JPH0880184A - 円盤式自動製麹装置における自動盛込装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 主として醸造又は化学産業の固体培養に用い
られる円盤式自動製麹装置に関する。 【構成】 麹基質（５）を感知する１個ないし複数のセ
ンサ（１ａ，１ｂ）を、均し装置（６）の前面に配置し
た盛込装置により、麹基質（５）を単数段階で盛込む工
程又は複数段階に分けて盛込む工程において、麹基質
（５）を感知する１個ないし複数のセンサ（１ａ，１
ｂ）により円盤（３）の回転速度を調節し、所定量の麹
基質（５）を常に均一の堆積層厚と堆積密度に維持す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、主として醸造又は化
学産業の固体培養に用いられる円盤式自動製麹装置に関
するものである。

【０００２】

【従来の技術】固体培養装置では、麹基質の温度等を均
一に制御する必要から、麹基質の厚さと密度を均一に堆
積させることが重要である。しかしながら、麹基質の容
積は、一定重量の原料においても穀類の品質や原料処理
条件により異なるため、完全な自動化は困難であった。

【０００３】そこで、盛込装置の高さを自動的に微調整
しながら盛込む装置が開発されたが、特に麹基質を複数
段階に分割して盛込む高層堆積の方法では、複数段階の
下方に微小な凹凸が生じると、堆積が積み重なると共に
凹凸が増幅され、堆積表面に大きな凹凸が発生する結果
となった。このように堆積層厚に凹凸が発生して堆積し
た場合は、固体培養工程において微生物の生育速度が不
均一となり、通気などの麹基質の温度制御手段を利用す
る場合にも、空気の通気抵抗の差により均一な通気を行
なうことが不可能となるため、麹品質に悪影響を与える
結果となった。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】複数段階に分割して麹
基質を盛込む工程において、麹基質堆積面を均一な平面
として盛込むことにより、盛込完了後の麹基質の堆積層
厚と堆積密度を均一な状態に自動的に盛込むことがこの
発明の課題である。

【０００５】

【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明で
は麹基質を感知する１個ないし複数のセンサを、均し装
置の前面に配置した盛込装置により、麹基質を単数段階
で盛込む工程又は複数段階に分けて盛込む工程におい
て、麹基質を感知する１個ないし複数のセンサにより円
盤の回転速度を調節し、所定量の麹基質を常に均一の堆
積層厚と堆積密度に維持する。請求項２に記載の発明で
は、麹基質を感知する１個ないし複数個のセンサを均し
装置の前面に配置した盛込装置により、麹基質を複数段
階に分けて盛込む工程の最上段階を除く盛込工程におい
て、麹基質を感知する１個ないし複数個のセンサによ
り、円盤の回転速度を調節し、所定量の麹基質を常に均
一の堆積層厚と堆積密度に維持する。請求項３に記載の
発明では、麹基質を感知するセンサを上下に移動させる
駆動装置を備えた。

【０００６】

【作用】請求項１及び請求項２において、均し装置の前
面に麹基質を感知するセンサを１個配置する場合には、
麹基質量が所定量より多く、センサが感知すると、自動
的に円盤が高速回転し、麹基質を圧縮することなく、均
一な層厚に堆積させ、余剰の麹基質は上位の堆積層に使
用する。麹基質量が所定量より少なく、センサが感知し
ないと、自動的に円盤が低速回転し部分的に堆積層が薄
くなることを防ぐ。均し装置の前面に麹基質を感知する
センサを複数個配置する場合は、麹基質量が所定量より
多くセンサが感知すると、円盤外周側から中心軸側のセ
ンサが感知するにしたがい、円盤の回転速度を順次高速
にする。麹基質量が所定量より少なく、センサが感知し
ないと、中心軸側から円盤外周側のセンサが感知しなく
なるにしたがい円盤の回転速度を順次低速にする。

【０００７】請求項３は、麹基質を感知するセンサを上
下に移動させる駆動装置を備えるこよにより、出麹工程
において均し装置を使用する場合に、センサが障害とな
ることを防ぐ。

【０００８】

【実施例】次に添付図面によってこの発明の実施例を詳
細に説明する。図１は、この発明による円盤式自動製麹
装置の自動盛込装置の実施例の片側半分を示す断面図で
ある。回転中心軸２に固定された円盤３上に、均し装置
６を備えた上下に位置を調節可能な自動盛込装置４を設
置し、麹基質５を感知する上下に移動可能な駆動装置７
を備えたセンサ１を自動盛込装置４の前面の中心軸側に
配置し、均し装置６により搬送される麹基質５の有無を
センサ１が感知することにより、円盤３の回転速度を調
節する構造のものである。

【０００９】センサ１の感知部分である先端は、自動盛
込装置４の下端より高い位置に設置する。センサ１の水
平方向の位置は、回転中心軸２側の任意の位置でよく、
円盤３の回転速度を調節するタイミングは、麹基質５を
感知するセンサ１の信号によつて、制御盤中のタイマに
より調節する。駆動装置７を備えたセンサ１は、自動盛
込装置４に固定するか、又は別途に支持体を設けて固定
してもよい。

【００１０】麹基質５を回転中心軸２を中心として、回
転する円盤３の外周側に投入すると、所定の高さに調節
された自動盛込装置４の均し装置６により、中心回転軸
側に麹基質５が搬送される。麹基質５の供給量が多い場
合には、センサ１ａとセンサ１ｂが感知するため、所定
の時間後に円盤３の回転速度が高速回転となり、麹基質
の圧密化を防止する。

【００１１】麹基質５の供給量が標準的な場合には、セ
ンサ１ａが感知し、センサ１ｂが感知しないため、所定
の時間後に円盤３の回転速度を標準回転とする。麹基質
５の供給量が少ない場合には、センサ１ａとセンサ１ｂ
が感知しないため、所定の時間後に円盤３の回転速度が
低速回転となり、麹基質の堆積層厚が所定の高さより薄
くなることを防止する。

【００１２】このため、円盤３が１回転した状態では、
麹基質１が円盤３上に均一の密度と高さで盛り込むこと
ができる。円盤３が２回転目以降の中間堆積層を盛込む
場合は、自動盛込装置４が所定の高さまで上昇し、前記
と同様の動作を行なう。麹基質５の最上段階を盛込む場
合は、自動盛込装置４の高さを、センサ１の感知を利用
し、自動的に微調整して、実用的に問題のない堆積層厚
の均一性を確保する。この状態で製麹操作を行なうと、
麹基質５の密度と高さが均一なため円盤３上の何れの地
点でも、麹基質の通気抵抗が等しくなり、麹基質に繁殖
する麹菌の発熱を通風により、理想的に制御することが
可能となる。

【００１３】さらに、製麹操作終了後に麹を円盤式自動
製麹装置から排出する手段として自動盛込装置４を使用
するが、この時点では、麹基質５の有無を感知する上下
に移動可能な駆動装置７を備えたセンサ１は、麹排出の
障害となるため、出麹される麹基質５に接触しない位置
まで、センサ駆動装置７により上昇する。

【００１４】上記実施例は、麹基質を図１に示すとお
り、円盤３の外周部に投入した場合であるが、麹基質を
円盤３の中心円筒側に投入した場合は、麹基質５を感知
するセンサ１を、自動盛込装置４の外周部に設けて、同
様に使用することも可能である。

【００１５】なおこの発明では、麹基質を感知する１個
ないし複数個のセンサにより、円盤の回転速度を調節
し、所定量の麹基質を常に均一の堆積層厚と堆積密度に
維持すればよく、実施例の構成に限定されるものではな
い。

【００１６】

【発明の効果】この発明の円盤式自動製麹装置の自動盛
込装置は、以上のような機構を有することにより、麹基
質を均一な密度と高さに完全自動で盛り込むことができ
る。この理想的な盛込状態により、すべての麹基質を均
一で良好な麹とすることが可能となった。特に、従来の
機種にも利用可能な点は、この発明を更に有益有用なも
のとしている。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の円盤式自動製麹装置の自動盛込装置
の実施例の片側半分の縦断面図である。

【符号の説明】

１ａ センサ １ｂ センサ ２ 回転中心軸 ３ 円盤 ４ 自動盛込装置 ５ 麹基質 ６ 均し装置 ７ センサー駆動装置

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 麹基質を感知する１個ないし複数のセン
   サを、均し装置の前面に配置した盛込装置により、麹基
   質を単数段階で盛込む工程又は複数段階に分けて盛込む
   工程において、麹基質を感知する１個ないし複数のセン
   サにより円盤の回転速度を調節し、所定量の麹基質を常
   に均一の堆積層厚と堆積密度に維持することを特徴とす
   る円盤式自動製麹装置の自動盛込装置
2. 【請求項２】 麹基質を感知する１個ないし複数個のセ
   ンサを、均し装置の前面に配置した盛込装置により、麹
   基質を複数段階に分けて盛込む工程の最上段階を除く盛
   込工程において、麹基質を感知する１個ないし複数個の
   センサにより円盤の回転速度を調節し、所定量の麹基質
   を常に均一の堆積層厚と堆積密度に維持することを特徴
   とする円盤式自動製麹装置の自動盛込装置。
3. 【請求項３】 麹基質を感知するセンサを上下に移動さ
   せる駆動装置を備えたことを特徴とする請求項１記載の
   円盤式自動製麹装置の自動盛込装置。