JPH087888B2 - 光磁気記録媒体 - Google Patents
光磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPH087888B2 JPH087888B2 JP6766689A JP6766689A JPH087888B2 JP H087888 B2 JPH087888 B2 JP H087888B2 JP 6766689 A JP6766689 A JP 6766689A JP 6766689 A JP6766689 A JP 6766689A JP H087888 B2 JPH087888 B2 JP H087888B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magneto
- groove
- recording medium
- optical recording
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、レーザ光を用いて情報の記録・再生・消去
を行う光磁気記録媒体に関する。
を行う光磁気記録媒体に関する。
［従来の技術］ レーザ光を用いた光ディスク記録方式は大容量記録が
可能であり、非接触で高速アクセスできることから、大
容量メモリとして実用化が始まっている。光ディスクは
コンパクトディスクやレーザディスクとして知られてい
る再生専用型、ユーザで記録ができる追記型、およびユ
ーザで繰り返し記録ができる書き替え型に分類される。
なかでも書き替え型はコンピュータ用の外部メモリとし
て磁気ディスクの代替、あるいは文書・画像ファイルと
しての応用が期待されている。
可能であり、非接触で高速アクセスできることから、大
容量メモリとして実用化が始まっている。光ディスクは
コンパクトディスクやレーザディスクとして知られてい
る再生専用型、ユーザで記録ができる追記型、およびユ
ーザで繰り返し記録ができる書き替え型に分類される。
なかでも書き替え型はコンピュータ用の外部メモリとし
て磁気ディスクの代替、あるいは文書・画像ファイルと
しての応用が期待されている。
光磁気記録媒体は、記録層に垂直磁化膜を用い、磁化
反転ドメインの有無により情報を記録する。書き替え型
光ディスクの中で、光磁気記録媒体は、性能、信頼性の
点から優れており、現在実用化が進んでいる。
反転ドメインの有無により情報を記録する。書き替え型
光ディスクの中で、光磁気記録媒体は、性能、信頼性の
点から優れており、現在実用化が進んでいる。
光磁気記録媒体は、プラスチックあるいはガラスから
なる円盤状基板と、この基板上に形成された記録層を有
し、記録層には主に希土類・遷移金属合金が用いられ
る。
なる円盤状基板と、この基板上に形成された記録層を有
し、記録層には主に希土類・遷移金属合金が用いられ
る。
第２図は、従来から用いられている光磁気記録媒体の
部分断面図で、基板１の表面にはレーザビームトラッキ
ング用のプリグルーブ103が形成され、その上に記録層
３が保護膜２および４に挟まれて形成されている。
部分断面図で、基板１の表面にはレーザビームトラッキ
ング用のプリグルーブ103が形成され、その上に記録層
３が保護膜２および４に挟まれて形成されている。
このような光磁気記録媒体において、記録情報はμｍ
オーダの磁化反転ビットとしてディスク内に蓄えられる
ので、情報を信頼性良く記録しておくためには、ビット
単位でみた誤り率をできるだけ低く抑えておく必要があ
る。しかしながら、光磁気記録媒体では１μｍ程度の集
光レーザ光で情報の記録・再生・消去を行うので、記録
層の微小欠陥や基板表面の欠陥、ごみおよび付着物がビ
ット誤りの原因になる。また、比較的耐候性の点で弱い
金属材料を用いているので、記録層から発生する腐食も
ビット誤りの原因になる。そのため、通常、記録層の腐
食を防止するために、記録層の両面を保護膜でサンドイ
ッチする方法が用いられる。また、光磁気記録媒体の記
録方式としてビット誤りによる情報の欠落を防止するた
めに誤り訂正符号を導入した記録方式が採用されてい
る。
オーダの磁化反転ビットとしてディスク内に蓄えられる
ので、情報を信頼性良く記録しておくためには、ビット
単位でみた誤り率をできるだけ低く抑えておく必要があ
る。しかしながら、光磁気記録媒体では１μｍ程度の集
光レーザ光で情報の記録・再生・消去を行うので、記録
層の微小欠陥や基板表面の欠陥、ごみおよび付着物がビ
ット誤りの原因になる。また、比較的耐候性の点で弱い
金属材料を用いているので、記録層から発生する腐食も
ビット誤りの原因になる。そのため、通常、記録層の腐
食を防止するために、記録層の両面を保護膜でサンドイ
ッチする方法が用いられる。また、光磁気記録媒体の記
録方式としてビット誤りによる情報の欠落を防止するた
めに誤り訂正符号を導入した記録方式が採用されてい
る。
［発明が解決しようとする課題］ しかしながら、保護膜による腐食防止も完全なもので
はなく、また、経時変化や基板変形に伴い、記録層・保
護膜に発生する割れ、剥離がビット誤りの原因になると
いう欠点がある。また、導入されている誤り訂正符号の
能力には限界があり、特に広範囲に広がった欠陥に対し
ては対応できないという欠点があった。
はなく、また、経時変化や基板変形に伴い、記録層・保
護膜に発生する割れ、剥離がビット誤りの原因になると
いう欠点がある。また、導入されている誤り訂正符号の
能力には限界があり、特に広範囲に広がった欠陥に対し
ては対応できないという欠点があった。
本発明の目的は上記の欠点を解決し、発生した欠陥の
拡大や伝搬を抑え、欠陥による情報の消失を最小限に抑
えることのできる光磁気記録媒体を提供することにあ
る。
拡大や伝搬を抑え、欠陥による情報の消失を最小限に抑
えることのできる光磁気記録媒体を提供することにあ
る。
［課題を解決するための手段］ 本発明は、表面にプリグルーブが形成された透明基板
と、該基板上に形成された記録層とを少なくとも有し、
レーザ光を用いて情報の記録・再生・消去を行う光磁気
記録媒体において、プリグルーブは、複数本のプリグル
ーブからなる第１のプリグルーブ群と、該第１のプリグ
ルーブ群よりも深い溝が形成された第２のプリグルーブ
とを交互に形成したもので構成されてなり、記録層は前
記第２のプリグルーブによって分割されていることを特
徴とする光磁気記録媒体である。
と、該基板上に形成された記録層とを少なくとも有し、
レーザ光を用いて情報の記録・再生・消去を行う光磁気
記録媒体において、プリグルーブは、複数本のプリグル
ーブからなる第１のプリグルーブ群と、該第１のプリグ
ルーブ群よりも深い溝が形成された第２のプリグルーブ
とを交互に形成したもので構成されてなり、記録層は前
記第２のプリグルーブによって分割されていることを特
徴とする光磁気記録媒体である。
［作用］ 本発明において、基板上に形成されるプリグルーブ
は、第１のプリグルーブ群と、このプリグルーブ群より
も深い溝深さを有する第２のプリグルーブとが交互に形
成されたもので構成されている。従ってプリグルーブ上
に成膜される記録層は、深い溝を有する第２のプリグル
ーブによって分割されることとなる。このため、経時変
化や基板変形に伴って発生した記録層・保護膜の割れや
剥離、保護膜の不良部分に起因して発生した腐食など
は、第２のプリグルーブを越えて広がることができな
い。
は、第１のプリグルーブ群と、このプリグルーブ群より
も深い溝深さを有する第２のプリグルーブとが交互に形
成されたもので構成されている。従ってプリグルーブ上
に成膜される記録層は、深い溝を有する第２のプリグル
ーブによって分割されることとなる。このため、経時変
化や基板変形に伴って発生した記録層・保護膜の割れや
剥離、保護膜の不良部分に起因して発生した腐食など
は、第２のプリグルーブを越えて広がることができな
い。
従って、発生したこれらの欠陥は第２のプリグルーブ
に挟まれた領域にとどまり、欠陥の拡大や伝搬は最小限
の領域に抑えられる。欠陥の拡大や伝搬が少なければ、
光磁気記録媒体で採用されている誤り訂正符号の能力に
よって情報の損失を最小限にとどめることができる。
に挟まれた領域にとどまり、欠陥の拡大や伝搬は最小限
の領域に抑えられる。欠陥の拡大や伝搬が少なければ、
光磁気記録媒体で採用されている誤り訂正符号の能力に
よって情報の損失を最小限にとどめることができる。
［実施例］ 次に、本発明の実施例について、図面を参照して説明
する。
する。
第１図は、本発明の一実施例の光磁気記録媒体の部分
断面図である。図において、基板１としては、ポリカー
ボネート、ポリメチルメタクリレート、エポキシ樹脂、
ガラス等が用いられる。基板１にはレーザビームトラッ
キング用のプリグルーブが形成されており、このプリグ
ルーブは、通常の溝深さを有する第１のプリグルーブ群
101と大きな溝深さを有する第２のプリグルーブ102が交
互に形成されたもので構成されている。ここで、第１の
プリグルーブ群101は従来から用いられている基板の溝
深さ（70〜80nm）と溝幅（0.3〜0.6μｍ）を持つもので
ある。一方、第２のプリグルーブ102は第１のプリグル
ーブ群よりも深い溝となっている。この第２のプリグル
ーブ102により、第１のプリグルーブ群101は20〜100本
毎に分割されている。
断面図である。図において、基板１としては、ポリカー
ボネート、ポリメチルメタクリレート、エポキシ樹脂、
ガラス等が用いられる。基板１にはレーザビームトラッ
キング用のプリグルーブが形成されており、このプリグ
ルーブは、通常の溝深さを有する第１のプリグルーブ群
101と大きな溝深さを有する第２のプリグルーブ102が交
互に形成されたもので構成されている。ここで、第１の
プリグルーブ群101は従来から用いられている基板の溝
深さ（70〜80nm）と溝幅（0.3〜0.6μｍ）を持つもので
ある。一方、第２のプリグルーブ102は第１のプリグル
ーブ群よりも深い溝となっている。この第２のプリグル
ーブ102により、第１のプリグルーブ群101は20〜100本
毎に分割されている。
以上のようにしてプリグルーブが形成された基板上に
は、第１の保護膜２、記録層３、第２の保護膜４が順次
形成される。第１保護膜２、第２保護膜４には透明の誘
電体が用いられ、例えば、Si3N4,AlN,SiO2,SiO,Ta2O5な
どが使用される。膜厚は60nmから200nmの範囲に設定さ
れる。記録層３には、希土類遷移金属合金薄膜、例えば
TbFe,TbFeCo,GdTbFeCo,DyFeCo,TbCo,NdDyFeCoなどが用
いられる。膜厚は20nmから150nmの範囲に設定される。
これらの膜はいずれもスパッタ法もしくは真空蒸着法に
よって作製される。
は、第１の保護膜２、記録層３、第２の保護膜４が順次
形成される。第１保護膜２、第２保護膜４には透明の誘
電体が用いられ、例えば、Si3N4,AlN,SiO2,SiO,Ta2O5な
どが使用される。膜厚は60nmから200nmの範囲に設定さ
れる。記録層３には、希土類遷移金属合金薄膜、例えば
TbFe,TbFeCo,GdTbFeCo,DyFeCo,TbCo,NdDyFeCoなどが用
いられる。膜厚は20nmから150nmの範囲に設定される。
これらの膜はいずれもスパッタ法もしくは真空蒸着法に
よって作製される。
以上のようにして作製された光磁気記録媒体は、その
基板表面に前述した如く２種類のプリグルーブが形成さ
れている。従って、この基板上に成膜された保護膜およ
び記録膜は、第１図に示すように第２のプリグルーブに
より分割される。このため、経時変化や基板変形に伴っ
て発生した記録層・保護膜の割れや剥離、保護膜の不良
部分に起因して発生した腐食などは、第２のプリグルー
ブを越えて広がることができない。
基板表面に前述した如く２種類のプリグルーブが形成さ
れている。従って、この基板上に成膜された保護膜およ
び記録膜は、第１図に示すように第２のプリグルーブに
より分割される。このため、経時変化や基板変形に伴っ
て発生した記録層・保護膜の割れや剥離、保護膜の不良
部分に起因して発生した腐食などは、第２のプリグルー
ブを越えて広がることができない。
次に、第１図に示した本発明に係る構成の光磁気記録
媒体と、従来から使用されている第２図に示す構成の光
磁気記録媒体を作製し、高温高湿条件下で加速試験を行
った。
媒体と、従来から使用されている第２図に示す構成の光
磁気記録媒体を作製し、高温高湿条件下で加速試験を行
った。
本発明に係る構成の光磁気記録媒体に用いた基板は、
直径130mmのポリカーボネートであり、射出成形により
第１のプリグルーブ群と第２のプリグルーブが形成され
たものである。プリグルーブは基板の内周直径56mmから
外周直径124mmまで形成されている。第１のプリグルー
ブ群はトラックピッチ1.6μｍ、溝深さ70nm、溝幅0.4μ
ｍになっている。一方、第２のプリグルーブは、第１の
プリグルーブ25本毎に１本の割合で形成されている。こ
の第２のプリグルーブは、溝深さ400nm、溝幅0.3μｍの
サイズになっている。
直径130mmのポリカーボネートであり、射出成形により
第１のプリグルーブ群と第２のプリグルーブが形成され
たものである。プリグルーブは基板の内周直径56mmから
外周直径124mmまで形成されている。第１のプリグルー
ブ群はトラックピッチ1.6μｍ、溝深さ70nm、溝幅0.4μ
ｍになっている。一方、第２のプリグルーブは、第１の
プリグルーブ25本毎に１本の割合で形成されている。こ
の第２のプリグルーブは、溝深さ400nm、溝幅0.3μｍの
サイズになっている。
これに対して、従来タイプの光磁気記録媒体に使用さ
れる基板のプリグルーブは、基板の内周直径56mmから外
周直径124mmまで形成され、トラックピッチは1.6μｍ、
溝深さと溝幅はそれぞれ70nm、0.4μｍである。
れる基板のプリグルーブは、基板の内周直径56mmから外
周直径124mmまで形成され、トラックピッチは1.6μｍ、
溝深さと溝幅はそれぞれ70nm、0.4μｍである。
ここでは、同一形状の基板をそれぞれ２組用意した。
これら４枚の基板に対して、マグネトロンスパッタ法に
より第１保護膜、記録膜、第２保護膜を順次同一チャン
バ内で同時に成膜した。第１保護膜と第２保護膜にはSi
3N4を各80nm、記録膜にはTbFeCoを80nmそれぞれ成膜し
た。続いて、光磁気記録媒体の成膜面に接着剤としてホ
ットメルト剤を塗布し、同一構成のディスク同士を貼り
合わせた。
これら４枚の基板に対して、マグネトロンスパッタ法に
より第１保護膜、記録膜、第２保護膜を順次同一チャン
バ内で同時に成膜した。第１保護膜と第２保護膜にはSi
3N4を各80nm、記録膜にはTbFeCoを80nmそれぞれ成膜し
た。続いて、光磁気記録媒体の成膜面に接着剤としてホ
ットメルト剤を塗布し、同一構成のディスク同士を貼り
合わせた。
この時点で、光磁気記録媒体の成膜面を顕微鏡観察し
たところ、本発明に係る構成の光磁気記録媒体では第２
のプリグルーブ領域には保護膜、記録膜共に不連続に成
膜され、保護膜、記録膜共にこのプリグルーブによって
分割されていることが確認できた。
たところ、本発明に係る構成の光磁気記録媒体では第２
のプリグルーブ領域には保護膜、記録膜共に不連続に成
膜され、保護膜、記録膜共にこのプリグルーブによって
分割されていることが確認できた。
次に、２組のディスクを80℃,90％R.H.の高温高湿条
件中に投入した。1000時間経過後にこの２組のディスク
を取り出し、成膜面を顕微鏡観察した。従来構成のディ
スクでは、内周から外周にかけて２〜5mm長の剥離が３
本観察された。一方、本発明に係る構成のディスクで
は、内周の１ケ所に小さい剥離がみられただけであっ
た。この剥離は、第１のプリグルーブ群の中で発生した
ものであるが、第２のプリグルーブによって、その剥離
の拡大が抑えられていた。
件中に投入した。1000時間経過後にこの２組のディスク
を取り出し、成膜面を顕微鏡観察した。従来構成のディ
スクでは、内周から外周にかけて２〜5mm長の剥離が３
本観察された。一方、本発明に係る構成のディスクで
は、内周の１ケ所に小さい剥離がみられただけであっ
た。この剥離は、第１のプリグルーブ群の中で発生した
ものであるが、第２のプリグルーブによって、その剥離
の拡大が抑えられていた。
［発明の効果］ 以上説明したように、本発明では、光磁気記録媒体の
記録膜を複数に分割しているので、ディスク内のある領
域に発生した欠陥の拡大や伝搬を最小限に抑えることが
できる。そのため、経時変化に伴って発生する欠陥を低
減でき、信頼性の高い光磁気記録媒体を提供できるとい
う効果がある。
記録膜を複数に分割しているので、ディスク内のある領
域に発生した欠陥の拡大や伝搬を最小限に抑えることが
できる。そのため、経時変化に伴って発生する欠陥を低
減でき、信頼性の高い光磁気記録媒体を提供できるとい
う効果がある。
第１図は本発明の一実施例の光磁気記録媒体の部分断面
図、第２図は従来技術による光磁気記録媒体の部分断面
図である。 １……基板 2,4……保護膜 ３……記録層 101……第１のプリグルーブ群 102……第２のプリグルーブ 103……プリグルーブ
図、第２図は従来技術による光磁気記録媒体の部分断面
図である。 １……基板 2,4……保護膜 ３……記録層 101……第１のプリグルーブ群 102……第２のプリグルーブ 103……プリグルーブ
Claims (1)
- 【請求項１】表面にプリグルーブが形成された透明基板
と、該基板上に形成された記録層とを少なくとも有し、
レーザ光を用いて情報の記録・再生・消去を行う光磁気
記録媒体において、プリグルーブは、複数本のプリグル
ーブからなる第１のプリグルーブ群と、該第１のプリグ
ルーブ群よりも深い溝が形成された第２のプリグルーブ
とを交互に形成したもので構成されてなり、記録層は前
記第２のプリグルーブによって分割されていることを特
徴とする光磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6766689A JPH087888B2 (ja) | 1989-03-22 | 1989-03-22 | 光磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6766689A JPH087888B2 (ja) | 1989-03-22 | 1989-03-22 | 光磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02247845A JPH02247845A (ja) | 1990-10-03 |
| JPH087888B2 true JPH087888B2 (ja) | 1996-01-29 |
Family
ID=13351554
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6766689A Expired - Lifetime JPH087888B2 (ja) | 1989-03-22 | 1989-03-22 | 光磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH087888B2 (ja) |
-
1989
- 1989-03-22 JP JP6766689A patent/JPH087888B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02247845A (ja) | 1990-10-03 |
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