣は良とする。この目視境界線は鋳巣等価円直径１
００μｍより僅かに下方に位置する。また、///を付し
た領域Ｚは鋳巣を目視できる部分である。
ム合金製装飾用カバーの鋳巣分布を示すグラフであり、
縦軸が鋳巣等価円直径である。ここで、縦軸の鋳巣等価
円直径は、従来技術で説明したように、アルミニウム合
金製装飾用カバーの表面をバフ研磨後、浸透探傷試験で
発見した鋳巣について画像解析して鋳巣形状を等価円と
して求めた直径寸法である。また、破線は鋳巣を目で確
認できる限度を示す目視境界線であり、鋳巣等価円直径
が目視境界線を越える鋳巣は不良とし、目視境界線以下
の鋳巣は良とする。この目視境界線は鋳巣等価円直径１
００μｍより僅かに下方に位置する。また、///を付し
た領域Ｚは鋳巣を目視できる部分である。
【００２９】（ａ）は、従来技術の図７（ａ）と同一条
件で、Ｓｉの含有量が１１％のアルミニウム合金鋳物で
成形したクランクケースカバー１０のバフ研磨後の鋳巣
分布を示し、横軸がバフ研磨後の鋳巣数である。（ａ）
のグラフから明らかなようにバフ研磨後の装飾用カバー
表面の鋳巣分布は１００μｍ近傍でピークになり、不良
状態の鋳巣の数が過半数を占める。
件で、Ｓｉの含有量が１１％のアルミニウム合金鋳物で
成形したクランクケースカバー１０のバフ研磨後の鋳巣
分布を示し、横軸がバフ研磨後の鋳巣数である。（ａ）
のグラフから明らかなようにバフ研磨後の装飾用カバー
表面の鋳巣分布は１００μｍ近傍でピークになり、不良
状態の鋳巣の数が過半数を占める。
【００３０】（ｂ）はＳｉ含有量８％のクランクケース
カバー１０にＣｒメッキを施した後の鋳巣分布を示し、
横軸が装飾用カバー表面のＣｒメッキ処理後の鋳巣数で
ある。すなわち、ＡＤＣ１２−ＪＩＳ材で成形したクラ
ンクケースカバーの陽極酸化膜処理を３０分より短時間
行ないＳｉ含有量を８％とした。（ｂ）のグラフから明
らかなようにＳｉ含有量が８％の場合、Ｃｒメッキ処理
後の装飾用カバー表面の鋳巣分布は３０μｍ近傍でピー
クになり、良の状態の鋳巣が多くなるが、不良の状態の
鋳巣も存在する。
カバー１０にＣｒメッキを施した後の鋳巣分布を示し、
横軸が装飾用カバー表面のＣｒメッキ処理後の鋳巣数で
ある。すなわち、ＡＤＣ１２−ＪＩＳ材で成形したクラ
ンクケースカバーの陽極酸化膜処理を３０分より短時間
行ないＳｉ含有量を８％とした。（ｂ）のグラフから明
らかなようにＳｉ含有量が８％の場合、Ｃｒメッキ処理
後の装飾用カバー表面の鋳巣分布は３０μｍ近傍でピー
クになり、良の状態の鋳巣が多くなるが、不良の状態の
鋳巣も存在する。
【００３１】（ｃ）はＳｉ含有量６％のクランクケース
カバー１０にＣｒメッキを施した後の鋳巣分布を示し、
横軸が装飾用カバー表面のＣｒメッキ処理後の鋳巣数で
ある。すなわち、ＡＤＣ１２−ＪＩＳ材で成形したクラ
ンクケースカバーの陽極酸化膜処理を３０分間行ないＳ
ｉ含有量を６％とした。（ｃ）から明らかなようにＣｒ
メッキ処理後の装飾用カバー表面に不良状態の鋳巣が存
在しない。従って、表３に示す第１実施例のように、Ａ
ＤＣ１２−ＪＩＳ材の陽極酸化膜処理を約３０分間行な
いＳｉ含有量を６％まで減少すると、Ｃｒメッキ処理後
の装飾用カバー表面に不良状態の鋳巣が存在しなくな
る。
カバー１０にＣｒメッキを施した後の鋳巣分布を示し、
横軸が装飾用カバー表面のＣｒメッキ処理後の鋳巣数で
ある。すなわち、ＡＤＣ１２−ＪＩＳ材で成形したクラ
ンクケースカバーの陽極酸化膜処理を３０分間行ないＳ
ｉ含有量を６％とした。（ｃ）から明らかなようにＣｒ
メッキ処理後の装飾用カバー表面に不良状態の鋳巣が存
在しない。従って、表３に示す第１実施例のように、Ａ
ＤＣ１２−ＪＩＳ材の陽極酸化膜処理を約３０分間行な
いＳｉ含有量を６％まで減少すると、Ｃｒメッキ処理後
の装飾用カバー表面に不良状態の鋳巣が存在しなくな
る。
【００３２】表４は第１実施例と第１比較例との穴埋め
効果を比較した結果を示すものである。第１実施例と第
１比較例との品質を比較するために、浸透探傷試験で発
見した鋳巣を画像解析して鋳巣の等価円直径を求めた。
そして、第１実施例及び第１比較例の各々について、装
飾用カバー表面のバフ研磨後の鋳巣の状態と、Ｃｒメッ
キ処理後の鋳巣の状態を比較した。表４に比較結果を示
す。
効果を比較した結果を示すものである。第１実施例と第
１比較例との品質を比較するために、浸透探傷試験で発
見した鋳巣を画像解析して鋳巣の等価円直径を求めた。
そして、第１実施例及び第１比較例の各々について、装
飾用カバー表面のバフ研磨後の鋳巣の状態と、Ｃｒメッ
キ処理後の鋳巣の状態を比較した。表４に比較結果を示
す。
【００３３】
【表４】
【００３４】表４に示すように、第１実施例の場合、装
飾用カバー表面のバフ研磨後の１１４．０μｍの等価円
直径の鋳巣は、Ｃｒメッキ処理後完全に埋められてい
た。同様に、装飾用カバー表面のバフ研磨後の等価円直
径が１１７．４μｍ、１１８．６μｍ、１３２．４μｍ
及び１４９．８μｍの各々の鋳巣は、それぞれＣｒメッ
キ処理後完全に埋められた。すなわち、上記各々の鋳巣
の等価円直径の平均直径１２６．４μｍの鋳巣を完全に
埋めることができる。
飾用カバー表面のバフ研磨後の１１４．０μｍの等価円
直径の鋳巣は、Ｃｒメッキ処理後完全に埋められてい
た。同様に、装飾用カバー表面のバフ研磨後の等価円直
径が１１７．４μｍ、１１８．６μｍ、１３２．４μｍ
及び１４９．８μｍの各々の鋳巣は、それぞれＣｒメッ
キ処理後完全に埋められた。すなわち、上記各々の鋳巣
の等価円直径の平均直径１２６．４μｍの鋳巣を完全に
埋めることができる。
【００３５】一方、第１比較例の場合、バフ研磨後の装
飾用カバー表面に存在した等価円直径１１６．１μｍの
鋳巣は、Ｃｒメッキ処理後１０６．９μｍになり、穴埋
め効果は７．４％であった。また、等価円直径１１９．
７μｍの鋳巣は、Ｃｒメッキ処理後１０８．９μｍにな
り穴埋め効果は９．０％であった。さらに、等価円直径
１２５．３μｍの鋳巣は、Ｃｒメッキ処理後１０８．９
μｍになり穴埋め効果は１３．１％であった。そして、
等価円直径１５３．２μｍの鋳巣は、Ｃｒメッキ処理後
１１４．８μｍになり穴埋め効果は２５．１％であっ
た。また、等価円直径１０１．４μｍの鋳巣は、Ｃｒメ
ッキ処理後１２．６μｍになり穴埋め効果は８７．６％
であった。従って、本発明の処理方法で、陽極酸化膜処
理を約３０分間施してＳｉ含有量が６％まで減少するこ
とにより鋳巣を完全に埋めることができが、従来の処理
方法でメッキを施しても鋳巣を埋められないことが判明
した。
飾用カバー表面に存在した等価円直径１１６．１μｍの
鋳巣は、Ｃｒメッキ処理後１０６．９μｍになり、穴埋
め効果は７．４％であった。また、等価円直径１１９．
７μｍの鋳巣は、Ｃｒメッキ処理後１０８．９μｍにな
り穴埋め効果は９．０％であった。さらに、等価円直径
１２５．３μｍの鋳巣は、Ｃｒメッキ処理後１０８．９
μｍになり穴埋め効果は１３．１％であった。そして、
等価円直径１５３．２μｍの鋳巣は、Ｃｒメッキ処理後
１１４．８μｍになり穴埋め効果は２５．１％であっ
た。また、等価円直径１０１．４μｍの鋳巣は、Ｃｒメ
ッキ処理後１２．６μｍになり穴埋め効果は８７．６％
であった。従って、本発明の処理方法で、陽極酸化膜処
理を約３０分間施してＳｉ含有量が６％まで減少するこ
とにより鋳巣を完全に埋めることができが、従来の処理
方法でメッキを施しても鋳巣を埋められないことが判明
した。
【００３６】
【発明の効果】本発明は上記構成により次の効果を発揮
する。請求項１は、自動二輪車用の装飾用カバーをＳｉ
を含むアルミニウム材で形成し、このアルミニウム材の
表面をバフ研磨し、このバフ研磨した面に、錯化性を
有する陰イオンを含む化合物＋酸素酸アニオンを含む
有機酸＋ハロゲン化物からなる電解液で陽極酸化膜を
生成するようにしたもので、これにより、装飾用カバー
の表面に露出した鋳巣を陽極酸化膜で微細孔にすること
や、穴埋めすることができる。また、この電解液のハ
ロゲン化物は、酸素酸アニオンとともに、Ｓｉなどの
介在物、その他添加金属、金属間化合物を選択的に溶解
し、陽極酸化膜から除去するから、酸化膜の耐食性が大
いに向上する。
する。請求項１は、自動二輪車用の装飾用カバーをＳｉ
を含むアルミニウム材で形成し、このアルミニウム材の
表面をバフ研磨し、このバフ研磨した面に、錯化性を
有する陰イオンを含む化合物＋酸素酸アニオンを含む
有機酸＋ハロゲン化物からなる電解液で陽極酸化膜を
生成するようにしたもので、これにより、装飾用カバー
の表面に露出した鋳巣を陽極酸化膜で微細孔にすること
や、穴埋めすることができる。また、この電解液のハ
ロゲン化物は、酸素酸アニオンとともに、Ｓｉなどの
介在物、その他添加金属、金属間化合物を選択的に溶解
し、陽極酸化膜から除去するから、酸化膜の耐食性が大
いに向上する。
【００３７】さらに、錯化性を有する陰イオンを含む
化合物は、陽極酸化膜を平坦にする作用をなす。即ち、
生成途中に陽極酸化膜の外表面に凹凸があるとすると、
前記陰イオンを含む化合物は、凹部に厚く、凸部に薄く
付着する。見掛け上、Ａｌイオンの溶出速度は凹部で遅
く、凸部で早くなることから、装飾用カバーの表面に存
在がする鋳巣を埋めることになるので、装飾用カバーの
表面が平坦になる。また、陽極酸化膜にＮｉメッキを施
し、Ｎｉメッキ膜の表面にＣｒメッキを施すことによ
り、陽極酸化膜に残存した微細孔を塞ぐので、装飾用カ
バーの表面に露出した鋳巣を十分に穴埋めすることがで
きる。
化合物は、陽極酸化膜を平坦にする作用をなす。即ち、
生成途中に陽極酸化膜の外表面に凹凸があるとすると、
前記陰イオンを含む化合物は、凹部に厚く、凸部に薄く
付着する。見掛け上、Ａｌイオンの溶出速度は凹部で遅
く、凸部で早くなることから、装飾用カバーの表面に存
在がする鋳巣を埋めることになるので、装飾用カバーの
表面が平坦になる。また、陽極酸化膜にＮｉメッキを施
し、Ｎｉメッキ膜の表面にＣｒメッキを施すことによ
り、陽極酸化膜に残存した微細孔を塞ぐので、装飾用カ
バーの表面に露出した鋳巣を十分に穴埋めすることがで
きる。
【図１】本発明に係るアルミニウム合金製装飾用カバー
を使用した自動二輪車の側面図
を使用した自動二輪車の側面図
【図２】本発明に係るアルミニウム合金製装飾用カバー
の斜視図
の斜視図
【図３】本発明に係るクランクケースカバーの表面処理
工程を示すフローチャート
工程を示すフローチャート
【図４】陽極酸化膜処理時間と装飾用カバーのＳｉ含有
量との関係を示すグラフ
量との関係を示すグラフ
【図５】本発明のアルミニウム合金製装飾用カバーの鋳
巣分布を示すグラフ
巣分布を示すグラフ
【図６】従来例のアルミニウム合金製装飾用カバーの表
面処理工程を示すフローチャート
面処理工程を示すフローチャート
【図７】従来のアルミニウム合金製装飾用カバーの鋳巣
分布を示すグラフ
分布を示すグラフ
１…自動二輪車、１０…クランクケースカバー（アルミ
ニウム合金製装飾用カバー）、１０ａ…ダイカスト表
面、１１…陽極酸化膜、１２…Ｎｉメッキ膜、１３…Ｃ
ｒメッキ膜。
ニウム合金製装飾用カバー）、１０ａ…ダイカスト表
面、１１…陽極酸化膜、１２…Ｎｉメッキ膜、１３…Ｃ
ｒメッキ膜。
Claims (2)
- 【請求項１】 自動二輪車用の装飾用カバーをＳｉを含
むアルミニウム材で形成し、このアルミニウム材の表面
をバフ研磨し、このバフ研磨した面に、錯化性を有する
陰イオンを含む化合物、酸素酸アニオンを含む有機酸及
びハロゲン化物からなる電解液で陽極酸化膜を生成し、
この陽極酸化膜にＮｉメッキを施し、Ｎｉメッキ膜の表
面にＣｒメッキを施したことを特徴とするアルミニウム
合金製装飾用カバー。 - 【請求項２】 前記装飾用カバーは、自動二輪車用のク
ランクケースカバーであることを特徴とする請求項１記
載のアルミニウム合金製装飾用カバー。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7267445A JPH09111495A (ja) | 1995-10-16 | 1995-10-16 | アルミニウム合金製装飾用カバー |
| US08/621,294 US5775892A (en) | 1995-03-24 | 1996-03-22 | Process for anodizing aluminum materials and application members thereof |
| CN96107241.5A CN1213174C (zh) | 1995-03-24 | 1996-03-24 | 铝材的阳极化方法和由此法制得的应用部件 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7267445A JPH09111495A (ja) | 1995-10-16 | 1995-10-16 | アルミニウム合金製装飾用カバー |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09111495A true JPH09111495A (ja) | 1997-04-28 |
Family
ID=17444950
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7267445A Pending JPH09111495A (ja) | 1995-03-24 | 1995-10-16 | アルミニウム合金製装飾用カバー |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09111495A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009249687A (ja) * | 2008-04-07 | 2009-10-29 | Honda Motor Co Ltd | アルミニウム合金製部材及びその製造方法 |
| JP2012143798A (ja) * | 2011-01-13 | 2012-08-02 | Hikari Keikinzoku Kogyo Kk | めっきが施されたアルミニウム合金鋳物及びその製造方法 |
| EP3421646A1 (en) * | 2017-06-29 | 2019-01-02 | EMPA Eidgenössische Materialprüfungs- und Forschungsanstalt | Colouring method of aluminium alloy member |
-
1995
- 1995-10-16 JP JP7267445A patent/JPH09111495A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009249687A (ja) * | 2008-04-07 | 2009-10-29 | Honda Motor Co Ltd | アルミニウム合金製部材及びその製造方法 |
| JP2012143798A (ja) * | 2011-01-13 | 2012-08-02 | Hikari Keikinzoku Kogyo Kk | めっきが施されたアルミニウム合金鋳物及びその製造方法 |
| EP3421646A1 (en) * | 2017-06-29 | 2019-01-02 | EMPA Eidgenössische Materialprüfungs- und Forschungsanstalt | Colouring method of aluminium alloy member |
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