JPH0883423A - 磁気ディスク - Google Patents

磁気ディスク

Info

Publication number
JPH0883423A
JPH0883423A JP16507895A JP16507895A JPH0883423A JP H0883423 A JPH0883423 A JP H0883423A JP 16507895 A JP16507895 A JP 16507895A JP 16507895 A JP16507895 A JP 16507895A JP H0883423 A JPH0883423 A JP H0883423A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lubricant
cyclotriphosphazene
polyphenoxy
thin film
magnetic recording
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP16507895A
Other languages
English (en)
Inventor
Eru Chiyao Jieemusu
ジェームス・エル・チャオ
Chien Rii Yuu
ユー・チェン・リー
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Proterial Ltd
Original Assignee
Hitachi Metals Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Metals Ltd filed Critical Hitachi Metals Ltd
Publication of JPH0883423A publication Critical patent/JPH0883423A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M169/00—Lubricating compositions characterised by containing as components a mixture of at least two types of ingredient selected from base-materials, thickeners or additives, covered by the preceding groups, each of these compounds being essential
    • C10M169/04—Mixtures of base-materials and additives
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M111/00—Lubrication compositions characterised by the base-material being a mixture of two or more compounds covered by more than one of the main groups C10M101/00 - C10M109/00, each of these compounds being essential
    • C10M111/04—Lubrication compositions characterised by the base-material being a mixture of two or more compounds covered by more than one of the main groups C10M101/00 - C10M109/00, each of these compounds being essential at least one of them being a macromolecular organic compound
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
    • G11B5/72—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
    • G11B5/725—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction containing a lubricant, e.g. organic compounds
    • G11B5/7253—Fluorocarbon lubricant
    • G11B5/7257—Perfluoropolyether lubricant
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M2213/00—Organic macromolecular compounds containing halogen as ingredients in lubricant compositions
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M2213/00—Organic macromolecular compounds containing halogen as ingredients in lubricant compositions
    • C10M2213/02—Organic macromolecular compounds containing halogen as ingredients in lubricant compositions obtained from monomers containing carbon, hydrogen and halogen only
    • C10M2213/023—Organic macromolecular compounds containing halogen as ingredients in lubricant compositions obtained from monomers containing carbon, hydrogen and halogen only used as base material
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M2213/00—Organic macromolecular compounds containing halogen as ingredients in lubricant compositions
    • C10M2213/04—Organic macromolecular compounds containing halogen as ingredients in lubricant compositions obtained from monomers containing carbon, hydrogen, halogen and oxygen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M2213/00—Organic macromolecular compounds containing halogen as ingredients in lubricant compositions
    • C10M2213/04—Organic macromolecular compounds containing halogen as ingredients in lubricant compositions obtained from monomers containing carbon, hydrogen, halogen and oxygen
    • C10M2213/043—Organic macromolecular compounds containing halogen as ingredients in lubricant compositions obtained from monomers containing carbon, hydrogen, halogen and oxygen used as base material
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M2213/00—Organic macromolecular compounds containing halogen as ingredients in lubricant compositions
    • C10M2213/06—Perfluoro polymers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M2213/00—Organic macromolecular compounds containing halogen as ingredients in lubricant compositions
    • C10M2213/06—Perfluoro polymers
    • C10M2213/0606—Perfluoro polymers used as base material
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M2213/00—Organic macromolecular compounds containing halogen as ingredients in lubricant compositions
    • C10M2213/06—Perfluoro polymers
    • C10M2213/062—Polytetrafluoroethylene [PTFE]
    • C10M2213/0623—Polytetrafluoroethylene [PTFE] used as base material
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M2223/00—Organic non-macromolecular compounds containing phosphorus as ingredients in lubricant compositions
    • C10M2223/003—Organic non-macromolecular compounds containing phosphorus as ingredients in lubricant compositions used as base material
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M2223/00—Organic non-macromolecular compounds containing phosphorus as ingredients in lubricant compositions
    • C10M2223/02—Organic non-macromolecular compounds containing phosphorus as ingredients in lubricant compositions having no phosphorus-to-carbon bonds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M2223/00—Organic non-macromolecular compounds containing phosphorus as ingredients in lubricant compositions
    • C10M2223/02—Organic non-macromolecular compounds containing phosphorus as ingredients in lubricant compositions having no phosphorus-to-carbon bonds
    • C10M2223/023—Organic non-macromolecular compounds containing phosphorus as ingredients in lubricant compositions having no phosphorus-to-carbon bonds used as base material
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M2223/00—Organic non-macromolecular compounds containing phosphorus as ingredients in lubricant compositions
    • C10M2223/02—Organic non-macromolecular compounds containing phosphorus as ingredients in lubricant compositions having no phosphorus-to-carbon bonds
    • C10M2223/04—Phosphate esters
    • C10M2223/0405—Phosphate esters used as base material
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M2223/00—Organic non-macromolecular compounds containing phosphorus as ingredients in lubricant compositions
    • C10M2223/02—Organic non-macromolecular compounds containing phosphorus as ingredients in lubricant compositions having no phosphorus-to-carbon bonds
    • C10M2223/049—Phosphite
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M2223/00—Organic non-macromolecular compounds containing phosphorus as ingredients in lubricant compositions
    • C10M2223/02—Organic non-macromolecular compounds containing phosphorus as ingredients in lubricant compositions having no phosphorus-to-carbon bonds
    • C10M2223/049—Phosphite
    • C10M2223/0495—Phosphite used as base material
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M2223/00—Organic non-macromolecular compounds containing phosphorus as ingredients in lubricant compositions
    • C10M2223/06—Organic non-macromolecular compounds containing phosphorus as ingredients in lubricant compositions having phosphorus-to-carbon bonds
    • C10M2223/0603—Organic non-macromolecular compounds containing phosphorus as ingredients in lubricant compositions having phosphorus-to-carbon bonds used as base material
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M2223/00—Organic non-macromolecular compounds containing phosphorus as ingredients in lubricant compositions
    • C10M2223/08—Organic non-macromolecular compounds containing phosphorus as ingredients in lubricant compositions having phosphorus-to-nitrogen bonds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M2223/00—Organic non-macromolecular compounds containing phosphorus as ingredients in lubricant compositions
    • C10M2223/08—Organic non-macromolecular compounds containing phosphorus as ingredients in lubricant compositions having phosphorus-to-nitrogen bonds
    • C10M2223/083—Organic non-macromolecular compounds containing phosphorus as ingredients in lubricant compositions having phosphorus-to-nitrogen bonds used as base material
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M2223/00—Organic non-macromolecular compounds containing phosphorus as ingredients in lubricant compositions
    • C10M2223/10—Phosphatides, e.g. lecithin, cephalin
    • C10M2223/103—Phosphatides, e.g. lecithin, cephalin used as base material
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10N—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
    • C10N2040/00—Specified use or application for which the lubricating composition is intended
    • C10N2040/14—Electric or magnetic purposes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10N—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
    • C10N2040/00—Specified use or application for which the lubricating composition is intended
    • C10N2040/14—Electric or magnetic purposes
    • C10N2040/16—Dielectric; Insulating oil or insulators
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10N—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
    • C10N2040/00—Specified use or application for which the lubricating composition is intended
    • C10N2040/14—Electric or magnetic purposes
    • C10N2040/17—Electric or magnetic purposes for electric contacts
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10N—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
    • C10N2040/00—Specified use or application for which the lubricating composition is intended
    • C10N2040/14—Electric or magnetic purposes
    • C10N2040/175—Pantographs, i.e. printing devices
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10N—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
    • C10N2040/00—Specified use or application for which the lubricating composition is intended
    • C10N2040/14—Electric or magnetic purposes
    • C10N2040/18—Electric or magnetic purposes in connection with recordings on magnetic tape or disc
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10N—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
    • C10N2040/00—Specified use or application for which the lubricating composition is intended
    • C10N2040/14—Electric or magnetic purposes
    • C10N2040/185—Magnetic fluids
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10S428/90—Magnetic feature
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/3154—Of fluorinated addition polymer from unsaturated monomers

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Lubricants (AREA)
  • Magnetic Record Carriers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 薄膜磁気記録用磁気ディスクの表面の静的、
動的摩擦係数を低減する磁気ディスクを提供する。 【構成】 磁気記録用薄膜と保護被膜と、ポリフェノキ
シーシクロトリフォスファゼン潤滑剤及びパーフルオロ
ポリエーテル油の体積比が０．２〜５．０になる比率で
存在して成る外側潤滑層からなる磁気ディスク。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、潤滑剤の摩擦特性の向
上及びその合成方法を改善した磁気ディスクに関するも
ので、特に薄膜記録メディアの静的及び動的摩擦係数の
低減に関する。
【０００２】
【従来の技術】薄膜磁気ディスク等の磁気メディアはデ
ジタルコンピューターのデータ記録メディアとして汎用
的に利用されている。この磁気ディスクの代表的な例で
は、堅いディスク基盤上に、先ず磁気層をスパッター法
で形成し、次に、その表面を炭素層で覆って、磁気層の
摩耗を防ぎ、更に、ディスクと読み込み／書き込み用磁
気ヘッドとの間に働く摩擦力を低減させている。
【０００３】また、磁気ディスクの表面潤滑方法とし
て、最終表面処理工程において、フルオロカーボン系潤
滑剤の薄膜を用いて、ヘッド対ディスク間の摩擦によ
る、特に起動／停止の繰り返しによってもたらされる相
互作用を低減する方法が良く知られている。この目的に
適合した標準的潤滑剤として、パーフルオロポリエーテ
ル油が有効であり、これらは、ニュージャージーのオー
ジモント（Ａｕｓｉｍｏｎｔ）社（モリスタウン（Ｍｏ
ｒｒｉｓｔｏｗｎ））から、商品名ＡＭ ２００１、も
しくは、商品名Ｚ−ＤＯＬ、として市販されている。
【０００４】磁気ディスクの潤滑性は、一般に、静的及
び動的（回動時）摩擦係数によって決定される。これら
の摩擦係数は、標準的な摺動試験（ドラッグテスト）に
よって、読み込み／書き込み用ヘッドと磁気ディスクが
接触時に必要な引っ張り力として得ることが出来る。長
時間の使用に耐える高信頼度の磁気ディスクに要求され
る重要な性質の一つとして、多数回の起動／停止の繰り
返しや、読み込み／書き込み用ヘッドとの接触を繰り返
した後であっても、相対的に低い摩擦係数を維持する性
質を挙げることが出来る。例えば、ドライブの製造業者
側は、磁気ディスクの静的摩擦係数の初期値は０．３を
上回ら無いこと、及び、２０，０００回の起動／停止を
繰り返した後の摩擦係数が、０．６を上回らないことを
要求することがある。このような仕様を満たすディスク
は、少なくとも、２０，０００回の起動／停止の繰り返
しに耐えることが可能で、読み込み／書き込み動作に伴
う致命的な故障に導く可能性がある高摩擦特性を示すこ
とは無い。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】これまでに最も一般的
に磁気メディアに使用されてきた潤滑剤、特に、パーフ
ルオロポリエーテル系潤滑剤は、常温常湿の環境（標準
状態）では、良好な耐環境特性を有しているが、高温及
び高湿の環境に対しては、あまり良くないことが知られ
ている。かくして、ディスクの特性を急速に劣化させる
ような、好ましくない環境条件を除去するために、温度
及び湿度調節制御システムを同時に設置しなければなら
ないと言う問題点が在った。従って、本発明は上記に鑑
みなされたもので、その目的は、常温、常湿の標準状態
時だけでは無く、高温、高湿時においても良好な摩擦に
対する耐環境特性を有する潤滑剤及びその合成方法を改
善した磁気ディスクを提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明に係る潤滑剤は、
例えば、ディスクドライブの中にあって、読み込み／書
き込み用ヘッドと共に使用される薄膜磁気ディスクにお
いて、上記の課題を解決するために、以下の手段が講じ
られていることを特徴とする。即ち、上記磁気ディスク
は、基盤と、その基盤上に形成された磁気記録用薄膜
と、前記磁気記録用薄膜上に形成された、例えば、スパ
ッター法によってオーバーコートされた炭素保護被膜を
有しており、更に外側潤滑層として、プロフェノキシ−
シクロトリフォスファゼン潤滑剤と、パーフルオロポリ
エーテル油とを、潤滑剤と油の容積比が、約０．２〜約
５．０となるように配合したものである。
【０００７】前記配合の具体的例を挙げれぱ、ポリフェ
ノキシ−シクロトリフォスファゼン潤滑剤と、パーフル
オロポリエーテル油とが、混合されない個別層として存
在し、共同して外側潤滑層を形成するものである。
【０００８】前記配合の第２の具体例は、ポリフェノキ
シ−シクロトリフォスファゼン潤滑剤と、パーフルオロ
ポリエーテル油とが混合された状態で存在するものであ
る。前記配合の望ましい配合例は、ポリフェノキシ−シ
クロトリフォスファゼン潤滑剤と、パーフルオロポリエ
ーテル油の配合比が、０．５〜２．０の間にあるもので
ある。
【０００９】
【作用】ポリフェノキシ−シクロトリフォスファゼン潤
滑剤は、ヘキサフェノキシ−シクロトリフォスファゼン
化合物であることが望ましく、ポリフェノキシ基は弗素
と化合していることが望ましい。これらの条件を満足す
る、望ましい具体的１例を示す。その化合物の化学構造
式を化１に示す。
【００１０】
【化１】 このパーフルオロポリエーテル油は、分子量が約５〜３
０キロダルトンの間にあることが望ましい。
【００１１】前記配合の第２の具体例において、本発明
に係る混合潤滑剤は、表面の静的及び動的摩擦係数を低
減する作用を有している。この混合物潤滑剤は、上述の
如く、ポリフェノキシ−シクロトリフォスファゼン潤滑
剤と、パーフルオロポリエーテル油を、容積対容積比
が、約０．２〜約５．０の間にあるように配合したもの
である。
【００１２】前記、配合の望ましい配合例において、ポ
リフェノキシ−シクロトリフォスファゼン潤滑剤は、上
述の如く、ヘキサフアノキシ−シクロトリフォスファゼ
ン化合物であって、パーフルオロポリエーテル油は、分
子量が約５〜３０キロダルトンの間にあるものである。
又、前記、配合の第２の具体例において、本発明に係る
パーフルオロポリエーテル油の潤滑特性の改善方法は、
本油剤で覆った表面における静的及び動的摩擦係数を効
果的に低減する作用を有していることが確認されてい
る。また、本改善方法は、本油剤と、上述したタイプ
の、ポリフェノキシ−シクロトリフォスファゼン潤滑剤
と混合して使用する方法を包含するものである。また、
前記配合の望ましい配合例において、ポリフェンオキシ
−シクロトリフォスファゼン潤滑剤と、パーフルオロポ
リエーテル油とは、容積対容積比が、約０．２〜約５．
０の間にあるように配合される。
【００１３】これまで説明した本発明の構成、効能以外
にも、多数の変形、新たな効能を挙げることは可能であ
るが、それらの詳細については、以下の本発明の実施例
と、図面の説明を参照されたい。
【００１４】
【実施例】ここに開示する発明は、磁気ディスクの外側
表面層中に、パーフルオロポリエーテル油化合物と、ポ
リフェノキシトリフォスファゼン潤滑剤が共存すると、
摺動試験による摩擦係数が、パーフルオロポリエーテ
ル、もしくは、ポリフェノキシトリフォスファゼン化合
物が単独で存在する時よりも、特に温度、湿度の上昇時
に、比較的有効に、引っ張り摩擦力が低減する事実に基
づくものである。 この「有効な低減」は、ディスク表
面の静的及び動的摩擦係数が、パーフルオロポリエーテ
ルやポリフェノキシトリフォスファゼン化合物が個別に
外側表面層中に存在する時よりも、計測された摩擦係数
が、温度上昇時の環境条件が、３０℃、湿度８０％、な
らびに、５０℃、湿度１０％の環境条件下で、少なくと
も２０％低減することを意味している。
【００１５】１．薄膜メディア 図１は、薄膜メディア１０の１部分の断面図であって、
円盤状の堅い基板１２と、その基板上に成層して塗膜さ
れた薄膜層と、結晶性のアンダーレイヤー１４と、磁気
薄膜層１６と、オーバーコート１８と、潤滑剤層２０、
から成っている。
【００１６】基盤の材質は、織物であっても、従来品と
同様な表面を滑らかに処理したものでも、デジタル記録
メディアとして汎用的に使用されているタイプのアルミ
繊維を織ったものでも良く、また、ガラス繊維であって
も、セラミック素材であっても良い。
【００１７】結晶性のアンダーレイヤーは、厚みが３０
０〜３，０００オングストロームのクロームをスパッタ
ー法で塗膜したものが望ましい。また、アンダーレイヤ
ーの材質は、クロームを基材とする合金、即ち、クロー
ムガドリニウム（ＣｒＧｄ）、クロームバナジウム（Ｃ
ｒＶ）、クロームチタン（ＣｒＴｉ）、クロームシリコ
ン（ＣｒＳｉ）で置換することも可能である。
【００１８】磁気薄膜層は、少なくとも５０％のコバル
トを含有する、コバルト基材合金をアンダーレイヤーの
上部に、スパッター法もしくは、同等の方法で形成した
ものが望ましい。薄膜合金の例を挙げると、２種合金及
び３種合金では、コバルト／クローム、コバルト／ニッ
ケル、コバルト／クローム／タンタル、コバルト／ニッ
ケル／白金、ならびに、コバルト／クローム／ニッケル
があり、４種及び５種合金では、コバルト／ニッケル／
クローム／白金、コバルト／クローム／タンタル／白
金、コバルト／クローム／タンタル／白金／ホウ素、な
らびに、コバルト／クローム／ニッケル／白金／ホウ
素、がある。このアンダーレイヤー及び磁気薄膜層の生
成には、現在の先端技術として知られている、スパッタ
ーリング法が採用されている。
【００１９】耐摩耗性の保護被膜１８は、磁気記録層を
覆って、スパッター法によって塗膜され、その材質は、
炭素、酸化シリコン、窒化シリコン、もしくは同様のも
のを使用することが出来る。潤滑剤層２０は、保護被膜
の最上面に形成され、読み込み／書き込み用ヘッドとの
相互作用によって生起する摩擦を低減する。能率良くこ
の潤滑剤を形成するために、グラビティードレイニング
ディップ（ｇｒａｖｉｔｙ−ｄｒａｉｎｉｎｇ ｄｉ
ｐ）法が採用されており、以下、これについて詳述す
る。
【００２０】２．潤滑剤化合物 本発明に係る潤滑剤混合物は、２種類のタイプの潤滑物
質を含むもので、温度上昇の環境条件下であっても、そ
れら２種類のタイプの潤滑物質を、それぞれ単独で使用
した時よりも、より良好な潤滑特性が得られる。それら
２種類のタイプの中の、第１のタイプの潤滑剤は、パー
フルオロポリエーテル油類として知られている潤滑剤類
の中から選別されたものである。「油類」と言う意味
は、水に不溶で、不揮発性であることを示している。こ
のようなパーフルオロポリエーテル油類は、化学式 Ｒ
−Ｏ−（ＣＸ2ＣＹ2−Ｏ）m−（ＣＹ2−Ｏ）n−Ｒ、但
し、 ｍ、ｎ は整数を、Ｒは、水素Ｈ、３弗化炭素Ｃ
Ｆ3、メチル基ＣＨ3、ピペロニル、もしくは、Ｒ’を示
し、Ｒ’はＣＦ2ＣＨ2ＯＨ、ＣＦ2ＣＨ2ＯＣＦ3、ＣＦ2
ＣＨ2ＯＣＨ3、もしくは、ＣＦ2ＣＨ2Ｏ−ピペロニル
を、ＣＸ2はＣＦ2、もしくは、ＣＦ（ＣＦ3）を、ま
た、ＣＹ2およびＣＺ2はＣＦ2を示している。この種の
油類には、また、次の化学式の化合物も含まれている。
即ち、ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ2−Ｏ−（Ｚ−Ｏ）mＣＦ2ＣＦ3、
である。但し、Ｚは、ＣＦ（ＣＦ3）−ＣＦ2、もしく
は、ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ2、を示す。上式に使用されている
整数、ｍ、ｎ は変数であるから、化合物の全分子量
が、１，５００〜３０，０００、となるように選択する
ことが可能であるが、５，０００〜３０，０００、の間
で選択するのが望ましい。更に具体的に言うと、パーフ
ルオロポリエーテル化合物の分子量は、約５，０００〜
２０，０００に選択される。
【００２１】本発明に適用出来るパーフルオロポリエー
テル化合物は、既知の方法によって調達することが可能
で、市販もされている。商業的に入手出来る例として、
オージモント社（モリスタウン市、ニュージャージー
州）のものを図２に示している。図２の最上部に示され
ているのが、本発明に適合するパーフルオロポリエーテ
ル化合物であり、「Ｚ−２５」の名称で知られている。
【００２２】次に、本発明に使用される、第２のタイプ
の潤滑剤混合物は、ポリフェンオキシ−シクロトリフォ
スファゼン、としてしられている化合物類の中から選択
される。これらの化合物類は、シクロトリフォスファゼ
ン環、（ＰＮ）3、によって特徴付けられ、２つのフェ
ニオキシ基、もしくは、フェニオキシ置換された置換物
を有している。このような類の化合物の構造式が、図３
に示されている。
【００２３】図３中のフェノキシ群（−ＯＰｈ）の構造
は、化合物の潤滑特性を向上つせるために、１つ、もし
くは、それ以上のフルオリン含有物群、例えば、弗素、
３弗素化炭素、及びＯＣＦ3等で置換されているのが望
ましい。そして、望ましくは、フェノキシ置換物毎に、
１つのフルオリン含有物群を有するものが良い。このフ
ルオリン含有置換物群には、また、シクロトリフォスフ
ァゼン化合物の可溶性を、上述のパーフルオロポリエー
テル化合物の可溶性に近づける便利な効能がある。この
後者の効能は、２種類のタイプの潤滑剤を単一の溶媒に
溶解して混合物として利用する際に極めて有効である。
【００２４】本発明に係る、ポリフェノキシ−シクロト
リフォスファゼン化合物は、現在運用されている、周知
の技術的方法によって合成することが可能で、一般に、
ヘキサクロロシクロトリフォスファゼンを初期材料物と
している。この初期材料化合物は、既知の方法によって
調達することが出来る。その合成方法の１つとして、参
照文献として本明細書に記載した米国特許、Ｎｏ．４，
８６４，０４７Ｉの説明によると、フェノール、もしく
は、フェノール置換物（９．６ｇ，約０．４ｍｏｌｅ＝
８−１０当量）をテトラヒドロフラン（２５０ｍＬ）中
に素早く（５分以上）溶解して、化学量論に従った量の
水素化ナトリムのナトリウム塩に変換し、この混合物
を、６０〜６７℃の温度で２４時間加熱する。ヘキサク
ロロシクロトリフォスファゼン溶液（１７．３ｇ，０．
０５ｍｏｌｅ）を、テトラヒドロフラン（１５０ｍＬ）
の中に、ゆっくりとロートを使って点滴する。そして、
６０〜６７℃の温度を保持しながら、更に４日間、もし
くはそれ以上にわたって化学反応を持続させると、目的
のヘキサフェノキシが生成される。この化が反応の進行
過程は、核磁気共鳴装置（31Ｐ ＮＭＲ）によって手間
をかけずにモニターすることが出来る。また、もし必要
があれば、ペンタフェノキシ原料からシリカ ゲル ク
ロマトグラフィー法によってヘキサフェノキシを分離す
ることが出来る。
【００２５】第２の合成方法は、５００ｍＬの攪拌装置
付き４つ首フラスコを用意し、窒素ガス注入口、温度
計、ディーン−スターク（Ｄｅａｎ−Ｓｔａｒｋ）式水
濾過装置を装着して、キシレン（１２０ｍＬ）と、フェ
ノール、もしくは、フェノール置換物（３５ｇ）の粉末
状混合物と、水酸化カリウム（１５ｇ）を入れ、窒素ガ
スの雰囲気中で十分に攪拌する。この混合物をゆっくり
と加熱して、８０℃まで温度を上げ、キシレン（２０ｍ
Ｌ）中に入れたヘキサクロロシクロトリフォスファゼン
を０．５時間かけて点滴して加える。これらの混合物は
加熱されて、減少し、ディーン−スタークトラップに約
５ｍＬの水が捕集されるまでになる（３時間）。フイル
ターで水が濾過された後に固形物が残留するので、乾燥
した後で、１０％の水酸化カリウム溶液中で攪拌する。
その結果として得られた固形物をフイルターで濾過して
取り出し、乾燥させ、Ｏ−ディクロロベンゼンから再結
晶させて、純粋なヘキサフェノキシを取り出すことが出
来る。上記の合成方法は、米国特許、Ｎｏ．４，７４
８，２６３ に説明されており、本明細書の参照文献と
して記載している。
【００２６】ヘキサフェノキシ−シクロトリフォスファ
ゼンを生成する、その他の反応条件については、以下の
文献を参照することが出来る。即ち、オールコック（Ａ
ｌｌｃｏｃｋ）他（１９８１年、例えば１６２０頁）、
コーバー（Ｋｏｂｅｒ）他（１９６６年）、クマール
（Ｋｕｍａｒ）他（１９９２年）、ネイダー（Ｎａｄｅ
ｒ）他（１９９２年）、そしてヤング（Ｙａｎｇ）他
（１９９３年）は、２種類の溶媒を使用するシステム、
及び、テトラアルキルアンモニヤのハロゲン化物（例え
ば、テトラブチルアンモニヤ、もしくは、メチルトリオ
クチルアンモニヤの塩化物）を変換用触媒として使用し
ている。
【００２７】図４は、本発明に係る、望ましい、ヘキサ
フェノキシ化合物を示しており、ダウ・ケミカル社から
市販されており、ここでは、「Ｘ−１Ｐ」の商品名で取
り扱っている。この化合物は、先に説明した方法によっ
て合成されたもので、３−トリフルオロメチルフェノー
ルと、４−フルオロフェノールを４：２の比率で混合し
た、ヘキサクロロトリフォスファゼンである。従って、
本発明において使用される、ポリフェノキシトリフォス
ファゼンは、２乃至それ以上の異なるフェノキシ置換群
を含むことが出来、トリフォスファゼン化合物中のこれ
らの混合比率は、合成反応を開始するに先立つた、反応
物質の化学量論的に適正な選択によって決定される。本
発明において利用出来る、「Ｘ−１Ｐ」タイプの他の化
合物については、ネイダー他（１９９２年）の文献に記
載されている。
【００２８】本発明で使用される、ポリフェノオキシト
リフォスファゼン化合物は、６個のフェノキシ置換物を
含むことが望ましい。トリフォスファゼン化合物に含ま
れるのは、フェノキシ置換物よりも少ない、例えば、３
または５−フェノキシ置換物であるが、化合物中に少な
くとも２個のフェノキシ置換物が存在すればこれらも使
用することが可能である。この場合、残りのトリフォス
ファゼンの場所は、アルコキシ群を用いてブロックして
おくのが望ましい。このアルコキシ群は、一般に、フェ
ノキシ群を付加するために使用される反応条件と同様な
条件下で、ベンゼン環に残っている塩素原子を置換する
作用がある。このアルコキシ群は、低級（Ｃ1−Ｃ5）な
フルコキシ群、もしくは、低級なパーフルオロアルコキ
シ群に属するもの、例えば、ＯＣＨ3、ＯＣＨ2ＣＨ3、
ＯＣＦ3、ＯＣＨ2ＣＦ3、ＯＣＦ2ＣＦ3、及びこれらと
同様のものである。フェノキシ−アルコキシトリフォス
ファゼンの混合物を利用する場合の反応条件は、既に良
く知られている（例えば、イノウエ他、１９９０年）。
【００２９】磁気メディアの表面に塗着するために、ポ
リフェノキシトリフォスファゼンとパーフルオロポリエ
ーテル化合物は混合物として使用することが出来、適合
する溶媒によって必要な濃度に希釈されて、磁気メディ
アの表面に同時に塗着される。また、これらを交互に塗
着して成層することも可能で、この塗着方法について
は、第３章において説明する。
【００３０】３．磁気メディアの製造方法 図５は、スパッタリング装置の１部分の概要図で、本発
明に係る、磁気記録メディアの製造に使用することが出
来る。この装置は、代表的な構成として４つの作業ステ
ーションを有する真空チャンバー４２を備えており、こ
作業ステーションで、スパッターリング、加熱等の作業
が行われる。加熱ステーション（図示していない）は作
業プロセスの最上流端にあって、２組の赤外線灯が配設
され、基板を両面から加熱することが出来るように配置
されており、基板４４は、チャンバーの中のステーショ
ン間をパレット４６上で移送される。加熱チャンバーの
最下流端には、最初のスパッターリングステーション４
８が在り、基板上にアンダーレイヤー層がスパッターリ
ングされるようになっている。このステーションはクロ
ームもしくは、クロームをベースとする合金をスパッタ
ーリングするための、一対のスパッターリングターゲッ
トを備えており、例えば、アンダーレイヤーを形成する
ために使用される。
【００３１】第２のスパッターリングステーションは、
最初のスパッターリングステーションの下流に在って、
アンダーレイヤーの上面に磁気被膜をスパッターリング
するようになっている。また、そこには、コバルトを母
材とする、スパッターリングのための一対のスパッター
リングターゲット５０及び５２、が配設されており、例
えば、上述したような磁気薄膜の形成に使用されてい
る。また、図示はしていないが、この装置の下流ステー
ションでは、磁気ディスクの両面に保護被膜をスパッタ
ーリングしている。
【００３２】基本的なスパッターリング装置は、市販さ
れていることが望ましい。この装置を取り扱っているの
は、サーキットプロセッシングアパレイタス社（フレモ
ント市、カリフォルニア州）、日本真空技術（株）社
（日本）、ライボルトヘラウス社（ドイツ）、バクテッ
ク社（ボールダー市、コロラド州）、および、マテリア
ルズリサーチコーポレーション社（アルバニイ市、ニュ
ーヨーク州）等である。これらのシステムは、いずれ
も、両面照射、インライン方式、高スループットのマシ
ーンであり、ローディング用と、アンローディング用
の、二重インターロック装置を備えたシステムである。
【００３３】本発明に準拠して磁気ディスクを製造する
には、基板は、スパッターリング装置内部のパレット４
６の上に配置され、真空チャンバーの真空引きが、例え
ば、真空度が、１０-7Ｔｏｒｒに達するまで行われる。
基板は、加熱ステーションを通過して移送され、最初の
スパッターリングチャンバーに入り、アンダーレイヤー
が、基本的にはクロームもしくはクロームを基材とする
合金によって、形成される。アンダーレイヤーは、基本
的には、２００〜３，０００オングストロームの厚みと
なるようにスパッターされる。このアンダーレイヤーの
厚みは、基板の移動速度及び最初のスパッターリングチ
ャンバーに入って通過する速度によって、また、チャン
バー内でのスパッターリングレートによって制御され
る。アンダーレイヤーが形成されると、基板は、パレッ
トに乗ったままで移動し、次のスパッターリングチャン
バーに入り、そこでアンダーレイヤーの上面に磁気層が
スパッターされる。一例を挙げると、コバルト基材の合
金は、７０〜８８％のコバルト、１０〜２８％のニッケ
ル、及び２〜１０％のクロームを含有しているが、望ま
しくは、７４〜７８％のコバルト、１５〜２５％のニッ
ケル、及び、５〜１０％のクロームとしたい。更に例示
すると、１〜１０％のタンタル、１０〜１６％のクロー
ム、及び、６０〜８５％のコバルトを含有するコバルト
基材合金で磁気薄膜を形成するものがある。磁気薄膜
は、既知の条件下で、アンダーレイヤーの上面に、最終
的には、１００〜８００オングストロームとなるように
スパッターされる。
【００３４】別の具体的実施例では、磁気薄膜は、２層
もしくは、マルチレイヤーと呼ばれる、サブレイヤーに
よって構成される。この例では、最初に、約５０〜４０
０オングストロームの厚みで磁気層が着膜される。この
最初の塗膜の上面にクローム基材の絶縁層が、２〜５０
オングストロームの厚みで着膜される。次に、第２の磁
気層が、指定厚みになるまで絶縁層の上面にスパッター
され、その厚みは、基本的には、５０〜４００オングス
トロームである。磁気薄膜が形成されると、基板は、パ
レットに乗ったままで、次のスパッターリングステーシ
ョンに移送され、そこで、炭素、酸化シリコン、窒化シ
リコン、その他の材料を使用して、既知のスパッターリ
ング方法によって、表面被膜が着膜される。表面被膜の
形成が済むと、ディスクは、本発明に係る潤滑剤化合物
によってオーバーコートされる。その一つの方法を挙げ
ると、潤滑剤化合物は、テープロールもしくは、エンド
レスベルトテープ等の、完成ディスクを表面研磨した
り、滑らかに仕上げする装置で、スプレーバフ等を使用
すると便利である。
【００３５】別の例を挙げると、潤滑剤化合物は、グラ
ビティードレイニングディップの方法によって形成さ
れ、ディスクは、潤滑剤を溶解した溶液中に、一定時間
浸漬され、取り出して乾燥される。ディスク表面から溶
媒が蒸発すると、ディスク上に、潤滑剤の層が残るので
ある。この層の厚みは、溶媒溶液中の潤滑剤の初期濃
度、浸漬時間、及び、溶媒に対する潤滑剤の溶解度
（％）によって決定される。例えば、残留潤滑剤層の厚
みは、より希薄な潤滑剤溶液を使用する、潤滑剤溶液中
にディスクを浸漬する時間を短縮する、もしくは、潤滑
剤の溶解度が高く、すぐに溶解するような溶媒を使用す
ることによって、低減することが出来る。パーフルオロ
ポリエーテル化合物及びポリフェノキシ−トリホスファ
ーゼンは、いずれも、基本的には、約０．０１％から１
％の濃度で使用されるが、望ましくは、約０．０５％か
ら約０．２％の間で使用するのが良い。この場合、単一
溶媒中に複数の化合物が溶解していることになるので、
使用する溶媒は、これらの潤滑剤を、それぞれに所定の
溶解度で容易に溶解する溶媒を使用するか、潤滑剤に対
する溶解度が小さな溶媒を混合した２液式溶媒を使用す
ることも出来る。また、両潤滑剤に対して、ほぼ同様の
溶解度を有するような溶媒を選択することも行われてい
る。
【００３６】一般的には、ポリフェノキシトリホスファ
ーゼン化合物は、炭化水素溶媒にも、また、或種のパー
フルオリン溶媒にも容易に溶解する。一方、本発明にお
いて使用されるパーフルオロポリエーテルは、パーフル
オリン溶媒にも、より容易に溶解する。ポリフェノキシ
トリホスファーゼン化合物用の溶媒として、例えば、ｎ
−ヘキサン、及び、ＣＦＣ−１１３（ＣＣｌＦ2ＣＣｌ2
Ｆ）がある。パーフルオロポリエーテル油類が可溶な溶
媒として、ＣＦＣ−１１３及びパーフルオロ炭素系のパ
ーフルオロヘキサンがあり、後者については、３Ｍ社か
ら商品名「ＰＦ−５０６０」として市販されている。
【００３７】浸漬工程は、標準的な潤滑装置で実現可能
で、サンホセテクノロジーカンパニー社（サンホゼ、カ
リフェルニャ）から商品化されている。上記の工程を経
過して製造された未研磨の磁気ディスクを潤滑装置に装
着し、工程プログラムに従って、所定の時間、潤滑剤を
溶解した溶液中に浸漬する。溶液中への浸漬が終了する
と、ディスクは、溶媒が殆ど蒸発するまで乾燥される。
溶媒の除去作業を加速するために、減圧したり、不活性
ガス（例えば窒素ガス）の通風路をディスク表面に設け
ることが出来る。潤滑剤をマルチレイヤーの形で付加す
ることも、浸漬、乾燥工程で可能であり、所定の厚みが
得られるまで、積層することが出来る。この場合、浸漬
の標準工程の合間に、キス−バフによるディスク表面の
補修を行って、表面欠陥を除去するのが望ましい。
【００３８】又、別の具体的実施例として、ポリフェノ
キシトリホスファーゼン及びパーフルオロポリエーテル
潤滑剤は、分離した状態で、交互に積層することも可能
で、これまでに説明した標準的工程と同様な方法によっ
て実現することが出来る。例えば、パーフルオロポリエ
ーテル油のみを含有する潤滑剤層が、浸漬工程によっ
て、約１０〜３０オングストロームの厚みで生成され
る。次に、ディスクはキス−バフを受けるが、この工程
で発生する潤滑剤層の厚みの目減りは、僅かに数オング
ストロームに過ぎない。次に、ディスクは、ポリフェノ
キシシクロトリフォスファゼン化合物のみを含有する
か、もしくはつねパーフルオロポリエーテル油と混合し
た溶液中に浸漬され、第２のサブレイヤーを、最初の潤
滑剤層の上面に生成する。
【００３９】付加されたそれぞれの潤滑剤層の厚みは、
１０オングストロームから３０オングストロームの間に
なるが、標準的には、約１５オングストロームから２５
オングストロームの間である。潤滑剤層の最終的な厚み
は、フーリエ変換赤外線分光分析計（ＦＴＩＲ）による
計測結果（ニコレット、フレモント、カリフォルニヤ）
では、標準的な値として、約２５〜約３５オングストロ
ームである。
【００４０】４. 潤滑剤層の特性 表面潤滑剤の潤滑性能を評価するには、標準的方法によ
って計測された、動的摩擦係数を見るのが効果的であ
る。図６は、ディスク７０の表面摩擦係数を計測するた
めに使用される装置８０の概要図である。この種の測定
に適した装置の１つとして、「ダイサン」テスターと呼
ばれているもので、ディスクの粘度や摩擦係数の計測に
適している。要約して説明すると、この装置には、モー
ターによって駆動されるローター８４が設けてあり、こ
れによってディスクを低速で回転させている。装置内部
の、標準の重さ６．５ｇｒａｍに組立られた読み込み／
書き込み用ヘッド８６は、ディスクの接触位置（実線）
と非接触位置（点線）の間を移動するムーブメントに装
着されている。一方、ヘッドは、応力変換器（トランス
ジューサー）８８に接続されて、ディスクが静止位置か
ら回転しようとした時にヘッドに加えられる力（ディス
クの移動方向に向かう）を計測する。この力の計測値に
よって、標準的には、ディスクの回転を１ｒｐｍとした
時の、動的摩擦係数が決定される。
【００４１】クローム磁気層と、スパッターされた炭素
のオーバーコートから成る一連の磁気ディスクが、上記
の方法によって連続的に製造され、そして、次に潤滑剤
の塗膜が、以下によって行われる。即ち、２種類の潤滑
剤溶液が使用される。 （ｉ）０．１％（ｖ／ｖ）のパーフルオロポリエーテル
化合物、Ｚ−２５（図２、オージモント製）を、ＰＦ−
５０６０（パーフルオロヘキサン、３Ｍ社製、セント・
ポール市、ミネソタ州）に溶解し、（ｉｉ）０．１％
（ｖ／ｖ）のＺ−２５と、０．０５％（ｖ／ｖ）のポリ
フェノキシトリホスファーゼン化合物、Ｘ−１Ｐ（図
５、ダウ・ケミカル製）を含有する、ＰＦ−５０６０溶
液。ここで、（ｉｉ）に示した溶液を調合する際には、
以下の注意が必要である。即ち、Ｘ−１Ｐ化合物は、最
初に小量のＣＦＣ−１１３に溶かし込んでおいて、種溶
液としておくことである。例えば、２ｍＬのＸ−１Ｐ
を、１０ｍＬのＣＦＣ−１１３に溶解する比率を保っ
て、種溶液をあらかじめ作っておいて、これを、ＰＦ−
５０６０（標準的には、１０ガロンのＰＦ−５０６０を
使用する）で十分に希釈された、Ｚ−２５中に加える手
順である。
【００４２】潤滑装置は、重力を利用して潤滑剤溶液を
塗着させる、グラビティー・フロー・潤滑装置で、サン
・ホセ・テクノロジー社（サン・ホゼ市、カリフォルニ
ヤ州）製の、モデル７Ｇ−１１３０／７Ｇ１９５を使用
した。個々のディスクは、上述の潤滑剤溶液の、いずれ
かに、２ｍｍ／秒の引き出し速度で浸漬され、その後３
０分間通風される。そして、ディスクは、バフィング装
置によってキス−バフされる。 この装置は、エクス
クルーシブ・デザイン社（サン・マテオ市、カリフォル
ニヤ州）製の、モデルＮｏ．８００ ＨＤＦ−Ｃで、
０．３μｍ微粒子研磨テープ仕様のものである。ちなみ
に、このテープは、３Ｍ社（ミネアポリス市、ミネソタ
州）が提供する、Ｎｏ．５１１９０４６９、である。バ
フィングは、８秒間、テープ圧１ポンド、テープ速度、
０．０２５インチ／秒、ディスク速度、１００ｒｐｍ、
で行う。
【００４３】キス・バフの工程が完了した後、ディスク
は再び潤滑装置に装着され、前と同じ溶液に、前と同様
に浸漬され、そして更に３０分間通風乾燥される。動的
表面摩擦係数を測定するために、ディスクは、最高２
０，０００回の起動／停止のサイクル試験に曝され、そ
の間中、摩擦係数が記録される。これらの計測は、標準
状態（２１℃、湿度約４５％）、高温・高湿状態（３０
℃、湿度８０％）、及び、高温・乾燥状態、の各条件下
で行われる。その結果を次表に示す。
【００４４】
【表１】
【００４５】上表から判るように、標準状態では、パー
フルオロポリエーテル（Ｚ−２５）潤滑剤のみが、動的
摩擦係数が、０．５〜１．０、の範囲内にある。この値
は、Ｘ−１Ｐを外側表面に塗膜した時の値として、ダウ
・ケミカル社が、１９９４年６月２１−２４に、ニュー
メキシコ州のアルバカーキ市で行われたインターマグ会
議で報告した値と、ほぼ同じであり、この値は、比較の
ために、上表の第３コラムに掲示してある。しかるに、
Ｚ−２５／Ｘ−１Ｐ混合潤滑剤のの値（第４コラム）
は、標準状態で、Ｚ−２５もしくは、Ｘ−１Ｐが単一で
使用された時よりも、明らかに、より優れた潤滑性を有
することを示しており、その動的摩擦係数は、約０．３
〜０．６の範囲内に留まっている。
【００４６】高温時に得られた摩擦係数のデータは、表
の下側２列に示されている。これから判断されるよう
に、高温／高湿の環境条件下では、パーフルオロポリエ
ーテル潤滑剤のみが、実質的に芳しくない摩擦特性を示
しており、起動／停止の繰り返しサイクルの最初の数千
回で、摩擦係数が２〜３の間に達している。パーフルオ
ロポリエーテルの摩擦特性は、高温／乾燥の環境条件下
でも、同様に貧弱である。この条件下で得られた、１〜
２の値は、高温／高湿条件時に計測された値ほどには悪
くは無いが、ディスクの表面には、摩耗の痕跡が現れ
る。
【００４７】対象的に、パーフルオロポリエーテル／ト
リホスファーゼン混合物は、高温／高湿時及び高温／乾
燥時の両方で、優れた摩擦特性を示しており、２０，０
００回の起動／停止サイクルを繰り返した後であって
も、高温／高湿時の摩擦係数の値は、０．３〜０．７の
間に、また、高温／乾燥時の値は、０．２５〜０．４１
の間に納まっている。しかも、試験に供したいずれのデ
ィスクにも、摩耗の痕跡は全く認められなかった。これ
らの摩擦特性は、トリホスファーゼン化合物（Ｘ−１
Ｐ）を単独で使用した場合に得られる値よりも優れてい
る。この動的摩擦係数に関して観測された傾向は、一般
的に、静的摩擦係数についても同様に適用される。
【００４８】本発明について具体的な数値を例示して説
明してきたが、ここで開示された技術に種々の変形を加
えることも、また、修飾を加えることも可能であること
は勿論である。
【図面の簡単な説明】
【図１】潤滑剤層を有する薄膜メディアを示す説明図で
ある。
【図２】パーフルオロポリエーテル化合物の、１構成例
を示す図面である。
【図３】ポリフェノキシ−トリフォスファゼン化合物の
一般的構造を示す図面である。
【図４】ポリフェノキシトリフォスファゼン化合物の１
構成例を示す図面である。
【図５】磁気ディスク製造工程で使用される、スパッタ
リング装置の１部分を示す説明図である。
【図６】磁気ディスクの外側層における摩擦特性の計測
装置を示す説明図である。
【符号の説明】
１０ 薄膜メディア、１２ 薄板、１４ アンダーレイ
ヤー、１６ 磁気薄膜層、１８ オーバーコート、２０
潤滑剤層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 (Ｃ１０Ｍ 169/04 107:38 137:16） Ｃ１０Ｎ 30:06 40:18

Claims (16)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 基板と、その基板上に形成された磁気記
    録用薄膜と、その磁気記録用薄膜の上に形成された保護
    被膜と、ポリフェノキシ−シクロトリフォスファゼン潤
    滑剤及び、パーフルオロポリエーテル油が、それらの体
    積比が、約０．２から５．０の間になる比率で存在して
    成る、外側潤滑剤層と、から成ることを特徴とする、デ
    ィスクドライブの中で、読み込み／書き込み用ヘッドと
    共に使用する、薄膜磁気記録用ディスク。
  2. 【請求項２】 ポリフェノキシ−シクロトリフォスファ
    ゼン潤滑剤及びパーフルオロポリエーテル油が分離した
    副層となって存在し、併せて、外側潤滑剤層を形成す
    る、請求項１記載の薄膜磁気記録用ディスク。
  3. 【請求項３】 ポリフェノキシ−シクロトリフォスファ
    ゼン潤滑剤及びパーフルオロポリエーテル油が、混合物
    となって潤滑剤層中に存在する、請求項１記載の薄膜磁
    気記録用ディスク。
  4. 【請求項４】 前記体積比が、約０．５から約２．０の
    間にある、請求項１記載の薄膜磁気記録用ディスク。
  5. 【請求項５】 オーバーコートされた保護被膜が、炭素
    被膜である、請求項１記載の薄膜磁気記録用ディスク。
  6. 【請求項６】 ポリフェノキシ−シクロトリフォスファ
    ゼン潤滑剤が、ポリフェノキシシクロトリフォスファゼ
    ンの弗化物である、請求項１記載の薄膜磁気記録用ディ
    スク。
  7. 【請求項７】 ポリフェノキシ−シクロトリフォスファ
    ゼン潤滑剤が、化１の構造式を有する、請求項６記載
    の、ポリフェノキシ−シクロトリフォスファゼン潤滑
    剤。 【化１】
  8. 【請求項８】 パーフルオロポリエーテル油が、約５か
    ら約３０キロダルトンの分子量である、請求項１記載の
    薄膜磁気記録用ディスク。
  9. 【請求項９】 ポリフェノキシ−シクロトリフォスファ
    ゼン潤滑剤及び、パーフルオロポリエーテル油が、それ
    らの体積比が、約０．２から５．０の間になる比率で混
    在して成る、表面の動的摩擦係数を低減するための、潤
    滑剤混合物。
  10. 【請求項１０】 体積比が、約０．５から約２．０の間
    にある、請求項９記載の、潤滑剤混合物。
  11. 【請求項１１】 ポリフェノキシ−シクロトリフォスフ
    ァゼン潤滑剤が、ポリフェノキシシクロトリフォスファ
    ゼンの弗化物である、請求項９記載の潤滑剤混合物。
  12. 【請求項１２】 ポリフェノキシ−シクロトリフォスフ
    ァゼン潤滑剤が、化１の構造式を有する、請求項１１記
    載の、潤滑剤混合物。 【化１】
  13. 【請求項１３】 パーフルオロポリエーテル油が、約５
    から約３０キロダルトンの分子量である、請求項９記載
    の潤滑剤混合物。
  14. 【請求項１４】 パーフルオロポリエーテル油の潤滑特
    性を改善する方法であって、この油を表面に塗膜して、
    動的摩擦係数を効果的に低減するための添加物が、ポリ
    フェノキシ−シクロトリフォスファゼン潤滑剤である、
    潤滑特性改善方法。
  15. 【請求項１５】 ポリフェノキシ−シクロトリフォスフ
    ァゼン潤滑剤及び、パーフルオロポリエーテル油が、そ
    れらの体積比が、約０．２から５．０の間になる比率で
    混在している、請求項１４記載の潤滑特性改善方法。
  16. 【請求項１６】 前記体積比が、約０．５から約２．０
    の間にある、請求項１４記載の潤滑特性改善方法。
JP16507895A 1994-07-01 1995-06-30 磁気ディスク Pending JPH0883423A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US27024094A 1994-07-01 1994-07-01
US08/270,240 1994-07-01

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0883423A true JPH0883423A (ja) 1996-03-26

Family

ID=23030492

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP16507895A Pending JPH0883423A (ja) 1994-07-01 1995-06-30 磁気ディスク

Country Status (4)

Country Link
US (1) US5587217A (ja)
JP (1) JPH0883423A (ja)
AU (1) AU2998295A (ja)
WO (1) WO1996001303A1 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6054211A (en) * 1997-02-21 2000-04-25 Nec Corporation Lubricant and magnetic recording medium using the same
JP2010037563A (ja) * 2008-08-05 2010-02-18 Seagate Technology Llc 低断面潤滑剤のシクロホスファゼン環を有する混合物

Families Citing this family (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998018804A1 (en) * 1996-10-28 1998-05-07 The Dow Chemical Company Functionalized-phenoxy phosphazenes and use of same as a lubricant
US6238796B1 (en) 1998-02-17 2001-05-29 Seagate Technology Llc Magnetic recording media
US5908817A (en) * 1998-05-18 1999-06-01 The Dow Chemical Company Lubricants containing a perfluoropolyalkyl ether and a fluoroalkylphosphazene
US6099762A (en) * 1998-12-21 2000-08-08 Lewis; Paul E. Method for improving lubricating surfaces on disks
US6730403B1 (en) * 1999-01-07 2004-05-04 Fuji Electric Co., Ltd. Magnetic recording medium and method for manufacturing the same
US6541431B1 (en) 1999-05-25 2003-04-01 Matsumura Oil Research Corp. Lubricant for magnetic recording medium
JP4297461B2 (ja) 1999-06-17 2009-07-15 富士電機デバイステクノロジー株式会社 磁気記録媒体およびその製造方法
US6511702B1 (en) 1999-11-09 2003-01-28 Seagate Technology Llc Apparatus and method to control the molecular weight distribution of a vapor
AU2733501A (en) * 1999-12-23 2001-07-03 Hyundai Electronics America, Inc. A method of mixing an additive with a solvent for lubrication of magnetic recording media
US6602570B1 (en) * 2000-02-14 2003-08-05 Seagate Technology Llc Zone bonded lubrication for hard disk recording media
US6565719B1 (en) 2000-06-27 2003-05-20 Komag, Inc. Magnetic disk comprising a first carbon overcoat having a high SP3 content and a second carbon overcoat having a low SP3 content
US6816341B2 (en) * 2000-07-05 2004-11-09 Hitachi, Ltd. Hard disk drive utilizing second lubricant over a first lubricant having a phosophezine group
US6673429B1 (en) * 2000-07-25 2004-01-06 Seagate Technology Llc Magnetic recording media with a multiple-layer lubricant
US6686019B1 (en) 2001-02-20 2004-02-03 Seagate Technology Llc In-situ stabilization of composite lubricant/additive films on thin film media
US6627302B1 (en) 2001-03-27 2003-09-30 Seagate Technology Llc Lubricant overcoat for recording media and a process for making the same
US6403149B1 (en) * 2001-04-24 2002-06-11 3M Innovative Properties Company Fluorinated ketones as lubricant deposition solvents for magnetic media applications
US6753060B1 (en) 2001-05-04 2004-06-22 Seagate Technology Llc Method for improving performance of thin film recording media and media obtained thereby
US6656333B2 (en) 2002-01-09 2003-12-02 Seagate Technology Llc Process for making patterned magnetic recording media employing a nonfunctional lubricant
US20030138670A1 (en) * 2002-01-09 2003-07-24 Seagate Technology Llc Lubricant for thin film storage media
US6984422B2 (en) * 2002-05-14 2006-01-10 Seagate Technology Llc Photo process to improve tribological performance of thin lubricant film
US6916510B1 (en) 2002-05-17 2005-07-12 Seagate Technology Llc Method for improving efficiency of UV curing of lubricant thin films and improved data/information storage media obtained thereby
US6890891B1 (en) 2002-06-12 2005-05-10 Seagate Technology Llc In-situ thermal and infrared curing of polymerizable lubricant thin films
US6995121B1 (en) * 2002-06-24 2006-02-07 Seagate Technology Llc Stability polymeric lubricants and thin film recording media comprising same
SG130014A1 (en) * 2002-09-03 2007-03-20 Hoya Corp Magnetic recording disk and process for manufacturing thereof
US6846542B1 (en) 2002-09-30 2005-01-25 Seagate Technology Llc UV treatment for improving performance of lubricated thin film recording media and media obtained thereby
US7220098B2 (en) 2003-05-27 2007-05-22 General Electric Company Wear resistant variable stator vane assemblies
US7060377B2 (en) * 2003-10-20 2006-06-13 Seagate Technology Lubricant film containing additives for advanced tribological performance of magnetic storage medium
US7510999B2 (en) * 2004-05-28 2009-03-31 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Lubricant composition for magnetic recording media
US7371474B1 (en) * 2004-08-06 2008-05-13 Seagate Technology, Llc Advanced lubricant for thin film storage medium
US7543992B2 (en) 2005-04-28 2009-06-09 General Electric Company High temperature rod end bearings
US7695820B2 (en) * 2005-07-26 2010-04-13 The Board Of Trustees Of The University Of Illinois Aliphatic polyesters and lubricants containing the polyesters
WO2008008041A1 (en) * 2006-07-13 2008-01-17 Agency For Science, Technology And Research Phosphazene compound, lubricant and magnetic recording medium having such compound, method of preparation, and method of lubrication
US7998912B2 (en) * 2009-09-14 2011-08-16 Wd Media, Inc. Composite lubricant for hard disk media
US8663822B2 (en) 2011-10-04 2014-03-04 HGST Netherlands B.V. Lubricant layer that provides a stable head-to-disk interface in humid conditions
US20170096612A1 (en) * 2015-10-02 2017-04-06 Varian Medical Systems, Inc. Apparatus and method for precise application of lubricant on collimator components

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3234304A (en) * 1962-05-07 1966-02-08 Du Pont Fluorinated alkaryloxy phosphonitriles
US3316330A (en) * 1964-04-03 1967-04-25 Du Pont Fluorinated phosphonitriles
US3306854A (en) * 1966-03-24 1967-02-28 Du Pont Corrosion inhibited poly(hexafluoropropylene oxide) oil compositions
DE2350062C3 (de) * 1973-10-05 1982-04-22 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Schichtmagnetogrammträger
JPS5539661A (en) * 1978-09-12 1980-03-19 Hitachi Maxell Ltd Magnetic metallic powder for magnetic recording and its manufacturing
US4194983A (en) * 1979-02-06 1980-03-25 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Perfluorinated polyalkylether based lubricant composition
JPH0610868B2 (ja) * 1984-10-22 1994-02-09 日本電気株式会社 磁気記憶体
US4613548A (en) * 1985-02-11 1986-09-23 Ethyl Corporation Polyphosphazene magnetic tape lube
JPS63258993A (ja) * 1987-04-16 1988-10-26 Hitachi Metals Ltd 薄膜潤滑用合成潤滑剤及び磁気記録媒体
US5015405A (en) * 1989-10-05 1991-05-14 The Dow Chemical Company (Fluorinated phenoxy)(3-perfluoroalkylphenoxy)-cyclic phosphazenes
US5230964A (en) * 1989-10-05 1993-07-27 The Dow Chemical Company Magnetic recording media a comprising magnetic particles binder and (fluorinated phenoxy)(3-perfluoroalkylphenoxy)-cyclic phosphazene lubricant
US5049410A (en) * 1989-11-01 1991-09-17 International Business Machines Corporation Lubricant film for a thin-film disk
JPH03266216A (ja) * 1990-03-16 1991-11-27 Hitachi Ltd 磁気記録媒体
US5128216A (en) * 1990-06-26 1992-07-07 Digital Equipment Corporation Lubricants for magnetic media
IT1256304B (it) * 1992-11-10 1995-11-30 Ausimont Spa Derivati fosfazenici e loro impiego come stabilizzanti per oli e grassi a base di perfluoropolieteri
EP0655733B1 (en) * 1993-11-30 1999-03-17 TDK Corporation Magnetic recording medium and method for producing the same

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6054211A (en) * 1997-02-21 2000-04-25 Nec Corporation Lubricant and magnetic recording medium using the same
JP2010037563A (ja) * 2008-08-05 2010-02-18 Seagate Technology Llc 低断面潤滑剤のシクロホスファゼン環を有する混合物

Also Published As

Publication number Publication date
US5587217A (en) 1996-12-24
AU2998295A (en) 1996-01-25
WO1996001303A1 (en) 1996-01-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0883423A (ja) 磁気ディスク
JP3651681B2 (ja) 磁気ディスクおよびその製造方法
JP2008257852A (ja) ポリマー性ペルフルオロポリエーテルホスフォート潤滑剤トップコート
JP4099860B2 (ja) 液体潤滑剤およびそれを用いた磁気記録媒体とその製造方法
US7510999B2 (en) Lubricant composition for magnetic recording media
US6730403B1 (en) Magnetic recording medium and method for manufacturing the same
US6500484B2 (en) Magnetic recording media
JP4297461B2 (ja) 磁気記録媒体およびその製造方法
JP4326097B2 (ja) 磁気記録媒体および該磁気記録媒体の製造方法
US6121403A (en) Polymeric perfluoro polyether silyl ether lubricant topcoat
US6660886B1 (en) Amphiphilic lubricants for magnetic media
JP2560183B2 (ja) 潤滑剤およびそれを利用した磁気記録媒体
JP3888625B2 (ja) 磁気ディスクおよびその製造方法
US7682712B2 (en) Stability polymeric lubricants and thin film recording media comprising same
JP4042086B2 (ja) 磁気記録媒体および該磁気記録媒体の製造方法
JP2004352999A (ja) ホスファゼン化合物を含有する潤滑剤
JP7012807B2 (ja) 含フッ素エーテル化合物、磁気記録媒体用潤滑剤および磁気記録媒体
WO2022215726A1 (ja) 含フッ素エーテル化合物、磁気記録媒体用潤滑剤および磁気記録媒体
JPH05234066A (ja) 磁気記録媒体及びその製造方法
JPH08151588A (ja) 潤滑剤およびこれを用いた磁気記録媒体
KR100457729B1 (ko) 중합성퍼플루오로폴리에테르포스페이트윤활제톱코우트
JP2000235709A (ja) 情報記録媒体および情報記録装置
JPH05109053A (ja) 磁気記録媒体及びその製造方法
JP2005263746A (ja) 含フッ素エステル化合物、潤滑剤及び記録媒体
JP2005263747A (ja) 含フッ素エステル化合物、潤滑剤及び記録媒体