JPH06327466A - 回転円盤固体培養装置における麹基質の盛込み方法及び盛込み装置 - Google Patents
回転円盤固体培養装置における麹基質の盛込み方法及び盛込み装置Info
- Publication number
- JPH06327466A JPH06327466A JP5122388A JP12238893A JPH06327466A JP H06327466 A JPH06327466 A JP H06327466A JP 5122388 A JP5122388 A JP 5122388A JP 12238893 A JP12238893 A JP 12238893A JP H06327466 A JPH06327466 A JP H06327466A
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- JP
- Japan
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- culture bed
- conveyor
- substrate
- koji substrate
- koji
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- Pending
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- Apparatus Associated With Microorganisms And Enzymes (AREA)
- Micro-Organisms Or Cultivation Processes Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 円形培養床上の麹基質の盛込み時の層厚のむ
らをなくする。 【構成】 円形培養床の半径線に沿って移動する移動コ
ンベアのベルトスピードを移動コンベアから麹が落下す
る位置に応じて変速して、麹基質の諸盛込み層厚を均一
にすることを特徴とする回転円盤固体培養装置における
麹基質盛込み方法と、円形培養床の中心から外周に向か
う半径方向に往復移動する移動コンベア１に対してベル
トスピードを可変とする駆動装置５及び該ベルトスピー
ドの駆動装置を制御する制御装置６を設けてなることを
特徴とする回転円盤固体培養装置における麹基質盛込み
装置である。
らをなくする。 【構成】 円形培養床の半径線に沿って移動する移動コ
ンベアのベルトスピードを移動コンベアから麹が落下す
る位置に応じて変速して、麹基質の諸盛込み層厚を均一
にすることを特徴とする回転円盤固体培養装置における
麹基質盛込み方法と、円形培養床の中心から外周に向か
う半径方向に往復移動する移動コンベア１に対してベル
トスピードを可変とする駆動装置５及び該ベルトスピー
ドの駆動装置を制御する制御装置６を設けてなることを
特徴とする回転円盤固体培養装置における麹基質盛込み
装置である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、回転円盤式の固体培養
装置における麹基質の盛込み方法及びそれを実施する自
動盛込み装置に関するものである。
装置における麹基質の盛込み方法及びそれを実施する自
動盛込み装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来から麹基質の盛込みには、ベルトコ
ンベアも使われていたが、ベルトのスピードは等速であ
った。そのため、層厚を平均にするため、スクリュー等
を用いて、後から均したり、円形培養床をドーナツ状に
内側から外側へと何段階かに分けて厚みの差を少なくす
る方法等を用いていた（例えば、実公昭53-42640号、特
開昭62-198382号）。また、最近になって、これらの改
良方法として円形培養床を回転させながら、培養床に麹
基質を全面に薄層として盛込む操作を複数回繰返して目
的とする層厚まで多層状に盛り込む方法と、それを実施
可能な装置を、本出願人は特開平3-240481号で提案して
いる。
ンベアも使われていたが、ベルトのスピードは等速であ
った。そのため、層厚を平均にするため、スクリュー等
を用いて、後から均したり、円形培養床をドーナツ状に
内側から外側へと何段階かに分けて厚みの差を少なくす
る方法等を用いていた（例えば、実公昭53-42640号、特
開昭62-198382号）。また、最近になって、これらの改
良方法として円形培養床を回転させながら、培養床に麹
基質を全面に薄層として盛込む操作を複数回繰返して目
的とする層厚まで多層状に盛り込む方法と、それを実施
可能な装置を、本出願人は特開平3-240481号で提案して
いる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来のスクリ
ュー式では麹基質を踏み固めた所が出来る。また、内側
と外側に何段階かに分ける方法では、大変時間がかか
り、境界部分に段差ができやすい難点がある。移動コン
ベアを用いた盛込みは、段差ができると共に、コンベア
が動くその一区間だけをとってもコンベアスピードが一
定であれば、その内側部分と外側部分とに高低差ができ
易い難点がある。麹基質に高低差が生じると通風の抵抗
が異なり、麹の発熱に対する必要風量が確保できない所
が表れ、品温ムラが発生し、良質の麹ができない。
ュー式では麹基質を踏み固めた所が出来る。また、内側
と外側に何段階かに分ける方法では、大変時間がかか
り、境界部分に段差ができやすい難点がある。移動コン
ベアを用いた盛込みは、段差ができると共に、コンベア
が動くその一区間だけをとってもコンベアスピードが一
定であれば、その内側部分と外側部分とに高低差ができ
易い難点がある。麹基質に高低差が生じると通風の抵抗
が異なり、麹の発熱に対する必要風量が確保できない所
が表れ、品温ムラが発生し、良質の麹ができない。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は移動コンベアを
用いて円形培養床に麹基質を全面に薄層として盛込む操
作を複数回繰返して目的とする層厚まで多層状に盛込む
に際して、円形培養床の半径線に沿って移動する移動コ
ンベアのベルトスピードを移動コンベアから麹基質が落
下する位置に応じて変速することを特徴とする回転円盤
固体培養装置における麹基質盛込み方法である。
用いて円形培養床に麹基質を全面に薄層として盛込む操
作を複数回繰返して目的とする層厚まで多層状に盛込む
に際して、円形培養床の半径線に沿って移動する移動コ
ンベアのベルトスピードを移動コンベアから麹基質が落
下する位置に応じて変速することを特徴とする回転円盤
固体培養装置における麹基質盛込み方法である。
【０００５】また、円形培養床の中心から外周に向かう
半径方向に往復移動する移動コンベア１に対してベルト
スピードを可変とする駆動装置５及び該ベルトスピード
の駆動装置を制御する制御装置６を設けてなることを特
徴とする回転円盤固体培養装置における麹基質盛込み装
置である。
半径方向に往復移動する移動コンベア１に対してベルト
スピードを可変とする駆動装置５及び該ベルトスピード
の駆動装置を制御する制御装置６を設けてなることを特
徴とする回転円盤固体培養装置における麹基質盛込み装
置である。
【０００６】
【作用】盛込みの移動コンベアのベルトスピードを可変
にし、その麹基質が落下する位置に応じた量となるよう
に変速するので、培養床の層厚が中心付近でも外周付近
でも一定となる。
にし、その麹基質が落下する位置に応じた量となるよう
に変速するので、培養床の層厚が中心付近でも外周付近
でも一定となる。
【０００７】
【実施例】図１に示すように、本発明は、培養床２の中
心から外周に向かう半径方向に往復移動する盛込みコン
ベアを用いる。盛込みコンベアを用いて麹基質３を盛込
む方法に関しては現在行なわれている。しかし、本発明
では盛込みコンベアが円形培養床の中心から外周に向か
い半径方向に往復移動する移動コンベア１である。そし
て、この移動コンベア１に対してベルトスピードを可変
とする駆動装置、及び、移動コンベアから麹基質が落下
する位置に応じて、このベルトスピードの駆動装置５を
制御する制御装置６を設けている。移動コンベア１の上
には固定の麹基質供給コンベア４があり、これから円形
培養床２の半径方向前後に移動可能な移動コンベア１上
に麹基質３が供給される。
心から外周に向かう半径方向に往復移動する盛込みコン
ベアを用いる。盛込みコンベアを用いて麹基質３を盛込
む方法に関しては現在行なわれている。しかし、本発明
では盛込みコンベアが円形培養床の中心から外周に向か
い半径方向に往復移動する移動コンベア１である。そし
て、この移動コンベア１に対してベルトスピードを可変
とする駆動装置、及び、移動コンベアから麹基質が落下
する位置に応じて、このベルトスピードの駆動装置５を
制御する制御装置６を設けている。移動コンベア１の上
には固定の麹基質供給コンベア４があり、これから円形
培養床２の半径方向前後に移動可能な移動コンベア１上
に麹基質３が供給される。
【０００８】移動コンベア１が一周期(一往復)動いた時
の回転角度は、図２のように円形培養床２に斜線で示し
た。実際の麹基質の落下した軌跡は曲線的であるが、そ
れは斜線で示したものと等価と考えられる。この時、往
復の周期と盛込みの関係については上述した特開平3-24
0481号で詳細に説明したが、これだけでは培養床中心付
近と外周付近との麹基質量の差の是正はなされない。前
述のベルトスピードを変更していく方法を組み合わせる
ことで層厚が平均化される。
の回転角度は、図２のように円形培養床２に斜線で示し
た。実際の麹基質の落下した軌跡は曲線的であるが、そ
れは斜線で示したものと等価と考えられる。この時、往
復の周期と盛込みの関係については上述した特開平3-24
0481号で詳細に説明したが、これだけでは培養床中心付
近と外周付近との麹基質量の差の是正はなされない。前
述のベルトスピードを変更していく方法を組み合わせる
ことで層厚が平均化される。
【０００９】図３は、移動コンベアスピードを0.167m/
秒とし、移動周期を60秒/回とした場合であって、円形
培養床２の内周から外周までの距離が５ｍ、中心から内
周までの距離が１ｍ、移動コンベア１が一往復した時の
円形培養床の回転角度0.209radに設定した場合の円形培
養床２上の位置と麹基質３の落下量の関係を示すグラフ
である。
秒とし、移動周期を60秒/回とした場合であって、円形
培養床２の内周から外周までの距離が５ｍ、中心から内
周までの距離が１ｍ、移動コンベア１が一往復した時の
円形培養床の回転角度0.209radに設定した場合の円形培
養床２上の位置と麹基質３の落下量の関係を示すグラフ
である。
【００１０】この円形培養床２の面積は110ｍ2、全盛込
量33ｍ3、盛込時間は119分で、円形培養床２の一周期は
29.75分、回転数は４回であり、培養床の一周期での平
均層厚は0.075mであった。この時の供給コンベア４から
の麹基質３の供給量は0.0046ｍ3／秒であり、スタート
時の移動コンベアベルトの速度は0.76ｍ／秒とした。
量33ｍ3、盛込時間は119分で、円形培養床２の一周期は
29.75分、回転数は４回であり、培養床の一周期での平
均層厚は0.075mであった。この時の供給コンベア４から
の麹基質３の供給量は0.0046ｍ3／秒であり、スタート
時の移動コンベアベルトの速度は0.76ｍ／秒とした。
【００１１】図３にみられるように、円形培養床２の外
周部での往復時の合計麹基質落下量は0.0157ｍ3／秒、
内周部での合計麹基質落下量は0.0026ｍ3／秒、スター
ト時の落下量は0.0038ｍ3／秒であった。
周部での往復時の合計麹基質落下量は0.0157ｍ3／秒、
内周部での合計麹基質落下量は0.0026ｍ3／秒、スター
ト時の落下量は0.0038ｍ3／秒であった。
【００１２】以上の条件で円形培養床を四周させて盛込
みを行なった結果、麹基質の層厚のむらは±１cmという
好結果が得られた。従来の円形培養床をドーナツ状に内
側から外側へと何段階かに分けて盛込む方式では、時間
がかかり、層厚むらも±５cmあったが、本発明はそうい
ったこともなく、均質、均等に盛込めるのである。
みを行なった結果、麹基質の層厚のむらは±１cmという
好結果が得られた。従来の円形培養床をドーナツ状に内
側から外側へと何段階かに分けて盛込む方式では、時間
がかかり、層厚むらも±５cmあったが、本発明はそうい
ったこともなく、均質、均等に盛込めるのである。
【００１３】
【発明の効果】従来のスクリュー方式では麹基質を踏み
固めた所ができ、また、内側と外側に何段階かに分ける
方法では、大変時間がかかり、また、境界部分に段差が
できやすい。本発明によってそういったこともなく、短
時間に麹基質を円形培養床上へ均質、均等に盛込めるこ
ととなった。麹基質に高低差がなくなり、品温ムラの発
生をなくして良質の麹を得ることが可能となった。
固めた所ができ、また、内側と外側に何段階かに分ける
方法では、大変時間がかかり、また、境界部分に段差が
できやすい。本発明によってそういったこともなく、短
時間に麹基質を円形培養床上へ均質、均等に盛込めるこ
ととなった。麹基質に高低差がなくなり、品温ムラの発
生をなくして良質の麹を得ることが可能となった。
【図１】回転円盤固体培養装置における麹基質盛込み装
置の側面図である。
置の側面図である。
【図２】移動コンベアが一往復した時の回転角度を示す
円形培養床の平面図である。
円形培養床の平面図である。
【図３】円形培養床上の位置と麹基質の落下量の関係を
示すグラフである。
示すグラフである。
１ 移動コンベア ２ 培養床 ３ 麹基質 ４ 麹基質供給コンベア ５ 駆動装置 ６ 制御装置
Claims (2)
- 【請求項１】 移動コンベアを用いて円形培養床に麹基
質を全面に薄層として盛込む操作を複数回繰返して目的
とする層厚まで多層状に盛込むに際して、円形培養床の
半径線に沿って移動する移動コンベアのベルトスピード
を移動コンベアから麹基質が落下する位置に応じて変速
することを特徴とする回転円盤固体培養装置における麹
基質盛込み方法。 - 【請求項２】 円形培養床の中心から外周に向かう半径
方向に往復移動する移動コンベア１に対してベルトスピ
ードを可変とする駆動装置５及び該ベルトスピードの駆
動装置を制御する制御装置６を設けてなることを特徴と
する回転円盤固体培養装置における麹基質盛込み装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5122388A JPH06327466A (ja) | 1993-05-25 | 1993-05-25 | 回転円盤固体培養装置における麹基質の盛込み方法及び盛込み装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5122388A JPH06327466A (ja) | 1993-05-25 | 1993-05-25 | 回転円盤固体培養装置における麹基質の盛込み方法及び盛込み装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06327466A true JPH06327466A (ja) | 1994-11-29 |
Family
ID=14834567
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5122388A Pending JPH06327466A (ja) | 1993-05-25 | 1993-05-25 | 回転円盤固体培養装置における麹基質の盛込み方法及び盛込み装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06327466A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102732420A (zh) * | 2011-04-12 | 2012-10-17 | 藤原酿造机械株式会社 | 旋转圆盘固体培养装置中的曲基质放入装置和旋转圆盘固体培养装置中的曲基质放入方法 |
| CN107472927A (zh) * | 2016-06-07 | 2017-12-15 | 宁波长荣酿造设备有限公司 | 旋转圆盘制曲机放料方法及其装置 |
| CN114906627A (zh) * | 2022-05-20 | 2022-08-16 | 西门子（中国）有限公司 | 传送带控制方法、装置、电子设备和存储介质 |
-
1993
- 1993-05-25 JP JP5122388A patent/JPH06327466A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102732420A (zh) * | 2011-04-12 | 2012-10-17 | 藤原酿造机械株式会社 | 旋转圆盘固体培养装置中的曲基质放入装置和旋转圆盘固体培养装置中的曲基质放入方法 |
| JP2012217414A (ja) * | 2011-04-12 | 2012-11-12 | Fujiwara Techno-Art Co Ltd | 回転円盤固体培養装置における麹基質盛込み装置及び回転円盤固体培養装置における麹基質盛込み方法 |
| CN102732420B (zh) * | 2011-04-12 | 2016-02-24 | 藤原酿造机械株式会社 | 旋转圆盘固体培养装置中的曲基质放入装置和旋转圆盘固体培养装置中的曲基质放入方法 |
| CN107472927A (zh) * | 2016-06-07 | 2017-12-15 | 宁波长荣酿造设备有限公司 | 旋转圆盘制曲机放料方法及其装置 |
| CN114906627A (zh) * | 2022-05-20 | 2022-08-16 | 西门子（中国）有限公司 | 传送带控制方法、装置、电子设备和存储介质 |
| CN114906627B (zh) * | 2022-05-20 | 2024-04-02 | 西门子（中国）有限公司 | 传送带控制方法、装置、电子设备和存储介质 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 12 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080614 |