JP3690825B2 - 三環式ヘテロ環含有スルホンアミドおよびスルホン酸エステル誘導体 - Google Patents
三環式ヘテロ環含有スルホンアミドおよびスルホン酸エステル誘導体 Download PDFInfo
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Description
【産業上の利用分野】
本発明は新規なスルホンアミドまたはスルホン酸エステル誘導体、その製造 および該化合物を有効成分とする医薬組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】
癌の化学療法剤として従来用いられているものには、アルキル化剤のサイクロフォスファミド、代謝拮抗剤のメトトレキセート、フルオロウラシル、抗生物質のアドリアマイシン、マイトマイシン、ブレオマイシン、植物由来のビンクリスチン、エトポシド、金属錯体のシスプラチンなど多くの薬剤があるが、いずれもその抗腫瘍効果は不十分であり、新しい抗腫瘍剤の開発が切望されている。
また、芳香族スルホンアミド系抗腫瘍性化合物としては、4−アミノベンゼンスルホンアミド誘導体(特公昭43−3093)、2−スルファニルアミド−キノキサリン誘導体(特開昭62−426 )およびN−(2−アニリノ−3−ピリジル)ベンゼンスルホンアミド誘導体(特開平5−39256 )が報告されている。芳香族スルホン酸エステル系抗腫瘍性化合物についてはまだ報告がない。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、優れた抗腫瘍活性を有し、従来の抗腫瘍性化合物とは基本骨格が異なる新規スルホンアミド誘導体および新規スルホン酸エステル誘導体の提供を目的とする。さらに該化合物の製造法および該化合物を有効成分とする医薬組成物をも提供することを目的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記趣旨に鑑み、優れた抗腫瘍性化合物を求めて鋭意研究を行ってきた結果、三環式構造を有する新規スルホンアミド誘導体および新規スルホン酸エステル誘導体が優れた抗腫瘍活性を有し、かつ低毒性であることを見出し、本発明を完成した。
【0005】
すなわち、本発明は一般式(I)
【化8】
{式中、Gは置換基を1ないし2個有する芳香族5または6員環を意味する。Lは式−N(R1 )−(式中、R1 は水素原子または低級アルキル基を意味する)または酸素原子を意味する。
【0006】
Mは式(a)、(b)、(c)、(d)、(e)または(f)から選ばれる三環式構造
【化9】
[式中、
A環およびB環は置換されていてもよい不飽和5または6員環を、
Xは式−N(R2 )−(式中、R2 は水素原子または低級アルキル基を意味する)または−NHCO−を、
Yは酸素原子、式−S(O)n −、−C(R3 )(R4 )−、−C(O)−、−N(R5 )−、−CH(R6 )CH(R7 )−、−C(R8 )=C(R9 )−、−N(R10)C(O)−、−C(O)N(R10)−、−N=C(R11)−、−C(R11)=N−、−OCH(R12)−、−CH(R12)O−、−S(O)n CH(R13)−、−CH(R13)S(O)n −、−N(R14) CH(R15)−または−CH(R15)N(R14) −(式中、nは0、1または2を、R3 、R4 、R6 、R7 、R8 およびR9 は同一または相異なる水素原子または低級アルキル基を、R5 、R10、R11、R12、R13およびR15は水素原子または低級アルキル基を、R14は水素原子、低級アルキル基または低級アシル基を意味する)を、
Zは窒素原子または式−C(R16)=(式中、R16は水素原子または低級アルキル基を意味する)を意味する]を意味する。
但し、Gが4−メチルフェニル基または4−メトキシカルボニルアミノフェニル基であり、Mの三環式構造(a)におけるXが式−N(R2 )−であり、かつYが酸素原子または式−S(O)n −(式中、nが0である場合)である組合せを除く}で表されるスルホンアミド誘導体あるいはスルホン酸エステル誘導体、またはそれらの薬理学的に許容される塩に関する。
【0007】
以下に本発明の詳細な説明を述べる。
上記一般式(I)において、Gで表される「置換基を1ないし2個有する芳香族5または6員環」とは、置換基を1ないし2個有するベンゼン、ピリジン、チオフェン、フランを意味する。置換基としては例えばハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキル基で置換されていてもよいアミノ基などを挙げる事ができる。
【0008】
また、上記一般式(I)において、Mで表わされる三環式構造中のA環およびB環は同一または異なっていてもよく、これらの意味する「置換されていてもよい不飽和5または6員環」とは、置換されていてもよい5または6員からなる不飽和炭化水素またはヘテロ原子として窒素原子、酸素原子、硫黄原子を有する不飽和ヘテロ環である。主な不飽和5または6員環としてピロール、ピラゾール、イミダゾール、チオフェン、フラン、ベンゼン、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、ピリダジンなどを挙げることができる。
【0009】
上記5または6員環は置換基を1〜3個有していてもよく、置換基としては例えばハロゲン原子、水酸基で置換されていてもよい低級アルキル基、水酸基で置換されていてもよい低級アルコキシ基、水酸基、水酸基を有していてもよい低級アルキル基で置換されていてもよいアミノ基、低級アシルアミノ基、シアノ基、低級アシル基あるいはオキソ基などを挙げることができる。また、置換基が水酸基である場合または置換基中に水酸基を有する場合、これらの水酸基は保護されていてもよい。保護されていてもよい水酸基としてメトキシメチルオキシ基、テトラヒドロピラニルオキシ基、ベンジルオキシ基、リン酸エステル、硫酸エステル、スルホン酸エステル(p−メトキシベンゼンスルホン酸、メタンスルホン酸などとのエステル)、アミノ酸エステル(例えばグリシン、アラニン、ロイシン、チロシン、アスパラギン酸、グルタミン酸、リジン、アルギニン、プロリン、ザルコシン、β−アラニン、γ−アミノ酪酸などとのエステル)、グリコシド(例えばグルコシド、グルクロナイドなど)、低級アルキル基で置換されていてもよいカルバモイルオキシ基(例えばカルバモイルオキシ基、メチルカルバモイルオキシ基、ジメチルカルバモイルオキシ基など)、低級アシルオキシ基(例えばホルミルオキシ基、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ピバロイルオキシ基など、炭素数1〜5のもの)、ベンゾイルオキシ基などを挙げることができる。
【0010】
上記一般式(I)において、R1 〜R16の、あるいはG、A環およびB環が有していてもよい置換基の定義中の低級アルキル基とは、炭酸数1〜6の直鎖もしくは分枝状のアルキル基、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、 sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基(アミル基)、イソペンチル基、ネオペンチル基、tert−ペンチル基、1−メチルブチル基、2−メチルブチル基、1,2−ジメチルプロピル基、n−ヘキシル基、イソヘキシル基、1−メチルペンチル基、2−メチルペンチル基、3−メチルペンチル基、1,1−ジメチルブチル基、1,2−ジメチルブチル基、2,2−ジメチルブチル基、1,3−ジメチルブチル基、2,3−ジメチルブチル基、3,3−ジメチルブチル基、1−エチルブチル基、2−エチルブチル基、1,1,2−トリメチルプロピル基、1,2,2−トリメチルプロピル基、1−エチル−1−メチルプロピル基、1−エチル−2−メチルプロピル基などを意味する。これらのうち好ましい基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基などを挙げることができ、これらのうち、最も好ましい基としてはメチル基、エチル基を挙げることができる。
【0011】
G、A環およびB環が有していてもよい置換基の定義中の低級アルコキシ基とは、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、tert−ブトキシ基など上記の低級アルキル基から誘導される低級アルコキシ基を意味するが、これらのうち最も好ましい基としてはメトキシ基、エトキシ基を挙げることができる。またハロゲン原子としてはフッ素原子、塩素原子、臭素原子などが挙げられる。
R14の、あるいはA環およびB環が有していてもよい置換基の定義中の低級アシル基とはホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基などを意味する。
【0012】
上記一般式(I)で示されるスルホンアミド誘導体またはスルホン酸エステル誘導体は酸または塩基と塩を形成する場合もある。本発明は化合物(I)の塩をも包含する。酸との塩としては、たとえば塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩等の無機酸塩や酢酸、乳酸、コハク酸、フマル酸、マレイン酸、クエン酸、安息香酸、メタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸などの有機酸との塩を挙げることができる。また、塩基との塩としては、ナトリウム塩、カリウム塩、カルシウム塩などの無機塩、トリエチルアミン、アルギニン、リジン等の有機塩基との塩を挙げることができる。
【0013】
また、これら化合物の水和物はもちろんのこと光学異性体が存在する場合はそれらすべてが含まれることはいうまでもない。本発明化合物は強い抗腫瘍活性を示すが、生体内で酸化、還元、加水分解、抱合などの代謝を受けて抗腫瘍活性を示す化合物をも包含する。さらに、本発明は生体内で代謝を受けて発明化合物を生じる化合物をも包含する。
【0014】
次に本発明化合物(I)は種々の方法によって製造することができるが、それらのうち代表的な方法を示せば、以下の通りである。
【0015】
(1)一般式(II)
【化10】
(式中、Gbは保護されていてもよいGを意味する)で表わされるスルホン酸またはその反応性誘導体と一般式(III)
【0016】
【化11】
(式中、Lは前記と同じ意味を示す。Maは保護されていてもよいMを意味する)で表わされる化合物を反応させ、得られた化合物が保護基を有する場合は所望により該保護基を除去することにより製造することができる。
【0017】
スルホン酸(II)の反応性誘導体としては、例えばハロゲン化スルホニル、スルホン酸無水物、N−スルホニルイミダゾリドなどのような一般的によく利用される反応性誘導体を挙げることができるが、特に好適な例はハロゲン化スルホニルである。反応は化学量論的に当モルにて進行する。反応に使用する溶媒は特に限定されないが、原料物質を溶解し、かつこれらと容易に反応しないものが望ましく、例えばピリジン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ベンゼン、エーテル、ジクロロメタン、ジメチルホルムアミド、あるいはこれらから選ばれた2種以上の混合溶媒などが利用され得る。また、本反応においてハロゲン化スルホニルを用いた場合の如く、反応の進行に伴い酸が遊離してくる場合には、適当な脱酸剤の存在下に行われるのが好ましいので、ピリジンのような塩基性溶媒の使用は特に好適である。中性溶媒を使用するときは、炭酸アルカリ、有機第3級アミンなどの塩基性物質を添加してもよい。勿論、使用しうる溶媒はここに挙げたものに限定されるものではない。一般に本反応は室温で進行するが、必要に応じて冷却または加熱してもよい。反応時間は通常10分〜20時間であるが、原料化合物の種類、反応温度によって任意に選ばれる。
【0018】
得られた生成物において、アミノ基または水酸基が保護されている場合には、所望により酸処理、アルカリ処理、接触還元など通常の脱保護法を行うことにより、遊離の水酸基またはアミノ基を有するスルホンアミド誘導体またはスルホン酸エステル誘導体(I)を得ることが可能である。
【0019】
(2)一般式(VII)
【化12】
(式中、GbおよびMaは前記と同じ意味を示す)で表わされる化合物を、例えば水素化ナトリウムのような塩基存在下低級アルキルハライドと反応させることにより製造することができる。得られた生成物において、アミノ基または水酸基が保護されている場合には、所望により酸処理、アルカリ処理、接触還元など通常の脱保護法を行うことにより遊離の水酸基またはアミノ基を有するスルホンアミド誘導体(I)を得ることが可能である。
【0020】
(3)一般式(VIII)
【化13】
(式中、GbおよびLは前記と同じ意味を示す。MbはMaの定義中のYが硫黄原子を含む場合のMaを意味する)で表わされる化合物を、例えば過酸化水素、m−クロロ過安息香酸などの酸化剤と反応させることにより製造することができる。得られた生成物において、アミノ基または水酸基が保護されている場合には、所望により酸処理、アルカリ処理、接触還元など通常の脱保護法を行うことにより遊離の水酸基またはアミノ基を有するスルホンアミド誘導体またはスルホン酸エステル誘導体(I)を得ることが可能である。
【0021】
(4)一般式(IV)
【化14】
(式中、Gb、R1 およびR2 は前記と同じ意味を示し、R14a は水素原子または低級アルキル基を、Aa環およびBa環は各々保護されていてもよいA環およびB環を意味する)で表わされる化合物を塩酸、臭化水素酸などの酸の存在下にパラホルムアルデヒド、アセトアルデヒドなどのアルデヒド類と反応させることにより製造することができる。反応に使用する溶媒は特に限定されないが、テトラヒドロフラン、メタノール、水あるいはこれらの混合溶媒などが利用され得る。反応温度は原料化合物の種類によって任意に選ばれるが、必要に応じて加熱してもよい。得られた生成物において、アミノ基または水酸基が保護されている場合には、所望により酸処理、アルカリ処理、接触還元など通常の脱保護法を行うことにより遊離の水酸基またはアミノ基を有するスルホンアミド誘導体(I)を得ることができる。
【0022】
(5)一般式(IVa)
【化15】
(式中、Gb、R1 、Aa環およびBa環は前記と同じ意味を示し、R2aは低級アルキル基または保護基を、R14b は低級アシル基を意味する)で表わされる化合物をポリリン酸、オキシ塩化リンなどの存在下に反応させることにより製造することができる。反応温度は原料化合物の種類によって任意に選ばれるが、必要に応じて加熱してもよい。得られた生成物において、アミノ基または水酸基が保護されている場合には、所望により酸処理、アルカリ処理、接触還元など通常の脱保護法を行うことにより遊離の水酸基またはアミノ基を有するスルホンアミド誘導体(I)を得ることができる。
【0023】
(6)一般式(IX)
【化16】
(式中、Gb、R1 、R2 、R10、Aa環およびBa環は前記と同じ意味を示す。Jはカルボキシル基またはその反応性誘導体を意味する)で表わされる化合物を分子内閉環することにより製造することができる。反応温度は原料化合物の種類によって任意に選ばれるが、必要に応じて冷却または加熱してもよい。カルボキシル基の反応性誘導体としては、例えばエステル、活性エステル、酸ハライド、酸無水物、活性アミド化合物などを挙げることができる。カルボキシル基をそのまま用いる場合には、1,3−ジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC)、ジフェニルホスホリルアジド(DPPA)などの縮合剤の存在下に反応を行うことも可能である。得られた生成物において、アミノ基または水酸基が保護されている場合には、所望により酸処理、アルカリ処理、接触還元など通常の脱保護法を行うことにより遊離の水酸基またはアミノ基を有するスルホンアミド誘導体(I)を得ることができる。
(7)一般式(V)
【0024】
【化17】
(式中、Gb、R1 、R2 、R14、R15、Aa環およびBa環は前記と同じ意味を示し、Vは脱離基を意味する)で表わされる化合物を分子内閉環することにより製造することができる。脱離基Vとしてはハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ基、パラトルエンスルホニルオキシ基などが挙げられる。原料化合物(V)は必ずしも単離できる必要はなく、例えば反応中間体として一時的に生成する場合もある。得られた生成物において、アミノ基または水酸基が保護されている場合には所望により通常の脱保護法を行うことにより遊離のアミノ基または水酸基を有するスルホンアミド誘導体(I)を得ることができる。
(7)一般式(VI)
【0025】
【化18】
[式中、Gb、R1 、R2 、Aa環およびBa環は前記と同じ意味を示し、YaはNHCO−または−N=C(R11) −(R11は前記と同じ意味を示す)を意味する]で表わされる化合物を還元することにより製造することができる。還元法は原料化合物の種類によって任意に選ばれるが、例えば接触還元あるいは水素化リチウムアルミニウムなどの水素化金属による還元法を挙げることができる。得られた生成物において、アミノ基または水酸基が保護されている場合には所望により通常の脱保護法を行うことにより遊離のアミノ基または水酸基を有するスルホンアミド誘導体(I)を得ることができる。
【0026】
次にこの発明に用いられる原料化合物を製造する方法について説明する。
原料化合物H−L−Ma(III)には公知化合物および新規化合物が含まれる。原料化合物(III)においてH−L−がアミノ基H2 N−を意味する場合には当該ニトロ化合物O2 N−Maを一般的に利用されるニトロ基の還元法で還元することによりH2 N−Ma(III)を得ることができる。還元法の好ましい例としてはパラジウム−炭素を触媒とした接触還元や亜鉛末−酢酸による還元などがある。接触還元は通常メタノール、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミドなどの有機溶媒中常圧または加圧下で行うことができる。
原料化合物(III)においてH−L−が水酸基を意味する場合には上記H2 N−Maをジアゾ化した後加水分解することによりHO−Ma(III)を得ることができる。
【0027】
原料化合物(III)は、一般式(X)
【化19】
(式中、R1 およびMaは前記と同じ意味を示し、Qはアミノ基の保護基を意味する)で表わされる化合物の保護基Qを適切な方法で除去することによっても得ることができる。アミノ基の保護基としては、例えばベンジルオキシカルボニル基、アセチル基、tert−ブトキシカルボニル基、トリチル基などがある。脱保護法は使用する保護基の種類によって異なるが、例えば接触還元、酸処理、アルカリ処理などを挙げることができる。
【0028】
次に原料化合物(III)の製造原料であるニトロ化合物O2 N−MaおよびQ−N(R1 )−Ma(X)の製造法について説明するが、これらの化合物はザ・ケミストリー・オブ・ヘテロサイクリック・コンパウンズ(The Chemistry of Heterocyclic Compounds )の第9巻、第47巻および第47巻パート2に記載の三環式化合物の広範な合成例などを参考にしながら製造することも可能である。
【0029】
製造法1
【化20】
(式中、Aa環、Ba環およびR2 は前記と同じ意味を示す。Eはニトロ基または保護されたアミノ基を意味し、Dはハロゲン原子、ニトロ基などの脱離基を意味する)
一般式(XIV)で表わされる化合物は刊行物記載の方法、例えばジャーナル・オブ・メディシナル・ケミストリー(J. Med. Chem. )第35巻4770頁に記載の方法またはそれに準じた方法により合成することができる。即ち、一般式(XI)で表わされる化合物とアミン(XII)をN,N−ジメチルアニリン溶媒中N,N−ジイソプロピルエチルアミンの存在下または非存在下加熱することにより得られる化合物(XIII)を1,2−ジクロロエタンなどの溶媒中N,N−ジメチルアニリンの存在下オキシ塩化リンと加熱下反応させる方法または濃硫酸中加熱する方法で閉環させて合成することができる。
【0030】
また、一般式(XIV)で表わされる化合物は同様にして次の経路で合成することも可能である。
【化21】
(式中、Aa環、Ba環、R2 、EおよびDは前記と同じ意味を示す)
化合物(XV)は化合物(XIV)を水素化リチウムアルミニウム−塩化アルミニウムなどの還元剤と反応させることにより製造することができる。
【0031】
製造法2
【化22】
(式中、Aa環、Ba環、R2 、DおよびEは前記と同じ意味を示す。Wはハロゲン原子、ニトロ基などの脱離基を意味する。Ybは酸素原子、硫黄原子、−N(R5)−、−OCH(R12)−、−SCH(R13)−または−N(R14) CH(R15)−を意味し、R5 、R12、R13、R14およびR15は前記と同じ意味を示す)
一般式(XXI)で表わされる化合物は刊行物記載の方法、例えばジャーナル・オブ・ケミカル・ソサイエティ(J. Chem. Soc. )1953年1504頁に記載の方法、ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー(J. Org. Chem)第25巻60頁に記載の方法、ジャーナル・オブ・ケミカル・ソサイエティ(C)(J. Chem. Soc.(C))1969年2148頁に記載の方法またはそれに準じた方法によって合成することができる。即ち、一般式(XIX)で表わされる化合物と一般式(XX)で表わされる化合物、またはそのN−ホルミル体、をジメチルホルムアミド中炭酸カリウムと触媒量の銅粉存在下加熱するか、または一般式(XIX)で表わされる化合物と一般式(XX)で表される化合物をまず酢酸ナトリウム、トリエチルアミンなどの存在下または非存在下室温または加熱下反応させ、ついで炭酸カリウム、苛性ソーダなどを加え銅粉の存在下または非存在下室温または加熱しながら反応させることにより合成することができる。
【0032】
製造法3
【化23】
(式中、Aa環、Ba環およびYは前記と同じ意味を示す)
一般式(XXIII)で表わされる化合物は、例えばシンセシス(Synthesis )1988年 215頁に記載の方法またはそれに準じた方法により合成することができる。即ち、一般式(XXII)で表わされる化合物をテトラヒドロフランなどの溶媒中n−ブチルリチウムと反応させた後、炭酸ガスを吹き込み、ついでn−ブチルリチウム、硝酸イソブチルと順次反応させることにより一般式(XXIII)で表わされる化合物を合成することができる。
【0033】
製造法4
【化24】
(式中、Aa環、Ba環、X、YおよびZは前記と同じ意味を示す)
一般式(XXV)、(XXVII)、(XXIX)および(XXXI)で表わされる化合物は、一般に用いられるニトロ化剤、例えば濃硝酸、発煙硝酸、混酸、硝酸アセチルなどにより化合物(XXIV)、(XXVI)、(XXVIII)および(XXX)を各々常法に従いニトロ化することにより合成することができる。 また、一般式(XXIV)においてXがNHを意味する化合物(XXIVa)の場合には、オーストラリアン・ジャーナル・オブ・ケミストリー(Aust. J. Chem.)第25巻2451頁に記載の方法またはそれに準じた方法、即ち、化合物(XXIVa)をまず亜硝酸でN−ニトロソ化し、ついで酸素の存在下光照射を行うことによっても対応するニトロ体を合成することができる。
【0034】
製造法5
【化25】
(式中、Aa環、Ba環、E、DおよびYbは前記と同じ意味を示す)
一般式(XXXVI)で表わされる化合物は、例えばケミストリー・アンド・インダストリー(Chem. Ind.)1985年 825頁記載の方法またはそれに準じた方法により合成することができる。即ち、一般式(XXXII)で表わされる化合物と化合物(XXXIII)をジメチルホルムアミド、エタノールなどの溶媒中炭酸カリウムと銅粉またはヨウ化カリウムなどの存在下加熱することにより得られる化合物(XXXIV)を通常のニトロ基の還元法により還元し、得られたアミン(XXXV)を加熱または1,3−ジシクロヘキシルカルボジイミド等の縮合剤で処理することにより化合物(XXXVI)を合成することができる。
一般式(XXXVI)で表わされる化合物は、例えばジャーナル・オブ・ラベルド・コンパウンズ・アンド・ラジオファーマシューティカルズ(J. Labelled Compd. Radiopharm.)第20巻1339頁に記載されているようにアミド結合を先に形成させ、ついで閉環させる次の経路によっても製造することが可能である。
【0035】
【化26】
(式中、Aa環、Ba環、E、DおよびYbは前記と同じ意味を示す)
【0036】
製造法6
【化27】
(式中、Aa環、Ba環、R2 およびGbは前記と同じ意味を示し、Uは脱離基を意味する)
一般式(XLV)で表される化合物は、ジニトロハロゲン化物(XL)から出発しアミン(XLI)との反応、還元、スルホニルクロリド(XLIV)との反応を順次行うことにより合成するできる。
【0037】
本発明化合物を医薬として使用する場合は、経口もしくは非経口的に投与される。投与量は、症状の程度、患者の年齢、性別、体重、感受性差、投与方法、投与時期、投与間隔、医薬製剤の性質、調剤、種類、有効成分の種類等によって異なり特に限定されないが、通常成人1日あたり10〜6000mg、好ましくは約50〜4000mg、さらに好ましくは 100〜3000mgでありこれを通常1日1〜3回に分けて投与する。
【0038】
経口用固形製剤を調製する場合は、主薬に賦形剤さらに必要に応じて結合剤、崩壊剤、滑沢剤、着色剤、矯味矯臭剤などを加えた後、常法により錠剤、被覆錠剤、顆粒剤、細粒剤、散剤、カプセル剤等とする。
【0039】
賦形剤としては、例えば乳糖、コーンスターチ、白糖、ぶどう糖、ソルビット、結晶セルロース、二酸化ケイ素などが、結合剤としては、例えばポリビニルアルコール、エチルセルロース、メチルセルロース、アラビアゴム、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース等が、滑沢剤としては、例えばステアリン酸マグネシウム、タルク、シリカ等が、着色剤としては医薬品に添加することが許可されているものが、矯味矯臭剤としては、ココア末、ハッカ脳、芳香酸、ハッカ油、龍脳、桂皮末等が用いられる。これらの錠剤、顆粒剤には糖衣、ゼラチン衣、その他必要により適宜コーティングすることは勿論差し支えない。
【0040】
注射剤を調製する場合には、必要により主薬にpH調整剤、緩衝剤、懸濁化剤、溶解補助剤、安定化剤、等張化剤、保存剤などを添加し、常法により静脈、皮下、筋肉内注射剤とする。その際必要により、常法により凍結乾燥物とすることもある。
【0041】
懸濁化剤としての例を挙げれば、例えばメチルセルロース、ポリソルベート80、ヒドロキシエチルセルロース、アラビアゴム、トラガント末、カルボキシメチルセルロースナトリウム、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレートなどを挙げることができる。
【0042】
溶解補助剤としては、例えばポリオキシエチレン硬化ヒマシ油、ポリソルベート80、ニコチン酸アミド、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、マグロゴール、ヒマシ油脂肪酸エチルエステルなどを挙げることができる。
【0043】
また安定化剤としては、例えば亜硫酸ナトリウム、メタ亜硫酸ナトリウム等が、保存剤としては、例えばパラオキシ安息香酸メチル、パラオキシ安息香酸エチル、ソルビン酸、フェノール、クレゾール、クロロクレゾールなどを挙げることができる。
【0044】
【発明の効果】
次に本発明化合物の効果を記述するため薬理実験例を示す。
【0045】
実験例1 KB細胞(ヒト鼻咽腔癌細胞)に対する in vitro 抗腫瘍試験
10%牛胎児血清、ペニシリン( 100単位/ml)、ストレプトマイシン( 100μg/ml)、メルカプトエタノール(5×10-5M)およびピルビン酸ナトリウム(1mM)を含むRPMI1640培地(日水製薬)に浮遊させたKB細胞を96穴平底マイクロプレートの各穴に1.25×103 個(0.1ml )ずつ播種し、5%炭酸ガス含有の培養器中37℃で1日培養した。
本発明の化合物をジメチルスルホキシドにて20mg/mlの濃度に溶解し、10%牛胎児血清−RPMI1640培養液で 100μg/mlの濃度まで希釈した。これを最高濃度として10%牛胎児血清−PRMI1640培養液にて3倍系列希釈を行った。これを先に述べたKB細胞の培養プレートの各穴に 0.1mlずつ加え、5%炭酸ガス含有培養器中37℃で3日間培養した。
培養後、MTT 〔3−(4,5−ジメチルチアゾール−2−イル)−2,5−ジフェニルテトラゾリウムブロミド〕溶液(3.3mg /ml)を0.05mlずつ各穴に加え、さらに1時間培養した。各穴から上清を吸引除去後、生成したホルマザンをジメチルスルホキシド 0.1mlで溶解し、マイクロプレートリーダーで 540nmにおける吸光度を測定し、生細胞数の指標とした。以下の式より抑制率を算出し、50%抑制する被検化合物の濃度(IC50)を求めた。
【0046】
【数1】
T:被検化合物を添加した穴の吸光度
C:被検化合物を添加しなかった穴の吸光度
【0047】
得られたIC50値を表1に示す。
【表1】
【0048】
【表2】
【0049】
実験例2 M 5076 (マウス細網肉腫)に対する in vivo 抗腫瘍試験
BDF1マウス(6〜9週齢、雌)の体側皮下に1×106 個のM5076細胞を移植した。本発明の化合物を 3.5%ジメチルスルホキシドと 6.5%ツイーン80を含む生理食塩水に懸濁し、所定量を移植後約10日目から1日1回隔日に4回腹腔内投与した。対照群は一群10〜12匹、薬剤投与群は1群5または6匹で実験を行った。
移植後21日目に腫瘍を摘出し、腫瘍重量を測定した。対照群に対する薬剤投与群の腫瘍増殖抑制率を下記式より求めた。
【0050】
【数2】
T:被検化合物投与群の平均腫瘍重量
C:対照群の平均腫瘍重量
【0051】
実験結果を表2に示す。
【表3】
上記実験例により本発明化合物は優れた抗腫瘍作用を有し、抗腫瘍剤として有用である。
【0052】
【実施例】
次に、本発明化合物の原料化合物の製造を示す製造例および本発明化合物の代表的化合物について実施例を掲げるが、本発明がこれらのみに限定されるものではない。なお、製造例において記載されいてる化合物がニトロ基を有する三環式化合物の場合には、パラジウム−炭素、酸化白金などの触媒の存在下室温、常圧で行う接触還元または亜鉛、鉄などに塩酸または酢酸を加えて行う還元法によりニトロ基をアミノ基に還元した後、芳香族スルホニルクロリドと反応させて実施例記載化合物を合成した。
【0053】
製造例1
2−ベンジルオキシ−5−ニトロ−9( 10 H)−アクリジノン
【化28】
4−ベンジルオキシアニリン 2.2g(11ミリモル)、2−クロロ−3−ニトロ安息香酸 2.0g(10ミリモル)、N,N−ジメチルアニリン6mlおよびN,N−ジイソプロピルエチルアミン 1.6mlの混合物を攪拌しながら、 100℃で12時間加熱した。冷後クロロホルム30mlと1N−水酸化ナトリウム30mlを加え、生じた沈澱を濾取、5%塩酸と攪拌、濾取、水洗して、2−〔(4−ベンジルオキシフェニル)アミノ〕−3−ニトロ安息香酸 3.3gを得た。これをクロロホルム40mlに加えた後、N,N−ジメチルアニリン 0.3mlとオキシ塩化リン6mlを加え30分間加熱還流した。冷後析出した結晶を濾取し、表題化合物 2.1gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 5.22(2H, s), 7.33(1H, t, J=8.0Hz), 7.36-7.42(3H, m), 7.49(2H, d, J=8.0Hz), 7.54(1H, dd, J=9.2, 2.8Hz), 7.69(1H, d, J=2.8Hz), 8.08(1H, d, J=9.2Hz), 8.65-8.69(2H, m), 11.5(1H, br s)
【0054】
製造例2
7−フルオロ−1−ニトロ− 10 H−フェノチアジン
【化29】
2−アミノ−5−フルオロベンゼンチオール 2.2g(15ミリモル)をジメチルホルムアミド30mlに溶解し、1−クロロ−2,6−ジニトロベンゼン 2.5g(12ミリモル)を加え室温で攪拌した。12時間後N,N−ジイソプロピルエチルアミン 2.6mlを加え、80℃で2時間加熱した。冷後反応液を飽和塩化アンモニウム水溶液中に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、表題化合物 1.2gを得た。
1H-NMR(CDCl3) δ(ppm) : 6.64(1H, dd, J=8.8, 4.8Hz), 6.70(1H, dd, J=8.0, 2.8Hz), 6.73-6.80(2H, m), 7.12-7.15(1H, m), 7.90(1H, dd, J=9.2, 1.4Hz), 9.66(1H, br s)
【0055】
製造例3
4−アミノ−5H−ジベンズ〔b,f〕アゼピン
【化30】
5H−ジベンズ〔b,f〕アゼピン1g(5.2 ミリモル)を無水エーテル40mlに懸濁し、室温攪拌下n−ブチルリチウム 1.6Mヘキサン溶液 9.7ml(15.5ミリモル)を滴下した。24時間後反応混合物をドライアイス−アセトン浴中で冷却し、これに硝酸イソブチル0.93g(7.8 ミリモル)の無水エーテル溶液(2ml)を滴下した。室温で30分間攪拌後、酢酸2mlを加え、反応混合物を水50ml中に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗、硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、4−ニトロ−5H−ジベンズ〔b,f〕アゼピンを得た。これをテトラヒドロフラン50mlに溶解し、亜鉛末1gを加え、攪拌しながら濃塩酸を滴下した。反応液が赤褐色から淡黄色になった時点で滴下を終了し、不溶物を濾取した。濾液に希アンモニア水を加えて塩基性とし、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗、硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮後、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し、表題化合物45mgを得た。
【0056】
製造例4
7−ヒドロキシ−1−ニトロ− 10 H−フェノキサジン
【化31】
1−クロロ−2,6−ジニトロベンゼン6g(30ミリモル)と4−アミノレゾルシノール塩酸塩 4.8g(30ミリモル)をテトラヒドロフラン−ジメチルホルムアミド(1:1)混液 300mlに加えた。これにN,N−ジイソプロピルエチルアミン 7.8g(60ミリモル)を加え、室温で24時間攪拌した。溶媒を減圧留去し、残渣を酢酸エチルに溶解し、飽和食塩水で洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、4−〔(2,6−ジニトロフェニル)アミノ〕レゾルシノール6.95gを得た。これをジメチルホルムアミド 125mlに溶解し、N,N−ジイソプロピルエチルアミン25mlを加え 100℃で2時間加熱した。濃縮後残渣を酢酸エチルに溶解し、水洗、硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮乾固し、表題化合物 5.4gを得た。
【0057】
製造例5
7−( tert −ブチルジメチルシリルオキシ)−1−ニトロ− 10 H−フェノキサジン
【化32】
製造例4の化合物 1.2g( 4.9ミリモル),tert−ブチルジメチルシリルクロリド 1.1g( 7.4ミリモル)およびイミダゾール 0.5g( 7.4ミリモル)をジメチルホルムアミド50mlに溶解し、窒素雰囲気下室温で8時間攪拌した。濃縮後、残渣をジエチルエーテル 500mlに溶解し、水洗、硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、表題化合物 1.15 gを得た。
【0058】
製造例6
5, 11 −ジヒドロ−6−ニトロジベンズ〔b,e〕〔1,4〕オキサゼピン
【化33】
1−クロロ−2,6−ジニトロベンゼン2.85g(14ミリモル)と2−アミノベンジルアルコール1.73g(14ミリモル)をトリエチルアミン30mlに溶解し、24時間加熱還流した。濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、2−〔(2,6−ジニトロフェニル)アミノ〕ベンジルアルコール 2.2gを得た。この粉末0.29g(1ミリモル)を無水ジメチルホルムアミド20mlに溶解し、水素化ナトリウム(油性、含量60%)40mg(1ミリモル)を加え、室温で15分間、ついで 150℃で2時間攪拌した。冷後、酢酸エチル 200mlを加え、水洗、硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、表題化合物0.14gを得た。
【0059】
製造例7
9−ニトロジベンズ〔b,f〕〔1,4〕オキサゼピン− 11 ( 10 H)−オン
【化34】
2−アミノ−3−ニトロフェノール1.57g(10ミリモル)をピリジン20mlに溶解し、攪拌下2−フルオロベンゾイルクロリド3.36g(21ミリモル)を加えた。4時間加熱還流後、濃縮し、希塩酸と酢酸エチルを加え、有機層を分取、水洗した。濃縮後テトラヒドロフラン20mlと1N水酸化ナトリウム20mlを加え4時間加熱還流した。冷後、塩酸で中和、濃縮し、酢酸エチルと水を加えて有機層を分取、水洗、硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、2−フルオロ−N−(2−ヒドロキシ−6−ニトロフェニル)ベンズアミド2.35gを得た。この粉末 553mg(2ミリモル)をジメチルホルムアミド20mlに溶解し、炭酸カリウム 332mg( 2.4ミリモル)と銅粉20mgを加えた。3時間加熱還流後、濃縮し、残渣に酢酸エチルと希塩酸を加えた。不溶物を濾別後、有機層を分取し、水洗した。硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製し、表題化合物 400mgを得た。
融点:162-163 ℃
【0060】
製造例8
9, 10 −ジヒドロ−4−ニトロアクリジン
【化35】
塩化アルミニウム 1.361g(10ミリモル)を無水テトラヒドロフラン10mlに溶解した液に、攪拌しながら4−ニトロ−9(10H)−アクリジノン 1.201g(5ミリモル)の無水テトラヒドロフラン溶液(75ml)を徐々に加えた。室温で30分間攪拌後、水素化リチウムアルミニウム 759mg(20ミリモル)を少しずつ加えた。室温で30分、さらに55℃で30分間攪拌した後、室温にもどし、1N塩酸5mlを加えた。濃縮後、残渣に酢酸エチルと水を加え、不溶物を濾取した。濾液から有機層を分取し、硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、表題化合物 148mgを得た。
1H-NMR(CDCl3) δ(ppm) : 5.23(2H, br), 6.94(1H, dd, J=5.6, 2.8Hz), 7.32-7.38(2H, m), 7.48-7.55(1H, m), 7.69-7.75(1H, m), 7.94-8.00(1H, m), 8.18-8.24(1H, m), 8.67(1H, s)
【0061】
製造例9
5, 11 −ジヒドロ−6−ニトロジベンゾ〔b,e〕〔1,4〕チアゼピン
【化36】
2−〔(2,6−ジニトロフェニル)アミノ〕ベンジルアルコール 1.8g( 6.2ミリモル)をジクロロメタン50mlとエチルエーテル50mlの混液に溶解し、氷冷攪拌下トリエチルアミン 2.2ml(15.5ミリモル)とメタンスルホニルクロリド0.58ml( 7.4ミリモル)を順次加えた。30分間攪拌後、反応混合物を飽和塩化アンモニウム水溶液中に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。濃縮後、残渣をアセトン 150mlに溶解し、リチウムブロミド 2.7g(31ミリモル)を加えて1時間加熱還流した。溶媒を減圧留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、2−〔(2,6−ジニトロフェニル)アミノ〕ベンジルブロミド 0.5gを得た。これをジメチルホルムアミド10mlに溶解し、チオウレア 216mg( 2.8ミリモル)を加え室温で5時間攪拌後、ジメチルホルムアミド10ml、水酸化カリウム157mg ( 2.8ミリモル)、水2mlを順次加え 100℃で3時間加熱した。冷後、反応混合物を飽和食塩水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、表題化合物0.22gを得た。
1H-NMR(CDCl3) δ(ppm) : 4.02(2H, s), 6.73(1H, dd, J=8.8, 7.6Hz), 6.94(1H, dt, J=7.6, 1.2Hz), 7.06(1H, dd, J=7.6, 1.6Hz), 7.09(1H, dd, J=7.6, 1.2Hz), 7.22(1H, dt, J=7.6, 1.6Hz), 7.55(1H, dd, J=7.6, 1.6Hz), 8.17(1H, dd, J=8.8, 1.6Hz), 11.13(1H, br s)
【0062】
製造例10
N 2 −(4−メチルフェニル)−1,2,3−トリアミノベンゼン
【化37】
p−トルイジン 0.8g (7.4ミリモル)と1−クロロ−2,6−ジニトロベンゼン 1.5g (7.4 ミリモル)をジメチルスルホキシド 15ml に溶解し、トリエチルアミン 1.5g (14.8ミリモル)を加えた。80〜90℃で12時間攪拌後、 酢酸エチルを加え、水洗、硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィ−で精製し、N−(4−メチルフェニル)−2,6−ジニトロアニリン 2.0g を得た。これをメタノール 20ml とテトラヒドロフラン 40ml の混液に溶解し、パラジウム−炭素存在下常温常圧で水素添加を行った。触媒を濾別後溶媒を減圧留去し、表題化合物 1.6g を得た。
1H-NMR(CDCl3) δ(ppm) : 2.25(3H,s), 3.75(4H, br), 4.68(1H,br s), 6.23(2H, d, J=8.0Hz), 6.56(2H, dd, J=8.0, 2.0Hz), 6.92(1H, t, J=8.0Hz), 6.99(2H, d, J=8.0Hz)
【0063】
製造例11
N−[3−アミノ−2−[(4−メチルフェニル)アミノ]フェニル]−4−メトキシベンゼンスルホンアミド
【化38】
製造例10の化合物 1.6g (7.4 ミリモル)をテトラヒドロフラン 40ml に溶解し、ピリジン 5.6mlと4−メトキシベンゼンスルホニルクロリド(1.7g、8.1 ミリモル)を順次加えた。室温で12時間攪拌後酢酸エチルを加え、水洗、硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−で精製し、表題化合物 1.8g を得た。
1H-NMR(CDCl3) δ(ppm) : 2.24(3H,s), 3.65(2H, br), 3.85(3H,s), 4.62(1H,br s), 6.28(2H, d, J=8.4Hz), 6.49(1H, dd, J=8.0, 1.6Hz), 6.86(2H, d, J=8.8Hz), 6.90(2H, d, J=8.4Hz), 6.96(2H, dd, J=8.0, 1.6Hz), 7.02(1H, t, J=8.0Hz), 7.22(1H, br s), 7.67(2H, d, J=8.8Hz)
【0064】
製造例12
2−[(2,6−ジニトロフェニル)アミノ]−5−フロオロ安息香酸
【化39】
2−アミノ−5−フルオロ安息香酸 3.0g (19.3 ミリモル)と1−クロロ−2,6−ジニトロベンゼン 5.88g (29.0ミリモル) をジメチルホルムアミド(30ml) とジメチルスルホキシド (30ml) の混液に溶解し、トリエチルアミン 6.74ml を加えた。窒素雰囲気下室温で14日間攪拌後、濃縮し、1N塩酸を加えた。酢酸エチルで抽出し、1N塩酸で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、クロロホルムを加え、析出した結晶を濾取し、表題化合物 2.65gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.88(1H, dd, J=9.2, 4.4Hz), 7.29-7.4(1H, m), 7.37(1H, t, J=8.0Hz), 7.64(1H, dd, J=9.2, 3.2Hz), 8.35(2H, d, J=8.0Hz), 10.70(1H, s), 13.87(1H, br s)
【0065】
製造例13
6−アミノ−5,10−ジヒドロ−2−フルオロ−11H−ジベンゾ[b,e][1,4]ジアゼピン−11−オン
【化40】
製造例12の化合物 2.5g (7.8ミリモル)をテトラヒドロフラン(30ml) とメタノ−ル(5ml)の混液に溶解し、水酸化パラジウム−炭素存在下に水素圧3kg/cm2で水素添加した。触媒を濾去後溶媒を減圧留去し、残渣をジメチルホルムアミド 25ml に溶解した。これにジフェニルホスホリルアジド 4.5ml (19.5ミリモル) とトリエチルアミン 6.5ml (46.7ミリモル) を加え、室温で4日間攪拌した。濃縮後飽和塩化アンモニウム水を加え、酢酸エチルで抽出し、飽和塩化アンモニウム水、飽和食塩水で順次洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−で精製し、表題化合物 1.53gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ(ppm) : 5.22(2H, br s), 6.27(1H, dd, J=8.0, 1.2Hz), 6.43(1H, dd, J=8.8,1.2Hz), 6.67(1H, t, J=8.0Hz), 6.82(1H, br s), 7.16-7.27(2H, m), 7.35(1H,dd, J=9.6, 3.2Hz), 9.88(1H, br s)
【0066】
実施例1
4−メトキシ−N−( 10 H−フェノチアジン−1−イル)ベンゼンスルホンアミド
【化41】
1−アミノ−10H−フェノチアジン 107mg( 0.5ミリモル)をピリジン4mlに溶解し、室温攪拌下4−メトキシベンゼンスルホニルクロリド 115mg(0.55ミリモル)のテトラヒドロフラン溶液(2ml)を加えた。室温で一晩攪拌後、濃縮し、残渣に酢酸エチルと水を加え、有機層を分取、水洗、硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、エタノールから再結晶し、表題化合物 115mgを得た。
融点:158-160 ℃
1H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 3.74(3H, s), 6.60(1H, dd, J=8.0, 1.6Hz), 6.65(1H, t, J=8.0Hz), 6.70(1H, dd, J=8.0, 1.2Hz), 6.77-6.84(2H, m), 6.93(1H, dd, J=7.6, 1.2Hz), 6.96-7.02(3H, m), 7.57(2H, d, J=8.8Hz), 7.62(1H, br s), 9.39(1H, br s)
【0067】
実施例2
N−(9H−カルバゾール−1−イル)−4−メトキシベンゼンスルホンアミド
【化42】
実施例1と同様にして表題化合物を得た。
融点:201-202 ℃
【0068】
実施例3
N−(9, 10 −ジヒドロアクリジン−4−イル)−4−メトキシベンゼンスルホンアミド
【化43】
実施例1と同様にして表題化合物を得た。
1H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 3.71(3H, s), 3.87(2H, s), 6.58-6.65(2H, m), 6.74-6.80(2H, m), 6.88-6.92(1H, m), 6.94-7.04(4H, m), 7.57(2H, d, J=8.8Hz), 7.62(1H, br s), 9.29(1H, br s)
【0069】
実施例4
N−(9( 10 H)−アクリジノン−4−イル)−4−メトキシベンゼンスルホンアミド
【化44】
実施例1と同様にして表題化合物を得た。
1H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 3.75(3H, s), 7.02(2H, d, J=8.8Hz), 7.05-7.15(2H, m), 7.24-7.32(1H, m), 7.62(2H, d, J=8.8Hz), 7.70-7.77(1H, m), 7.84(1H, d, J=8.0Hz), 8.07-8.13(1H, m), 8.19(1H, dd, J=8.0, 1.2Hz), 9.74(1H, br s), 10.79(1H, br s)
【0070】
実施例5
4−メトキシ−N−( 10 H−フェノキサジン−1−イル)ベンゼンスルホンアミド
【化45】
実施例1と同様にして表題化合物を得た。
融点:220-223 ℃(分解)
【0071】
実施例6
N−( 10 , 11 −ジヒドロ−5H−ジベンズ〔b,f〕アゼピン−4−イル)− 4−メトキシベンゼンスルホンアミド
【化46】
実施例1と同様にして表題化合物を得た。
融点:182.5-184.5 ℃
1H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 2.78-2.92(4H, m), 3.64(3H, s), 6.56-6.70(4H, m), 6.82(2H, d, J=8.8Hz), 6.88-6.95(2H, m), 6.97-7.03(1H, m), 7.26(1H, br s), 7.44(2H, d, J=8.8Hz), 9.47(1H, br s)
【0072】
実施例7
N−(7−メトキシ−9( 10 H)−アクリジノン−4−イル)−4−メトキシベンゼンスルホンアミド
【化47】
実施例1と同様にして表題化合物を得た。
融点:253-256 ℃(分解)
1H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 3.76(3H, s), 3.86(3H, s), 7.00-7.08(4H, m), 7.42(1H, dd, J=8.8, 3.2Hz), 7.58(1H, d, J=3.2Hz), 7.62(2H, d, J=8.8Hz), 7.86(1H, d, J=8.8Hz), 8.10(1H, dd, J=7.6, 2.0Hz), 9.72(1H, br s), 10.84(1H, br s)
【0073】
実施例8
4−メトキシ−N−(7−メトキシ− 10 H−フェノチアジン−1−イル)ベンゼンスルホンアミド
【化48】
実施例1と同様にして表題化合物を得た。
融点:157-160 ℃
【0074】
実施例9
N−(5H−ジベンズ〔b,f〕アゼピン−4−イル)−4−メトキシベンゼンスルホンアミド
【化49】
実施例1と同様にして表題化合物を得た。
1H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 3.78(3H, s), 6.13-6.24(2H, m), 6.33-6.41(3H, m), 6.55(1H, t, J=7.6Hz), 6.65-6.82(3H, m), 6.93-6.99(1H, m), 7.03(2H, d, J=8.8Hz), 7.59(2H, d, J=8.8Hz), 9.38(1H, br s)
【0075】
実施例10
4−メトキシ−N−(6(5H)−フェナンスリジノン−4−イル)ベンゼンスルホンアミド
【化50】
実施例1と同様にして表題化合物を得た。
1H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 3.73(3H, s), 6.99(2H, d, J=8.8Hz), 7.08(1H, d, J=7.6Hz), 7.16(1H, t, J=7.6Hz), 7.58(2H, d, J=8.8Hz), 7.65(1H, t, J=7.6Hz), 7.85(1H, t, J=7.6Hz), 8.20-8.35(2H, m), 8.49(1H, d, J=8.4Hz), 9.80(1H, br s), 10.20(1H, br s)
【0076】
実施例11
N−(7−フルオロ− 10 H−フェノチアジン−1−イル)−4−メトキシベンゼンスルホンアミド
【化51】
実施例1と同様にして表題化合物を得た。
融点:166-168 ℃
【0077】
実施例12
N−(ジベンズ〔b,f〕〔1,4〕オキサゼピン− 11 ( 10 H)−オン−9−イル)−4−メトキシベンゼンスルホンアミド
【化52】
実施例1と同様にして表題化合物を得た。
融点:239.5-241 ℃
【0078】
実施例13
N−(7−ヒドロキシ− 10 H−フェノチアジン−1−イル)−4−メトキシベンゼンスルホンアミド
【化53】
実施例1と同様にして表題化合物を得た。
1H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 3.73(3H, s), 6.36(1H, d, J=2.8Hz), 6.41(1H, dd, J=8.4, 2.8Hz), 6.52(1H, d, J=8.4Hz), 6.58(1H, dd, J=6.4, 2.8Hz), 6.60(1H, t, J=6.4Hz), 6.80(1H, dd, J=6.4, 2.8Hz), 6.98(2H, d, J=8.8Hz), 7.30(1H, br s), 7.55(2H, d, J=8.8Hz), 9.08(1H, br s), 9.38(1H, br s)
【0079】
実施例14
N−(4−アクリジニル)−4−メトキシベンゼンスルホンアミド
【化54】
実施例1と同様にして表題化合物を得た。
融点:143-145 ℃
【0080】
実施例15
4−メトキシ−N−( 10 H−ピリド〔3,2−b〕〔1,4〕ベンズオキサジン−9−イル)ベンゼンスルホンアミド
【化55】
実施例1と同様にして表題化合物を得た。
1H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 3.77(3H, s), 6.51-6.60(3H, m), 6.63(1H, dd, J=7.6, 5.2Hz), 6.92(1H, dd, J=7.6, 1.2Hz), 7.05(2H, d, J=9.2Hz), 7.57(1H, dd, J=5.2, 1.2Hz), 7.63(2H, d, J=9.2Hz), 7.82(1H, br s), 9.37(1H, br s)
【0081】
実施例16
4−メトキシ−N−(5H−ピリド〔2,3−b〕〔1,4〕ベンズオキサジン−6−イル)ベンゼンスルホンアミド
【化56】
実施例1と同様にして表題化合物を得た。
1H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 3.80(3H, s), 6.16(1H, d, J=8.0Hz), 6.43(1H, t, J=8.0Hz), 6.56(1H, d, J=8.0Hz), 6.78(1H, dd, J=7.6, 5.2Hz), 7.00(1H, dd, J=7.6, 1.6Hz), 7.07(2H, d, J=8.8Hz), 7.39(1H, dd, J=5.2, 1.6Hz), 7.65(2H, d, J=8.8Hz), 7.82(1H, br s), 9.15(1H, br s)
【0082】
実施例17
N−(5, 11 −ジヒドロジベンズ〔b,e〕〔1,4〕オキサゼピン−6−イル)−4−メトキシベンゼンスルホンアミド
【化57】
実施例1と同様にして表題化合物を得た。
融点:153.5-155 ℃
1H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 3.65(3H, s), 4.83(2H, s), 6.53-6.59(2H, m), 6.73(1H, t, J=7.6Hz), 6.77(1H, d, J=7.6Hz), 6.81(1H, dd, J=7.0, 3.7Hz), 6.91(2H, d, J=8.8Hz), 7.04(1H, d, J=7.6Hz), 7.15(1H, t, J=7.6Hz), 7.34(1H, br s), 7.53(2H, d, J=8.8Hz), 9.48(1H, br s)
【0083】
実施例18
4−メトキシ−N−( 10 H−フェノチアジン−1−イル)ベンゼンスルホンアミド S−オキシド
【化58】
実施例1の化合物 200mg(0.516 ミリモル)をジクロロメタン20mlに溶解し、氷冷攪拌下m−クロロ過安息香酸 111mg(0.645 ミリモル)を加えた。30分間攪拌後、析出した結晶を濾取し、メタノール−エチルエーテル−ジクロロメタンから再結晶し、表題化合物 150mgを得た。
融点:221-223 ℃(分解)
【0084】
実施例19
4−メトキシ−N−( 10 H−フェノチアジン−1−イル)ベンゼンスルホンアミド S,S−ジオキシド
【化59】
実施例1の化合物 210mg(0.56ミリモル)をジクロロメタン20mlに溶解し、氷冷攪拌下m−クロロ過安息香酸 242mg(1.40ミリモル)を加えた。室温で12時間攪拌後、析出した結晶を濾取し、エタノールから再結晶し、表題化合物 170mgを得た。
融点:247-249 ℃
【0085】
実施例20
N−(7−ヒドロキシ−9( 10 H)−アクリジノン−4−イル)−4−メトキシベンゼンスルホンアミド
【化60】
製造例1の化合物0.47g(1.5 ミリモル)をメタノール50mlと酢酸エチル 150mlの混液に溶解し、酸化白金50mgを加え室温、常圧で水素添加した。不溶物を濾別後濃縮乾固し、5−アミノ−2−ベンジルオキシ−9(10H)−アクリジノンを得た。これをピリジン20mlに溶解し、室温攪拌下4−メトキシベンゼンスルホニルクロリド0.32g( 1.5ミリモル)のテトラヒドロフラン溶液(5ml)を加えた。1時間攪拌後、反応混合物を飽和食塩水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して得られたN−(7−ベンジルオキシ−9−(10H)−アクリジノン−4−イル)−4−メトキシベンゼンスルホンアミドをメタノール 100mlと酢酸エチル 100mlの混液に溶解し、パラジウム−炭素を加え、室温、常圧で水素添加した。パラジウム−炭素を濾別後濃縮乾固し、表題化合物0.21gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 3.74(3H, s), 6.96-7.03(4H, m), 7.24(1H, dd, J=8.8, 2.8Hz), 7.48(1H, d, J=2.8Hz), 7.61(2H, d, J=8.8Hz), 7.74(1H, d, J=8.8Hz), 7.98(1H, d, J=7.6Hz), 9.61(1H, br s), 10.63(1H, br s)
【0086】
実施例21
N−(6−ヒドロキシ−9( 10 H)−アクリジノン−4−イル)−4−メトキシベンゼンスルホンアミド
【化61】
実施例20と同様にして表題化合物を得た。
1H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 3.73(3H, s), 6.72(1H, dd, J=8.8, 2.0Hz), 6.96-7.07(5H, m), 7.59(2H, d, J=8.8Hz), 8.00(2H, d, J=8.8Hz), 9.71(1H, br s), 10.47(1H, br s), 10.49(1H, br s)
【0087】
実施例22
N−(7−ヒドロキシ− 10 H−フェノキサジン−1−イル)−4−メトキシベンゼンスルホンアミド
【化62】
製造例5の化合物1.15g(3.2 ミリモル)をテトラヒドロフラン30mlに溶解し、パラジウム−炭素を加えて室温、常圧で水素添加した。パラジウム−炭素を濾別後、液量が約半分になるまで濃縮し、これにピリジン5mlと4−メトキシベンゼンスルホニルクロリド0.72g(3.5 ミリモル)を加え室温で一晩攪拌した。酢酸エチルと水を加え、有機層を分取、水洗、硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、N−〔7−(tert−ブチルジメチルシリルオキシ)−10H−フェノキサジン−1−イル〕−4−メトキシベンゼンスルホンアミド 1.5gを得た。この化合物 0.5g(1ミリモル)をテトラヒドロフラン10mlに溶解し、窒素雰囲気下テトラ−n−ブチルアンモニウムフルオライド1Mヘキサン溶液 1.2mlを加え室温で10分間攪拌した。反応混合物に1N塩酸 1.5mlと酢酸エチルを加え、有機層を水洗、硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮乾固し、表題化合物0.26gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 3.79(3H, s), 6.09(1H, d, J=2.4Hz), 6.17(1H, dd, J=8.4, 2.4Hz), 6.27(1H, dd, J=8.0, 1.6Hz), 6.37(1H, t, J=8.0Hz), 6.45(1H, d, J=8.4Hz), 6.45(1H, dd, J=8.0, 1.6Hz), 7.06(2H, d, J=8.8Hz), 7.06(1H, br s), 7.65(2H, d, J=8.8Hz), 8.97(1H, br s), 9.10(1H, br s)
【0088】
実施例23
N−(9H−カルバゾール−1−イル)−3−クロロベンゼンスルホンアミド
【化63】
実施例1と同様にして表題化合物を得た。
融点:162.5-163.5 ℃
【0089】
実施例24
4−メトキシ−N−(3H−フェノキサジン−3−オン−9−イル)ベンゼンスルホンアミド
【化64】
製造例4の化合物0.12g(0.51ミリモル)をテトラヒドロフラン20mlに溶解し、パラジウム−炭素を加えて室温、常圧で水素添加した。パラジウム−炭素を濾別後、液量が約半分になるまで濃縮し、これにピリジン3mlと4−メトキシベンゼンスルホニルクロリド0.12g(0.56ミリモル)を加え、室温で一晩攪拌した。濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、表題化合物35mgを得た。
1H-NMR(CDCl3) δ(ppm) : 3.82(3H, s), 6.31(1H, d, J=2.0Hz), 6.87(1H, dd, J=10.0, 2.0Hz), 6.92(2H, d, J=8.8Hz), 6.93(1H, dd, J=8.4, 1.2Hz), 7.40(1H, d, J=10.0Hz), 7.42(1H, t, J=8.4Hz), 7.48(1H, dd, J=8.4, 1.2Hz), 7.86(2H, d, J=8.8Hz), 8.43(1H, br s)
【0090】
実施例25
4−メトキシ−N−(3H−フェノチアジン−3−オン−9−イル)ベンゼンスルホンアミド
【化65】
4−メトキシベンゼンスルホニルクロリドと1−アミノ−7−ヒドロキシ−10H−フェノチアジンから実施例13の化合物を合成する際の副生成物として表題化合物を得た。
1H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 3.72(3H, s), 6.85(1H, d, J=2.0Hz), 6.89(1H, dd, J=10.0, 2.0Hz), 7.01(2H, d, J=8.8Hz), 7.34-7.37(1H, m), 7.43-7.50(2H, m), 7.78(1H, d, J=10.0Hz), 7.80(2H, d, J=8.8Hz), 10.23(1H, br s)
【0091】
実施例26
N−(5, 11 −ジヒドロジベンゾ〔b,e〕〔1,4〕チアゼピン−6−イル)−4−メトキシベンゼンスルホンアミド
【化66】
実施例1と同様にして表題化合物を得た。
融点:200-202 ℃
【0092】
実施例27
N−(5, 10 −ジヒドロ - 2−フルオロ− 11 H - ジベンゾ〔b,e〕〔1,4〕ジアゼピン− 11- オン−6−イル)−4−メトキシベンゼンスルホンアミド
【化67】
4−メトキシベンゼンスルホニルクロリドと製造例13の化合物から実施例1と同様にして表題化合物を得た。
融点:241.5-243 ℃
1H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 3.74(3H, s), 6.52(1H, dd, J=8.0, 1.2Hz), 6.76(1H, dd, J=8.8, 4.8Hz), 6.79(1H, t, J=8.0Hz), 6.86(1H, dd, J=8.0, 1.2Hz), 6.94(2H, d, J=8.8Hz), 7.14(1H, td, J=8.8, 3.2Hz), 7.14(1H, s), 7.32(1H, dd, J=9.6, 3.2Hz), 7.47(2H, d, J=8.8Hz), 9.54(1H, br s), 10.06(1H, s)
【0093】
実施例28
N−(7,8−ジフルオロ− 10 H−フェノチアジン−1−イル)−4−メトキシベンゼンスルホンアミド
【化68】
実施例1と同様にして表題化合物を得た。
融点:158-160 ℃(分解)
1H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 3.76(3H, s), 6.54(1H, dd, J=8.0, 1.2Hz), 6.70(1H, t, J=8.0Hz), 6.85(1H, dd, J=12.4, 7.2Hz), 6.89(1H, dd, J=8.0, 1.2Hz), 7.01(2H, d, J=9.2Hz), 7.17(1H, dd, J=10.4, 8.0Hz), 7.55(2H, d, J=9.2Hz), 7.88(1H, br s), 9.27(1H, br s)
【0094】
実施例29
4−メトキシ−N−( 10 −メチル− 10 H−フェノキサジン−1−イル)ベンゼンスルホンアミド
【化69】
実施例1と同様にして表題化合物を得た。
融点:151-153 ℃
1H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 3.27(3H, s), 3.80(3H, s), 6.22(1H, dd, J=8.0, 1.6Hz), 6.58(1H, t, J=8.0Hz), 6.66(1H, dd, J=8.0, 1.6Hz), 6.69(1H, dd, J=8.0, 1.6Hz), 6.75(1H, dd, J=8.0, 1.6Hz), 6.79(1H, td, Jt=7.8, Jd=1.6Hz), 6.93(1H, td, Jt=8.0, Jd=1.6Hz), 7.04(2H, d, J=8.8Hz), 7.59(2H, d, J=8.8Hz), 9.37(1H, br s)
【0095】
実施例30
N−(5, 11 −ジヒドロ−2−ヒドロキシジベンズ〔b,e〕〔1,4〕オキサゼピン−6−イル)−4−メトキシベンゼンスルホンアミド
【化70】
製造例6と同様にして合成した2−(tert−ブチルジメチルシリルオキシ)−5,11−ジヒドロ−6−ニトロジベンズ〔b,e〕〔1,4〕オキサゼピンから実施例22と同様にして表題化合物を得た。
融点:200-202 ℃
1H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 3.71(3H, s), 4.78(2H, s), 6.45(2H, d, J=4.8Hz), 6.50(1H, s), 6.60(2H, s), 6.73(1H, t, J=4.8Hz), 6.95(2H, d, J=8.8Hz), 6.99(1H, br s), 7.55(2H, d, J=8.8Hz), 8.96(1H, br s), 9.42(1H, br s)
【0096】
実施例31
N−( 10 , 11 −ジヒドロ−2−メチル−5H−ジベンゾ〔b,e〕〔1,4〕ジアゼピン−6−イル)−4−メトキシベンゼンスルホンアミド
【化71】
製造例11の化合物 0.6g(1.56ミリモル)をメタノール30mlに溶解し、パラホルムアルデヒド70mgと1N塩酸2.35mlを加えた。30分間加熱還流後、酢酸エチルを加え、水洗、硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、残渣を酢酸エチル−n−ヘキサンから結晶化し、表題化合物 0.5gを得た。
融点:187-192 ℃(徐々に融解)
1H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 2.17(3H, s), 3.71(3H, s), 3.95(2H, br), 5.70(1H, br), 6.14(1H, d, J=8.0Hz), 6.37(1H, t, J=8.0Hz), 6.56(1H, d, J=8.0Hz), 6.58(1H, d, J=8.0Hz), 6.76(1H, d, J=2.0Hz), 6.86(1H, dd, J=8.0, 2.0Hz), 6.95(2H, d, J=8.8Hz), 6.97(1H, br s), 7.56(2H, d, J=8.8Hz), 9.34(1H, br s)
【0097】
実施例32
N−( 10 , 11 −ジヒドロ−2−フルオロ−5H−ジベンゾ〔b,e〕〔1,4〕ジアゼピン−6−イル)−4−メトキシベンゼンスルホンアミド
【化72】
水素化リチウムアルミニウム 460mg(12.1ミリモル)のテトラヒドロフラン懸濁液(40ml)に実施例27の化合物 500mg(1.2 ミリモル)を加えた。室温で23時間攪拌後、氷冷下酢酸エチルを少しずつ加え、ついで塩化アンモニウム水を加えた。不溶物を濾別後濃縮し、塩化アンモニウム水と酢酸エチルを加えた。有機層を分取、水洗、硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製後、エタノールから再結晶し、表題化合物 315mgを得た。
表題化合物は実施例31と同様の合成ルートでも得られた。
融点:180-181 ℃
1H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 3.71(3H, s), 3.97(2H, br d, J=3.2Hz), 5.76(1H, br t, J=3.2Hz), 6.20(1H, dd, J=8.0, 1.6Hz), 6.41(1H, t, J=8.0Hz), 6.59(1H, dd, J=8.0, 1.6Hz), 6.67(1H, dd, J=8.8, 5.2Hz), 6.84-6.91(2H, m), 6.93(2H, d, J=8.8Hz), 7.03(1H, br s), 7.54(2H, d, J=8.8Hz), 9.34(1H, br s)表題化合物57mgをメタノール3mlとエタノール6mlの混液に溶解し、1N塩酸 1.4mlを加えた。濃縮後エタノールを加え、析出した結晶を濾取、エタノールから再結晶し、表題化合物の塩酸塩23mgを得た。
融点:141.5-143 ℃(分解)
1H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 3.62(3H, s), 4.27(2H, s), 6.76-6.85(1H, m), 6.82(2H, d, J=8.8Hz), 6.85-6.94(2H, m), 6.97-7.08(2H, m), 7.29(1H, br s), 7.43(2H, d, J=8.8Hz), 7.93(1H, br s), 9.92(1H, br s)
【0098】
実施例33
N−(7−ヒドロキシメチル− 10 H−フェノキサジン−1−イル)−4−メトキシベンゼンスルホンアミド
【化73】
7−〔(tert−ブチルジメチルシリルオキシ)メチル〕−1−ニトロ−10H−フェノキサジンから実施例22と同様にして表題化合物を得た。
融点:230-232.5 ℃
1H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 3.78(3H, s), 4.26(2H, d, J=5.6Hz), 5.00(1H, t, J=5.6Hz), 6.27(1H, dd, J=8.0, 2.4Hz), 6.39(1H, t, J=8.0Hz), 6.45(1H, br d, J=8.0Hz), 6.54(1H, d, J=1.2Hz), 6.57(1H, t, J=8.0Hz), 6.67(1H, dd, J=8.0, 1.2Hz), 7.05(2H, d, J= 8.8Hz), 7.34(1H, br s), 7.65(2H, d, J=8.8Hz), 9.12(1H, br)
【0099】
実施例34
4−アミノ−N−( 10 H−フェノチアジン−1−イル)ベンゼンスルホンアミド
【化74】
4−ニトロベンゼンスルホニルクロリドと1−アミノ−10H−フェノチアジンを実施例1と同様に反応させ、生成物をパラジウム−炭素存在下常温常圧で水素添加し、表題化合物を得た。
1H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 5.96(2H, br s), 6.49(2H, d, J=8.8Hz), 6.53(1H, dd, J=8.0, 1.6Hz), 6.62(1H, t, J=8.0Hz), 6.77-6.82(3H, m), 6.93(1H, dd, J=7.6, 1.2Hz), 7.01(1H, dt, J=7.6, 1.2Hz), 7.29(2H, d, J=8.8Hz), 7.58(1H, br s), 9.14(1H, br s)
【0100】
実施例35
4−メトキシ−N−(5H−ピリミド〔4,5−b〕〔1,4〕ベンゾチアジン−6−イル)ベンゼンスルホンアミド
【化75】
実施例1と同様にして表題化合物を得た。
1H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 3.75(3H, s), 6.43(1H, br d, J=7.6Hz), 6.63(1H, br t, J=7.6Hz), 6.81(1H, br d, J=7.6Hz), 7.02(2H, d, J=9.2Hz), 7.56(2H, d, J=9.2Hz), 7.92(1H, br s), 7.94(1H, br s), 8.30(1H, br s), 9.28(1H, br s)
【0101】
実施例36
4−メトキシ−N−(5H−ピリド〔3,4−b〕〔1,4〕ベンゾチアジン−4−イル)ベンゼンスルホンアミド
【化76】
実施例1と同様にして表題化合物を得た。
1H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 3.73(3H, s), 6.80(1H, dd, J=7.6, 1.2Hz), 6.84(1H, td, J=7.6, 1.2Hz), 6.93(1H, dd, J=7.6, 1.2Hz), 7.00(1H, td, J=7.6, 1.2Hz), 7.00(2H, d, J=9.2Hz), 7.46(1H, s), 7.59(2H, d, J=9.2Hz), 7.72(1H, s), 8.20(1H, s)
【0102】
実施例37
N−( 10 −アセチル− 10 , 11 −ジヒドロ−5H−ジベンゾ〔b,e〕〔1,4〕ジアゼピン−6−イル)−4−メトキシベンゼンスルホンアミド
【化77】
実施例31と同様にして合成したN−(10,11−ジヒドロ−5H−ジベンゾ〔b,e〕〔1,4〕ジアゼピン−6−イル)−4−メトキシベンゼンスルホンアミドを室温で無水酢酸と反応させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、表題化合物を得た。
1H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 1.74(3H, s), 3.54(3H, s), 3.68(1H, d, J=14.8Hz), 5.14(1H, d, J=14.8Hz), 6.65-6.68(2H, m), 6.78(2H, d, J=9.2Hz), 6.81(1H, t, J=8.0Hz), 6.96-7.06(3H, m), 7.16(1H, dd, J=8.0, 1.2Hz), 7.37(1H, s), 7.40(2H, d, J=9.2Hz), 9.60(1H, br s)
【0103】
実施例38
N−(5,11−ジヒドロ−2−ヒドロキシジベンズ〔b,e〕〔1,4〕オキサゼピン−6−イル)−4−メチルベンゼンスルホンアミド
【化78】
融点:180.5-182℃
実施例30と同様にして表題化合物を得た。
1H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 2.24(3H, s), 4.78(2H, s), 6.42-6.49(2H, m), 6.50(1H, d, J=1.6Hz), 6.56(1H, d, J=8.8Hz), 6.60(1H, dd, J=8.8, 1.6Hz), 6.74(1H, dd, J=5.2, 4.4Hz), 6.95(1H, br s), 7.25(2H, d, J=8.0Hz), 7.51(2H,d, J=8.0Hz), 8.95(1H, br s), 9.50(1H, br s)
【0104】
実施例39
N−(5, 11 −ジヒドロ−8−フルオロ−2−ヒドロキシジベンズ〔b,e〕〔1,4〕オキサゼピン−6−イル)−4−メトキシベンゼンスルホンアミド
【化79】
実施例30と同様にして表題化合物を得た。
融点:201-210 ℃(徐々に融解)
1H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 3.70(3H, s), 4.80(2H, s), 6.35(1H, dd, J=9.6, 2.8Hz), 6.50(1H, s), 6.59(2H, s), 6.68(1H, dd, J=9.6, 2.8Hz), 6.85(1H, br), 6.96(2H, d, J=8.8Hz), 7.56(2H, d, J=8.8Hz), 8.96(1H, br s), 9.60(1H, br s)
【0105】
実施例40
N−(5, 11 −ジヒドロジベンズ〔b,e〕〔1,4〕オキサゼピン−4−イル)−4−メトキシベンゼンスルホンアミド
【化80】
実施例1と同様にして表題化合物を得た。
融点:164.5-166.5 ℃
1H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 3.66(3H, s), 4.90(2H, s), 6.63(1H, td, Jt=7.2, Jd=1.2Hz), 6.66(1H, t, J=7.6Hz), 6.74-6.89(6H, m), 7.04(1H, d, J=7.6Hz), 7.28(1H, br s), 7.50(2H, d, J=8.8Hz), 9.49(1H, br s)
【0106】
実施例41
N−( 10 , 11 −ジヒドロ− 10 −エチル−5H−ジベンゾ〔b,e〕〔1,4〕ジアゼピン−6−イル)−4−メトキシベンゼンスルホンアミド
【化81】
実施例37の化合物を常法に従い水素化リチウムアルミニウムで還元し、表題化合物を得た。
1H-NMR(CDCl3) δ(ppm) : 1.14(3H, t, J=7.2Hz), 3.03(2H, q, J=7.2Hz), 3.80(3H, s), 4.10(2H, s), 6.13(1H, br s), 6.18(1H, dd, J=8.0, 1.6Hz), 6.44(1H, t, J=8.0Hz), 6.72-6.76(2H, m), 6.82(1H, dd, J=8.0, 1.6Hz), 6.88(2H, d, J=9.2Hz), 6.97(1H, d, J=7.6Hz), 7.11(1H, td, J=7.6, 1.6Hz), 7.20(1H, br s), 7.68(2H, d, J=9.2Hz)
【0107】
実施例42
N−(5, 11 −ジヒドロ−2−ヒドロキシジベンズ〔b,e〕〔1,4〕オキサゼピン−6−イル)−5−メチル−2−チオフェンスルホンアミド
【化82】
実施例30と同様にして表題化合物を得た。
融点:184-188 ℃(徐々に融解)
1H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 2.32(3H, s), 4.82(2H, s), 6.46-6.54(2H, m), 6.58(1H, d, J=7.6Hz), 6.60-6.66(2H, m), 6.71(1H, d, J=3.6Hz), 6.74(1H, br), 7.00(1H, br), 7.15(1H, d, J=3.6Hz), 8.94(1H, br s), 9.69(1H, br s)
【0108】
実施例43
N−(2−アセチルアミノ− 10 , 11 −ジヒドロ−5H−ジベンゾ〔b,e〕〔1,4〕ジアゼピン−6−イル)−4−メトキシベンゼンスルホンアミド
【化83】
実施例31と同様にして表題化合物を得た。
1H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 1.98(3H, s), 3.72(3H, s), 3.94(2H, br d, J=2.8Hz), 5.71(1H, br s), 6.14(1H, dd, J=8.0, 1.2Hz), 6.36(1H, t, J=8.0Hz), 6.56(1H, dd, J=8.0, 1.2Hz), 6.59(1H, d, J=8.4Hz), 6.95(2H, d, J=8.8Hz), 6.98(1H, br s), 7.18(1H, d, J=2.4Hz), 7.21(1H, dd, J=8.4, 2.4Hz), 7.56(2H, d, J=8.8Hz), 9.37(1H, br s), 9.67(1H, br s)
【0109】
実施例44
N−〔 10 , 11 −ジヒドロ−2−(3−ヒドロキシプロピルオキシ)−5H−ジベンゾ〔b,e〕〔1,4〕ジアゼピン−6−イル〕−4−メトキシベンゼンスルホンアミド
【化84】
実施例31と同様にして表題化合物を得た。
1H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 1.79-1.85(2H, m), 3.54(2H, dt, J=6.4, 5.2Hz), 3.73(3H, s), 3.95(2H, t, J=6.4Hz), 3.99(2H, br d, J=2.8Hz), 4.53(1H, t, J=5.2Hz), 5.68(1H, br s), 6.09(1H, dd, J=8.0, 1.2Hz), 6.33(1H, t, J=8.0Hz), 6.53(1H, dd, J=8.0, 1.2Hz), 6.59(1H, d, J=8.8Hz), 6.61(1H, d, J=3.2Hz), 6.66(1H, dd, J=8.8, 3.2Hz), 6.82(1H, br s), 6.97(2H, d, J=8.8Hz), 7.56(2H, d, J=8.8Hz), 9.31(1H, br s)
【0110】
実施例45
N−〔5, 11 −ジヒドロ−2−フルオロ−1−ヒドロキシジベンズ〔b,e〕〔1,4〕オキサゼピン−6−イル)−4−メトキシベンゼンスルホンアミド
【化85】
実施例30と同様にして表題化合物を得た。
融点:219-232 ℃(徐々に融解)
1H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 3.68(3H, s), 4.93(2H, s), 6.21(1H, dd, J=8.8, 4.0Hz), 6.53(1H, dd, J=7.2, 2.4Hz), 6.56(1H, t, J=7.2Hz), 6.79(1H, dd, J=7.2, 2.4Hz), 6.91(2H, d, J=8.8Hz), 6.94(1H, dd, J=10.4, 8.8Hz), 7.15(1H, br s), 7.50(2H, d, J=8.8Hz), 9.45(1H, br s), 9.70(1H, br s)
【0111】
実施例46
N−(4−クロロ− 10 , 11 −ジヒドロ−2−フルオロ−1−ヒドロキシ−5H−ジベンゾ〔b,e〕〔1,4〕ジアゼピン−6−イル)−4−メトキシベンゼンスルホンアミド
【化86】
実施例31と同様にして表題化合物を得た。
1H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 3.81(3H, s), 4.20-4.22(2H, m), 5.85(1H, br), 5.89(1H, br), 6.37(1H, br t, J=7.6Hz), 6.58(1H, br), 7.07(2H, d, J=8.8Hz), 7.25(1H, d, J=10.0Hz), 7.63(1H, br), 7.64(2H, d, J=8.8Hz), 9.43(1H, br s), 9.79(1H, br s)
【0112】
実施例47
N−( 10 , 11 −ジヒドロ−2−フルオロ−1−ヒドロキシ−5H−ジベンゾ〔b,e〕〔1,4〕ジアゼピン−6−イル)−4−メトキシベンゼンスルホンアミド
【化87】
実施例46の化合物をパラジウム−炭素存在下、常温常圧で水素添加後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製、クロロホルム−イソプロピルエーテルで結晶化し、表題化合物を得た。
融点:190-192 ℃(分解)
1H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 3.72(3H, s), 4.06-4.08(2H, m), 5.65(1H, br), 6.11-6.16(2H, m), 6.38(1H, t, J=7.6Hz), 6.54(1H, brd, J=7.6Hz), 6.84(1H, dd, J=10.4, 8.8Hz), 6.90(1H, br s), 6.93(2H, d, J=8.8Hz), 7.53(2H, d, J=8.8Hz), 9.32(1H, br s), 9.39(1H, br s)
【0113】
実施例48
N−(2−シアノ− 10 , 11 −ジヒドロ−5H−ジベンゾ〔b,e〕〔1,4〕ジアゼピン−6−イル)−4−メトキシベンゼンスルホンアミド
【化88】
実施例31と同様にして表題化合物を得た。
融点:105-107 ℃
1H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 3.64(3H, s), 3.40(2H, br d, J=2.8Hz), 5.93(1H, br s), 6.42(1H, dd, J=8.0, 1.6Hz), 6.57(1H, t, J=8.0Hz), 6.68(1H, br), 6.76(1H, d, J=8.4Hz), 6.85(2H, d, J=8.8Hz), 7.38(1H, d, J=2.0Hz), 7.41(1H, dd, J=8.4, 2.0Hz), 7.48(2H, d, J=8.8Hz), 7.76(1H, br s), 9.39(1H, br s)
【0114】
実施例49
N−( 10 , 11 −ジヒドロ−8−フルオロ−5H−ジベンゾ〔b,e〕〔1,4〕ジアゼピン−4−イル)−4−メトキシベンゼンスルホンアミド
【化89】
N−〔2−〔(2−アミノ−4−フルオロフェニル)アミノ〕フェニル〕−4−メトキシベンゼンスルホンアミドから実施例31と同様にして表題化合物を得た。
1H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 3.71(3H, s), 4.09(2H, br d, J=3.6Hz), 5.87(1H, br t, J=3.6Hz), 6.29-6.41(2H, m), 6.50(1H, dd, J=8.4, 6.4Hz), 6.53(1H, t, J=8.0Hz), 6.69(1H, dd, J=8.0, 1.6Hz), 6.87(1H, br s), 6.90(1H, br s), 6.91(2H, d, J=9.2Hz), 7.51(2H, d, J=9.2Hz), 9.42(1H, br s)
Claims (16)
- 一般式(I)
[ 置換基群α ]
ハロゲン原子、水酸基で置換されていてもよい低級アルキル基、水酸基で置換されていて もよい低級アルコキシ基、水酸基、水酸基を有していてもよい低級アルキル基で置換されていてもよいアミノ基、低級アシルアミノ基、シアノ基。 - Lが−NH−である請求項1記載のスルホンアミド誘導体またはその薬理学的に許容される塩。
- Mが三環式構造(a)である請求項1または2記載のスルホンアミド誘導体またはその薬理学的に許容される塩。
- Mが三環式構造(b)である請求項1または2記載のスルホンアミド誘導体またはその薬理学的に許容される塩。
- Mが三環式構造(f)である請求項1または2記載のスルホンアミド誘導体またはその薬理学的に許容される塩。
- Gが4−メトキシフェニル基である請求項1記載のスルホンアミド誘導体またはその薬理学的に許容される塩。
- Gが4−メトキシフェニル基であり、 Lが−NH−であり、Mが三環式構造(a)でXが−NH−であり、かつA環およびB環が請求項1記載の置換基群αから選ばれる置換基を1〜3個有していてもよい芳香族6員環である請求項1記載のスルホンアミド誘導体またはその薬理学的に許容される塩。
- Mが三環式構造(a)で、A環およびB環がベンゼン環である請求項7記載のスルホンアミド誘導体またはその薬理学的に許容される塩。
- Mが三環式構造(a)でXおよびYを含む真中の環が7員環である請求項8記載のスルホンアミド誘導体またはその薬理学的に許容される塩。
- Mが三環式構造(a)でYが−OCH 2 −または−NHCH 2 −である請求項9記載のスルホンアミド誘導体またはその薬理学的に許容される塩。
- 下記の群から選ばれる請求項1記載のスルホンアミド誘導体またはその薬理学的に許容される塩:
1)N−(5,11−ジヒドロジベンズ〔b,e〕〔1,4〕オキサゼピン−6−イル)−4−メトキシベンゼンスルホンアミド
2)N−(5,11−ジヒドロ−2−ヒドロキシジベンズ〔b,e〕〔1,4〕オキサゼピン−6−イル)−4−メトキシベンゼンスルホンアミド
3)N−(10,11−ジヒドロ−2−フルオロ−5H−ジベンゾ〔b,e〕〔1,4〕ジアゼピン−6−イル)−4−メトキシベンゼンスルホンアミド。 - 請求項1記載のスルホンアミド誘導体またはその薬理学的に許容される塩を有効成分とする抗腫瘍剤。
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