JPH0881441A - 三環式ヘテロ環含有スルホンアミドおよびスルホン酸エステル誘導体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 抗腫瘍作用を有する三環式ヘテロ環含有新規
スルホンアミドおよびスルホン酸エステル誘導体および
その製造方法の提供。 【構成】 一般式（Ｉ） 【化１】 ｛Ｇは芳香族５、６員環、ＬはＯ、Ｎ（Ｒ¹ ）（Ｒ¹ は
水素原子、低級アルキル基）、Ｍは下記から選ばれる三
環式構造 【化２】 ［Ａ環、Ｂ環は不飽和５または６員環、ＸはＮ（Ｒ² ）
（Ｒ² は水素原子、低級アルキル基）、ＮＨＣＯ、Ｙは
Ｏ、Ｓ（Ｏ）_n 、Ｃ（Ｒ³ ）（Ｒ⁴ ）、Ｃ（Ｏ）、Ｎ
（Ｒ⁵ ）、ＣＨ（Ｒ⁶ ）ＣＨ（Ｒ⁷ ）、Ｃ（Ｒ⁸ ）＝Ｃ
（Ｒ⁹ ）、Ｎ（Ｒ¹⁰）Ｃ（Ｏ）、Ｎ＝Ｃ（Ｒ¹¹）、ＯＣ
Ｈ（Ｒ¹²）、Ｓ（Ｏ）_n ＣＨ（Ｒ¹³）、Ｎ（Ｒ¹⁴）ＣＨ
（Ｒ¹⁵）、Ｚは窒素原子、Ｃ（Ｒ¹⁶）（ｎは０、１、２
を、Ｒ³ 〜Ｒ ¹³、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶は水素原子、低級アルキル
基を、Ｒ¹⁴は水素原子、低級アルキル基、低級アシル
基）］｝で表されるスルホンアミドおよびエステル誘導
体。 【効果】優れた抗腫瘍活性を有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は新規なスルホンアミドま
たはスルホン酸エステル誘導体、その製造および該化合
物を有効成分とする医薬組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術】癌の化学療法剤として従来用いられてい
るものには、アルキル化剤のサイクロフォスファミド、
代謝拮抗剤のメトトレキセート、フルオロウラシル、抗
生物質のアドリアマイシン、マイトマイシン、ブレオマ
イシン、植物由来のビンクリスチン、エトポシド、金属
錯体のシスプラチンなど多くの薬剤があるが、いずれも
その抗腫瘍効果は不十分であり、新しい抗腫瘍剤の開発
が切望されている。また、芳香族スルホンアミド系抗腫
瘍性化合物としては、４−アミノベンゼンスルホンアミ
ド誘導体（特公昭43−3093）、２−スルファニルアミド
−キノキサリン誘導体（特開昭62−426 ）およびＮ−
（２−アニリノ−３−ピリジル）ベンゼンスルホンアミ
ド誘導体（特開平５−39256 ）が報告されている。芳香
族スルホン酸エステル系抗腫瘍性化合物についてはまだ
報告がない。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、優れた抗腫
瘍活性を有し、従来の抗腫瘍性化合物とは基本骨格が異
なる新規スルホンアミド誘導体および新規スルホン酸エ
ステル誘導体の提供を目的とする。さらに該化合物の製
造法および該化合物を有効成分とする医薬組成物をも提
供することを目的とする。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記趣旨
に鑑み、優れた抗腫瘍性化合物を求めて鋭意研究を行っ
てきた結果、三環式構造を有する新規スルホンアミド誘
導体および新規スルホン酸エステル誘導体が優れた抗腫
瘍活性を有し、かつ低毒性であることを見出し、本発明
を完成した。

【０００５】すなわち、本発明は一般式（Ｉ）

【化８】 ｛式中、Ｇは置換基を１ないし２個有する芳香族５また
は６員環を意味する。Ｌは式−Ｎ（Ｒ¹ ）−（式中、Ｒ
¹ は水素原子または低級アルキル基を意味する）または
酸素原子を意味する。

【０００６】Ｍは式（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）、
（ｅ）または（ｆ）から選ばれる三環式構造

【化９】 ［式中、Ａ環およびＢ環は置換されていてもよい不飽和
５または６員環を、Ｘは式−Ｎ（Ｒ² ）−（式中、Ｒ²
は水素原子または低級アルキル基を意味する）または−
ＮＨＣＯ−を、Ｙは酸素原子、式−Ｓ（Ｏ）_n −、−Ｃ
（Ｒ³ ）（Ｒ⁴ ）−、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｎ（Ｒ⁵ ）−、
−ＣＨ（Ｒ⁶ ）ＣＨ（Ｒ⁷ ）−、−Ｃ（Ｒ⁸ ）＝Ｃ（Ｒ
⁹ ）−、−Ｎ（Ｒ¹⁰）Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｎ
（Ｒ¹⁰）−、−Ｎ＝Ｃ（Ｒ¹¹）−、−Ｃ（Ｒ¹¹）＝Ｎ
−、−ＯＣＨ（Ｒ¹²）−、−ＣＨ（Ｒ¹²）Ｏ−、−Ｓ
（Ｏ）_n ＣＨ（Ｒ¹³）−、−ＣＨ（Ｒ¹³）Ｓ（Ｏ）_n
−、−Ｎ（Ｒ¹⁴) ＣＨ（Ｒ¹⁵）−または−ＣＨ（Ｒ¹⁵）
Ｎ（Ｒ¹⁴) −（式中、ｎは０、１または２を、Ｒ³ 、Ｒ
⁴ 、Ｒ⁶、Ｒ⁷ 、Ｒ⁸ およびＲ⁹ は同一または相異なる
水素原子または低級アルキル基を、Ｒ⁵ 、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹、
Ｒ¹²、Ｒ¹³およびＲ¹⁵は水素原子または低級アルキル基
を、Ｒ¹⁴は水素原子、低級アルキル基または低級アシル
基を意味する）を、Ｚは窒素原子または式−Ｃ（Ｒ¹⁶）
＝（式中、Ｒ¹⁶は水素原子または低級アルキル基を意味
する）を意味する］を意味する。但し、Ｇが４−メチル
フェニル基または４−メトキシカルボニルアミノフェニ
ル基であり、Ｍの三環式構造（ａ）におけるＸが式−Ｎ
（Ｒ² ）−であり、かつＹが酸素原子または式−Ｓ
（Ｏ）_n −（式中、ｎが０である場合）である組合せを
除く｝で表されるスルホンアミド誘導体あるいはスルホ
ン酸エステル誘導体、またはそれらの薬理学的に許容さ
れる塩に関する。

【０００７】以下に本発明の詳細な説明を述べる。上記
一般式（Ｉ）において、Ｇで表される「置換基を１ない
し２個有する芳香族５または６員環」とは、置換基を１
ないし２個有するベンゼン、ピリジン、チオフェン、フ
ランを意味する。置換基としては例えばハロゲン原子、
低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキル基で
置換されていてもよいアミノ基などを挙げる事ができ
る。

【０００８】また、上記一般式（Ｉ）において、Ｍで表
わされる三環式構造中のＡ環およびＢ環は同一または異
なっていてもよく、これらの意味する「置換されていて
もよい不飽和５または６員環」とは、置換されていても
よい５または６員からなる不飽和炭化水素またはヘテロ
原子として窒素原子、酸素原子、硫黄原子を有する不飽
和ヘテロ環である。主な不飽和５または６員環としてピ
ロール、ピラゾール、イミダゾール、チオフェン、フラ
ン、ベンゼン、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、ピリ
ダジンなどを挙げることができる。

【０００９】上記５または６員環は置換基を１〜３個有
していてもよく、置換基としては例えばハロゲン原子、
水酸基で置換されていてもよい低級アルキル基、水酸基
で置換されていてもよい低級アルコキシ基、水酸基、水
酸基を有していてもよい低級アルキル基で置換されてい
てもよいアミノ基、低級アシルアミノ基、シアノ基、低
級アシル基あるいはオキソ基などを挙げることができ
る。また、置換基が水酸基である場合または置換基中に
水酸基を有する場合、これらの水酸基は保護されていて
もよい。保護されていてもよい水酸基としてメトキシメ
チルオキシ基、テトラヒドロピラニルオキシ基、ベンジ
ルオキシ基、リン酸エステル、硫酸エステル、スルホン
酸エステル（ｐ−メトキシベンゼンスルホン酸、メタン
スルホン酸などとのエステル）、アミノ酸エステル（例
えばグリシン、アラニン、ロイシン、チロシン、アスパ
ラギン酸、グルタミン酸、リジン、アルギニン、プロリ
ン、ザルコシン、β−アラニン、γ−アミノ酪酸などと
のエステル）、グリコシド（例えばグルコシド、グルク
ロナイドなど）、低級アルキル基で置換されていてもよ
いカルバモイルオキシ基（例えばカルバモイルオキシ
基、メチルカルバモイルオキシ基、ジメチルカルバモイ
ルオキシ基など）、低級アシルオキシ基（例えばホルミ
ルオキシ基、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ピ
バロイルオキシ基など、炭素数１〜５のもの）、ベンゾ
イルオキシ基などを挙げることができる。

【００１０】上記一般式（Ｉ）において、Ｒ¹ 〜Ｒ
¹⁶の、あるいはＧ、Ａ環およびＢ環が有していてもよい
置換基の定義中の低級アルキル基とは、炭酸数１〜６の
直鎖もしくは分枝状のアルキル基、例えばメチル基、エ
チル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル
基、イソブチル基、 sec−ブチル基、tert−ブチル基、
ｎ−ペンチル基（アミル基）、イソペンチル基、ネオペ
ンチル基、tert−ペンチル基、１−メチルブチル基、２
−メチルブチル基、１，２−ジメチルプロピル基、ｎ−
ヘキシル基、イソヘキシル基、１−メチルペンチル基、
２−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、１，１
−ジメチルブチル基、１，２−ジメチルブチル基、２，
２−ジメチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、
２，３−ジメチルブチル基、３，３−ジメチルブチル
基、１−エチルブチル基、２−エチルブチル基、１，
１，２−トリメチルプロピル基、１，２，２−トリメチ
ルプロピル基、１−エチル−１−メチルプロピル基、１
−エチル−２−メチルプロピル基などを意味する。これ
らのうち好ましい基としては、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、イソプロピル基などを挙げることができ、こ
れらのうち、最も好ましい基としてはメチル基、エチル
基を挙げることができる。

【００１１】Ｇ、Ａ環およびＢ環が有していてもよい置
換基の定義中の低級アルコキシ基とは、メトキシ基、エ
トキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−
ブトキシ基、イソブトキシ基、tert−ブトキシ基など上
記の低級アルキル基から誘導される低級アルコキシ基を
意味するが、これらのうち最も好ましい基としてはメト
キシ基、エトキシ基を挙げることができる。またハロゲ
ン原子としてはフッ素原子、塩素原子、臭素原子などが
挙げられる。Ｒ¹⁴の、あるいはＡ環およびＢ環が有して
いてもよい置換基の定義中の低級アシル基とはホルミル
基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブ
チリル基、バレリル基などを意味する。

【００１２】上記一般式（Ｉ）で示されるスルホンアミ
ド誘導体またはスルホン酸エステル誘導体は酸または塩
基と塩を形成する場合もある。本発明は化合物（Ｉ）の
塩をも包含する。酸との塩としては、たとえば塩酸塩、
臭化水素酸塩、硫酸塩等の無機酸塩や酢酸、乳酸、コハ
ク酸、フマル酸、マレイン酸、クエン酸、安息香酸、メ
タンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸などの有機酸
との塩を挙げることができる。また、塩基との塩として
は、ナトリウム塩、カリウム塩、カルシウム塩などの無
機塩、トリエチルアミン、アルギニン、リジン等の有機
塩基との塩を挙げることができる。

【００１３】また、これら化合物の水和物はもちろんの
こと光学異性体が存在する場合はそれらすべてが含まれ
ることはいうまでもない。本発明化合物は強い抗腫瘍活
性を示すが、生体内で酸化、還元、加水分解、抱合など
の代謝を受けて抗腫瘍活性を示す化合物をも包含する。
さらに、本発明は生体内で代謝を受けて発明化合物を生
じる化合物をも包含する。

【００１４】次に本発明化合物（Ｉ）は種々の方法によ
って製造することができるが、それらのうち代表的な方
法を示せば、以下の通りである。

【００１５】（１）一般式（ＩＩ）

【化１０】 （式中、Ｇｂは保護されていてもよいＧを意味する）で
表わされるスルホン酸またはその反応性誘導体と一般式
（ＩＩＩ）

【００１６】

【化１１】 （式中、Ｌは前記と同じ意味を示す。Ｍａは保護されて
いてもよいＭを意味する）で表わされる化合物を反応さ
せ、得られた化合物が保護基を有する場合は所望により
該保護基を除去することにより製造することができる。

【００１７】スルホン酸（ＩＩ）の反応性誘導体として
は、例えばハロゲン化スルホニル、スルホン酸無水物、
Ｎ−スルホニルイミダゾリドなどのような一般的によく
利用される反応性誘導体を挙げることができるが、特に
好適な例はハロゲン化スルホニルである。反応は化学量
論的に当モルにて進行する。反応に使用する溶媒は特に
限定されないが、原料物質を溶解し、かつこれらと容易
に反応しないものが望ましく、例えばピリジン、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン、ベンゼン、エーテル、ジク
ロロメタン、ジメチルホルムアミド、あるいはこれらか
ら選ばれた２種以上の混合溶媒などが利用され得る。ま
た、本反応においてハロゲン化スルホニルを用いた場合
の如く、反応の進行に伴い酸が遊離してくる場合には、
適当な脱酸剤の存在下に行われるのが好ましいので、ピ
リジンのような塩基性溶媒の使用は特に好適である。中
性溶媒を使用するときは、炭酸アルカリ、有機第３級ア
ミンなどの塩基性物質を添加してもよい。勿論、使用し
うる溶媒はここに挙げたものに限定されるものではな
い。一般に本反応は室温で進行するが、必要に応じて冷
却または加熱してもよい。反応時間は通常10分〜20時間
であるが、原料化合物の種類、反応温度によって任意に
選ばれる。

【００１８】得られた生成物において、アミノ基または
水酸基が保護されている場合には、所望により酸処理、
アルカリ処理、接触還元など通常の脱保護法を行うこと
により、遊離の水酸基またはアミノ基を有するスルホン
アミド誘導体またはスルホン酸エステル誘導体（Ｉ）を
得ることが可能である。

【００１９】（２）一般式（ＶＩＩ）

【化１２】 （式中、ＧｂおよびＭａは前記と同じ意味を示す）で表
わされる化合物を、例えば水素化ナトリウムのような塩
基存在下低級アルキルハライドと反応させることにより
製造することができる。得られた生成物において、アミ
ノ基または水酸基が保護されている場合には、所望によ
り酸処理、アルカリ処理、接触還元など通常の脱保護法
を行うことにより遊離の水酸基またはアミノ基を有する
スルホンアミド誘導体（Ｉ）を得ることが可能である。

【００２０】（３）一般式（ＶＩＩＩ）

【化１３】 （式中、ＧｂおよびＬは前記と同じ意味を示す。Ｍｂは
Ｍａの定義中のＹが硫黄原子を含む場合のＭａを意味す
る）で表わされる化合物を、例えば過酸化水素、ｍ−ク
ロロ過安息香酸などの酸化剤と反応させることにより製
造することができる。得られた生成物において、アミノ
基または水酸基が保護されている場合には、所望により
酸処理、アルカリ処理、接触還元など通常の脱保護法を
行うことにより遊離の水酸基またはアミノ基を有するス
ルホンアミド誘導体またはスルホン酸エステル誘導体
（Ｉ）を得ることが可能である。

【００２１】（４）一般式（ＩＶ）

【化１４】 （式中、Ｇｂ、Ｒ¹ およびＲ² は前記と同じ意味を示
し、Ｒ^14a は水素原子または低級アルキル基を、Ａａ環
およびＢａ環は各々保護されていてもよいＡ環およびＢ
環を意味する）で表わされる化合物を塩酸、臭化水素酸
などの酸の存在下にパラホルムアルデヒド、アセトアル
デヒドなどのアルデヒド類と反応させることにより製造
することができる。反応に使用する溶媒は特に限定され
ないが、テトラヒドロフラン、メタノール、水あるいは
これらの混合溶媒などが利用され得る。反応温度は原料
化合物の種類によって任意に選ばれるが、必要に応じて
加熱してもよい。得られた生成物において、アミノ基ま
たは水酸基が保護されている場合には、所望により酸処
理、アルカリ処理、接触還元など通常の脱保護法を行う
ことにより遊離の水酸基またはアミノ基を有するスルホ
ンアミド誘導体（Ｉ）を得ることができる。

【００２２】（５）一般式（ＩＶａ）

【化１５】 （式中、Ｇｂ、Ｒ¹ 、Ａａ環およびＢａ環は前記と同じ
意味を示し、Ｒ^2aは低級アルキル基または保護基を、Ｒ
^14b は低級アシル基を意味する）で表わされる化合物を
ポリリン酸、オキシ塩化リンなどの存在下に反応させる
ことにより製造することができる。反応温度は原料化合
物の種類によって任意に選ばれるが、必要に応じて加熱
してもよい。得られた生成物において、アミノ基または
水酸基が保護されている場合には、所望により酸処理、
アルカリ処理、接触還元など通常の脱保護法を行うこと
により遊離の水酸基またはアミノ基を有するスルホンア
ミド誘導体（Ｉ）を得ることができる。

【００２３】（６）一般式（ＩＸ）

【化１６】 （式中、Ｇｂ、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ¹⁰、Ａａ環およびＢａ環
は前記と同じ意味を示す。Ｊはカルボキシル基またはそ
の反応性誘導体を意味する）で表わされる化合物を分子
内閉環することにより製造することができる。反応温度
は原料化合物の種類によって任意に選ばれるが、必要に
応じて冷却または加熱してもよい。カルボキシル基の反
応性誘導体としては、例えばエステル、活性エステル、
酸ハライド、酸無水物、活性アミド化合物などを挙げる
ことができる。カルボキシル基をそのまま用いる場合に
は、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣ
Ｃ）、ジフェニルホスホリルアジド（ＤＰＰＡ）などの
縮合剤の存在下に反応を行うことも可能である。得られ
た生成物において、アミノ基または水酸基が保護されて
いる場合には、所望により酸処理、アルカリ処理、接触
還元など通常の脱保護法を行うことにより遊離の水酸基
またはアミノ基を有するスルホンアミド誘導体（Ｉ）を
得ることができる。 （７）一般式（Ｖ）

【００２４】

【化１７】 （式中、Ｇｂ、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ａａ環および
Ｂａ環は前記と同じ意味を示し、Ｖは脱離基を意味す
る）で表わされる化合物を分子内閉環することにより製
造することができる。脱離基Ｖとしてはハロゲン原子、
メタンスルホニルオキシ基、パラトルエンスルホニルオ
キシ基などが挙げられる。原料化合物（Ｖ）は必ずしも
単離できる必要はなく、例えば反応中間体として一時的
に生成する場合もある。得られた生成物において、アミ
ノ基または水酸基が保護されている場合には所望により
通常の脱保護法を行うことにより遊離のアミノ基または
水酸基を有するスルホンアミド誘導体（Ｉ）を得ること
ができる。 （７）一般式（ＶＩ）

【００２５】

【化１８】 ［式中、Ｇｂ、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ａａ環およびＢａ環は前記
と同じ意味を示し、ＹａはＮＨＣＯ−または−Ｎ＝Ｃ
（Ｒ¹¹) −（Ｒ¹¹は前記と同じ意味を示す）を意味す
る］で表わされる化合物を還元することにより製造する
ことができる。還元法は原料化合物の種類によって任意
に選ばれるが、例えば接触還元あるいは水素化リチウム
アルミニウムなどの水素化金属による還元法を挙げるこ
とができる。得られた生成物において、アミノ基または
水酸基が保護されている場合には所望により通常の脱保
護法を行うことにより遊離のアミノ基または水酸基を有
するスルホンアミド誘導体（Ｉ）を得ることができる。

【００２６】次にこの発明に用いられる原料化合物を製
造する方法について説明する。原料化合物Ｈ−Ｌ−Ｍａ
（ＩＩＩ）には公知化合物および新規化合物が含まれ
る。原料化合物（ＩＩＩ）においてＨ−Ｌ−がアミノ基
Ｈ₂ Ｎ−を意味する場合には当該ニトロ化合物Ｏ₂ Ｎ−
Ｍａを一般的に利用されるニトロ基の還元法で還元する
ことによりＨ₂ Ｎ−Ｍａ（ＩＩＩ）を得ることができ
る。還元法の好ましい例としてはパラジウム−炭素を触
媒とした接触還元や亜鉛末−酢酸による還元などがあ
る。接触還元は通常メタノール、テトラヒドロフラン、
ジメチルホルムアミドなどの有機溶媒中常圧または加圧
下で行うことができる。原料化合物（ＩＩＩ）において
Ｈ−Ｌ−が水酸基を意味する場合には上記Ｈ₂Ｎ−Ｍａ
をジアゾ化した後加水分解することによりＨＯ−Ｍａ
（ＩＩＩ）を得ることができる。

【００２７】原料化合物（ＩＩＩ）は、一般式（Ｘ）

【化１９】 （式中、Ｒ¹ およびＭａは前記と同じ意味を示し、Ｑは
アミノ基の保護基を意味する）で表わされる化合物の保
護基Ｑを適切な方法で除去することによっても得ること
ができる。アミノ基の保護基としては、例えばベンジル
オキシカルボニル基、アセチル基、tert−ブトキシカル
ボニル基、トリチル基などがある。脱保護法は使用する
保護基の種類によって異なるが、例えば接触還元、酸処
理、アルカリ処理などを挙げることができる。

【００２８】次に原料化合物（ＩＩＩ）の製造原料であ
るニトロ化合物Ｏ₂ Ｎ−ＭａおよびＱ−Ｎ（Ｒ¹ ）−Ｍ
ａ（Ｘ）の製造法について説明するが、これらの化合物
はザ・ケミストリー・オブ・ヘテロサイクリック・コン
パウンズ（The Chemistry ofHeterocyclic Compounds
）の第９巻、第47巻および第47巻パート２に記載の三
環式化合物の広範な合成例などを参考にしながら製造す
ることも可能である。

【００２９】製造法１

【化２０】 （式中、Ａａ環、Ｂａ環およびＲ² は前記と同じ意味を
示す。Ｅはニトロ基または保護されたアミノ基を意味
し、Ｄはハロゲン原子、ニトロ基などの脱離基を意味す
る） 一般式（ＸＩＶ）で表わされる化合物は刊行物記載の方
法、例えばジャーナル・オブ・メディシナル・ケミスト
リー（J. Med. Chem. ）第35巻4770頁に記載の方法また
はそれに準じた方法により合成することができる。即
ち、一般式（ＸＩ）で表わされる化合物とアミン（ＸＩ
Ｉ）をＮ，Ｎ−ジメチルアニリン溶媒中Ｎ，Ｎ−ジイソ
プロピルエチルアミンの存在下または非存在下加熱する
ことにより得られる化合物（ＸＩＩＩ）を１，２−ジク
ロロエタンなどの溶媒中Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリンの存
在下オキシ塩化リンと加熱下反応させる方法または濃硫
酸中加熱する方法で閉環させて合成することができる。

【００３０】また、一般式（ＸＩＶ）で表わされる化合
物は同様にして次の経路で合成することも可能である。

【化２１】 （式中、Ａａ環、Ｂａ環、Ｒ² 、ＥおよびＤは前記と同
じ意味を示す） 化合物（ＸＶ）は化合物（ＸＩＶ）を水素化リチウムア
ルミニウム−塩化アルミニウムなどの還元剤と反応させ
ることにより製造することができる。

【００３１】製造法２

【化２２】 （式中、Ａａ環、Ｂａ環、Ｒ² 、ＤおよびＥは前記と同
じ意味を示す。Ｗはハロゲン原子、ニトロ基などの脱離
基を意味する。Ｙｂは酸素原子、硫黄原子、−Ｎ（Ｒ⁵)
−、−ＯＣＨ（Ｒ¹²）−、−ＳＣＨ（Ｒ¹³）−または−
Ｎ（Ｒ¹⁴) ＣＨ（Ｒ¹⁵）−を意味し、Ｒ⁵ 、Ｒ¹²、
Ｒ¹³、Ｒ¹⁴およびＲ¹⁵は前記と同じ意味を示す） 一般式（ＸＸＩ）で表わされる化合物は刊行物記載の方
法、例えばジャーナル・オブ・ケミカル・ソサイエティ
（J. Chem. Soc. ）1953年1504頁に記載の方法、ジャー
ナル・オブ・オーガニック・ケミストリー（J. Org. Ch
em）第25巻60頁に記載の方法、ジャーナル・オブ・ケミ
カル・ソサイエティ（Ｃ）（J. Chem. Soc.(C)）1969年
2148頁に記載の方法またはそれに準じた方法によって合
成することができる。即ち、一般式（ＸＩＸ）で表わさ
れる化合物と一般式（ＸＸ）で表わされる化合物、また
はそのＮ−ホルミル体、をジメチルホルムアミド中炭酸
カリウムと触媒量の銅粉存在下加熱するか、または一般
式（ＸＩＸ）で表わされる化合物と一般式（ＸＸ）で表
される化合物をまず酢酸ナトリウム、トリエチルアミン
などの存在下または非存在下室温または加熱下反応さ
せ、ついで炭酸カリウム、苛性ソーダなどを加え銅粉の
存在下または非存在下室温または加熱しながら反応させ
ることにより合成することができる。

【００３２】製造法３

【化２３】 （式中、Ａａ環、Ｂａ環およびＹは前記と同じ意味を示
す） 一般式（ＸＸＩＩＩ）で表わされる化合物は、例えばシ
ンセシス（Synthesis）1988年 215頁に記載の方法また
はそれに準じた方法により合成することができる。即
ち、一般式（ＸＸＩＩ）で表わされる化合物をテトラヒ
ドロフランなどの溶媒中ｎ−ブチルリチウムと反応させ
た後、炭酸ガスを吹き込み、ついでｎ−ブチルリチウ
ム、硝酸イソブチルと順次反応させることにより一般式
（ＸＸＩＩＩ）で表わされる化合物を合成することがで
きる。

【００３３】製造法４

【化２４】 （式中、Ａａ環、Ｂａ環、Ｘ、ＹおよびＺは前記と同じ
意味を示す） 一般式（ＸＸＶ）、（ＸＸＶＩＩ）、（ＸＸＩＸ）およ
び（ＸＸＸＩ）で表わされる化合物は、一般に用いられ
るニトロ化剤、例えば濃硝酸、発煙硝酸、混酸、硝酸ア
セチルなどにより化合物（ＸＸＩＶ）、（ＸＸＶＩ）、
（ＸＸＶＩＩＩ）および（ＸＸＸ）を各々常法に従いニ
トロ化することにより合成することができる。 また、
一般式（ＸＸＩＶ）においてＸがＮＨを意味する化合物
（ＸＸＩＶａ）の場合には、オーストラリアン・ジャー
ナル・オブ・ケミストリー（Aust. J. Chem.）第25巻24
51頁に記載の方法またはそれに準じた方法、即ち、化合
物（ＸＸＩＶａ）をまず亜硝酸でＮ−ニトロソ化し、つ
いで酸素の存在下光照射を行うことによっても対応する
ニトロ体を合成することができる。

【００３４】製造法５

【化２５】 （式中、Ａａ環、Ｂａ環、Ｅ、ＤおよびＹｂは前記と同
じ意味を示す） 一般式（ＸＸＸＶＩ）で表わされる化合物は、例えばケ
ミストリー・アンド・インダストリー（Chem. Ind.）19
85年 825頁記載の方法またはそれに準じた方法により合
成することができる。即ち、一般式（ＸＸＸＩＩ）で表
わされる化合物と化合物（ＸＸＸＩＩＩ）をジメチルホ
ルムアミド、エタノールなどの溶媒中炭酸カリウムと銅
粉またはヨウ化カリウムなどの存在下加熱することによ
り得られる化合物（ＸＸＸＩＶ）を通常のニトロ基の還
元法により還元し、得られたアミン（ＸＸＸＶ）を加熱
または１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド等の縮
合剤で処理することにより化合物（ＸＸＸＶＩ）を合成
することができる。一般式（ＸＸＸＶＩ）で表わされる
化合物は、例えばジャーナル・オブ・ラベルド・コンパ
ウンズ・アンド・ラジオファーマシューティカルズ（J.
LabelledCompd. Radiopharm.）第20巻1339頁に記載さ
れているようにアミド結合を先に形成させ、ついで閉環
させる次の経路によっても製造することが可能である。

【００３５】

【化２６】 （式中、Ａａ環、Ｂａ環、Ｅ、ＤおよびＹｂは前記と同
じ意味を示す）

【００３６】製造法６

【化２７】 （式中、Ａａ環、Ｂａ環、Ｒ² およびＧｂは前記と同じ
意味を示し、Ｕは脱離基を意味する） 一般式（ＸＬＶ）で表される化合物は、ジニトロハロゲ
ン化物（ＸＬ）から出発しアミン（ＸＬＩ）との反応、
還元、スルホニルクロリド（ＸＬＩＶ）との反応を順次
行うことにより合成するできる。

【００３７】本発明化合物を医薬として使用する場合
は、経口もしくは非経口的に投与される。投与量は、症
状の程度、患者の年齢、性別、体重、感受性差、投与方
法、投与時期、投与間隔、医薬製剤の性質、調剤、種
類、有効成分の種類等によって異なり特に限定されない
が、通常成人１日あたり10〜6000mg、好ましくは約50〜
4000mg、さらに好ましくは 100〜3000mgでありこれを通
常１日１〜３回に分けて投与する。

【００３８】経口用固形製剤を調製する場合は、主薬に
賦形剤さらに必要に応じて結合剤、崩壊剤、滑沢剤、着
色剤、矯味矯臭剤などを加えた後、常法により錠剤、被
覆錠剤、顆粒剤、細粒剤、散剤、カプセル剤等とする。

【００３９】賦形剤としては、例えば乳糖、コーンスタ
ーチ、白糖、ぶどう糖、ソルビット、結晶セルロース、
二酸化ケイ素などが、結合剤としては、例えばポリビニ
ルアルコール、エチルセルロース、メチルセルロース、
アラビアゴム、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロ
キシプロピルメチルセルロース等が、滑沢剤としては、
例えばステアリン酸マグネシウム、タルク、シリカ等
が、着色剤としては医薬品に添加することが許可されて
いるものが、矯味矯臭剤としては、ココア末、ハッカ
脳、芳香酸、ハッカ油、龍脳、桂皮末等が用いられる。
これらの錠剤、顆粒剤には糖衣、ゼラチン衣、その他必
要により適宜コーティングすることは勿論差し支えな
い。

【００４０】注射剤を調製する場合には、必要により主
薬にpH調整剤、緩衝剤、懸濁化剤、溶解補助剤、安定化
剤、等張化剤、保存剤などを添加し、常法により静脈、
皮下、筋肉内注射剤とする。その際必要により、常法に
より凍結乾燥物とすることもある。

【００４１】懸濁化剤としての例を挙げれば、例えばメ
チルセルロース、ポリソルベート80、ヒドロキシエチル
セルロース、アラビアゴム、トラガント末、カルボキシ
メチルセルロースナトリウム、ポリオキシエチレンソル
ビタンモノラウレートなどを挙げることができる。

【００４２】溶解補助剤としては、例えばポリオキシエ
チレン硬化ヒマシ油、ポリソルベート80、ニコチン酸ア
ミド、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、
マグロゴール、ヒマシ油脂肪酸エチルエステルなどを挙
げることができる。

【００４３】また安定化剤としては、例えば亜硫酸ナト
リウム、メタ亜硫酸ナトリウム等が、保存剤としては、
例えばパラオキシ安息香酸メチル、パラオキシ安息香酸
エチル、ソルビン酸、フェノール、クレゾール、クロロ
クレゾールなどを挙げることができる。

【００４４】

【発明の効果】次に本発明化合物の効果を記述するため
薬理実験例を示す。

【００４５】実験例１ ＫＢ細胞（ヒト鼻咽腔癌細胞）
に対するin vitro抗腫瘍試験 10％牛胎児血清、ペニシリン（ 100単位／ml）、ストレ
プトマイシン（ 100μｇ／ml）、メルカプトエタノール
（５×10^-5Ｍ）およびピルビン酸ナトリウム（１mM）を
含むRPMI1640培地（日水製薬）に浮遊させたKB細胞を96
穴平底マイクロプレートの各穴に1.25×10³ 個（0.1ml
）ずつ播種し、５％炭酸ガス含有の培養器中37℃で１
日培養した。本発明の化合物をジメチルスルホキシドに
て20mg／mlの濃度に溶解し、10％牛胎児血清−RPMI1640
培養液で 100μｇ／mlの濃度まで希釈した。これを最高
濃度として10％牛胎児血清−PRMI1640培養液にて３倍系
列希釈を行った。これを先に述べたKB細胞の培養プレー
トの各穴に 0.1mlずつ加え、５％炭酸ガス含有培養器中
37℃で３日間培養した。培養後、MTT 〔３−（４，５−
ジメチルチアゾール−２−イル）−２，５−ジフェニル
テトラゾリウムブロミド〕溶液（3.3mg ／ml）を0.05ml
ずつ各穴に加え、さらに１時間培養した。各穴から上清
を吸引除去後、生成したホルマザンをジメチルスルホキ
シド 0.1mlで溶解し、マイクロプレートリーダーで 540
nmにおける吸光度を測定し、生細胞数の指標とした。以
下の式より抑制率を算出し、50％抑制する被検化合物の
濃度（IC₅₀）を求めた。

【００４６】

【数１】 Ｔ：被検化合物を添加した穴の吸光度 Ｃ：被検化合物を添加しなかった穴の吸光度

【００４７】得られたIC₅₀値を表１に示す。

【表１】

【００４８】

【表２】

【００４９】実験例２ Ｍ5076（マウス細網肉腫）に対
するin vivo 抗腫瘍試験 BDF₁マウス（６〜９週齢、雌）の体側皮下に１×10⁶ 個
のＭ5076細胞を移植した。本発明の化合物を 3.5％ジメ
チルスルホキシドと 6.5％ツイーン80を含む生理食塩水
に懸濁し、所定量を移植後約10日目から１日１回隔日に
４回腹腔内投与した。対照群は一群10〜12匹、薬剤投与
群は１群５または６匹で実験を行った。移植後21日目に
腫瘍を摘出し、腫瘍重量を測定した。対照群に対する薬
剤投与群の腫瘍増殖抑制率を下記式より求めた。

【００５０】

【数２】 Ｔ：被検化合物投与群の平均腫瘍重量 Ｃ：対照群の平均腫瘍重量

【００５１】実験結果を表２に示す。

【表３】 上記実験例により本発明化合物は優れた抗腫瘍作用を有
し、抗腫瘍剤として有用である。

【００５２】

【実施例】次に、本発明化合物の原料化合物の製造を示
す製造例および本発明化合物の代表的化合物について実
施例を掲げるが、本発明がこれらのみに限定されるもの
ではない。なお、製造例において記載されいてる化合物
がニトロ基を有する三環式化合物の場合には、パラジウ
ム−炭素、酸化白金などの触媒の存在下室温、常圧で行
う接触還元または亜鉛、鉄などに塩酸または酢酸を加え
て行う還元法によりニトロ基をアミノ基に還元した後、
芳香族スルホニルクロリドと反応させて実施例記載化合
物を合成した。

【００５３】製造例１２−ベンジルオキシ−５−ニトロ−９（10Ｈ）−アクリ
ジノン

【化２８】 ４−ベンジルオキシアニリン 2.2ｇ（11ミリモル）、２
−クロロ−３−ニトロ安息香酸 2.0ｇ（10ミリモル）、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン６mlおよびＮ，Ｎ−ジイソプ
ロピルエチルアミン 1.6mlの混合物を攪拌しながら、 1
00℃で12時間加熱した。冷後クロロホルム30mlと１Ｎ−
水酸化ナトリウム30mlを加え、生じた沈澱を濾取、５％
塩酸と攪拌、濾取、水洗して、２−〔（４−ベンジルオ
キシフェニル）アミノ〕−３−ニトロ安息香酸 3.3ｇを
得た。これをクロロホルム40mlに加えた後、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルアニリン 0.3mlとオキシ塩化リン６mlを加え30分
間加熱還流した。冷後析出した結晶を濾取し、表題化合
物 2.1ｇを得た。¹ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 5.22(2H, s), 7.33(1H, t,
J=8.0Hz), 7.36-7.42(3H, m), 7.49(2H, d, J=8.0Hz),
7.54(1H, dd, J=9.2, 2.8Hz), 7.69(1H, d, J=2.8Hz),
8.08(1H, d, J=9.2Hz), 8.65-8.69(2H, m), 11.5(1H,
br s)

【００５４】製造例２７−フルオロ−１−ニトロ−10Ｈ−フェノチアジン

【化２９】 ２−アミノ−５−フルオロベンゼンチオール 2.2ｇ（15
ミリモル）をジメチルホルムアミド30mlに溶解し、１−
クロロ−２，６−ジニトロベンゼン 2.5ｇ（12ミリモ
ル）を加え室温で攪拌した。12時間後Ｎ，Ｎ−ジイソプ
ロピルエチルアミン 2.6mlを加え、80℃で２時間加熱し
た。冷後反応液を飽和塩化アンモニウム水溶液中に注
ぎ、酢酸エチルで抽出した。濃縮後、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーで精製し、表題化合物 1.2ｇ
を得た。¹ H-NMR(CDCl₃) δ(ppm) : 6.64(1H, dd, J=8.8, 4.8H
z), 6.70(1H, dd, J=8.0,2.8Hz), 6.73-6.80(2H, m),
7.12-7.15(1H, m), 7.90(1H, dd, J=9.2, 1.4Hz),9.66
(1H, br s)

【００５５】製造例３４−アミノ−５Ｈ−ジベンズ〔ｂ，ｆ〕アゼピン

【化３０】 ５Ｈ−ジベンズ〔ｂ，ｆ〕アゼピン１ｇ（5.2 ミリモ
ル）を無水エーテル40mlに懸濁し、室温攪拌下ｎ−ブチ
ルリチウム 1.6Ｍヘキサン溶液 9.7ml（15.5ミリモル）
を滴下した。24時間後反応混合物をドライアイス−アセ
トン浴中で冷却し、これに硝酸イソブチル0.93ｇ（7.8
ミリモル）の無水エーテル溶液（２ml）を滴下した。室
温で30分間攪拌後、酢酸２mlを加え、反応混合物を水50
ml中に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗、硫
酸マグネシウムで乾燥、濃縮後、残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーで精製し、４−ニトロ−５Ｈ−ジ
ベンズ〔ｂ，ｆ〕アゼピンを得た。これをテトラヒドロ
フラン50mlに溶解し、亜鉛末１ｇを加え、攪拌しながら
濃塩酸を滴下した。反応液が赤褐色から淡黄色になった
時点で滴下を終了し、不溶物を濾取した。濾液に希アン
モニア水を加えて塩基性とし、酢酸エチルで抽出した。
有機層を水洗、硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮後、残渣
をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し、表題化合物
45mgを得た。

【００５６】製造例４７−ヒドロキシ−１−ニトロ−10Ｈ−フェノキサジン

【化３１】 １−クロロ−２，６−ジニトロベンゼン６ｇ（30ミリモ
ル）と４−アミノレゾルシノール塩酸塩 4.8ｇ（30ミリ
モル）をテトラヒドロフラン−ジメチルホルムアミド
（１：１）混液 300mlに加えた。これにＮ，Ｎ−ジイソ
プロピルエチルアミン 7.8ｇ（60ミリモル）を加え、室
温で24時間攪拌した。溶媒を減圧留去し、残渣を酢酸エ
チルに溶解し、飽和食塩水で洗浄した。硫酸マグネシウ
ムで乾燥、濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーで精製し、４−〔（２，６−ジニトロフェニ
ル）アミノ〕レゾルシノール6.95ｇを得た。これをジメ
チルホルムアミド 125mlに溶解し、Ｎ，Ｎ−ジイソプロ
ピルエチルアミン25mlを加え 100℃で２時間加熱した。
濃縮後残渣を酢酸エチルに溶解し、水洗、硫酸マグネシ
ウムで乾燥、濃縮乾固し、表題化合物 5.4ｇを得た。

【００５７】製造例５７−（tert−ブチルジメチルシリルオキシ）−１−ニト
ロ−10Ｈ−フェノキサジン

【化３２】 製造例４の化合物 1.2ｇ（ 4.9ミリモル），tert−ブチ
ルジメチルシリルクロリド 1.1ｇ（ 7.4ミリモル）およ
びイミダゾール 0.5ｇ（ 7.4ミリモル）をジメチルホル
ムアミド50mlに溶解し、窒素雰囲気下室温で８時間攪拌
した。濃縮後、残渣をジエチルエーテル 500mlに溶解
し、水洗、硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮後、残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、表題化合
物 1.15 ｇを得た。

【００５８】製造例６５，11−ジヒドロ−６−ニトロジベンズ〔ｂ，ｅ〕
〔１，４〕オキサゼピン

【化３３】 １−クロロ−２，６−ジニトロベンゼン2.85ｇ（14ミリ
モル）と２−アミノベンジルアルコール1.73ｇ（14ミリ
モル）をトリエチルアミン30mlに溶解し、24時間加熱還
流した。濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーで精製し、２−〔（２，６−ジニトロフェニル）
アミノ〕ベンジルアルコール 2.2ｇを得た。この粉末0.
29ｇ（１ミリモル）を無水ジメチルホルムアミド20mlに
溶解し、水素化ナトリウム（油性、含量60％）40mg（１
ミリモル）を加え、室温で15分間、ついで 150℃で２時
間攪拌した。冷後、酢酸エチル 200mlを加え、水洗、硫
酸マグネシウムで乾燥、濃縮し、残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーで精製し、表題化合物0.14ｇを得
た。

【００５９】製造例７９−ニトロジベンズ〔ｂ，ｆ〕〔１，４〕オキサゼピン
−11（10Ｈ）−オン

【化３４】 ２−アミノ−３−ニトロフェノール1.57ｇ（10ミリモ
ル）をピリジン20mlに溶解し、攪拌下２−フルオロベン
ゾイルクロリド3.36ｇ（21ミリモル）を加えた。４時間
加熱還流後、濃縮し、希塩酸と酢酸エチルを加え、有機
層を分取、水洗した。濃縮後テトラヒドロフラン20mlと
１Ｎ水酸化ナトリウム20mlを加え４時間加熱還流した。
冷後、塩酸で中和、濃縮し、酢酸エチルと水を加えて有
機層を分取、水洗、硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮
後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製
し、２−フルオロ−Ｎ−（２−ヒドロキシ−６−ニトロ
フェニル）ベンズアミド2.35ｇを得た。この粉末 553mg
（２ミリモル）をジメチルホルムアミド20mlに溶解し、
炭酸カリウム 332mg（ 2.4ミリモル）と銅粉20mgを加え
た。３時間加熱還流後、濃縮し、残渣に酢酸エチルと希
塩酸を加えた。不溶物を濾別後、有機層を分取し、水洗
した。硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮後、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィで精製し、表題化合物 400
mgを得た。 融点：162-163 ℃

【００６０】製造例８９，10−ジヒドロ−４−ニトロアクリジン

【化３５】 塩化アルミニウム 1.361ｇ（10ミリモル）を無水テトラ
ヒドロフラン10mlに溶解した液に、攪拌しながら４−ニ
トロ−９（10Ｈ）−アクリジノン 1.201ｇ（５ミリモ
ル）の無水テトラヒドロフラン溶液（75ml）を徐々に加
えた。室温で30分間攪拌後、水素化リチウムアルミニウ
ム 759mg（20ミリモル）を少しずつ加えた。室温で30
分、さらに55℃で30分間攪拌した後、室温にもどし、１
Ｎ塩酸５mlを加えた。濃縮後、残渣に酢酸エチルと水を
加え、不溶物を濾取した。濾液から有機層を分取し、硫
酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーで精製し、表題化合物 148mg
を得た。¹ H-NMR(CDCl₃) δ(ppm) : 5.23(2H, br), 6.94(1H, dd,
J=5.6, 2.8Hz), 7.32-7.38(2H, m), 7.48-7.55(1H,
m), 7.69-7.75(1H, m), 7.94-8.00(1H, m), 8.18-8.24
(1H, m), 8.67(1H, s)

【００６１】製造例９５，11−ジヒドロ−６−ニトロジベンゾ〔ｂ，ｅ〕
〔１，４〕チアゼピン

【化３６】 ２−〔（２，６−ジニトロフェニル）アミノ〕ベンジル
アルコール 1.8ｇ（ 6.2ミリモル）をジクロロメタン50
mlとエチルエーテル50mlの混液に溶解し、氷冷攪拌下ト
リエチルアミン 2.2ml（15.5ミリモル）とメタンスルホ
ニルクロリド0.58ml（ 7.4ミリモル）を順次加えた。30
分間攪拌後、反応混合物を飽和塩化アンモニウム水溶液
中に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。濃縮後、残渣をアセ
トン 150mlに溶解し、リチウムブロミド 2.7ｇ（31ミリ
モル）を加えて１時間加熱還流した。溶媒を減圧留去
後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製
し、２−〔（２，６−ジニトロフェニル）アミノ〕ベン
ジルブロミド 0.5ｇを得た。これをジメチルホルムアミ
ド10mlに溶解し、チオウレア 216mg（ 2.8ミリモル）を
加え室温で５時間攪拌後、ジメチルホルムアミド10ml、
水酸化カリウム157mg（ 2.8ミリモル）、水２mlを順次
加え 100℃で３時間加熱した。冷後、反応混合物を飽和
食塩水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。濃縮後、残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、表題化
合物0.22ｇを得た。¹ H-NMR(CDCl₃) δ(ppm) : 4.02(2H, s), 6.73(1H, dd,
J=8.8, 7.6Hz), 6.94(1H, dt, J=7.6, 1.2Hz), 7.06(1
H, dd, J=7.6, 1.6Hz), 7.09(1H, dd, J=7.6, 1.2Hz),
7.22(1H, dt, J=7.6, 1.6Hz), 7.55(1H, dd, J=7.6, 1.
6Hz), 8.17(1H, dd, J=8.8, 1.6Hz), 11.13(1H, br s)

【００６２】製造例１０Ｎ² −（４−メチルフェニル）−１，２，３−トリアミ
ノベンゼン

【化３７】 ｐ−トルイジン 0.8g (7.4ミリモル）と１−クロロ−
２，６−ジニトロベンゼン 1.5g （7.4 ミリモル）をジ
メチルスルホキシド 15ml に溶解し、トリエチルアミン
1.5g （14.8ミリモル）を加えた。80〜90℃で12時間攪
拌後、 酢酸エチルを加え、水洗、硫酸マグネシウムで乾
燥した。濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィ−
で精製し、Ｎ−（４−メチルフェニル）−２，６−ジニ
トロアニリン 2.0g を得た。これをメタノール 20ml と
テトラヒドロフラン 40ml の混液に溶解し、パラジウム
−炭素存在下常温常圧で水素添加を行った。触媒を濾別
後溶媒を減圧留去し、表題化合物 1.6g を得た。 ¹ H-NMR(CDCl₃) δ(ppm) : 2.25(3H,s), 3.75(4H, br),
4.68(1H,br s), 6.23(2H, d, J=8.0Hz), 6.56(2H, dd,
J=8.0, 2.0Hz), 6.92(1H, t, J=8.0Hz), 6.99(2H, d, J
=8.0Hz)

【００６３】製造例１１Ｎ−［３−アミノ−２−［（４−メチルフェニル）アミ
ノ］フェニル］−４−メトキシベンゼンスルホンアミ ド

【化３８】 製造例１０の化合物 1.6g （7.4 ミリモル）をテトラヒ
ドロフラン 40ml に溶解し、ピリジン 5.6mlと４−メト
キシベンゼンスルホニルクロリド（1.7g、8.1ミリモ
ル）を順次加えた。室温で１２時間攪拌後酢酸エチルを
加え、水洗、硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−で精製し、表
題化合物 1.8g を得た。 ¹ H-NMR(CDCl₃) δ(ppm) : 2.24(3H,s), 3.65(2H, br),
3.85(3H,s), 4.62(1H,brs), 6.28(2H, d, J=8.4Hz), 6.
49(1H, dd, J=8.0, 1.6Hz), 6.86(2H, d, J=8.8Hz), 6.
90(2H, d, J=8.4Hz), 6.96(2H, dd, J=8.0, 1.6Hz), 7.
02(1H, t, J=8.0Hz), 7.22(1H, br s), 7.67(2H, d, J=
8.8Hz)

【００６４】製造例１２２−［（２，６−ジニトロフェニル）アミノ］−５−フ
ロオロ安息香酸

【化３９】 ２−アミノ−５−フルオロ安息香酸 3.0g (19.3 ミリモ
ル）と１−クロロ−２，６−ジニトロベンゼン 5.88g
(29.0ミリモル) をジメチルホルムアミド（30ml) とジ
メチルスルホキシド (30ml) の混液に溶解し、トリエチ
ルアミン 6.74mlを加えた。窒素雰囲気下室温で１４日
間攪拌後、濃縮し、１Ｎ塩酸を加えた。酢酸エチルで抽
出し、１Ｎ塩酸で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥した。
濃縮後、クロロホルムを加え、析出した結晶を濾取し、
表題化合物 2.65gを得た。¹ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 6.88(1H, dd, J=9.2, 4.4H
z), 7.29-7.4(1H, m), 7.37(1H, t, J=8.0Hz), 7.64(1
H, dd, J=9.2, 3.2Hz), 8.35(2H, d, J=8.0Hz), 10.70
(1H, s), 13.87(1H, br s)

【００６５】製造例１３ ６−アミノ−５，１０−ジヒドロ−２−フルオロ−１１
Ｈ−ジベンゾ［ｂ，ｅ］［１，４］ジアゼピン−１１−
オン

【化４０】 製造例１２の化合物 2.5g (7.8ミリモル）をテトラヒド
ロフラン（30ml) とメタノ−ル（5ml)の混液に溶解し、
水酸化パラジウム−炭素存在下に水素圧３kg/cm²で水素
添加した。触媒を濾去後溶媒を減圧留去し、残渣をジメ
チルホルムアミド 25ml に溶解した。これにジフェニル
ホスホリルアジド 4.5ml (19.5ミリモル) とトリエチル
アミン 6.5ml (46.7ミリモル) を加え、室温で４日間攪
拌した。濃縮後飽和塩化アンモニウム水を加え、酢酸エ
チルで抽出し、飽和塩化アンモニウム水、飽和食塩水で
順次洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮後、残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−で精製し、表題
化合物 1.53gを得た。 ¹ H-NMR(DMSO-d₆）δ(ppm) : 5.22(2H, br s), 6.27(1
H, dd, J=8.0, 1.2Hz), 6.43(1H, dd, J=8.8,1.2Hz),
6.67(1H, t, J=8.0Hz), 6.82(1H, br s), 7.16-7.27(2
H, m), 7.35(1H,dd, J=9.6, 3.2Hz), 9.88(1H, br s)

【００６６】実施例１４−メトキシ−Ｎ−（10Ｈ−フェノチアジン−１−イ
ル）ベンゼンスルホンアミド

【化４１】 １−アミノ−10Ｈ−フェノチアジン 107mg（ 0.5ミリモ
ル）をピリジン４mlに溶解し、室温攪拌下４−メトキシ
ベンゼンスルホニルクロリド 115mg（0.55ミリモル）の
テトラヒドロフラン溶液（２ml）を加えた。室温で一晩
攪拌後、濃縮し、残渣に酢酸エチルと水を加え、有機層
を分取、水洗、硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、
エタノールから再結晶し、表題化合物 115mgを得た。 融点：158-160 ℃¹ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 3.74(3H, s), 6.60(1H, d
d, J=8.0, 1.6Hz), 6.65(1H, t, J=8.0Hz), 6.70(1H, d
d, J=8.0, 1.2Hz), 6.77-6.84(2H, m), 6.93(1H,dd, J=
7.6, 1.2Hz), 6.96-7.02(3H, m), 7.57(2H, d, J=8.8H
z), 7.62(1H, br s), 9.39(1H, br s)

【００６７】実施例２Ｎ−（９Ｈ−カルバゾール−１−イル）−４−メトキシ
ベンゼンスルホンアミド

【化４２】 実施例１と同様にして表題化合物を得た。 融点：201-202 ℃

【００６８】実施例３Ｎ−（９，10−ジヒドロアクリジン−４−イル）−４−
メトキシベンゼンスルホンアミド

【化４３】 実施例１と同様にして表題化合物を得た。¹ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 3.71(3H, s), 3.87(2H,
s), 6.58-6.65(2H, m), 6.74-6.80(2H, m), 6.88-6.92
(1H, m), 6.94-7.04(4H, m), 7.57(2H, d, J=8.8Hz),
7.62(1H, br s), 9.29(1H, br s)

【００６９】実施例４Ｎ−（９（10Ｈ）−アクリジノン−４−イル）−４−メ
トキシベンゼンスルホンアミド

【化４４】 実施例１と同様にして表題化合物を得た。¹ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 3.75(3H, s), 7.02(2H, d,
J=8.8Hz), 7.05-7.15(2H, m), 7.24-7.32(1H, m), 7.6
2(2H, d, J=8.8Hz), 7.70-7.77(1H, m), 7.84(1H, d, J
=8.0Hz), 8.07-8.13(1H, m), 8.19(1H, dd, J=8.0, 1.2
Hz), 9.74(1H, brs), 10.79(1H, br s)

【００７０】実施例５４−メトキシ−Ｎ−（10Ｈ−フェノキサジン−１−イ
ル）ベンゼンスルホンアミド

【化４５】 実施例１と同様にして表題化合物を得た。 融点：220-223 ℃（分解）

【００７１】実施例６Ｎ−（10，11−ジヒドロ−５Ｈ−ジベンズ〔ｂ，ｆ〕ア
ゼピン−４−イル）−４−メトキシベンゼンスルホンア
ミド

【化４６】 実施例１と同様にして表題化合物を得た。 融点：182.5-184.5 ℃¹ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 2.78-2.92(4H, m), 3.64(3
H, s), 6.56-6.70(4H, m), 6.82(2H, d, J=8.8Hz), 6.8
8-6.95(2H, m), 6.97-7.03(1H, m), 7.26(1H, brs), 7.
44(2H, d, J=8.8Hz), 9.47(1H, br s)

【００７２】実施例７Ｎ−（７−メトキシ−９（10Ｈ）−アクリジノン−４−
イル）−４−メトキシベンゼンスルホンアミド

【化４７】 実施例１と同様にして表題化合物を得た。 融点：253-256 ℃（分解）¹ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 3.76(3H, s), 3.86(3H,
s), 7.00-7.08(4H, m), 7.42(1H, dd, J=8.8, 3.2Hz),
7.58(1H, d, J=3.2Hz), 7.62(2H, d, J=8.8Hz), 7.86(1
H, d, J=8.8Hz), 8.10(1H, dd, J=7.6, 2.0Hz), 9.72(1
H, br s), 10.84(1H, br s)

【００７３】実施例８４−メトキシ−Ｎ−（７−メトキシ−10Ｈ−フェノチア
ジン−１−イル）ベンゼンスルホンアミド

【化４８】 実施例１と同様にして表題化合物を得た。 融点：157-160 ℃

【００７４】実施例９Ｎ−（５Ｈ−ジベンズ〔ｂ，ｆ〕アゼピン−４−イル）
−４−メトキシベンゼンスルホンアミド

【化４９】 実施例１と同様にして表題化合物を得た。¹ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 3.78(3H, s), 6.13-6.24(2
H, m), 6.33-6.41(3H, m), 6.55(1H, t, J=7.6Hz), 6.6
5-6.82(3H, m), 6.93-6.99(1H, m), 7.03(2H, d,J=8.8H
z), 7.59(2H, d, J=8.8Hz), 9.38(1H, br s)

【００７５】実施例１０４−メトキシ−Ｎ−（６（５Ｈ）−フェナンスリジノン
−４−イル）ベンゼンスルホンアミド

【化５０】 実施例１と同様にして表題化合物を得た。¹ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 3.73(3H, s), 6.99(2H, d,
J=8.8Hz), 7.08(1H, d,J=7.6Hz), 7.16(1H, t, J=7.6H
z), 7.58(2H, d, J=8.8Hz), 7.65(1H, t, J=7.6Hz), 7.
85(1H, t, J=7.6Hz), 8.20-8.35(2H, m), 8.49(1H, d,
J=8.4Hz), 9.80(1H, br s), 10.20(1H, br s)

【００７６】実施例１１Ｎ−（７−フルオロ−10Ｈ−フェノチアジン−１−イ
ル）−４−メトキシベンゼンスルホンアミド

【化５１】 実施例１と同様にして表題化合物を得た。 融点：166-168 ℃

【００７７】実施例１２Ｎ−（ジベンズ〔ｂ，ｆ〕〔１，４〕オキサゼピン−11
（10Ｈ）−オン−９−イル）−４−メトキシベンゼンス
ルホンアミド

【化５２】 実施例１と同様にして表題化合物を得た。 融点：239.5-241 ℃

【００７８】実施例１３Ｎ−（７−ヒドロキシ−10Ｈ−フェノチアジン−１−イ
ル）−４−メトキシベンゼンスルホンアミド

【化５３】 実施例１と同様にして表題化合物を得た。 ¹ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 3.73(3H, s), 6.36(1H, d,
J=2.8Hz), 6.41(1H, dd, J=8.4, 2.8Hz), 6.52(1H, d,
J=8.4Hz), 6.58(1H, dd, J=6.4, 2.8Hz), 6.60(1H, t,
J=6.4Hz), 6.80(1H, dd, J=6.4, 2.8Hz), 6.98(2H, d,
J=8.8Hz), 7.30(1H, br s), 7.55(2H, d, J=8.8Hz),
9.08(1H, br s), 9.38(1H, br s)

【００７９】実施例１４Ｎ−（４−アクリジニル）−４−メトキシベンゼンスル
ホンアミド

【化５４】 実施例１と同様にして表題化合物を得た。 融点：143-145 ℃

【００８０】実施例１５４−メトキシ−Ｎ−（10Ｈ−ピリド〔３，２−ｂ〕
〔１，４〕ベンズオキサジン−９−イル）ベンゼンスル
ホンアミド

【化５５】 実施例１と同様にして表題化合物を得た。¹ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 3.77(3H, s), 6.51-6.60(3
H, m), 6.63(1H, dd, J=7.6, 5.2Hz), 6.92(1H, dd, J=
7.6, 1.2Hz), 7.05(2H, d, J=9.2Hz), 7.57(1H,dd, J=
5.2, 1.2Hz), 7.63(2H, d, J=9.2Hz), 7.82(1H, br s),
9.37(1H, br s)

【００８１】実施例１６４−メトキシ−Ｎ−（５Ｈ−ピリド〔２，３−ｂ〕
〔１，４〕ベンズオキサジン−６−イル）ベンゼンスル
ホンアミド

【化５６】 実施例１と同様にして表題化合物を得た。¹ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 3.80(3H, s), 6.16(1H, d,
J=8.0Hz), 6.43(1H, t,J=8.0Hz), 6.56(1H, d, J=8.0H
z), 6.78(1H, dd, J=7.6, 5.2Hz), 7.00(1H, dd, J=7.
6, 1.6Hz), 7.07(2H, d, J=8.8Hz), 7.39(1H, dd, J=5.
2, 1.6Hz), 7.65(2H, d, J=8.8Hz), 7.82(1H, br s),
9.15(1H, br s)

【００８２】実施例１７Ｎ−（５，11−ジヒドロジベンズ〔ｂ，ｅ〕〔１，４〕
オキサゼピン−６−イル）−４−メトキシベンゼンスル
ホンアミド

【化５７】 実施例１と同様にして表題化合物を得た。 融点：153.5-155 ℃¹ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 3.65(3H, s), 4.83(2H,
s), 6.53-6.59(2H, m), 6.73(1H, t, J=7.6Hz), 6.77(1
H, d, J=7.6Hz), 6.81(1H, dd, J=7.0, 3.7Hz), 6.91(2
H, d, J=8.8Hz), 7.04(1H, d, J=7.6Hz), 7.15(1H, t,
J=7.6Hz), 7.34(1H,br s), 7.53(2H, d, J=8.8Hz), 9.4
8(1H, br s)

【００８３】実施例１８４−メトキシ−Ｎ−（10Ｈ−フェノチアジン−１−イ
ル）ベンゼンスルホンアミド Ｓ−オキシド

【化５８】 実施例１の化合物 200mg（0.516 ミリモル）をジクロロ
メタン20mlに溶解し、氷冷攪拌下ｍ−クロロ過安息香酸
111mg（0.645 ミリモル）を加えた。30分間攪拌後、析
出した結晶を濾取し、メタノール−エチルエーテル−ジ
クロロメタンから再結晶し、表題化合物 150mgを得た。 融点：221-223 ℃（分解）

【００８４】実施例１９４−メトキシ−Ｎ−（10Ｈ−フェノチアジン−１−イ
ル）ベンゼンスルホンアミド Ｓ，Ｓ−ジオキシド

【化５９】 実施例１の化合物 210mg（0.56ミリモル）をジクロロメ
タン20mlに溶解し、氷冷攪拌下ｍ−クロロ過安息香酸 2
42mg（1.40ミリモル）を加えた。室温で12時間攪拌後、
析出した結晶を濾取し、エタノールから再結晶し、表題
化合物 170mgを得た。 融点：247-249 ℃

【００８５】実施例２０Ｎ−（７−ヒドロキシ−９（10Ｈ）−アクリジノン−４
−イル）−４−メトキシベンゼンスルホンアミド

【化６０】 製造例１の化合物0.47ｇ（1.5 ミリモル）をメタノール
50mlと酢酸エチル 150mlの混液に溶解し、酸化白金50mg
を加え室温、常圧で水素添加した。不溶物を濾別後濃縮
乾固し、５−アミノ−２−ベンジルオキシ−９（10Ｈ）
−アクリジノンを得た。これをピリジン20mlに溶解し、
室温攪拌下４−メトキシベンゼンスルホニルクロリド0.
32ｇ（ 1.5ミリモル）のテトラヒドロフラン溶液（５m
l）を加えた。１時間攪拌後、反応混合物を飽和食塩水
中に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。濃縮後、残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーで精製して得られたＮ
−（７−ベンジルオキシ−９−（10Ｈ）−アクリジノン
−４−イル）−４−メトキシベンゼンスルホンアミドを
メタノール 100mlと酢酸エチル 100mlの混液に溶解し、
パラジウム−炭素を加え、室温、常圧で水素添加した。
パラジウム−炭素を濾別後濃縮乾固し、表題化合物0.21
ｇを得た。¹ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 3.74(3H, s), 6.96-7.03(4
H, m), 7.24(1H, dd, J=8.8, 2.8Hz), 7.48(1H, d, J=
2.8Hz), 7.61(2H, d, J=8.8Hz), 7.74(1H, d, J=8.8H
z), 7.98(1H, d, J=7.6Hz), 9.61(1H, br s), 10.63(1
H, br s)

【００８６】実施例２１Ｎ−（６−ヒドロキシ−９（10Ｈ）−アクリジノン−４
−イル）−４−メトキシベンゼンスルホンアミド

【化６１】 実施例20と同様にして表題化合物を得た。¹ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 3.73(3H, s), 6.72(1H, d
d, J=8.8, 2.0Hz), 6.96-7.07(5H, m), 7.59(2H, d, J=
8.8Hz), 8.00(2H, d, J=8.8Hz), 9.71(1H, br s),10.47
(1H, br s), 10.49(1H, br s)

【００８７】実施例２２Ｎ−（７−ヒドロキシ−10Ｈ−フェノキサジン−１−イ
ル）−４−メトキシベンゼンスルホンアミド

【化６２】 製造例５の化合物1.15ｇ（3.2 ミリモル）をテトラヒド
ロフラン30mlに溶解し、パラジウム−炭素を加えて室
温、常圧で水素添加した。パラジウム−炭素を濾別後、
液量が約半分になるまで濃縮し、これにピリジン５mlと
４−メトキシベンゼンスルホニルクロリド0.72ｇ（3.5
ミリモル）を加え室温で一晩攪拌した。酢酸エチルと水
を加え、有機層を分取、水洗、硫酸マグネシウムで乾
燥、濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーで精製し、Ｎ−〔７−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシ
リルオキシ）−10Ｈ−フェノキサジン−１−イル〕−４
−メトキシベンゼンスルホンアミド 1.5ｇを得た。この
化合物 0.5ｇ（１ミリモル）をテトラヒドロフラン10ml
に溶解し、窒素雰囲気下テトラ−ｎ−ブチルアンモニウ
ムフルオライド１Ｍヘキサン溶液 1.2mlを加え室温で10
分間攪拌した。反応混合物に１Ｎ塩酸 1.5mlと酢酸エチ
ルを加え、有機層を水洗、硫酸マグネシウムで乾燥、濃
縮乾固し、表題化合物0.26ｇを得た。¹ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 3.79(3H, s), 6.09(1H, d,
J=2.4Hz), 6.17(1H, dd, J=8.4, 2.4Hz), 6.27(1H, d
d, J=8.0, 1.6Hz), 6.37(1H, t, J=8.0Hz), 6.45(1H,
d, J=8.4Hz), 6.45(1H, dd, J=8.0, 1.6Hz), 7.06(2H,
d, J=8.8Hz), 7.06(1H, br s), 7.65(2H, d, J=8.8Hz),
8.97(1H, br s), 9.10(1H, br s)

【００８８】実施例２３Ｎ−（９Ｈ−カルバゾール−１−イル）−３−クロロベ
ンゼンスルホンアミド

【化６３】 実施例１と同様にして表題化合物を得た。 融点：162.5-163.5 ℃

【００８９】実施例２４４−メトキシ−Ｎ−（３Ｈ−フェノキサジン−３−オン
−９−イル）ベンゼンスルホンアミド

【化６４】 製造例４の化合物0.12ｇ（0.51ミリモル）をテトラヒド
ロフラン20mlに溶解し、パラジウム−炭素を加えて室
温、常圧で水素添加した。パラジウム−炭素を濾別後、
液量が約半分になるまで濃縮し、これにピリジン３mlと
４−メトキシベンゼンスルホニルクロリド0.12ｇ（0.56
ミリモル）を加え、室温で一晩攪拌した。濃縮後、残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、表題
化合物35mgを得た。¹ H-NMR(CDCl₃) δ(ppm) : 3.82(3H, s), 6.31(1H, d, J
=2.0Hz), 6.87(1H, dd,J=10.0, 2.0Hz), 6.92(2H, d, J
=8.8Hz), 6.93(1H, dd, J=8.4, 1.2Hz), 7.40(1H, d, J
=10.0Hz), 7.42(1H, t, J=8.4Hz), 7.48(1H, dd, J=8.
4, 1.2Hz), 7.86(2H, d, J=8.8Hz), 8.43(1H, br s)

【００９０】実施例２５４−メトキシ−Ｎ−（３Ｈ−フェノチアジン−３−オン
−９−イル）ベンゼンスルホンアミド

【化６５】 ４−メトキシベンゼンスルホニルクロリドと１−アミノ
−７−ヒドロキシ−10Ｈ−フェノチアジンから実施例13
の化合物を合成する際の副生成物として表題化合物を得
た。¹ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 3.72(3H, s), 6.85(1H, d,
J=2.0Hz), 6.89(1H, dd, J=10.0, 2.0Hz), 7.01(2H,
d, J=8.8Hz), 7.34-7.37(1H, m), 7.43-7.50(2H,m), 7.
78(1H, d, J=10.0Hz), 7.80(2H, d, J=8.8Hz), 10.23(1
H, br s)

【００９１】実施例２６Ｎ−（５，11−ジヒドロジベンゾ〔ｂ，ｅ〕〔１，４〕
チアゼピン−６−イル）−４−メトキシベンゼンスルホ
ンアミド

【化６６】 実施例１と同様にして表題化合物を得た。 融点：200-202 ℃

【００９２】実施例２７Ｎ−（５，10−ジヒドロ -２−フルオロ−11Ｈ- ジベン
ゾ〔ｂ，ｅ〕〔１，４〕ジアゼピン−11- オン−６−イ
ル）−４−メトキシベンゼンスルホンアミド

【化６７】 ４−メトキシベンゼンスルホニルクロリドと製造例１３
の化合物から実施例１と同様にして表題化合物を得た。 融点：241.5-243 ℃¹ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 3.74(3H, s), 6.52(1H, d
d, J=8.0, 1.2Hz), 6.76(1H, dd, J=8.8, 4.8Hz), 6.79
(1H, t, J=8.0Hz), 6.86(1H, dd, J=8.0, 1.2Hz),6.94
(2H, d, J=8.8Hz), 7.14(1H, td, J=8.8, 3.2Hz), 7.14
(1H, s), 7.32(1H,dd, J=9.6, 3.2Hz), 7.47(2H, d, J=
8.8Hz), 9.54(1H, br s), 10.06(1H, s)

【００９３】実施例２８Ｎ−（７，８−ジフルオロ−10Ｈ−フェノチアジン−１
−イル）−４−メトキシベンゼンスルホンアミド

【化６８】 実施例１と同様にして表題化合物を得た。 融点：158-160 ℃（分解）¹ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 3.76(3H, s), 6.54(1H, d
d, J=8.0, 1.2Hz), 6.70(1H, t, J=8.0Hz), 6.85(1H, d
d, J=12.4, 7.2Hz), 6.89(1H, dd, J=8.0, 1.2Hz), 7.0
1(2H, d, J=9.2Hz), 7.17(1H, dd, J=10.4, 8.0Hz), 7.
55(2H, d, J=9.2Hz), 7.88(1H, br s), 9.27(1H, br s)

【００９４】実施例２９４−メトキシ−Ｎ−（10−メチル−10Ｈ−フェノキサジ
ン−１−イル）ベンゼンスルホンアミド

【化６９】 実施例１と同様にして表題化合物を得た。 融点：151-153 ℃¹ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 3.27(3H, s), 3.80(3H,
s), 6.22(1H, dd, J=8.0,1.6Hz), 6.58(1H, t, J=8.0H
z), 6.66(1H, dd, J=8.0, 1.6Hz), 6.69(1H, dd, J=8.
0, 1.6Hz), 6.75(1H, dd, J=8.0, 1.6Hz), 6.79(1H, t
d, Jt=7.8, Jd=1.6Hz), 6.93(1H, td, Jt=8.0, Jd=1.6H
z), 7.04(2H, d, J=8.8Hz), 7.59(2H, d, J=8.8Hz), 9.
37(1H, br s)

【００９５】実施例３０Ｎ−（５，11−ジヒドロ−２−ヒドロキシジベンズ
〔ｂ，ｅ〕〔１，４〕オキサゼピン−６−イル）−４−
メトキシベンゼンスルホンアミド

【化７０】 製造例６と同様にして合成した２−（tert−ブチルジメ
チルシリルオキシ）−５，11−ジヒドロ−６−ニトロジ
ベンズ〔ｂ，ｅ〕〔１，４〕オキサゼピンから実施例２
２と同様にして表題化合物を得た。 融点：200-202 ℃¹ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 3.71(3H, s), 4.78(2H,
s), 6.45(2H, d, J=4.8Hz), 6.50(1H, s), 6.60(2H,
s), 6.73(1H, t, J=4.8Hz), 6.95(2H, d, J=8.8Hz),6.9
9(1H, br s), 7.55(2H, d, J=8.8Hz), 8.96(1H, br s),
9.42(1H, br s)

【００９６】実施例３１Ｎ−（10，11−ジヒドロ−２−メチル−５Ｈ−ジベンゾ
〔ｂ，ｅ〕〔１，４〕ジアゼピン−６−イル）−４−メ
トキシベンゼンスルホンアミド

【化７１】 製造例11の化合物 0.6ｇ（1.56ミリモル）をメタノール
30mlに溶解し、パラホルムアルデヒド70mgと１Ｎ塩酸2.
35mlを加えた。30分間加熱還流後、酢酸エチルを加え、
水洗、硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、残渣を酢
酸エチル−ｎ−ヘキサンから結晶化し、表題化合物 0.5
ｇを得た。 融点：187-192 ℃（徐々に融解）¹ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 2.17(3H, s), 3.71(3H,
s), 3.95(2H, br), 5.70(1H, br), 6.14(1H, d, J=8.0H
z), 6.37(1H, t, J=8.0Hz), 6.56(1H, d, J=8.0Hz), 6.
58(1H, d, J=8.0Hz), 6.76(1H, d, J=2.0Hz), 6.86(1H,
dd, J=8.0, 2.0Hz), 6.95(2H, d, J=8.8Hz), 6.97(1H,
br s), 7.56(2H, d, J=8.8Hz), 9.34(1H, br s)

【００９７】実施例３２Ｎ−（10，11−ジヒドロ−２−フルオロ−５Ｈ−ジベン
ゾ〔ｂ，ｅ〕〔１，４〕ジアゼピン−６−イル）−４−
メトキシベンゼンスルホンアミド

【化７２】 水素化リチウムアルミニウム 460mg（12.1ミリモル）の
テトラヒドロフラン懸濁液（40ml）に実施例２７の化合
物 500mg（1.2 ミリモル）を加えた。室温で23時間攪拌
後、氷冷下酢酸エチルを少しずつ加え、ついで塩化アン
モニウム水を加えた。不溶物を濾別後濃縮し、塩化アン
モニウム水と酢酸エチルを加えた。有機層を分取、水
洗、硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮した。残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーで精製後、エタノールか
ら再結晶し、表題化合物 315mgを得た。表題化合物は実
施例３１と同様の合成ルートでも得られた。 融点：180-181 ℃¹ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 3.71(3H, s), 3.97(2H, br
d, J=3.2Hz), 5.76(1H,br t, J=3.2Hz), 6.20(1H, d
d, J=8.0, 1.6Hz), 6.41(1H, t, J=8.0Hz), 6.59(1H, d
d, J=8.0, 1.6Hz), 6.67(1H, dd, J=8.8, 5.2Hz), 6.84
-6.91(2H, m), 6.93(2H, d, J=8.8Hz), 7.03(1H, br
s), 7.54(2H, d, J=8.8Hz), 9.34(1H, br s) 表題化合物57mgをメタノール３mlとエタノール６mlの混
液に溶解し、１Ｎ塩酸1.4mlを加えた。濃縮後エタノー
ルを加え、析出した結晶を濾取、エタノールから再結晶
し、表題化合物の塩酸塩23mgを得た。 融点：141.5-143 ℃（分解）¹ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 3.62(3H, s), 4.27(2H,
s), 6.76-6.85(1H, m), 6.82(2H, d, J=8.8Hz), 6.85-
6.94(2H, m), 6.97-7.08(2H, m), 7.29(1H, br s),7.43
(2H, d, J=8.8Hz), 7.93(1H, br s), 9.92(1H, br s)

【００９８】実施例３３Ｎ−（７−ヒドロキシメチル−10Ｈ−フェノキサジン−
１−イル）−４−メトキシベンゼンスルホンアミド

【化７３】 ７−〔（tert−ブチルジメチルシリルオキシ）メチル〕
−１−ニトロ−10Ｈ−フェノキサジンから実施例２２と
同様にして表題化合物を得た。 融点：230-232.5 ℃¹ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 3.78(3H, s), 4.26(2H, d,
J=5.6Hz), 5.00(1H, t,J=5.6Hz), 6.27(1H, dd, J=8.
0, 2.4Hz), 6.39(1H, t, J=8.0Hz), 6.45(1H, br d, J=
8.0Hz), 6.54(1H, d, J=1.2Hz), 6.57(1H, t, J=8.0H
z), 6.67(1H, dd,J=8.0, 1.2Hz), 7.05(2H, d, J＝ 8.8
Hz), 7.34(1H, br s), 7.65(2H, d, J=8.8Hz), 9.12(1
H, br)

【００９９】実施例３４４−アミノ−Ｎ−（10Ｈ−フェノチアジン−１−イル）
ベンゼンスルホンアミド

【化７４】 ４−ニトロベンゼンスルホニルクロリドと１−アミノ−
10Ｈ−フェノチアジンを実施例１と同様に反応させ、生
成物をパラジウム−炭素存在下常温常圧で水素添加し、
表題化合物を得た。¹ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 5.96(2H, br s), 6.49(2H,
d, J=8.8Hz), 6.53(1H,dd, J=8.0, 1.6Hz), 6.62(1H,
t, J=8.0Hz), 6.77-6.82(3H, m), 6.93(1H, dd, J=7.
6, 1.2Hz), 7.01(1H, dt, J=7.6, 1.2Hz), 7.29(2H, d,
J=8.8Hz), 7.58(1H, br s), 9.14(1H, br s)

【０１００】実施例３５４−メトキシ−Ｎ−（５Ｈ−ピリミド〔４，５−ｂ〕
〔１，４〕ベンゾチアジン−６−イル）ベンゼンスルホ
ンアミド

【化７５】 実施例１と同様にして表題化合物を得た。¹ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 3.75(3H, s), 6.43(1H, br
d, J=7.6Hz), 6.63(1H,br t, J=7.6Hz), 6.81(1H, br
d, J=7.6Hz), 7.02(2H, d, J=9.2Hz), 7.56(2H, d, J=
9.2Hz), 7.92(1H, br s), 7.94(1H, br s), 8.30(1H, b
r s), 9.28(1H,br s)

【０１０１】実施例３６４−メトキシ−Ｎ−（５Ｈ−ピリド〔３，４−ｂ〕
〔１，４〕ベンゾチアジン−４−イル）ベンゼンスルホ
ンアミド

【化７６】 実施例１と同様にして表題化合物を得た。¹ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 3.73(3H, s), 6.80(1H, d
d, J=7.6, 1.2Hz), 6.84(1H, td, J=7.6, 1.2Hz), 6.9
3(1H, dd, J=7.6, 1.2Hz), 7.00(1H, td, J=7.6,1.2H
z), 7.00(2H, d, J=9.2Hz), 7.46(1H, s), 7.59(2H, d,
J=9.2Hz), 7.72(1H, s), 8.20(1H, s)

【０１０２】実施例３７Ｎ−（10−アセチル−10，11−ジヒドロ−５Ｈ−ジベン
ゾ〔ｂ，ｅ〕〔１，４〕ジアゼピン−６−イル）−４−
メトキシベンゼンスルホンアミド

【化７７】 実施例３１と同様にして合成したＮ−（10，11−ジヒド
ロ−５Ｈ−ジベンゾ〔ｂ，ｅ〕〔１，４〕ジアゼピン−
６−イル）−４−メトキシベンゼンスルホンアミドを室
温で無水酢酸と反応させ、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーで精製し、表題化合物を得た。¹ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 1.74(3H, s), 3.54(3H,
s), 3.68(1H, d, J=14.8Hz), 5.14(1H, d, J=14.8Hz),
6.65-6.68(2H, m), 6.78(2H, d, J=9.2Hz), 6.81(1H,
t, J=8.0Hz), 6.96-7.06(3H, m), 7.16(1H, dd, J=8.0,
1.2Hz), 7.37(1H, s), 7.40(2H, d, J=9.2Hz), 9.60(1
H, br s)

【０１０３】実施例３８Ｎ−（５，11−ジヒドロ−２−ヒドロキシジベンズ
〔ｂ，ｅ〕〔１，４〕オキサゼピン−６−イル）−４−
メチルベンゼンスルホンアミド

【化７８】 融点：180.5-182 ℃ 実施例３０と同様にして表題化合物を得た。¹ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 2.24(3H, s), 4.78(2H,
s), 6.42-6.49(2H, m), 6.50(1H, d, J=1.6Hz), 6.56(1
H, d, J=8.8Hz), 6.60(1H, dd, J=8.8, 1.6Hz), 6.74(1
H, dd, J=5.2, 4.4Hz), 6.95(1H, br s), 7.25(2H, d,
J=8.0Hz), 7.51(2H,d, J=8.0Hz), 8.95(1H, br s), 9.5
0(1H, br s)

【０１０４】実施例３９Ｎ−（５，11−ジヒドロ−８−フルオロ−２−ヒドロキ
シジベンズ〔ｂ，ｅ〕〔１，４〕オキサゼピン−６−イ
ル）−４−メトキシベンゼンスルホンアミド

【化７９】 実施例３０と同様にして表題化合物を得た。 融点：201-210 ℃（徐々に融解）¹ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 3.70(3H, s), 4.80(2H,
s), 6.35(1H, dd, J=9.6,2.8Hz), 6.50(1H, s), 6.59(2
H, s), 6.68(1H, dd, J=9.6, 2.8Hz), 6.85(1H, br),
6.96(2H, d, J=8.8Hz), 7.56(2H, d, J=8.8Hz), 8.96(1
H, br s), 9.60(1H,br s)

【０１０５】実施例４０Ｎ−（５，11−ジヒドロジベンズ〔ｂ，ｅ〕〔１，４〕
オキサゼピン−４−イル）−４−メトキシベンゼンスル
ホンアミド

【化８０】 実施例１と同様にして表題化合物を得た。 融点：164.5-166.5 ℃¹ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 3.66(3H, s), 4.90(2H,
s), 6.63(1H, td, Jt=7.2,Jd=1.2Hz), 6.66(1H, t, J=
7.6Hz), 6.74-6.89(6H, m), 7.04(1H, d, J=7.6Hz), 7.
28(1H, br s), 7.50(2H, d, J=8.8Hz), 9.49(1H, br s)

【０１０６】実施例４１Ｎ−（10，11−ジヒドロ−10−エチル−５Ｈ−ジベンゾ
〔ｂ，ｅ〕〔１，４〕ジアゼピン−６−イル）−４−メ
トキシベンゼンスルホンアミド

【化８１】 実施例３７の化合物を常法に従い水素化リチウムアルミ
ニウムで還元し、表題化合物を得た。¹ H-NMR(CDCl₃) δ(ppm) : 1.14(3H, t, J=7.2Hz), 3.03
(2H, q, J=7.2Hz), 3.80(3H, s), 4.10(2H, s), 6.13(1
H, br s), 6.18(1H, dd, J=8.0, 1.6Hz), 6.44(1H, t,
J=8.0Hz), 6.72-6.76(2H, m), 6.82(1H, dd, J=8.0, 1.
6Hz), 6.88(2H, d, J=9.2Hz), 6.97(1H, d, J=7.6Hz),
7.11(1H, td, J=7.6, 1.6Hz), 7.20(1H, br s), 7.68(2
H, d, J=9.2Hz)

【０１０７】実施例４２Ｎ−（５，11−ジヒドロ−２−ヒドロキシジベンズ
〔ｂ，ｅ〕〔１，４〕オキサゼピン−６−イル）−５−
メチル−２−チオフェンスルホンアミド

【化８２】 実施例３０と同様にして表題化合物を得た。 融点：184-188 ℃（徐々に融解） ¹ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 2.32(3H, s), 4.82(2H,
s), 6.46-6.54(2H, m), 6.58(1H, d, J=7.6Hz), 6.60-
6.66(2H, m), 6.71(1H, d, J=3.6Hz), 6.74(1H, br),
7.00(1H, br), 7.15(1H, d, J=3.6Hz), 8.94(1H, br
s), 9.69(1H, br s)

【０１０８】実施例４３Ｎ−（２−アセチルアミノ−10，11−ジヒドロ−５Ｈ−
ジベンゾ〔ｂ，ｅ〕〔１，４〕ジアゼピン−６−イル）
−４−メトキシベンゼンスルホンアミド

【化８３】 実施例３１と同様にして表題化合物を得た。 ¹ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 1.98(3H, s), 3.72(3H,
s), 3.94(2H, br d, J=2.8Hz), 5.71(1H, br s), 6.14
(1H, dd, J=8.0, 1.2Hz), 6.36(1H, t, J=8.0Hz), 6.56
(1H, dd, J=8.0, 1.2Hz), 6.59(1H, d, J=8.4Hz), 6.95
(2H, d, J=8.8Hz), 6.98(1H, br s), 7.18(1H, d, J=2.
4Hz), 7.21(1H, dd, J=8.4, 2.4Hz), 7.56(2H, d, J=8.
8Hz), 9.37(1H, br s), 9.67(1H, br s)

【０１０９】実施例４４Ｎ−〔10，11−ジヒドロ−２−（３−ヒドロキシプロピ
ルオキシ）−５Ｈ−ジベンゾ〔ｂ，ｅ〕〔１，４〕ジア
ゼピン−６−イル〕−４−メトキシベンゼンスルホンア
ミド

【化８４】 実施例３１と同様にして表題化合物を得た。 ¹ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 1.79-1.85(2H, m), 3.54(2
H, dt, J=6.4, 5.2Hz),3.73(3H, s), 3.95(2H, t, J=6.
4Hz), 3.99(2H, br d, J=2.8Hz), 4.53(1H, t,J=5.2H
z), 5.68(1H, br s), 6.09(1H, dd, J=8.0, 1.2Hz), 6.
33(1H, t, J=8.0Hz), 6.53(1H, dd, J=8.0, 1.2Hz), 6.
59(1H, d, J=8.8Hz), 6.61(1H, d, J=3.2Hz), 6.66(1H,
dd, J=8.8, 3.2Hz), 6.82(1H, br s), 6.97(2H, d, J=
8.8Hz), 7.56(2H, d, J=8.8Hz), 9.31(1H, br s)

【０１１０】実施例４５Ｎ−〔５，11−ジヒドロ−２−フルオロ−１−ヒドロキ
シジベンズ〔ｂ，ｅ〕〔１，４〕オキサゼピン−６−イ
ル）−４−メトキシベンゼンスルホンアミド

【化８５】 実施例３０と同様にして表題化合物を得た。 融点：219-232 ℃（徐々に融解）¹ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 3.68(3H, s), 4.93(2H,
s), 6.21(1H, dd, J=8.8,4.0Hz), 6.53(1H, dd, J=7.2,
2.4Hz), 6.56(1H, t, J=7.2Hz), 6.79(1H, dd, J=7.2,
2.4Hz), 6.91(2H, d, J=8.8Hz), 6.94(1H, dd, J=10.
4, 8.8Hz), 7.15(1H, br s), 7.50(2H, d, J=8.8Hz),
9.45(1H, br s), 9.70(1H, br s)

【０１１１】実施例４６Ｎ−（４−クロロ−10，11−ジヒドロ−２−フルオロ−
１−ヒドロキシ−５Ｈ−ジベンゾ〔ｂ，ｅ〕〔１，４〕
ジアゼピン−６−イル）−４−メトキシベンゼンスルホ
ンアミド

【化８６】 実施例３１と同様にして表題化合物を得た。 ¹ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 3.81(3H, s), 4.20-4.22(2
H, m), 5.85(1H, br), 5.89(1H, br), 6.37(1H, br t,
J=7.6Hz), 6.58(1H, br), 7.07(2H, d, J=8.8Hz), 7.25
(1H, d, J=10.0Hz), 7.63(1H, br), 7.64(2H, d, J=8.8
Hz), 9.43(1H, brs), 9.79(1H, br s)

【０１１２】実施例４７Ｎ−（10，11−ジヒドロ−２−フルオロ−１−ヒドロキ
シ−５Ｈ−ジベンゾ〔ｂ，ｅ〕〔１，４〕ジアゼピン−
６−イル）−４−メトキシベンゼンスルホンアミド

【化８７】 実施例４６の化合物をパラジウム−炭素存在下、常温常
圧で水素添加後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
で精製、クロロホルム−イソプロピルエーテルで結晶化
し、表題化合物を得た。 融点：190-192 ℃（分解）¹ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 3.72(3H, s), 4.06-4.08(2
H, m), 5.65(1H, br), 6.11-6.16(2H, m), 6.38(1H, t,
J=7.6Hz), 6.54(1H, brd, J=7.6Hz), 6.84(1H,dd, J=1
0.4, 8.8Hz), 6.90(1H, br s), 6.93(2H, d, J=8.8Hz),
7.53(2H, d, J=8.8Hz), 9.32(1H, br s), 9.39(1H, br
s)

【０１１３】実施例４８Ｎ−（２−シアノ−10，11−ジヒドロ−５Ｈ−ジベンゾ
〔ｂ，ｅ〕〔１，４〕ジアゼピン−６−イル）−４−メ
トキシベンゼンスルホンアミド

【化８８】 実施例３１と同様にして表題化合物を得た。 融点：105-107 ℃¹ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 3.64(3H, s), 3.40(2H, br
d, J=2.8Hz), 5.93(1H,br s), 6.42(1H, dd, J=8.0,
1.6Hz), 6.57(1H, t, J=8.0Hz), 6.68(1H, br),6.76(1
H, d, J=8.4Hz), 6.85(2H, d, J=8.8Hz), 7.38(1H, d,
J=2.0Hz), 7.41(1H, dd, J=8.4, 2.0Hz), 7.48(2H, d,
J=8.8Hz), 7.76(1H, br s), 9.39(1H, brs)

【０１１４】実施例４９Ｎ−（10，11−ジヒドロ−８−フルオロ−５Ｈ−ジベン
ゾ〔ｂ，ｅ〕〔１，４〕ジアゼピン−４−イル）−４−
メトキシベンゼンスルホンアミド

【化８９】 Ｎ−〔２−〔（２−アミノ−４−フルオロフェニル）ア
ミノ〕フェニル〕−４−メトキシベンゼンスルホンアミ
ドから実施例３１と同様にして表題化合物を得た。¹ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 3.71(3H, s), 4.09(2H, br
d, J=3.6Hz), 5.87(1H,br t, J=3.6Hz), 6.29-6.41(2
H, m), 6.50(1H, dd, J=8.4, 6.4Hz), 6.53(1H,t, J=8.
0Hz), 6.69(1H, dd, J=8.0, 1.6Hz), 6.87(1H, br s),
6.90(1H, br s),6.91(2H, d, J=9.2Hz), 7.51(2H, d, J
=9.2Hz), 9.42(1H, br s)

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｄ 221/12 223/26 223/28 241/46 243/38 265/38 267/18 267/20 279/18 279/20 279/22 281/14 285/20 285/36 285/38 498/04 513/04 ３８１ // Ａ６１Ｋ 31/40 31/435 31/47 31/535 31/54 31/55 ＡＤＵ (72)発明者 吉松 賢太郎 茨城県土浦市乙戸南２−９−44 (72)発明者 渡辺 達夫 千葉県我孫子市つくし野３−14−201 (72)発明者 長洲 毅志 茨城県土浦市永国852−13 (72)発明者 塚原 直子 千葉県我孫子市柴崎796−２−101 (72)発明者 小柳 望 茨城県つくば市東光台１−10−５ (72)発明者 紀藤 恭輔 茨城県つくば市東光台１−10−８

Claims (17)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一般式（Ｉ） 【化１】 ｛式中、Ｇは置換基を１ないし２個有する芳香族５また
   は６員環を意味する。Ｌは式−Ｎ（Ｒ¹ ）−（式中、Ｒ
   ¹ は水素原子または低級アルキル基を意味する）または
   酸素原子を意味する。Ｍは式（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、
   （ｄ）、（ｅ）または（ｆ）から選ばれる三環式構造 【化２】 ［式中、Ａ環およびＢ環は置換されていてもよい不飽和
   ５または６員環を、Ｘは式−Ｎ（Ｒ² ）−（式中、Ｒ²
   は水素原子または低級アルキル基を意味する）または−
   ＮＨＣＯ−を、Ｙは酸素原子、式−Ｓ（Ｏ）_n −、−Ｃ
   （Ｒ³ ）（Ｒ⁴ ）−、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｎ（Ｒ⁵ ）−、
   −ＣＨ（Ｒ⁶ ）ＣＨ（Ｒ⁷ ）−、−Ｃ（Ｒ⁸ ）＝Ｃ（Ｒ
   ⁹ ）−、−Ｎ（Ｒ¹⁰）Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｎ
   （Ｒ¹⁰）−、−Ｎ＝Ｃ（Ｒ¹¹）−、−Ｃ（Ｒ¹¹）＝Ｎ
   −、−ＯＣＨ（Ｒ¹²）−、−ＣＨ（Ｒ¹²）Ｏ−、−Ｓ
   （Ｏ）_n ＣＨ（Ｒ¹³）−、−ＣＨ（Ｒ¹³）Ｓ（Ｏ）_n
   −、−Ｎ（Ｒ¹⁴）ＣＨ（Ｒ¹⁵）−または−ＣＨ（Ｒ¹⁵）
   Ｎ（Ｒ¹⁴）−（式中、ｎは０、１または２を、Ｒ³ 、Ｒ
   ⁴ 、Ｒ⁶、Ｒ⁷ 、Ｒ⁸ およびＲ⁹ は同一または相異なる
   水素原子または低級アルキル基を、Ｒ⁵ 、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹、
   Ｒ¹²、Ｒ¹³およびＲ¹⁵は水素原子または低級アルキル基
   を、Ｒ¹⁴は水素原子、低級アルキル基または低級アシル
   基を意味する）を、Ｚは窒素原子または式−Ｃ（Ｒ¹⁶）
   ＝（式中、Ｒ¹⁶は水素原子または低級アルキル基を意味
   する）を意味する］を意味する。但し、Ｇが４−メチル
   フェニル基または４−メトキシカルボニルアミノフェニ
   ル基であり、Ｍの三環式構造（ａ）におけるＸが式−Ｎ
   （Ｒ² ）−であり、かつＹが酸素原子または式−Ｓ
   （Ｏ）_n −（式中、ｎが０である場合）である組合せを
   除く｝で表されるスルホンアミド誘導体またはスルホン
   酸エステル誘導体、あるいはその薬理学的に許容される
   塩。
2. 【請求項２】 Ｇが低級アルコキシフェニル基である請
   求項１記載のスルホンアミド誘導体またはスルホン酸エ
   ステル誘導体、あるいはその薬理学的に許容される塩。
3. 【請求項３】 ＬがＮＨである請求項１または２記載の
   スルホンアミド誘導体、あるいはその薬理学的に許容さ
   れる塩。
4. 【請求項４】 Ｍが三環式構造（ａ）である請求項１〜
   ３のいずれか一項記載のスルホンアミド誘導体またはス
   ルホン酸エステル誘導体、あるいはその薬理学的に許容
   される塩。
5. 【請求項５】 Ｍが三環式構造（ｂ）である請求項１〜
   ３のいずれか一項記載のスルホンアミド誘導体またはス
   ルホン酸エステル誘導体、あるいはその薬理学的に許容
   される塩。
6. 【請求項６】 Ｍが三環式構造（ｃ）である請求項１〜
   ３のいずれか一項記載のスルホンアミド誘導体またはス
   ルホン酸エステル誘導体、あるいはその薬理学的に許容
   される塩。
7. 【請求項７】 Ｍが三環式構造（ｄ）である請求項１〜
   ３のいずれか一項記載のスルホンアミド誘導体またはス
   ルホン酸エステル誘導体、あるいはその薬理学的に許容
   される塩。
8. 【請求項８】 Ｍが三環式構造（ｅ）である請求項１〜
   ３のいずれか一項記載のスルホンアミド誘導体またはス
   ルホン酸エステル誘導体、あるいはその薬理学的に許容
   される塩。
9. 【請求項９】 Ｍが三環式構造（ｆ）である請求項１〜
   ３のいずれか一項記載のスルホンアミド誘導体またはス
   ルホン酸エステル誘導体、あるいはその薬理学的に許容
   される塩。
10. 【請求項１０】 Ｇが４−メトキシフェニル基である請
    求項１記載のスルホンアミド誘導体またはスルホン酸エ
    ステル誘導体、あるいはその薬理学的に許容される塩。
11. 【請求項１１】 Ｇが４−メトキシフェニル基であり、
    Ｌが−ＮＨ−であり、Ｍが三環式構造（ａ）でＸがＮＨ
    であり、かつＡ環およびＢ環が置換されていてもよい芳
    香族６員環である請求項１記載のスルホンアミド誘導体
    またはその薬理学的に許容される塩。
12. 【請求項１２】 Ｍが三環式構造（ａ）でＸおよびＹを
    含む真中の環が７員環である請求項１１記載のスルホン
    アミド誘導体またはその薬理学的に許容される塩。
13. 【請求項１３】 一般式（ＩＩ） 【化３】 （式中、Ｇｂは保護されていてもよい請求項１記載のＧ
    を意味する）で表わされるスルホン酸またはその反応性
    誘導体と一般式（ＩＩＩ） 【化４】 （式中、Ｌは請求項１記載と同じ意味を示す。Ｍａは保
    護されていてもよい請求項１記載のＭを意味する）で表
    わされる化合物を反応させ、得られた生成物が保護基を
    有する場合は所望により該保護基を除去することを特徴
    とする請求項１記載のスルホンアミド誘導体またはスル
    ホン酸エステル誘導体、あるいはその薬理学的に許容さ
    れる塩を製造する方法。
14. 【請求項１４】 一般式（ＩＶ） 【化５】 （式中、Ｇｂ、Ｒ¹ およびＲ² は前記と同じ意味を示
    す。Ｒ^14a は水素原子または低級アルキル基を意味し、
    Ａａ環およびＢａ環は各々保護されていてもよい請求項
    １記載のＡ環およびＢ環を意味する）で表わされる化合
    物をアルデヒド類と反応させて分子内閉環し、得られた
    生成物が保護基を有する場合は所望により該保護基を除
    去することを特徴とする請求項１記載のスルホンアミド
    誘導体またはその薬理学的に許容される塩を製造する方
    法。
15. 【請求項１５】 一般式（Ｖ） 【化６】 （式中、Ｇｂ、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ａａ環および
    Ｂａ環は前記と同じ意味を示す。Ｖは脱離基を意味す
    る）で表わされる化合物を分子内閉環させ、得られた生
    成物が保護基を有する場合は所望により該保護基を除去
    することを特徴とする請求項１記載のスルホンアミド誘
    導体またはその薬理学的に許容される塩を製造する方
    法。
16. 【請求項１６】 一般式（ＶＩ） 【化７】 ［式中、Ｇｂ、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ａａ環およびＢａ環は前記
    と同じ意味を示す。Ｙａは−ＮＨＣＯ−または−Ｎ＝Ｃ
    （Ｒ¹¹) −（Ｒ¹¹は水素原子または低級アルキル基を示
    す）を意味する］で表わされる化合物を還元し、得られ
    た生成物が保護基を有する場合は所望により該保護基を
    除去することを特徴とする請求項１記載のスルホンアミ
    ド誘導体またはその薬理学的に許容される塩を製造する
    方法。
17. 【請求項１７】請求項１記載のスルホンアミド誘導体ま
    たはスルホン酸エステル誘導体、あるいはその薬理学的
    に許容される塩を有効成分とする抗腫瘍剤。