JPH0877553A - 磁気記録媒体用基板及びその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体用基板及びその製造方法Info
- Publication number
- JPH0877553A JPH0877553A JP6208835A JP20883594A JPH0877553A JP H0877553 A JPH0877553 A JP H0877553A JP 6208835 A JP6208835 A JP 6208835A JP 20883594 A JP20883594 A JP 20883594A JP H0877553 A JPH0877553 A JP H0877553A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- glass substrate
- reference plane
- plasma
- projecting parts
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Paints Or Removers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 低浮上化のみならず、優れたＣＳＳ特性を有
する磁気記録媒体用基板の製造方法を提供する。 【構成】 ガラス基板の表面に長柱乃至針状の凸部が無
数に形成され、基板と平行に設けた基準面の面積と該基
準面に交差する凸部の断面積の合計面積の比が０．２％
における基準面と、前記面積比が１％における基準面と
の間隔が４ｎｍ以上とされている。酸素ガスとハロカー
ボンガスとの混合ガス雰囲気中でプラズマを生成させ、
該プラズマを負のバイアス電圧を印加したガラス基板３
の表面に対して垂直方向から照射し、ガラス基板３の表
面に長柱乃至針状の凸部を無数に形成する。
する磁気記録媒体用基板の製造方法を提供する。 【構成】 ガラス基板の表面に長柱乃至針状の凸部が無
数に形成され、基板と平行に設けた基準面の面積と該基
準面に交差する凸部の断面積の合計面積の比が０．２％
における基準面と、前記面積比が１％における基準面と
の間隔が４ｎｍ以上とされている。酸素ガスとハロカー
ボンガスとの混合ガス雰囲気中でプラズマを生成させ、
該プラズマを負のバイアス電圧を印加したガラス基板３
の表面に対して垂直方向から照射し、ガラス基板３の表
面に長柱乃至針状の凸部を無数に形成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は磁気ディスク等の磁気記
録媒体の基板の製造方法に関する。
録媒体の基板の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、磁気記録媒体の高密度記録化に伴
って、ＣｏＮｉＣｒ、ＣｏＣｒＴａ等の一軸結晶磁気異
方性を有するＣｏ合金からなる磁性層を非磁性基板上に
Ｃｒ下地層を介して成膜した金属薄膜型磁気記録媒体が
用いられている。従来、媒体用基板として、非晶質Ｎｉ
−Ｐ層がめっきされたＡｌ合金基板が用いられいた。基
板表面には、通常、テキスチャーと呼ばれる凹凸が円周
方向に沿って機械的に加工される。該機械的テキスチャ
ーは、主としてヘッド・媒体間の摩擦を軽減し、ＣＳＳ
（コンタクト・スタート・ストップ）特性を向上させる
作用を有する。
って、ＣｏＮｉＣｒ、ＣｏＣｒＴａ等の一軸結晶磁気異
方性を有するＣｏ合金からなる磁性層を非磁性基板上に
Ｃｒ下地層を介して成膜した金属薄膜型磁気記録媒体が
用いられている。従来、媒体用基板として、非晶質Ｎｉ
−Ｐ層がめっきされたＡｌ合金基板が用いられいた。基
板表面には、通常、テキスチャーと呼ばれる凹凸が円周
方向に沿って機械的に加工される。該機械的テキスチャ
ーは、主としてヘッド・媒体間の摩擦を軽減し、ＣＳＳ
（コンタクト・スタート・ストップ）特性を向上させる
作用を有する。
【０００３】最近、ハードディスク装置の小型化と大容
量化に拍車がかかり、それに応じた磁気記録媒体の開発
が求められている。磁気記録媒体の高密度記録化が進む
と、記録ビットサイズが小さくなるために、磁気ヘッド
の浮上量をできるだけ小さくして読み出し出力を上げな
ければならない。そのためには磁性層が成膜される媒体
用基板の平滑化を促進して、ヘッドの低浮上化を図る必
要がある。
量化に拍車がかかり、それに応じた磁気記録媒体の開発
が求められている。磁気記録媒体の高密度記録化が進む
と、記録ビットサイズが小さくなるために、磁気ヘッド
の浮上量をできるだけ小さくして読み出し出力を上げな
ければならない。そのためには磁性層が成膜される媒体
用基板の平滑化を促進して、ヘッドの低浮上化を図る必
要がある。
【０００４】このため、媒体用基板として、前記Ｎｉ−
Ｐ／Ａｌ合金基板に代えて平坦性の良好なガラス基板を
用い、特開平３−２３２１１７号公報に開示されている
ように、プラズマエッチングによりテキスチャーを形成
することが行われている。
Ｐ／Ａｌ合金基板に代えて平坦性の良好なガラス基板を
用い、特開平３−２３２１１７号公報に開示されている
ように、プラズマエッチングによりテキスチャーを形成
することが行われている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、前記公報に開
示されたプラズマエッチングは、方向性のないプラズマ
を基板に照射するものであるため、凸部と凹部との高低
差（山点・谷点間距離）が小さく、また凸部がなだらか
な山形となる。このため、ヘッドの低浮上化には有効で
あったが、凸部の微量の摩耗により、ヘッド・媒体間の
接触面積が急増し、短期間でヘッドの吸着や損傷が生じ
るという問題がある。
示されたプラズマエッチングは、方向性のないプラズマ
を基板に照射するものであるため、凸部と凹部との高低
差（山点・谷点間距離）が小さく、また凸部がなだらか
な山形となる。このため、ヘッドの低浮上化には有効で
あったが、凸部の微量の摩耗により、ヘッド・媒体間の
接触面積が急増し、短期間でヘッドの吸着や損傷が生じ
るという問題がある。
【０００６】本発明はかかる問題に鑑みなされたもの
で、低浮上化のみならず、優れたＣＳＳ特性を有する磁
気記録媒体用基板の製造方法を提供することを目的とす
る。
で、低浮上化のみならず、優れたＣＳＳ特性を有する磁
気記録媒体用基板の製造方法を提供することを目的とす
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の磁気記録媒体用
基板は、ガラス基板の表面に長柱乃至針状の凸部が無数
に形成され、基板と平行に設けた基準面の面積と該基準
面に交差する凸部の断面積の合計面積の比が０．２％に
おける基準面と、前記面積比が１％における基準面との
間隔が４ｎｍ以上、好ましくは８ｎｍ以上とされてい
る。
基板は、ガラス基板の表面に長柱乃至針状の凸部が無数
に形成され、基板と平行に設けた基準面の面積と該基準
面に交差する凸部の断面積の合計面積の比が０．２％に
おける基準面と、前記面積比が１％における基準面との
間隔が４ｎｍ以上、好ましくは８ｎｍ以上とされてい
る。
【０００８】また、本発明の製造方法は、酸素ガスとハ
ロカーボンガスとの混合ガス雰囲気中でプラズマを生成
させ、該プラズマを負のバイアス電圧を印加したガラス
基板の表面に対して垂直方向から照射し、ガラス基板の
表面に長柱乃至針状の凸部を無数に形成する。前記ハロ
カーボンガスとしては、この場合、１０〜７５ vol％
（好ましくは２５〜７５ vol％）のＯ2 ガスと９０〜２
５ vol％（好ましくは７５〜２５ vol％）のＣＦ4 ガス
との混合ガス雰囲気中で、平行に配置した平板状電極間
に高周波放電を生じさせ、これにより生成したプラズマ
を、−３００〜−８００Ｖ（好ましくは、−５００〜−
６００Ｖ）のバイアス電圧が印加されかつ平板状電極間
に電極に平行に配置されたガラス基板に照射するのがよ
い。
ロカーボンガスとの混合ガス雰囲気中でプラズマを生成
させ、該プラズマを負のバイアス電圧を印加したガラス
基板の表面に対して垂直方向から照射し、ガラス基板の
表面に長柱乃至針状の凸部を無数に形成する。前記ハロ
カーボンガスとしては、この場合、１０〜７５ vol％
（好ましくは２５〜７５ vol％）のＯ2 ガスと９０〜２
５ vol％（好ましくは７５〜２５ vol％）のＣＦ4 ガス
との混合ガス雰囲気中で、平行に配置した平板状電極間
に高周波放電を生じさせ、これにより生成したプラズマ
を、−３００〜−８００Ｖ（好ましくは、−５００〜−
６００Ｖ）のバイアス電圧が印加されかつ平板状電極間
に電極に平行に配置されたガラス基板に照射するのがよ
い。
【０００９】前記ガラス基板の材質としては、ソーダ石
灰ガラス、アルミノ珪酸塩ガラス、結晶化ガラス等の各
種のものを使用することができる。また、前記ハロカー
ボンガスとしては、ＣＦ4 ガスの他、Ｃ2 Ｆ6 、ＣＨＦ
3 、Ｃ3 Ｆ8 、ＣＦ4 ＋Ｏ等を利用することができる。
灰ガラス、アルミノ珪酸塩ガラス、結晶化ガラス等の各
種のものを使用することができる。また、前記ハロカー
ボンガスとしては、ＣＦ4 ガスの他、Ｃ2 Ｆ6 、ＣＨＦ
3 、Ｃ3 Ｆ8 、ＣＦ4 ＋Ｏ等を利用することができる。
【００１０】
【作用】本発明の基板によれば、テキスチャーを構成す
る微細凸部が長柱状乃至針状であるため、凸部の先端が
摩耗しても、山形状の凸部のように、摩耗に従って凸部
の断面積が急速に増大することがなく、低摩擦係数が維
持される。しかも、基板と平行に設けた基準面の面積と
該基準面に交差する凸部の断面積の合計面積の比（bear
ing ratio)が０．２％における基準面と、前記面積比が
１％における基準面との間隔（「ベアリング深さ」とい
う。）が４ｎｍ以上、好ましくは８ｎｍ以上とされてい
るので、従来に比して長期間に渡り低摩擦係数が維持さ
れ、耐久性に優れる。
る微細凸部が長柱状乃至針状であるため、凸部の先端が
摩耗しても、山形状の凸部のように、摩耗に従って凸部
の断面積が急速に増大することがなく、低摩擦係数が維
持される。しかも、基板と平行に設けた基準面の面積と
該基準面に交差する凸部の断面積の合計面積の比（bear
ing ratio)が０．２％における基準面と、前記面積比が
１％における基準面との間隔（「ベアリング深さ」とい
う。）が４ｎｍ以上、好ましくは８ｎｍ以上とされてい
るので、従来に比して長期間に渡り低摩擦係数が維持さ
れ、耐久性に優れる。
【００１１】また、本発明の製造方法によると、基板に
負のバイアス電圧が印加され、かつ生成したプラズマが
ガラス基板に垂直に照射されるので、プラズマ中の活性
化したフッ素原子がバイアス電圧によって加速され、基
板に垂直に打ち込まれ、このフッ素原子がガラス中のＳ
ｉ原子と結合して、プラズマ中で分解しない揮発性のＳ
ｉＦ4 ガスを生じる。このため、ガラス基板の表面に長
柱乃至針状の凸部が無数に形成される。混合ガス濃度、
バイアス電圧の大きさ、プラズマ形成電力、処理時間等
を適宜設定することにより、所期のベアリング深さを形
成することができる。
負のバイアス電圧が印加され、かつ生成したプラズマが
ガラス基板に垂直に照射されるので、プラズマ中の活性
化したフッ素原子がバイアス電圧によって加速され、基
板に垂直に打ち込まれ、このフッ素原子がガラス中のＳ
ｉ原子と結合して、プラズマ中で分解しない揮発性のＳ
ｉＦ4 ガスを生じる。このため、ガラス基板の表面に長
柱乃至針状の凸部が無数に形成される。混合ガス濃度、
バイアス電圧の大きさ、プラズマ形成電力、処理時間等
を適宜設定することにより、所期のベアリング深さを形
成することができる。
【００１２】この場合、１０〜７５ vol％（好ましくは
２５〜７５ vol％）のＯ2 ガスと９０〜２５ vol％（好
ましくは７５〜２５ vol％）のＣＦ4 ガスとの混合ガス
雰囲気中で、平行に配置した平板状電極間に高周波放電
を生じさせ、これにより生成したプラズマを、−３００
〜−８００Ｖ（好ましくは、−５００〜−６００Ｖ）の
バイアス電圧が印加されかつ平板状電極間に電極に平行
に配置されたガラス基板に照射することにより、平板電
極間に発生したプラズマを基板表面に垂直に高効率で照
射することができ、数分程度のプラズマ照射でベアリン
グ深さが４ｎｍ以上の凹凸を容易に形成することができ
る。
２５〜７５ vol％）のＯ2 ガスと９０〜２５ vol％（好
ましくは７５〜２５ vol％）のＣＦ4 ガスとの混合ガス
雰囲気中で、平行に配置した平板状電極間に高周波放電
を生じさせ、これにより生成したプラズマを、−３００
〜−８００Ｖ（好ましくは、−５００〜−６００Ｖ）の
バイアス電圧が印加されかつ平板状電極間に電極に平行
に配置されたガラス基板に照射することにより、平板電
極間に発生したプラズマを基板表面に垂直に高効率で照
射することができ、数分程度のプラズマ照射でベアリン
グ深さが４ｎｍ以上の凹凸を容易に形成することができ
る。
【００１３】
【実施例】図１は本発明の製造方法を実施するためのプ
ラズマエッチング装置の一例を示しており、導電性内壁
を有する容器１内に、対向して配置された一対の平板状
電極２、２′を有しており、下側の電極２′の上にガラ
ス基板３が載置されている。前記電極２、２′はマッチ
ング装置４を介して高周波電源５に接続されている。一
方、下側の電極２′は容器内壁に対して直流バイアス電
源６により負のバイアス電圧が印加されている。前記容
器１にはプラズマ生成ガス（酸素ガスとハロカーボンガ
スとの混合ガス）供給用のガス源７が接続されており、
その周りには電極間に生じた放電（プラズマ）の拡散を
防止する磁界を形成するための電磁コイル８が設けられ
ている。９は排気ポンプに接続された排気管である。ま
た、ガス源としては、酸素ガスとハロカーボンガスとを
別々に設けてもよい。
ラズマエッチング装置の一例を示しており、導電性内壁
を有する容器１内に、対向して配置された一対の平板状
電極２、２′を有しており、下側の電極２′の上にガラ
ス基板３が載置されている。前記電極２、２′はマッチ
ング装置４を介して高周波電源５に接続されている。一
方、下側の電極２′は容器内壁に対して直流バイアス電
源６により負のバイアス電圧が印加されている。前記容
器１にはプラズマ生成ガス（酸素ガスとハロカーボンガ
スとの混合ガス）供給用のガス源７が接続されており、
その周りには電極間に生じた放電（プラズマ）の拡散を
防止する磁界を形成するための電磁コイル８が設けられ
ている。９は排気ポンプに接続された排気管である。ま
た、ガス源としては、酸素ガスとハロカーボンガスとを
別々に設けてもよい。
【００１４】本発明を実施するには、まず、容器１内を
真空にした後、ガス源７からエッチング用の混合ガスを
容器内に導入し、ガス圧を１〜１０００ｍＴｏｒｒ程度
に調整し、電極２′に負のバイアス電圧を印加すると共
に高周波電力を電極２、２′に供給する。これにより、
電極２、２′間で気体放電（ＲＦグロー放電）が生じ
て、活性化したフッ素原子を含有するプラズマが生成す
る。このプラズマは磁場の作用により電極２、２′間に
保持され、フッ素原子は負の電位に保持された電極２′
に移動し、基板３の表面に照射される。尚、プラズマの
発散を防止するための磁界は必ずしも必要ではない。
真空にした後、ガス源７からエッチング用の混合ガスを
容器内に導入し、ガス圧を１〜１０００ｍＴｏｒｒ程度
に調整し、電極２′に負のバイアス電圧を印加すると共
に高周波電力を電極２、２′に供給する。これにより、
電極２、２′間で気体放電（ＲＦグロー放電）が生じ
て、活性化したフッ素原子を含有するプラズマが生成す
る。このプラズマは磁場の作用により電極２、２′間に
保持され、フッ素原子は負の電位に保持された電極２′
に移動し、基板３の表面に照射される。尚、プラズマの
発散を防止するための磁界は必ずしも必要ではない。
【００１５】前記プラズマエッチング装置を用いて、表
１のエッチング条件によりガラス基板の表面に微細凹凸
を形成し、磁気記録媒体用基板を製作した。高周波電源
の周波数は１３．５６ＭＨｚである。試料No. １〜６、
１１〜１６は実施例、No. ２１は従来例である。尚、従
来例については、バイアス電圧を印加せず、また磁界も
かけなかった。
１のエッチング条件によりガラス基板の表面に微細凹凸
を形成し、磁気記録媒体用基板を製作した。高周波電源
の周波数は１３．５６ＭＨｚである。試料No. １〜６、
１１〜１６は実施例、No. ２１は従来例である。尚、従
来例については、バイアス電圧を印加せず、また磁界も
かけなかった。
【００１６】
【表１】
【００１７】実施例、従来例の基板を用いてＡＦＭ（原
子間力顕微鏡）により表面組織を観察すると共にベアリ
ング深さを測定した。その結果を表１に併せて示す。同
表より、実施例は従来例に比して、少なくとも２倍以上
の深さを有することが確認された。また、実施例のNo.
１、２、６もしくはNo. １１、１２、１６から、混合ガ
ス比が同率であれば、バイアス電圧が高く、また処理時
間が長いほうが大きなベアリング深さが得られることが
分かる。ＡＦＭにより観察した基板の表面粗さ図の一例
を図２、図３に示す。図２は実施例のNo. １、図２は従
来例のNo. ２１である。凸部の形態は、実施例では長柱
状ないし針状の不連続な突起であるのに対し、従来例で
は山形の連続状の突起である様子が観察される。
子間力顕微鏡）により表面組織を観察すると共にベアリ
ング深さを測定した。その結果を表１に併せて示す。同
表より、実施例は従来例に比して、少なくとも２倍以上
の深さを有することが確認された。また、実施例のNo.
１、２、６もしくはNo. １１、１２、１６から、混合ガ
ス比が同率であれば、バイアス電圧が高く、また処理時
間が長いほうが大きなベアリング深さが得られることが
分かる。ＡＦＭにより観察した基板の表面粗さ図の一例
を図２、図３に示す。図２は実施例のNo. １、図２は従
来例のNo. ２１である。凸部の形態は、実施例では長柱
状ないし針状の不連続な突起であるのに対し、従来例で
は山形の連続状の突起である様子が観察される。
【００１８】次に、前記No. １（実施例）とNo. ２１
（従来例）の基板を用いて、その上にＣｒ下地層を６０
０Å、ＣｏＣｒＴａ合金からなる磁性層を４００Å、Ｃ
保護層を１５０Å、同順序でスパッタリングにより成膜
し、更にＣ保護層の上にフッ素系液体潤滑剤を１５Å塗
布し、磁気記録媒体を製作した。この媒体及び薄膜ヘッ
ドを用いて、グライドハイト及びＣＳＳ特性を測定し
た。グライドハイトは、実施例及び従来例とも大差がな
く、０．０５μｍ程度であった。一方、ＣＳＳ特性は図
４に示す通り、試験前は実施例及び従来例とも摩擦係数
は非常に低い値であったが、回数が増えるに従って、従
来例では漸次増大し、３万回では当初の約９倍となっ
た。これに対し、実施例では３倍以下に止まり、耐久性
に優れることが分かる。実施例のNo. １１についても、
同様にしてＣＳＳ特性を調べたところ、３万回後の摩擦
係数は当初の約２倍以下に止まり、ベアリング深さが８
ｎｍ以上で良好なＣＳＳ特性が得られることが確認され
た。
（従来例）の基板を用いて、その上にＣｒ下地層を６０
０Å、ＣｏＣｒＴａ合金からなる磁性層を４００Å、Ｃ
保護層を１５０Å、同順序でスパッタリングにより成膜
し、更にＣ保護層の上にフッ素系液体潤滑剤を１５Å塗
布し、磁気記録媒体を製作した。この媒体及び薄膜ヘッ
ドを用いて、グライドハイト及びＣＳＳ特性を測定し
た。グライドハイトは、実施例及び従来例とも大差がな
く、０．０５μｍ程度であった。一方、ＣＳＳ特性は図
４に示す通り、試験前は実施例及び従来例とも摩擦係数
は非常に低い値であったが、回数が増えるに従って、従
来例では漸次増大し、３万回では当初の約９倍となっ
た。これに対し、実施例では３倍以下に止まり、耐久性
に優れることが分かる。実施例のNo. １１についても、
同様にしてＣＳＳ特性を調べたところ、３万回後の摩擦
係数は当初の約２倍以下に止まり、ベアリング深さが８
ｎｍ以上で良好なＣＳＳ特性が得られることが確認され
た。
【００１９】
【発明の効果】以上説明した通り、請求項１にかかる発
明の磁気記録媒体用基板によれば、凸部の形態を長柱乃
至針状に形成し、ベアリング深さを４ｎｍ以上としたの
で、ヘッドの低浮上化を達成するとともに、従来に比し
てＣＳＳ特性を向上させることができる。また、請求項
２にかかる発明の製造方法によると、ガラス基板表面に
形成される凸部の形態を摩擦係数の変動が生じ難い、長
柱乃至針状に形成することができる。また、請求項３に
かかる発明によると、プラズマを基板表面に垂直に高効
率で照射することができ、数分程度のプラズマ照射でベ
アリング深さが４ｎｍ以上の凹凸を容易に形成すること
ができる。
明の磁気記録媒体用基板によれば、凸部の形態を長柱乃
至針状に形成し、ベアリング深さを４ｎｍ以上としたの
で、ヘッドの低浮上化を達成するとともに、従来に比し
てＣＳＳ特性を向上させることができる。また、請求項
２にかかる発明の製造方法によると、ガラス基板表面に
形成される凸部の形態を摩擦係数の変動が生じ難い、長
柱乃至針状に形成することができる。また、請求項３に
かかる発明によると、プラズマを基板表面に垂直に高効
率で照射することができ、数分程度のプラズマ照射でベ
アリング深さが４ｎｍ以上の凹凸を容易に形成すること
ができる。
【図１】本発明を実施するための電極対向型プラズマエ
ッチング装置の全体模式図である。
ッチング装置の全体模式図である。
【図２】実施例に係る磁気記録媒体用基板の表面粗さ図
である。
である。
【図３】従来例に係る磁気記録媒体用基板の表面粗さ図
である。
である。
【図４】実施例（本発明）及び従来例に係る磁気記録媒
体について、ＣＳＳ回数と摩擦係数との関係を示すグラ
フである。
体について、ＣＳＳ回数と摩擦係数との関係を示すグラ
フである。
２ 電極 ３ ガラス基板 ６ バイアス電源
Claims (3)
- 【請求項１】 ガラス基板の表面に長柱乃至針状の凸部
が無数に形成され、基板と平行に設けた基準面の面積と
該基準面に交差する凸部の断面積の合計面積の比が０．
２％における基準面と、前記面積比が１％における基準
面との間隔が４ｎｍ以上である磁気記録媒体用基板。 - 【請求項２】 酸素ガスとハロカーボンガスとの混合ガ
ス雰囲気中でプラズマを生成させ、該プラズマを負のバ
イアス電圧を印加したガラス基板の表面に対して垂直方
向から照射し、ガラス基板の表面に長柱乃至針状の凸部
を無数に形成する磁気記録媒体用基板の製造方法。 - 【請求項３】 １０〜７５ vol％のＯ2 ガスと９０〜２
５ vol％のＣＦ4 ガスとの混合ガス雰囲気中で、平行に
配置した平板状電極間に高周波放電を生じさせ、これに
より生成したプラズマを、−３００〜−８００Ｖのバイ
アス電圧が印加されかつ平板状電極間に電極に平行に配
置されたガラス基板に照射する請求項２に記載した磁気
記録媒体用基板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20883594A JP3493061B2 (ja) | 1994-09-01 | 1994-09-01 | 磁気記録媒体用基板及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20883594A JP3493061B2 (ja) | 1994-09-01 | 1994-09-01 | 磁気記録媒体用基板及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0877553A true JPH0877553A (ja) | 1996-03-22 |
| JP3493061B2 JP3493061B2 (ja) | 2004-02-03 |
Family
ID=16562900
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20883594A Expired - Fee Related JP3493061B2 (ja) | 1994-09-01 | 1994-09-01 | 磁気記録媒体用基板及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3493061B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010001843A1 (ja) * | 2008-06-30 | 2010-01-07 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用基板及び磁気ディスク |
-
1994
- 1994-09-01 JP JP20883594A patent/JP3493061B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010001843A1 (ja) * | 2008-06-30 | 2010-01-07 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用基板及び磁気ディスク |
| JP5335789B2 (ja) * | 2008-06-30 | 2013-11-06 | Ｈｏｙａ株式会社 | 磁気ディスク用基板及び磁気ディスク |
| US8734967B2 (en) | 2008-06-30 | 2014-05-27 | Hoya Corporation | Substrate for magnetic disk and magnetic disk |
| US9012047B2 (en) | 2008-06-30 | 2015-04-21 | Hoya Corporation | Substrate for magnetic disk and magnetic disk |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3493061B2 (ja) | 2004-02-03 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4357570B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP4309945B1 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP4420954B2 (ja) | 凸凹形状が形成された基板の作製方法、及び磁気記録媒体の製造方法、並びにこれらの製造装置 | |
| JP2009015892A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法および磁気記録媒体 | |
| JP2006172686A (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法、磁気記憶装置、基板、テクスチャ形成装置 | |
| US20050079448A1 (en) | Method for forming resist pattern | |
| JP3493061B2 (ja) | 磁気記録媒体用基板及びその製造方法 | |
| US6099698A (en) | Magnetic disc and method of manufacturing same | |
| US6194048B1 (en) | Magnetic recording disk | |
| JP2008159146A (ja) | 磁気記録媒体及び磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP2011023107A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2006252637A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP2002020869A (ja) | ダイヤモンド状炭素膜の形成方法及び表面処理方法 | |
| JP2002123932A (ja) | 薄膜磁気デバイスの製造方法 | |
| JPS62219224A (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
| US6468598B1 (en) | Magnetic disk and method of making thereof | |
| JP2001297410A (ja) | 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法 | |
| JP2006127619A (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
| Anders et al. | Application of cathodic arc deposited amorphous hard carbon films to the head/disk tribology | |
| JP3325884B2 (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH10241116A (ja) | プレーナシリコンヘッドとその製造方法 | |
| JP2001256604A (ja) | 磁気ディスク装置 | |
| JPH1153734A (ja) | 磁気ディスクの作製方法 | |
| JPH11328649A (ja) | 磁気記録媒体及び磁気ヘッド並びにこれらの製造方法 | |
| JPH05159285A (ja) | 磁気記録媒体及び製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |