JPH09110783A - ４−アルコキシサリチル酸類の製造方法 - Google Patents
４−アルコキシサリチル酸類の製造方法Info
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- JPH09110783A JPH09110783A JP29177795A JP29177795A JPH09110783A JP H09110783 A JPH09110783 A JP H09110783A JP 29177795 A JP29177795 A JP 29177795A JP 29177795 A JP29177795 A JP 29177795A JP H09110783 A JPH09110783 A JP H09110783A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は４−アルコキシサリチル酸類の改良
された製法に関する。 【構成】 β−レゾルシン酸と芳香族スルホン酸アルキ
ルエステル類とを反応させることを特徴とする一般式
（３） （式中、Ｒ1 は１〜４個の炭素原子を含有するアルキル
基を表わす。）で表される４−アルコキシサリチル酸類
の製造方法。 【効果】 本発明によれば、工業的に有利に、高選択的
かつ高収率に４−アルコキシサリチル酸を製造すること
ができる。
された製法に関する。 【構成】 β−レゾルシン酸と芳香族スルホン酸アルキ
ルエステル類とを反応させることを特徴とする一般式
（３） （式中、Ｒ1 は１〜４個の炭素原子を含有するアルキル
基を表わす。）で表される４−アルコキシサリチル酸類
の製造方法。 【効果】 本発明によれば、工業的に有利に、高選択的
かつ高収率に４−アルコキシサリチル酸を製造すること
ができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は４−アルコキシサリチル
酸類の改良された製造方法に関する。
酸類の改良された製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】４−アルコキシサリチル酸類の製造方法
としては、β−レゾルシン酸をアルカリ水溶液中、ジ
メチル硫酸を用いてアルキル化する方法（J.Am.Chem.So
c.,39,1687(1917)及び(J.Org.Chem.,Vol 53 No.23 55
22(1988)) 、或いはハロゲン化アルキルを用いてアル
キル化する方法(J.Am.Chem.Soc.,107,256(1985))等が知
られている。
としては、β−レゾルシン酸をアルカリ水溶液中、ジ
メチル硫酸を用いてアルキル化する方法（J.Am.Chem.So
c.,39,1687(1917)及び(J.Org.Chem.,Vol 53 No.23 55
22(1988)) 、或いはハロゲン化アルキルを用いてアル
キル化する方法(J.Am.Chem.Soc.,107,256(1985))等が知
られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
公知の方法ではいずれも工業的実施を困難にする幾つか
の問題点を有している。例えば、の方法ではβ−レゾ
ルシン酸の４位のヒドロキシル基を選択的にアルコキシ
ル化するには充分な選択性を持たないので収率の低下が
避けられず、また、の方法では、４位の水酸基以外
に、１位のカルボキシル基もアルキル化され、このため
加水分解が必要である等である。本発明の目的は、工業
的に有利に、高選択的かつ高収率に４−アルコキシサリ
チル酸を製造する方法を提供することである。
公知の方法ではいずれも工業的実施を困難にする幾つか
の問題点を有している。例えば、の方法ではβ−レゾ
ルシン酸の４位のヒドロキシル基を選択的にアルコキシ
ル化するには充分な選択性を持たないので収率の低下が
避けられず、また、の方法では、４位の水酸基以外
に、１位のカルボキシル基もアルキル化され、このため
加水分解が必要である等である。本発明の目的は、工業
的に有利に、高選択的かつ高収率に４−アルコキシサリ
チル酸を製造する方法を提供することである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、下記一般式
（１）
（１）
【０００５】
【化−５】
【０００６】で示されるβ−レゾルシン酸と、一般式
（２）
（２）
【０００７】
【化−６】
【０００８】（式中、Ｒ1 は１〜４個の炭素を含有する
アルキル基、Ｒ2 〜Ｒ6 はそれぞれ独立に水素原子また
は炭素数１〜４のアルキル基を表わす。）で表される芳
香族スルホン酸アルキルエステル類とを反応させること
を特徴とする一般式（３）
アルキル基、Ｒ2 〜Ｒ6 はそれぞれ独立に水素原子また
は炭素数１〜４のアルキル基を表わす。）で表される芳
香族スルホン酸アルキルエステル類とを反応させること
を特徴とする一般式（３）
【０００９】
【化−７】
【００１０】（式中、Ｒ1 は１〜４個の炭素を含有する
アルキル基を表わす。）で表される４−アルコキシサリ
チル酸類の製造方法である。
アルキル基を表わす。）で表される４−アルコキシサリ
チル酸類の製造方法である。
【００１１】本発明の特徴は、β−レゾルシン酸の４位
のヒドロキシル基を、芳香族スルホン酸アルキルエステ
ルをアルキル化剤として使用して反応させることによ
り、選択的にアルキル化し、工業的に有利に、高選択的
かつ高収率で、４−アルコキシサリチル酸類を製造する
ことにある。
のヒドロキシル基を、芳香族スルホン酸アルキルエステ
ルをアルキル化剤として使用して反応させることによ
り、選択的にアルキル化し、工業的に有利に、高選択的
かつ高収率で、４−アルコキシサリチル酸類を製造する
ことにある。
【００１２】以下、本発明の方法を更に詳しく説明す
る。本発明に用いられる一般式（１）で示されるβ−レ
ゾルシン酸は、好ましくはアルカリ金属アルコキシドを
用いてアルカリ金属塩（例えばナトリウム塩、カリウム
塩等）として用いられる。この場合、アルカリ金属アル
コキシドの使用量は、通常、β−レゾルシン酸１モルに
対し、０．５〜５．０モル、好ましくは、１．０〜３．
０モルである。
る。本発明に用いられる一般式（１）で示されるβ−レ
ゾルシン酸は、好ましくはアルカリ金属アルコキシドを
用いてアルカリ金属塩（例えばナトリウム塩、カリウム
塩等）として用いられる。この場合、アルカリ金属アル
コキシドの使用量は、通常、β−レゾルシン酸１モルに
対し、０．５〜５．０モル、好ましくは、１．０〜３．
０モルである。
【００１３】本発明に用いられる一般式（２）で示され
る芳香族スルホン酸アルキルエステル類としては、具体
的にはベンゼンスルホン酸メチル、ベンゼンスルホン酸
エチル、ベンゼンスルホン酸プロピル、ベンゼンスルホ
ン酸イソプロピル、ベンゼンスルホン酸ブチル、ベンゼ
ンスルホン酸イソブチル、ベンゼンスルホン酸−ｓ−ブ
チル、ベンゼンスルホン酸−ｔ−ブチル、ｏ−トルエン
スルホン酸メチル、ｏ−トルエンスルホン酸エチル、ｏ
−トルエンスルホン酸プロピル、ｏ−トルエンスルホン
酸イソプロピル、ｏ−トルエンスルホン酸ブチル、ｏ−
トルエンスルホン酸イソブチル、ｏ−トルエンスルホン
酸−ｓ−ブチル、ｏ−トルエンスルホン酸−ｔ−ブチ
ル、ｍ−トルエンスルホン酸メチル、ｍ−トルエンスル
ホン酸エチル、ｍ−トルエンスルホン酸プロピル、ｍ−
トルエンスルホン酸ブチル、ｍ−トルエンスルホン酸イ
ソブチル、ｍ−トルエンスルホン酸−ｓ−ブチル、ｍ−
トルエンスルホン酸−ｔ−ブチル、ｐ−トルエンスルホ
ン酸メチル、ｐ−トルエンスルホン酸エチル、ｐ−トル
エンスルホン酸プロピル、ｐ−トルエンスルホン酸イソ
プロピル、ｐ−トルエンスルホン酸ブチル、ｐ−トルエ
ンスルホン酸イソブチル、ｐ−トルエンスルホン酸−ｓ
−ブチル、ｐ−トルエンスルホン酸−ｔ−ブチル、2,3-
キシレンスルホン酸メチル、2,3-キシレンスルホン酸エ
チル、2,3-キシレンスルホン酸プロピル、2,3-キシレン
スルホン酸イソプロピル、2,3-キシレンスルホン酸ブチ
ル、2,3-キシレンスルホン酸イソブチル、2,3-キシレン
スルホン酸−ｓ−ブチル、2,3-キシレンスルホン酸−ｔ
−ブチル、2,4-キシレンスルホン酸メチル、2,4-キシレ
ンスルホン酸エチル、2,4-キシレンスルホン酸プロピ
ル、
る芳香族スルホン酸アルキルエステル類としては、具体
的にはベンゼンスルホン酸メチル、ベンゼンスルホン酸
エチル、ベンゼンスルホン酸プロピル、ベンゼンスルホ
ン酸イソプロピル、ベンゼンスルホン酸ブチル、ベンゼ
ンスルホン酸イソブチル、ベンゼンスルホン酸−ｓ−ブ
チル、ベンゼンスルホン酸−ｔ−ブチル、ｏ−トルエン
スルホン酸メチル、ｏ−トルエンスルホン酸エチル、ｏ
−トルエンスルホン酸プロピル、ｏ−トルエンスルホン
酸イソプロピル、ｏ−トルエンスルホン酸ブチル、ｏ−
トルエンスルホン酸イソブチル、ｏ−トルエンスルホン
酸−ｓ−ブチル、ｏ−トルエンスルホン酸−ｔ−ブチ
ル、ｍ−トルエンスルホン酸メチル、ｍ−トルエンスル
ホン酸エチル、ｍ−トルエンスルホン酸プロピル、ｍ−
トルエンスルホン酸ブチル、ｍ−トルエンスルホン酸イ
ソブチル、ｍ−トルエンスルホン酸−ｓ−ブチル、ｍ−
トルエンスルホン酸−ｔ−ブチル、ｐ−トルエンスルホ
ン酸メチル、ｐ−トルエンスルホン酸エチル、ｐ−トル
エンスルホン酸プロピル、ｐ−トルエンスルホン酸イソ
プロピル、ｐ−トルエンスルホン酸ブチル、ｐ−トルエ
ンスルホン酸イソブチル、ｐ−トルエンスルホン酸−ｓ
−ブチル、ｐ−トルエンスルホン酸−ｔ−ブチル、2,3-
キシレンスルホン酸メチル、2,3-キシレンスルホン酸エ
チル、2,3-キシレンスルホン酸プロピル、2,3-キシレン
スルホン酸イソプロピル、2,3-キシレンスルホン酸ブチ
ル、2,3-キシレンスルホン酸イソブチル、2,3-キシレン
スルホン酸−ｓ−ブチル、2,3-キシレンスルホン酸−ｔ
−ブチル、2,4-キシレンスルホン酸メチル、2,4-キシレ
ンスルホン酸エチル、2,4-キシレンスルホン酸プロピ
ル、
【００１４】2,4-キシレンスルホン酸イソプロピル、2,
4-キシレンスルホン酸ブチル、2,4-キシレンスルホン酸
イソブチル、2,4-キシレンスルホン酸−ｓ−ブチル、2,
4-キシレンスルホン酸−ｔ−ブチル、2,5-キシレンスル
ホン酸メチル、2,5-キシレンスルホン酸エチル、2,5-キ
シレンスルホン酸プロピル、2,5-キシレンスルホン酸イ
ソプロピル、2,5-キシレンスルホン酸ブチル、2,5-キシ
レンスルホン酸イソブチル、2,5-キシレンスルホン酸−
ｓ−ブチル、2,5-キシレンスルホン酸−ｔ−ブチル、2,
6-キシレンスルホン酸メチル、2,6-キシレンスルホン酸
エチル、2,6-キシレンスルホン酸プロピル、2,6-キシレ
ンスルホン酸イソプロピル、2,6-キシレンスルホン酸ブ
チル、2,6-キシレンスルホン酸イソブチル、2,6-キシレ
ンスルホン酸−ｓ−ブチル、2,6-キシレンスルホン酸−
ｔ−ブチル、3,4-キシレンスルホン酸メチル、3,4-キシ
レンスルホン酸エチル、3,4-キシレンスルホン酸プロピ
ル、3,4-キシレンスルホン酸イソプロピル、3,4-キシレ
ンスルホン酸ブチル、3,4-キシレンスルホン酸イソブチ
ル、3,4-キシレンスルホン酸−ｓ−ブチル、3,4-キシレ
ンスルホン酸−ｔ−ブチル、3,5-キシレンスルホン酸メ
チル、3,5-キシレンスルホン酸エチル、3,5-キシレンス
ルホン酸プロピル、3,5-キシレンスルホン酸イソプロピ
ル、3,5-キシレンスルホン酸ブチル、3,5-キシレンスル
ホン酸イソブチル、3,5-キシレンスルホン酸−ｓ−ブチ
ル、3,5-キシレンスルホン酸−ｔ−ブチル、ｏ−エチル
ベンゼンスルホン酸メチル、ｏ−エチルベンゼンスルホ
ン酸エチル、ｏ−エチルベンゼンスルホン酸プロピル、
ｏ−エチルベンゼンスルホン酸イソプロピル、ｏ−エチ
ルベンゼンスルホン酸ブチル、ｏ−エチルベンゼンスル
ホン酸イソブチル、ｏ−エチルベンゼンスルホン酸−ｓ
−ブチル、ｏ−エチルベンゼンスルホン酸−ｔ−ブチ
ル、ｍ−エチルベンゼンスルホン酸メチル、ｍ−エチル
ベンゼンスルホン酸エチル、ｍ−エチルベンゼンスルホ
ン酸プロピル、ｍ−エチルベンゼンスルホン酸イソプロ
ピル、ｍ−エチルベンゼンスルホン酸ブチル、
4-キシレンスルホン酸ブチル、2,4-キシレンスルホン酸
イソブチル、2,4-キシレンスルホン酸−ｓ−ブチル、2,
4-キシレンスルホン酸−ｔ−ブチル、2,5-キシレンスル
ホン酸メチル、2,5-キシレンスルホン酸エチル、2,5-キ
シレンスルホン酸プロピル、2,5-キシレンスルホン酸イ
ソプロピル、2,5-キシレンスルホン酸ブチル、2,5-キシ
レンスルホン酸イソブチル、2,5-キシレンスルホン酸−
ｓ−ブチル、2,5-キシレンスルホン酸−ｔ−ブチル、2,
6-キシレンスルホン酸メチル、2,6-キシレンスルホン酸
エチル、2,6-キシレンスルホン酸プロピル、2,6-キシレ
ンスルホン酸イソプロピル、2,6-キシレンスルホン酸ブ
チル、2,6-キシレンスルホン酸イソブチル、2,6-キシレ
ンスルホン酸−ｓ−ブチル、2,6-キシレンスルホン酸−
ｔ−ブチル、3,4-キシレンスルホン酸メチル、3,4-キシ
レンスルホン酸エチル、3,4-キシレンスルホン酸プロピ
ル、3,4-キシレンスルホン酸イソプロピル、3,4-キシレ
ンスルホン酸ブチル、3,4-キシレンスルホン酸イソブチ
ル、3,4-キシレンスルホン酸−ｓ−ブチル、3,4-キシレ
ンスルホン酸−ｔ−ブチル、3,5-キシレンスルホン酸メ
チル、3,5-キシレンスルホン酸エチル、3,5-キシレンス
ルホン酸プロピル、3,5-キシレンスルホン酸イソプロピ
ル、3,5-キシレンスルホン酸ブチル、3,5-キシレンスル
ホン酸イソブチル、3,5-キシレンスルホン酸−ｓ−ブチ
ル、3,5-キシレンスルホン酸−ｔ−ブチル、ｏ−エチル
ベンゼンスルホン酸メチル、ｏ−エチルベンゼンスルホ
ン酸エチル、ｏ−エチルベンゼンスルホン酸プロピル、
ｏ−エチルベンゼンスルホン酸イソプロピル、ｏ−エチ
ルベンゼンスルホン酸ブチル、ｏ−エチルベンゼンスル
ホン酸イソブチル、ｏ−エチルベンゼンスルホン酸−ｓ
−ブチル、ｏ−エチルベンゼンスルホン酸−ｔ−ブチ
ル、ｍ−エチルベンゼンスルホン酸メチル、ｍ−エチル
ベンゼンスルホン酸エチル、ｍ−エチルベンゼンスルホ
ン酸プロピル、ｍ−エチルベンゼンスルホン酸イソプロ
ピル、ｍ−エチルベンゼンスルホン酸ブチル、
【００１５】ｍ−エチルベンゼンスルホン酸イソブチ
ル、ｍ−エチルベンゼンスルホン酸−ｓ−ブチル、ｍ−
エチルベンゼンスルホン酸−ｔ−ブチル、ｐ−エチルベ
ンゼンスルホン酸メチル、ｐ−エチルベンゼンスルホン
酸エチル、ｐ−エチルベンゼンスルホン酸プロピル、ｐ
−エチルベンゼンスルホン酸イソプロピル、ｐ−エチル
ベンゼンスルホン酸ブチル、ｐ−エチルベンゼンスルホ
ン酸イソブチル、ｐ−エチルベンゼンスルホン酸−ｓ−
ブチル、ｐ−エチルベンゼンスルホン酸−ｔ−ブチル、
ｏ−プロピルベンゼンスルホン酸メチル、ｏ−プロピル
ベンゼンスルホン酸エチル、ｏ−プロピルベンゼンスル
ホン酸プロピル、ｏ−プロピルベンゼンスルホン酸イソ
プロピル、ｏ−プロピルベンゼンスルホン酸ブチル、ｏ
−プロピルベンゼンスルホン酸イソブチル、ｏ−プロピ
ルベンゼンスルホン酸−ｓ−ブチル、
ル、ｍ−エチルベンゼンスルホン酸−ｓ−ブチル、ｍ−
エチルベンゼンスルホン酸−ｔ−ブチル、ｐ−エチルベ
ンゼンスルホン酸メチル、ｐ−エチルベンゼンスルホン
酸エチル、ｐ−エチルベンゼンスルホン酸プロピル、ｐ
−エチルベンゼンスルホン酸イソプロピル、ｐ−エチル
ベンゼンスルホン酸ブチル、ｐ−エチルベンゼンスルホ
ン酸イソブチル、ｐ−エチルベンゼンスルホン酸−ｓ−
ブチル、ｐ−エチルベンゼンスルホン酸−ｔ−ブチル、
ｏ−プロピルベンゼンスルホン酸メチル、ｏ−プロピル
ベンゼンスルホン酸エチル、ｏ−プロピルベンゼンスル
ホン酸プロピル、ｏ−プロピルベンゼンスルホン酸イソ
プロピル、ｏ−プロピルベンゼンスルホン酸ブチル、ｏ
−プロピルベンゼンスルホン酸イソブチル、ｏ−プロピ
ルベンゼンスルホン酸−ｓ−ブチル、
【００１６】ｏ−プロピルベンゼンスルホン酸−ｔ−ブ
チル、ｍ−プロピルベンゼンスルホン酸メチル、ｍ−プ
ロピルベンゼンスルホン酸エチル、ｍ−プロピルベンゼ
ンスルホン酸プロピル、ｍ−プロピルベンゼンスルホン
酸イソプロピル、ｍ−プロピルベンゼンスルホン酸ブチ
ル、ｍ−プロピルベンゼンスルホン酸イソブチル、ｍ−
プロピルベンゼンスルホン酸−ｓ−ブチル、ｍ−プロピ
ルベンゼンスルホン酸−ｔ−ブチル、ｐ−プロピルベン
ゼンスルホン酸メチル、ｐ−プロピルベンゼンスルホン
酸エチル、ｐ−プロピルベンゼンスルホン酸プロピル、
ｐ−プロピルベンゼンスルホン酸イソプロピル、ｐ−プ
ロピルベンゼンスルホン酸ブチル、ｐ−プロピルベンゼ
ンスルホン酸イソブチル、ｐ−プロピルベンゼンスルホ
ン酸−ｓ−ブチル、ｐ−プロピルベンゼンスルホン酸−
ｔ−ブチル、ｏ−ブチルベンゼンスルホン酸メチル、ｏ
−ブチルベンゼンスルホン酸エチル、ｏ−ブチルベンゼ
ンスルホン酸プロピル、ｏ−ブチルベンゼンスルホン酸
イソプロピル、ｏ−ブチルベンゼンスルホン酸ブチル、
ｏ−ブチルベンゼンスルホン酸イソブチル、ｏ−ブチル
ベンゼンスルホン酸−ｓ−ブチル、ｏ−ブチルベンゼン
スルホン酸−ｔ−ブチル、ｍ−ブチルベンゼンスルホン
酸メチル、ｍ−ブチルベンゼンスルホン酸エチル、ｍ−
ブチルベンゼンスルホン酸プロピル、ｍ−ブチルベンゼ
ンスルホン酸イソプロピル、ｍ−ブチルベンゼンスルホ
ン酸ブチル、ｍ−ブチルベンゼンスルホン酸イソブチ
ル、ｍ−ブチルベンゼンスルホン酸−ｓ−ブチル、ｍ−
ブチルベンゼンスルホン酸−ｔ−ブチル、ｐ−ブチルベ
ンゼンスルホン酸メチル、ｐ−ブチルベンゼンスルホン
酸エチル、ｐ−ブチルベンゼンスルホン酸プロピル、ｐ
−ブチルベンゼンスルホン酸イソプロピル、ｐ−ブチル
ベンゼンスルホン酸ブチル、ｐ−ブチルベンゼンスルホ
ン酸イソブチル、ｐ−ブチルベンゼンスルホン酸−ｓ−
ブチル、ｐ−ブチルベンゼンスルホン酸−ｔ−ブチル等
が挙げられる。
チル、ｍ−プロピルベンゼンスルホン酸メチル、ｍ−プ
ロピルベンゼンスルホン酸エチル、ｍ−プロピルベンゼ
ンスルホン酸プロピル、ｍ−プロピルベンゼンスルホン
酸イソプロピル、ｍ−プロピルベンゼンスルホン酸ブチ
ル、ｍ−プロピルベンゼンスルホン酸イソブチル、ｍ−
プロピルベンゼンスルホン酸−ｓ−ブチル、ｍ−プロピ
ルベンゼンスルホン酸−ｔ−ブチル、ｐ−プロピルベン
ゼンスルホン酸メチル、ｐ−プロピルベンゼンスルホン
酸エチル、ｐ−プロピルベンゼンスルホン酸プロピル、
ｐ−プロピルベンゼンスルホン酸イソプロピル、ｐ−プ
ロピルベンゼンスルホン酸ブチル、ｐ−プロピルベンゼ
ンスルホン酸イソブチル、ｐ−プロピルベンゼンスルホ
ン酸−ｓ−ブチル、ｐ−プロピルベンゼンスルホン酸−
ｔ−ブチル、ｏ−ブチルベンゼンスルホン酸メチル、ｏ
−ブチルベンゼンスルホン酸エチル、ｏ−ブチルベンゼ
ンスルホン酸プロピル、ｏ−ブチルベンゼンスルホン酸
イソプロピル、ｏ−ブチルベンゼンスルホン酸ブチル、
ｏ−ブチルベンゼンスルホン酸イソブチル、ｏ−ブチル
ベンゼンスルホン酸−ｓ−ブチル、ｏ−ブチルベンゼン
スルホン酸−ｔ−ブチル、ｍ−ブチルベンゼンスルホン
酸メチル、ｍ−ブチルベンゼンスルホン酸エチル、ｍ−
ブチルベンゼンスルホン酸プロピル、ｍ−ブチルベンゼ
ンスルホン酸イソプロピル、ｍ−ブチルベンゼンスルホ
ン酸ブチル、ｍ−ブチルベンゼンスルホン酸イソブチ
ル、ｍ−ブチルベンゼンスルホン酸−ｓ−ブチル、ｍ−
ブチルベンゼンスルホン酸−ｔ−ブチル、ｐ−ブチルベ
ンゼンスルホン酸メチル、ｐ−ブチルベンゼンスルホン
酸エチル、ｐ−ブチルベンゼンスルホン酸プロピル、ｐ
−ブチルベンゼンスルホン酸イソプロピル、ｐ−ブチル
ベンゼンスルホン酸ブチル、ｐ−ブチルベンゼンスルホ
ン酸イソブチル、ｐ−ブチルベンゼンスルホン酸−ｓ−
ブチル、ｐ−ブチルベンゼンスルホン酸−ｔ−ブチル等
が挙げられる。
【００１７】本発明において、一般式（１）で表される
β−レゾルシン酸と一般式（２）で示される芳香族スル
ホン酸アルキルエステル類との使用比率は、通常β−レ
ゾルシン酸１モルに対して芳香族スルホン酸アルキルエ
ステル類を０．１〜１．５モル、好ましくは０．５〜
１．０モルである。
β−レゾルシン酸と一般式（２）で示される芳香族スル
ホン酸アルキルエステル類との使用比率は、通常β−レ
ゾルシン酸１モルに対して芳香族スルホン酸アルキルエ
ステル類を０．１〜１．５モル、好ましくは０．５〜
１．０モルである。
【００１８】本発明のアルキル化反応は、水系溶媒中で
も可能であるが、好ましくはアルコール溶媒中で行われ
る。ここで用いられるアルコール溶媒としては、芳香族
スルホン酸エステルとエステル交換反応をする場合もあ
るので、エステルのアルキル基と同じ炭素数、同じ構造
のアルコールを選択する事が望ましい。例えば、芳香族
スルホン酸アルキルエステルとして芳香族スルホン酸メ
チルエステルを使用する場合には、有機溶媒としてメタ
ノールを使う等が挙げられる。
も可能であるが、好ましくはアルコール溶媒中で行われ
る。ここで用いられるアルコール溶媒としては、芳香族
スルホン酸エステルとエステル交換反応をする場合もあ
るので、エステルのアルキル基と同じ炭素数、同じ構造
のアルコールを選択する事が望ましい。例えば、芳香族
スルホン酸アルキルエステルとして芳香族スルホン酸メ
チルエステルを使用する場合には、有機溶媒としてメタ
ノールを使う等が挙げられる。
【００１９】すなわち、本発明のアルキル化反応に用い
るアルコール溶媒としては、一般式（４）
るアルコール溶媒としては、一般式（４）
【００２０】
【化−８】Ｒ1 ＯＨ （４） （式中、Ｒ1 は前記一般式（２）で定義したものと同じ
意味を表わす）で示されるアルコールを用いることが好
ましい。
意味を表わす）で示されるアルコールを用いることが好
ましい。
【００２１】本発明のアルキル化反応は、触媒は必ずし
も必要としないが、各種反応促進剤を用いることもでき
る。反応温度については、０〜１５０℃、好ましくは１
０〜１００℃の範囲であり、反応温度が高すぎると副反
応生成物が生成する傾向にあり、また低すぎると反応速
度が遅くなる傾向にある。反応によって生成した目的物
は、通常の精製手段、例えば再結晶等の操作により精製
し、高純度の目的物を高収率で得る事ができる。
も必要としないが、各種反応促進剤を用いることもでき
る。反応温度については、０〜１５０℃、好ましくは１
０〜１００℃の範囲であり、反応温度が高すぎると副反
応生成物が生成する傾向にあり、また低すぎると反応速
度が遅くなる傾向にある。反応によって生成した目的物
は、通常の精製手段、例えば再結晶等の操作により精製
し、高純度の目的物を高収率で得る事ができる。
【００２２】
【発明の効果】本発明によれば、工業的に有利に、高選
択的かつ高収率に４−アルコキシサリチル酸を製造する
ことができる。
択的かつ高収率に４−アルコキシサリチル酸を製造する
ことができる。
【００２３】
【実施例】以下、本発明を実施例によって、更に詳細に
説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもの
ではない。
説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもの
ではない。
【００２４】実施例１ メタノール３８０ｇ、β−レゾルシン酸１１５．５ｇ
（０．７５ｍｏｌ）、ナトリウムメトキシド８１．０ｇ
（１．５０ｍｏｌ）を１０００ｍｌのガラス製４つ口フ
ラスコに仕込み、２０〜３０℃に保ってｐ−トルエンス
ルホン酸メチル９３ｇ（０．５ｍｏｌ）を滴下した。そ
の後、６０℃まで加熱し、２時間保温した後、水５００
ｇを加えた。塩酸でｐＨを１にし、析出した結晶を濾過
した。析出した結晶を再結晶し、４−メトキシサリチル
酸７０．６ｇ（０．４２０ｍｏｌ）を得た。収率は８
４．０％であった。
（０．７５ｍｏｌ）、ナトリウムメトキシド８１．０ｇ
（１．５０ｍｏｌ）を１０００ｍｌのガラス製４つ口フ
ラスコに仕込み、２０〜３０℃に保ってｐ−トルエンス
ルホン酸メチル９３ｇ（０．５ｍｏｌ）を滴下した。そ
の後、６０℃まで加熱し、２時間保温した後、水５００
ｇを加えた。塩酸でｐＨを１にし、析出した結晶を濾過
した。析出した結晶を再結晶し、４−メトキシサリチル
酸７０．６ｇ（０．４２０ｍｏｌ）を得た。収率は８
４．０％であった。
【００２５】
【実施例２】メタノール３８０ｇ、β−レゾルシン酸８
４．７ｇ（０．５５ｍｏｌ）、ナトリウムメトキシド５
９．４ｇ（１．１０ｍｏｌ）を１０００ｍｌのガラス製
４つ口フラスコに仕込み、２０〜３０℃に保ってｐ−ト
ルエンスルホン酸メチル９３ｇ（０．５ｍｏｌ）を滴下
した。その後、６０℃まで加熱し、２時間保温した後、
水５００ｇを加えた。塩酸でｐＨを１にし、析出した結
晶を濾過した。析出した結晶を再結晶し、４−メトキシ
サリチル酸５６．１ｇ（０．３３４ｍｏｌ）を得た。収
率は６６．８％であった。
４．７ｇ（０．５５ｍｏｌ）、ナトリウムメトキシド５
９．４ｇ（１．１０ｍｏｌ）を１０００ｍｌのガラス製
４つ口フラスコに仕込み、２０〜３０℃に保ってｐ−ト
ルエンスルホン酸メチル９３ｇ（０．５ｍｏｌ）を滴下
した。その後、６０℃まで加熱し、２時間保温した後、
水５００ｇを加えた。塩酸でｐＨを１にし、析出した結
晶を濾過した。析出した結晶を再結晶し、４−メトキシ
サリチル酸５６．１ｇ（０．３３４ｍｏｌ）を得た。収
率は６６．８％であった。
【００２６】
【実施例３】エタノール３５８ｇ、β−レゾルシン酸１
１５．５ｇ（０．７５ｍｏｌ）、ナトリウムエトキシド
１０２ｇ（１．５０ｍｏｌ）を１０００ｍｌのガラス製
４つ口フラスコに仕込み、２０〜３０℃に保ってｐ−ト
ルエンスルホン酸エチル１００ｇ（０．５ｍｏｌ）を滴
下した。その後、６０℃まで加熱し、２時間保温した
後、水５００ｇを加えた。塩酸でｐＨを１にし、析出し
た結晶を濾過した。析出した結晶を再結晶し、４−エト
キシサリチル酸７１．２ｇ（０．３９１ｍｏｌ）を得
た。収率は７８．２％であった。
１５．５ｇ（０．７５ｍｏｌ）、ナトリウムエトキシド
１０２ｇ（１．５０ｍｏｌ）を１０００ｍｌのガラス製
４つ口フラスコに仕込み、２０〜３０℃に保ってｐ−ト
ルエンスルホン酸エチル１００ｇ（０．５ｍｏｌ）を滴
下した。その後、６０℃まで加熱し、２時間保温した
後、水５００ｇを加えた。塩酸でｐＨを１にし、析出し
た結晶を濾過した。析出した結晶を再結晶し、４−エト
キシサリチル酸７１．２ｇ（０．３９１ｍｏｌ）を得
た。収率は７８．２％であった。
フロントページの続き (72)発明者 阪本 興彦 横浜市緑区北八朔町1908番地６ (72)発明者 長沼 雅子 東京都世田谷区玉川田園調布１丁目17番15 号
Claims (4)
- 【請求項１】 一般式（１） 【化−１】 【化−２】で示されるβ−レゾルシン酸と、一般式
（２） （式中、Ｒ1 は１〜４個の炭素を含有するアルキル基、
Ｒ2 〜Ｒ6 はそれぞれ独立に水素原子または炭素数１〜
４のアルキル基を表わす。）で表される芳香族スルホン
酸アルキルエステル類とを反応させることを特徴とする
一般式（３） 【化−３】 （式中、Ｒ1 は１〜４個の炭素を含有するアルキル基を
表わす。）で表される４−アルコキシサリチル酸類の製
造方法。 - 【請求項２】 β−レゾルシン酸をアルカリ金属アルコ
キシドによってアルカリ金属塩化して反応させる請求項
１に記載の４−アルコキシサリチル酸類の製造方法。 - 【請求項３】 反応をアルコール溶媒中で行う請求項１
又は請求項２のいずれかに記載の４−アルコキシサリチ
ル酸類の製造方法。 - 【請求項４】 アルコールが一般式（４） 【化−４】Ｒ1 ＯＨ （４） （式中、Ｒ1 は請求項１の一般式（２）で定義したもの
と同じ意味を表わす）で表される低級アルコールを用い
る請求項３に記載の４−アルコキシサリチル酸類の製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29177795A JPH09110783A (ja) | 1995-10-13 | 1995-10-13 | ４−アルコキシサリチル酸類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29177795A JPH09110783A (ja) | 1995-10-13 | 1995-10-13 | ４−アルコキシサリチル酸類の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09110783A true JPH09110783A (ja) | 1997-04-28 |
Family
ID=17773293
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29177795A Pending JPH09110783A (ja) | 1995-10-13 | 1995-10-13 | ４−アルコキシサリチル酸類の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09110783A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010030940A (ja) * | 2008-07-28 | 2010-02-12 | Shiseido Co Ltd | ４−メトキシサリチル酸の合成方法 |
| CN104370737A (zh) * | 2014-10-29 | 2015-02-25 | 王永泉 | 一种4-甲氧基水杨酸钾的合成和制备方法 |
| CN109293497A (zh) * | 2018-11-27 | 2019-02-01 | 常州工程职业技术学院 | 一种4-甲氧基水杨酸的合成方法 |
| CN112697903A (zh) * | 2020-12-07 | 2021-04-23 | 株洲千金药业股份有限公司 | 一种检测恩替卡韦中遗传毒性杂质的方法及应用 |
-
1995
- 1995-10-13 JP JP29177795A patent/JPH09110783A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010030940A (ja) * | 2008-07-28 | 2010-02-12 | Shiseido Co Ltd | ４−メトキシサリチル酸の合成方法 |
| CN104370737A (zh) * | 2014-10-29 | 2015-02-25 | 王永泉 | 一种4-甲氧基水杨酸钾的合成和制备方法 |
| CN109293497A (zh) * | 2018-11-27 | 2019-02-01 | 常州工程职业技术学院 | 一种4-甲氧基水杨酸的合成方法 |
| CN112697903A (zh) * | 2020-12-07 | 2021-04-23 | 株洲千金药业股份有限公司 | 一种检测恩替卡韦中遗传毒性杂质的方法及应用 |
| CN112697903B (zh) * | 2020-12-07 | 2023-02-28 | 株洲千金药业股份有限公司 | 一种检测恩替卡韦中遗传毒性杂质的方法及应用 |
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