JPH0856647A - 円盤式自動製麹装置の自動盛込装置 - Google Patents
円盤式自動製麹装置の自動盛込装置Info
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- JPH0856647A JPH0856647A JP21433894A JP21433894A JPH0856647A JP H0856647 A JPH0856647 A JP H0856647A JP 21433894 A JP21433894 A JP 21433894A JP 21433894 A JP21433894 A JP 21433894A JP H0856647 A JPH0856647 A JP H0856647A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 主として醸造又は化学産業の固体培養に用い
られる円盤式自動製麹装置に関する。 【構成】 麹基質を感知する１個又は複数のセンサを均
し装置の前面に配置した自動盛込装置により、麹基質を
単数段階で盛込む工程又は複数段階で盛込む工程におい
て、麹基質を感知する１個又は複数のセンサにより均し
装置の回転速度を調節し、所定量の麹基質を常に均一の
堆積層厚と堆積密度に維持する。
られる円盤式自動製麹装置に関する。 【構成】 麹基質を感知する１個又は複数のセンサを均
し装置の前面に配置した自動盛込装置により、麹基質を
単数段階で盛込む工程又は複数段階で盛込む工程におい
て、麹基質を感知する１個又は複数のセンサにより均し
装置の回転速度を調節し、所定量の麹基質を常に均一の
堆積層厚と堆積密度に維持する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、主として醸造又は化
学産業の固体培養に用いられる円盤式自動製麹装置に関
するものである。
学産業の固体培養に用いられる円盤式自動製麹装置に関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】固体培養装置では、麹基質の温度等を均
一に制御する必要から、麹基質の厚さと密度を均一に堆
積させることが重要である。しかしながら、麹基質の容
積は、一定重量の原料においても穀類の品質や原料処理
条件により異なるため、完全な自動化は困難であった。
そこで、盛込装置の高さを自動的に微調整しながら盛込
む装置が開発されたが、麹基質を複数段階に分割して盛
込む高層堆積の方法では、複数段階の下方に微小な凹凸
が生じると、堆積が積み重なると共に凹凸が増幅され最
上段の堆積表面に大きな凹凸が発生する結果となった。
このように堆積層厚に凹凸が発生して堆積した場合は、
固体培養工程において微生物の生育速度が不均一とな
り、通気などの麹基質の温度制御手段を利用する場合に
も、空気の通気抵抗の差により均一な通気を行なうこと
が不可能となるため、麹品質に悪影響を与える結果とな
った。
一に制御する必要から、麹基質の厚さと密度を均一に堆
積させることが重要である。しかしながら、麹基質の容
積は、一定重量の原料においても穀類の品質や原料処理
条件により異なるため、完全な自動化は困難であった。
そこで、盛込装置の高さを自動的に微調整しながら盛込
む装置が開発されたが、麹基質を複数段階に分割して盛
込む高層堆積の方法では、複数段階の下方に微小な凹凸
が生じると、堆積が積み重なると共に凹凸が増幅され最
上段の堆積表面に大きな凹凸が発生する結果となった。
このように堆積層厚に凹凸が発生して堆積した場合は、
固体培養工程において微生物の生育速度が不均一とな
り、通気などの麹基質の温度制御手段を利用する場合に
も、空気の通気抵抗の差により均一な通気を行なうこと
が不可能となるため、麹品質に悪影響を与える結果とな
った。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】麹基質を盛込む工程に
おいて、盛込完了後の麹基質の堆積層厚と堆積密度を均
一な状態に自動的に盛込むことがこの発明の課題であ
る。
おいて、盛込完了後の麹基質の堆積層厚と堆積密度を均
一な状態に自動的に盛込むことがこの発明の課題であ
る。
【０００４】
【課題を解決するための手段】請求項１では、麹基質を
感知する１個又は複数のセンサを前面に配置した、回転
駆動する円盤の中心と外周を結ぶ直線上の任意の高さに
設置可能な均し装置を設け、麹基質を単数段階又は複数
段階に別けて盛込む工程において、センサの感知により
均し装置の回転速度を調節する。
感知する１個又は複数のセンサを前面に配置した、回転
駆動する円盤の中心と外周を結ぶ直線上の任意の高さに
設置可能な均し装置を設け、麹基質を単数段階又は複数
段階に別けて盛込む工程において、センサの感知により
均し装置の回転速度を調節する。
【０００５】請求項２では、麹基質を感知する１個又は
複数のセンサを前面に配置した、回転駆動する円盤の中
心と外周を結ぶ直線上の任意の高さに設置可能な均し装
置を設け、麹基質を複数段階に別けて盛込む工程の最上
段を除く盛込工程において、センサの感知により均し装
置の回転速度を調節する。
複数のセンサを前面に配置した、回転駆動する円盤の中
心と外周を結ぶ直線上の任意の高さに設置可能な均し装
置を設け、麹基質を複数段階に別けて盛込む工程の最上
段を除く盛込工程において、センサの感知により均し装
置の回転速度を調節する。
【０００６】請求項３では、麹基質を感知する１個又は
複数のセンサを前面に配置した、回転駆動する円盤の中
心と外周を結ぶ直線上の任意の高さに設置可能な均し装
置を設け、麹基質を単数段階又は複数段階に別けて盛込
む工程において、麹基質を感知するセンサにより均し装
置と円盤の回転速度を調節する。
複数のセンサを前面に配置した、回転駆動する円盤の中
心と外周を結ぶ直線上の任意の高さに設置可能な均し装
置を設け、麹基質を単数段階又は複数段階に別けて盛込
む工程において、麹基質を感知するセンサにより均し装
置と円盤の回転速度を調節する。
【０００７】請求項４では、麹基質を感知する１個又は
複数のセンサを前面に配置した、回転駆動する円盤の中
心と外周を結ぶ直線上の任意の高さに設置可能な均し装
置を設け、麹基質を複数段階に別けて盛込む工程の最上
段を除く盛込工程において、センサの感知により均し装
置と円盤の回転速度を調節する。
複数のセンサを前面に配置した、回転駆動する円盤の中
心と外周を結ぶ直線上の任意の高さに設置可能な均し装
置を設け、麹基質を複数段階に別けて盛込む工程の最上
段を除く盛込工程において、センサの感知により均し装
置と円盤の回転速度を調節する。
【０００８】請求項５では、麹基質を感知する１個又は
複数のセンサを前面に配置した、回転駆動する円盤の中
心と外周を結ぶ直線上の任意の高さに設置可能な均し装
置を設け、麹基質を単数段階又は複数段階に別けて盛込
む工程において、麹基質を感知するセンサにより均し装
置の回転速度と自動盛込装置の上下移動を調節する。
複数のセンサを前面に配置した、回転駆動する円盤の中
心と外周を結ぶ直線上の任意の高さに設置可能な均し装
置を設け、麹基質を単数段階又は複数段階に別けて盛込
む工程において、麹基質を感知するセンサにより均し装
置の回転速度と自動盛込装置の上下移動を調節する。
【０００９】請求項６では、麹基質を感知する１個又は
複数のセンサを前面に配置した、回転駆動する円盤の中
心と外周を結ぶ直線上の任意の高さに設置可能な均し装
置を設け、麹基質を複数段階に別けて盛込む工程の最上
段階を除く盛込工程において、センサの感知により均し
装置の回転速度と自動盛込装置の上下移動を調節する。
複数のセンサを前面に配置した、回転駆動する円盤の中
心と外周を結ぶ直線上の任意の高さに設置可能な均し装
置を設け、麹基質を複数段階に別けて盛込む工程の最上
段階を除く盛込工程において、センサの感知により均し
装置の回転速度と自動盛込装置の上下移動を調節する。
【００１０】請求項７では、麹基質を感知する１個又は
複数のセンサを前面に配置した、回転駆動する円盤の中
心と外周を結ぶ直線上の任意の高さに設置可能な均し装
置を設け、麹基質を単数段階又は複数段階に別けて盛込
む工程において、麹基質を感知するセンサにより均し装
置の回転速度と自動盛込装置の上下移動及び円盤の回転
速度を調節する。
複数のセンサを前面に配置した、回転駆動する円盤の中
心と外周を結ぶ直線上の任意の高さに設置可能な均し装
置を設け、麹基質を単数段階又は複数段階に別けて盛込
む工程において、麹基質を感知するセンサにより均し装
置の回転速度と自動盛込装置の上下移動及び円盤の回転
速度を調節する。
【００１１】請求項８では、麹基質を感知する１個又は
複数のセンサを前面に配置した、回転駆動する円盤の中
心と外周を結ぶ直線上の任意の高さに設置可能な均し装
置を設け、麹基質を複数段階に別けて盛込む工程の最上
段階を除く盛込工程において、センサの感知により均し
装置の回転速度と盛込装置の上下移動及び円盤の回転速
度を調節する。
複数のセンサを前面に配置した、回転駆動する円盤の中
心と外周を結ぶ直線上の任意の高さに設置可能な均し装
置を設け、麹基質を複数段階に別けて盛込む工程の最上
段階を除く盛込工程において、センサの感知により均し
装置の回転速度と盛込装置の上下移動及び円盤の回転速
度を調節する。
【００１２】
【作用】請求項１は、均し装置の前面に麹基質を感知す
るセンサを１個配置する場合には、麹基質量が所定量よ
り多くセンサが感知すると、自動的に均し装置が低速回
転し麹基質を圧縮することなく均一な層厚に堆積させ、
余剰の麹基質は上位の堆積層に使用する。麹基質量が所
定量より少なくセンサが感知しないと、自動的に均し装
置が高速回転し部分的に堆積層が薄くなることを防ぐ。
均し装置の前面に麹基質を感知するセンサを複数個配置
する場合は、麹基質量が所定量より多くセンサが感知す
ると、円盤外周側から中心軸側のセンサが感知するに従
い均し装置の回転速度を順次低速にする。麹基質量が所
定量より少なくセンサが感知しないと、中心軸側から円
盤外周側のセンサが感知しなくなるに従い均し装置の回
転速度を順次高速にする。麹基質を複数段階に別けて盛
込む場合にも同様の作用となる。
るセンサを１個配置する場合には、麹基質量が所定量よ
り多くセンサが感知すると、自動的に均し装置が低速回
転し麹基質を圧縮することなく均一な層厚に堆積させ、
余剰の麹基質は上位の堆積層に使用する。麹基質量が所
定量より少なくセンサが感知しないと、自動的に均し装
置が高速回転し部分的に堆積層が薄くなることを防ぐ。
均し装置の前面に麹基質を感知するセンサを複数個配置
する場合は、麹基質量が所定量より多くセンサが感知す
ると、円盤外周側から中心軸側のセンサが感知するに従
い均し装置の回転速度を順次低速にする。麹基質量が所
定量より少なくセンサが感知しないと、中心軸側から円
盤外周側のセンサが感知しなくなるに従い均し装置の回
転速度を順次高速にする。麹基質を複数段階に別けて盛
込む場合にも同様の作用となる。
【００１３】請求項２は、請求項１と同様の作用である
【００１４】請求項３は、均し装置の前面に麹基質を感
知するセンサを１個配置する場合には、麹基質量が所定
量より多くセンサが感知すると、自動的に均し装置が低
速回転し円盤が高速回転するため、麹基質を圧縮するこ
となく均一な層厚に堆積させ、余剰の麹基質は上位の堆
積層に使用する。麹基質量が所定量より少なくセンサが
感知しないと、自動的に均し装置が高速回転し円盤が低
速回転するため、部分的に堆積層が薄くなることを防
ぐ。均し装置の前面に麹基質を感知するセンサを複数個
配置する場合は、麹基質量が所定量より多くセンサが感
知すると、円盤外周側から中心軸側のセンサが感知する
に従い均し装置の回転速度を順次低速にし円盤の回転速
度を順次高速にする。麹基質量が所定量より少なくセン
サが感知しないと、中心軸側から円盤外周側のセンサが
感知しなくなるに従い均し装置の回転速度を順次高速に
し円盤の回転速度を順次低速にする。
知するセンサを１個配置する場合には、麹基質量が所定
量より多くセンサが感知すると、自動的に均し装置が低
速回転し円盤が高速回転するため、麹基質を圧縮するこ
となく均一な層厚に堆積させ、余剰の麹基質は上位の堆
積層に使用する。麹基質量が所定量より少なくセンサが
感知しないと、自動的に均し装置が高速回転し円盤が低
速回転するため、部分的に堆積層が薄くなることを防
ぐ。均し装置の前面に麹基質を感知するセンサを複数個
配置する場合は、麹基質量が所定量より多くセンサが感
知すると、円盤外周側から中心軸側のセンサが感知する
に従い均し装置の回転速度を順次低速にし円盤の回転速
度を順次高速にする。麹基質量が所定量より少なくセン
サが感知しないと、中心軸側から円盤外周側のセンサが
感知しなくなるに従い均し装置の回転速度を順次高速に
し円盤の回転速度を順次低速にする。
【００１５】請求項４は、請求項３と同様の作用であ
る。
る。
【００１６】請求項５は、均し装置の前面に麹基質を感
知するセンサを１個配置する場合には、麹基質量が所定
量より多くセンサが感知すると、自動的に均し装置が低
速回転し自動盛込装置が上方に移動するため、麹基質を
圧縮することなく均一な層厚に堆積させ、余剰の麹基質
は上位の堆積層に使用する。麹基質量が所定量より少な
くセンサが感知しないと、自動的に均し装置が高速回転
し自動盛込装置が下方に移動するため、部分的に堆積層
が薄くなることを防ぐ。均し装置の前面に麹基質を感知
するセンサを複数個配置する場合は、麹基質量が所定量
より多くセンサが感知すると、円盤外周側から中心軸側
のセンサが感知するに従い均し装置の回転速度を順次低
速にし自動盛込装置の位置を順次上方に移動する。麹基
質量が所定量より少なくセンサが感知しないと、中心軸
側から円盤外周側のセンサが感知しなくなるに従い均し
装置の回転速度を順次高速にし自動盛込装置の位置を順
次下方に移動にする。
知するセンサを１個配置する場合には、麹基質量が所定
量より多くセンサが感知すると、自動的に均し装置が低
速回転し自動盛込装置が上方に移動するため、麹基質を
圧縮することなく均一な層厚に堆積させ、余剰の麹基質
は上位の堆積層に使用する。麹基質量が所定量より少な
くセンサが感知しないと、自動的に均し装置が高速回転
し自動盛込装置が下方に移動するため、部分的に堆積層
が薄くなることを防ぐ。均し装置の前面に麹基質を感知
するセンサを複数個配置する場合は、麹基質量が所定量
より多くセンサが感知すると、円盤外周側から中心軸側
のセンサが感知するに従い均し装置の回転速度を順次低
速にし自動盛込装置の位置を順次上方に移動する。麹基
質量が所定量より少なくセンサが感知しないと、中心軸
側から円盤外周側のセンサが感知しなくなるに従い均し
装置の回転速度を順次高速にし自動盛込装置の位置を順
次下方に移動にする。
【００１７】請求項６は、請求項５と同様の作用であ
る。
る。
【００１８】請求項７は、均し装置の前面に麹基質を感
知するセンサを１個配置する場合には、麹基質量が所定
量より多くセンサが感知すると、自動的に均し装置が低
速回転し自動盛込装置が上方に移動し円盤が高速回転す
るため、麹基質を圧縮することなく均一な層厚に堆積さ
せ、余剰の麹基質は上位の堆積層に使用する。麹基質量
が所定量より少なくセンサが感知しないと、自動的に均
し装置が高速回転し盛込装置が下方に移動し円盤が低速
回転するため、部分的に堆積層が薄くなることを防ぐ。
均し装置の前面に麹基質を感知するセンサを複数個配置
する場合は、麹基質量が所定量より多くセンサが感知す
ると、円盤外周側から中心軸側のセンサが感知するに従
い、均し装置の回転速度を順次低速にし盛込装置の位置
を順次上方に移動し円盤を順次高速回転する。麹基質量
が所定量より少なくセンサが感知しないと、中心軸側か
ら円盤外周側のセンサが感知しなくなるに従い、均し装
置の回転速度を順次高速にし盛込装置の位置を順次下方
に移動し円盤を順次低速回転にする。
知するセンサを１個配置する場合には、麹基質量が所定
量より多くセンサが感知すると、自動的に均し装置が低
速回転し自動盛込装置が上方に移動し円盤が高速回転す
るため、麹基質を圧縮することなく均一な層厚に堆積さ
せ、余剰の麹基質は上位の堆積層に使用する。麹基質量
が所定量より少なくセンサが感知しないと、自動的に均
し装置が高速回転し盛込装置が下方に移動し円盤が低速
回転するため、部分的に堆積層が薄くなることを防ぐ。
均し装置の前面に麹基質を感知するセンサを複数個配置
する場合は、麹基質量が所定量より多くセンサが感知す
ると、円盤外周側から中心軸側のセンサが感知するに従
い、均し装置の回転速度を順次低速にし盛込装置の位置
を順次上方に移動し円盤を順次高速回転する。麹基質量
が所定量より少なくセンサが感知しないと、中心軸側か
ら円盤外周側のセンサが感知しなくなるに従い、均し装
置の回転速度を順次高速にし盛込装置の位置を順次下方
に移動し円盤を順次低速回転にする。
【００１９】請求項８は、請求項７と同様の作用であ
る。
る。
【００２０】請求項９は、麹基質を感知するセンサを上
下に移動させる駆動装置を備えるこよにより、出麹工程
において均し装置を使用する場合にセンサが障害となる
ことを防ぐ。
下に移動させる駆動装置を備えるこよにより、出麹工程
において均し装置を使用する場合にセンサが障害となる
ことを防ぐ。
【００２１】
【実施例】図面によってこの発明の実施例を詳細に説明
する。図１は、この発明による円盤式自動製麹装置の自
動盛込装置の実施例の断面図である。回転中心軸２に固
定された円盤３上に、均し装置６を備えた上下に位置を
調節可能な自動盛込装置４を設置し、麹基質５を感知す
る上下に移動可能な駆動装置７を備えたセンサ１を自動
盛込装置４の前面の中心軸側に配置し、均し装置６によ
り搬送される麹基質５の有無をセンサ１が感知すること
により、円盤３の回転速度を調節する構造のものであ
る。センサ１の感知部分である先端は、自動盛込装置４
の下端より高い位置に設置する。センサ１の水平方向の
位置は、回転中心軸２側の任意の位置でよく、円盤３の
回転速度を調節するタイミングは麹基質５を感知するセ
ンサ１の信号により、制御盤中のタイマにより調節す
る。駆動装置７を備えたセンサ１は、自動盛込装置４に
固定するか、又は別途に支持体を設けて固定してもよ
い。
する。図１は、この発明による円盤式自動製麹装置の自
動盛込装置の実施例の断面図である。回転中心軸２に固
定された円盤３上に、均し装置６を備えた上下に位置を
調節可能な自動盛込装置４を設置し、麹基質５を感知す
る上下に移動可能な駆動装置７を備えたセンサ１を自動
盛込装置４の前面の中心軸側に配置し、均し装置６によ
り搬送される麹基質５の有無をセンサ１が感知すること
により、円盤３の回転速度を調節する構造のものであ
る。センサ１の感知部分である先端は、自動盛込装置４
の下端より高い位置に設置する。センサ１の水平方向の
位置は、回転中心軸２側の任意の位置でよく、円盤３の
回転速度を調節するタイミングは麹基質５を感知するセ
ンサ１の信号により、制御盤中のタイマにより調節す
る。駆動装置７を備えたセンサ１は、自動盛込装置４に
固定するか、又は別途に支持体を設けて固定してもよ
い。
【００２２】麹基質５を回転中心軸２を中心として回転
する円盤３の外周側に投入すると、所定の高さに調節さ
れた自動盛込装置４の均し装置６により、中心回転軸側
に麹基質５が搬送される。麹基質５の供給量が多い場合
には、センサ１ａとセンサ１ｂが感知するため、所定の
時間後に均し装置６の回転速度が低速回転するか、又は
円盤３の回転速度が同時に高速回転となり、麹基質の圧
密化を防止する。均し装置６の回転速度が低速回転する
か、又は円盤３の回転速度が同時に高速回転となり、所
定の時間経過した後にセンサ１ａとセンサ１ｂが感知し
たままの状態が発生する場合には、段階的に均し装置６
と円盤３の回転速度を単独又は同時に変速してもよい。
する円盤３の外周側に投入すると、所定の高さに調節さ
れた自動盛込装置４の均し装置６により、中心回転軸側
に麹基質５が搬送される。麹基質５の供給量が多い場合
には、センサ１ａとセンサ１ｂが感知するため、所定の
時間後に均し装置６の回転速度が低速回転するか、又は
円盤３の回転速度が同時に高速回転となり、麹基質の圧
密化を防止する。均し装置６の回転速度が低速回転する
か、又は円盤３の回転速度が同時に高速回転となり、所
定の時間経過した後にセンサ１ａとセンサ１ｂが感知し
たままの状態が発生する場合には、段階的に均し装置６
と円盤３の回転速度を単独又は同時に変速してもよい。
【００２３】麹基質５の供給量が標準的な場合には、セ
ンサ１ａが感知しセンサ１ｂが感知しないため、所定の
時間後に均し装置６の回転速度を標準回転とする。麹基
質５の供給量が少ない場合には、センサ１ａとセンサ１
ｂが感知しないため、所定の時間後に均し装置６の回転
速度が高速回転するか、又は円盤３の回転速度が同時に
低速回転となり、麹基質の堆積層厚が所定の高さより薄
くなることを防止する。均し装置６の回転速度が高速回
転するか、又は円盤３の回転速度が同時に低速回転とな
り、所定の時間経過した後にセンサ１ａとセンサ１ｂが
感知しないままの状態が発生する場合には、段階的に均
し装置６と円盤３の回転速度を単独又は同時に変速して
もよい。
ンサ１ａが感知しセンサ１ｂが感知しないため、所定の
時間後に均し装置６の回転速度を標準回転とする。麹基
質５の供給量が少ない場合には、センサ１ａとセンサ１
ｂが感知しないため、所定の時間後に均し装置６の回転
速度が高速回転するか、又は円盤３の回転速度が同時に
低速回転となり、麹基質の堆積層厚が所定の高さより薄
くなることを防止する。均し装置６の回転速度が高速回
転するか、又は円盤３の回転速度が同時に低速回転とな
り、所定の時間経過した後にセンサ１ａとセンサ１ｂが
感知しないままの状態が発生する場合には、段階的に均
し装置６と円盤３の回転速度を単独又は同時に変速して
もよい。
【００２４】このため、円盤３が１回転した状態では、
麹基質１が円盤３上に均一の密度と高さで盛り込むこと
ができる。円盤３が２回転目以降の中間堆積層を盛込む
場合は、自動盛込装置４が所定の高さまで上昇し、前記
と同様の動作を行なう。麹基質５の最上段階を盛込む場
合は、前記と同様の動作を行なうか、自動盛込装置４の
高さをセンサ１の感知を利用し自動的に微調整して、実
用的に問題のない堆積層厚の均一性を確保してもよい。
麹基質１が円盤３上に均一の密度と高さで盛り込むこと
ができる。円盤３が２回転目以降の中間堆積層を盛込む
場合は、自動盛込装置４が所定の高さまで上昇し、前記
と同様の動作を行なう。麹基質５の最上段階を盛込む場
合は、前記と同様の動作を行なうか、自動盛込装置４の
高さをセンサ１の感知を利用し自動的に微調整して、実
用的に問題のない堆積層厚の均一性を確保してもよい。
【００２５】この状態で製麹操作を行なうと、麹基質５
の密度と高さが均一なため、円盤３上の何れの地点でも
麹基質の通気抵抗が等しくなり、麹基質に繁殖する麹菌
の発熱を通風により理想的に制御することが可能とな
る。
の密度と高さが均一なため、円盤３上の何れの地点でも
麹基質の通気抵抗が等しくなり、麹基質に繁殖する麹菌
の発熱を通風により理想的に制御することが可能とな
る。
【００２６】また、均し装置の回転速度と盛込装置の上
下の位置を調節してもよく、さらに均し装置の回転速度
と盛込装置の上下の位置と円盤の回転速度を調節するこ
とで、精度の高い盛込状態を実現できる。
下の位置を調節してもよく、さらに均し装置の回転速度
と盛込装置の上下の位置と円盤の回転速度を調節するこ
とで、精度の高い盛込状態を実現できる。
【００２７】製麹操作終了後に麹を円盤式自動製麹装置
から排出する手段として自動盛込装置４を使用するが、
この時点では麹基質５の有無を感知する上下に移動可能
な駆動装置７を備えたセンサ１は麹排出の障害となるた
め、出麹される麹基質５に接触しない位置までセンサ駆
動装置７により上昇する。
から排出する手段として自動盛込装置４を使用するが、
この時点では麹基質５の有無を感知する上下に移動可能
な駆動装置７を備えたセンサ１は麹排出の障害となるた
め、出麹される麹基質５に接触しない位置までセンサ駆
動装置７により上昇する。
【００２８】上記実施例は麹基質を第１図に示すとおり
円盤３の外周部に投入した場合であるが、麹基質を円盤
３の中心円筒側に投入した場合は、麹基質５を感知する
センサ１を自動盛込装置４の外周部に設けて、同様に使
用することも可能である。
円盤３の外周部に投入した場合であるが、麹基質を円盤
３の中心円筒側に投入した場合は、麹基質５を感知する
センサ１を自動盛込装置４の外周部に設けて、同様に使
用することも可能である。
【００２９】この発明は、麹基質を感知する１個又は複
数のセンサにより、均し装置、円盤の回転速度又は盛込
装置の上下位置を調節することによる相乗作用により、
所定量の麹基質を常に均一の堆積層厚と堆積密度に維持
すればよく、上記実施例の構成に限定されるものではな
い。
数のセンサにより、均し装置、円盤の回転速度又は盛込
装置の上下位置を調節することによる相乗作用により、
所定量の麹基質を常に均一の堆積層厚と堆積密度に維持
すればよく、上記実施例の構成に限定されるものではな
い。
【００３０】
【発明の効果】この発明の円盤式自動製麹装置の自動盛
込装置は以上のような機構を有することにより、麹基質
を均一な密度と高さに完全自動で盛り込むことができ
る。この理想的な盛込状態により、すべての麹基質を均
一で良好な麹とすることが可能となった。特に、従来の
機種にも利用可能な点は、この発明を更に有益有用なも
のとしている。
込装置は以上のような機構を有することにより、麹基質
を均一な密度と高さに完全自動で盛り込むことができ
る。この理想的な盛込状態により、すべての麹基質を均
一で良好な麹とすることが可能となった。特に、従来の
機種にも利用可能な点は、この発明を更に有益有用なも
のとしている。
【図１】この発明の円盤式自動製麹装置の自動盛込装置
の実施例の縦断面図である。
の実施例の縦断面図である。
１ａ センサ １ｂ センサ ２ 回転中心軸 ３ 円盤 ４ 自動盛込装置 ５ 麹基質 ６ 均し装置 ７ センサ駆動装置
Claims (9)
- 【請求項１】 麹基質を感知する１個又は複数のセンサ
を均し装置の前面に配置した自動盛込装置により、麹基
質を単数段階で盛込む工程又は複数段階で盛込む工程に
おいて、麹基質を感知する１個又は複数のセンサにより
均し装置の回転速度を調節し、所定量の麹基質を常に均
一の堆積層厚と堆積密度に維持することを特徴とする円
盤式自動製麹装置の自動盛込装置。 - 【請求項２】 麹基質を感知する１個又は複数のセンサ
を均し装置の前面に配置した自動盛込装置により、麹基
質を複数段階に別けて盛込む工程の最上段階を除く盛込
工程において、麹基質を感知する１個又は複数のセンサ
により均し装置の回転速度を調節し、所定量の麹基質を
常に均一の堆積層厚と堆積密度に維持することを特徴と
する円盤式自動製麹装置の自動盛込装置。 - 【請求項３】 麹基質を感知する１個又は複数のセンサ
を均し装置の前面に配置した自動盛込装置により、麹基
質を単数段階で盛込む工程又は複数段階で盛込む工程に
おいて、麹基質を感知する１個又は複数のセンサにより
均し装置と円盤の回転速度を調節することによる相乗作
用により、所定量の麹基質を常に均一の堆積層厚と堆積
密度に維持することを特徴とする円盤式自動製麹装置の
自動盛込装置。 - 【請求項４】 麹基質を感知する１個又は複数のセンサ
を均し装置の前面に配置した自動盛込装置により、麹基
質を複数段階に別けて盛込む工程の最上段階を除く盛込
工程において、麹基質を感知する１個又は複数のセンサ
により均し装置と円盤の回転速度を調節することによる
相乗作用により、所定量の麹基質を常に均一の堆積層厚
と堆積密度に維持することを特徴とする円盤式自動製麹
装置の自動盛込装置。 - 【請求項５】 麹基質を感知する１個又は複数のセンサ
を均し装置の前面に配置した自動盛込装置により、麹基
質を単数段階で盛込む工程又は複数段階で盛込む工程に
おいて、麹基質を感知する１個又は複数のセンサにより
均し装置の回転速度と自動盛込装置の上下移動を調節す
ることによる相乗作用により、所定量の麹基質を常に均
一の堆積層厚と堆積密度に維持することを特徴とする円
盤式自動製麹装置の自動盛込装置。 - 【請求項６】 麹基質を感知する１個又は複数のセンサ
を均し装置の前面に配置した自動盛込装置により、麹基
質を複数段階に別けて盛込む工程の最上段を除く盛込工
程において、麹基質を感知する１個又は複数のセンサに
より均し装置の回転速度と自動盛込装置の上下移動を調
節することによる相乗作用により、所定量の麹基質を常
に均一の堆積層厚と堆積密度に維持することを特徴とす
る円盤式自動製麹装置の自動盛込装置。 - 【請求項７】 麹基質を感知する１個又は複数のセンサ
を均し装置の前面に配置した盛込装置により、麹基質を
単数段階で盛込む工程又は複数段階で盛込む工程におい
て、麹基質を感知する１個又は複数のセンサにより均し
装置の回転速度と自動盛込装置の上下移動及び円盤の回
転速度を調節することによる相乗作用により、所定量の
麹基質を常に均一の堆積層厚と堆積密度に維持すること
を特徴とする円盤式自動製麹装置の自動盛込装置。 - 【請求項８】 麹基質を感知する１個又は複数のセンサ
を均し装置の前面に配置した自動盛込装置により、麹基
質を複数段階に別けて盛込む工程の最上段階を除く盛込
工程において、麹基質を感知する１個又は複数のセンサ
により均し装置の回転速度と自動盛込装置の上下移動及
び円盤の回転速度を調節することによる相乗作用によ
り、所定量の麹基質を常に均一の堆積層厚と堆積密度に
維持することを特徴とする円盤式自動製麹装置の自動盛
込装置。 - 【請求項９】 麹基質を感知するセンサを上下に移動さ
せる駆動装置を備えたことを特徴とする請求項１、２、
３、４、５、６、７又は８記載の円盤式自動製麹装置の
自動盛込装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21433894A JP4010015B2 (ja) | 1994-08-17 | 1994-08-17 | 円盤式自動製麹装置の自動盛込装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21433894A JP4010015B2 (ja) | 1994-08-17 | 1994-08-17 | 円盤式自動製麹装置の自動盛込装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0856647A true JPH0856647A (ja) | 1996-03-05 |
| JP4010015B2 JP4010015B2 (ja) | 2007-11-21 |
Family
ID=16654113
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21433894A Expired - Lifetime JP4010015B2 (ja) | 1994-08-17 | 1994-08-17 | 円盤式自動製麹装置の自動盛込装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4010015B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105925407A (zh) * | 2016-04-26 | 2016-09-07 | 周琦 | 一种圆盘式制曲设备 |
| JP2024005120A (ja) * | 2022-06-29 | 2024-01-17 | 株式会社フジワラテクノアート | 固体培養原料の盛込制御機構及び固体培養原料の盛込制御方法 |
-
1994
- 1994-08-17 JP JP21433894A patent/JP4010015B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105925407A (zh) * | 2016-04-26 | 2016-09-07 | 周琦 | 一种圆盘式制曲设备 |
| JP2024005120A (ja) * | 2022-06-29 | 2024-01-17 | 株式会社フジワラテクノアート | 固体培養原料の盛込制御機構及び固体培養原料の盛込制御方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4010015B2 (ja) | 2007-11-21 |
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