JPS62219224A - 磁気記録媒体及びその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体及びその製造方法Info
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- JPS62219224A JPS62219224A JP5948686A JP5948686A JPS62219224A JP S62219224 A JPS62219224 A JP S62219224A JP 5948686 A JP5948686 A JP 5948686A JP 5948686 A JP5948686 A JP 5948686A JP S62219224 A JPS62219224 A JP S62219224A
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Links
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Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
本発明による磁気記録媒体及びその製造方法は、化学強
化層を有するガラス基板の表面に酸素ガス中又はフロロ
カーボン系のガスを含む酸素ガス中でプラズマエツチン
グ処理を施すことにより該化学強化層の表面に多数の微
細な凹みを一様に形成し、その後ガラス基板の化学強化
層の表面に磁性媒体を均一厚さに形成することにより、
磁性媒体の表面に化学強化層表面の凹みに対応する多数
の微細な凹みを一様に形成するものである。
化層を有するガラス基板の表面に酸素ガス中又はフロロ
カーボン系のガスを含む酸素ガス中でプラズマエツチン
グ処理を施すことにより該化学強化層の表面に多数の微
細な凹みを一様に形成し、その後ガラス基板の化学強化
層の表面に磁性媒体を均一厚さに形成することにより、
磁性媒体の表面に化学強化層表面の凹みに対応する多数
の微細な凹みを一様に形成するものである。
本発明は基板の表面に磁性媒体を形成した磁気記録媒体
及びその製造方法の改良に関する。
及びその製造方法の改良に関する。
いわゆるハードディスクと称される従来の磁気記録媒体
は、一般に、基板とその表面に形成した磁性媒体とを備
えている。近来、この種の磁気記録媒体においては、高
記録密度化の要請に伴い、磁気記録媒体の表面を平滑化
してスペーシングロスを少なくすること、すなわち磁気
ヘッドの浮上量変動による記録再生出力の低下を防止す
ることが要望されているが、磁気記録媒体の表面を平滑
化しすぎると、磁気ヘッドが磁気記録媒体に吸着し、ヘ
ッドクラッシュを招くこととなるため、磁気記録媒体の
表面を適度に粗面化することが必要となっている。
は、一般に、基板とその表面に形成した磁性媒体とを備
えている。近来、この種の磁気記録媒体においては、高
記録密度化の要請に伴い、磁気記録媒体の表面を平滑化
してスペーシングロスを少なくすること、すなわち磁気
ヘッドの浮上量変動による記録再生出力の低下を防止す
ることが要望されているが、磁気記録媒体の表面を平滑
化しすぎると、磁気ヘッドが磁気記録媒体に吸着し、ヘ
ッドクラッシュを招くこととなるため、磁気記録媒体の
表面を適度に粗面化することが必要となっている。
磁気記録媒体の表面を粗面化する方法として、基板の表
面に形成された磁性媒体自体の表面に粗面化処理を施す
ことが考えられるが、磁性媒体の表面に粗面化処理を施
した場合、必然的に磁性媒体の厚みのばらつきが生じる
ため、記録再生時のエラー発生を無視できな（なる。し
たがって、基板の表面に磁性媒体を形成する前に基板の
表面に粗面化処理を施すことが必要である。
面に形成された磁性媒体自体の表面に粗面化処理を施す
ことが考えられるが、磁性媒体の表面に粗面化処理を施
した場合、必然的に磁性媒体の厚みのばらつきが生じる
ため、記録再生時のエラー発生を無視できな（なる。し
たがって、基板の表面に磁性媒体を形成する前に基板の
表面に粗面化処理を施すことが必要である。
そこで、従来においては、アルミ基板の表面に、テクス
チュアリング法による粗面化処理を施す方法が採用され
ているでいる。この方法は、アルミ基板表面に予めアル
マイト層又はＮｉ −Ｐ層からなる硬化層を形成し、そ
の表面をパフ研磨することにより、アルミ基板の硬化層
の表面を粗面化するものである。しかしながら、この粗
面化処理方法を採用した場合、基板の表面に深いスクラ
ッチ傷が生じ易いため、この粗面化処理を適用した磁気
記録媒体は、記録再生時にエラーを発生し易いという欠
点があった。また、この粗面化処理方法は基板の１枚ご
とに行う必要があるため、非能率的であった。
チュアリング法による粗面化処理を施す方法が採用され
ているでいる。この方法は、アルミ基板表面に予めアル
マイト層又はＮｉ −Ｐ層からなる硬化層を形成し、そ
の表面をパフ研磨することにより、アルミ基板の硬化層
の表面を粗面化するものである。しかしながら、この粗
面化処理方法を採用した場合、基板の表面に深いスクラ
ッチ傷が生じ易いため、この粗面化処理を適用した磁気
記録媒体は、記録再生時にエラーを発生し易いという欠
点があった。また、この粗面化処理方法は基板の１枚ご
とに行う必要があるため、非能率的であった。
上記問題点に鑑み、本発明は、表面に化学強化層を有す
るガラス基板と該ガラス基板の化学強化層の表面に形成
された磁性媒体とを備え、前記ガラス基板の化学強化層
の表面に酸素ガス又はフロロカーボン系のガスを含む酸
素ガスを用いたプラズマエツチング処理による微細な凹
みが一様に形成されており、前記磁性媒体が前記ガラス
基板の化学強化層の表面に均一厚さに形成されているこ
とを特徴とする磁気記録媒体を提供する。
るガラス基板と該ガラス基板の化学強化層の表面に形成
された磁性媒体とを備え、前記ガラス基板の化学強化層
の表面に酸素ガス又はフロロカーボン系のガスを含む酸
素ガスを用いたプラズマエツチング処理による微細な凹
みが一様に形成されており、前記磁性媒体が前記ガラス
基板の化学強化層の表面に均一厚さに形成されているこ
とを特徴とする磁気記録媒体を提供する。
また、本発明は、表面に化学強化層を有するガラス基板
の表面に、酸素ガス中又はフロロカーボン系のガスを含
む酸素ガス中でプラズマエツチング処理を行なうことに
より、該ガラス基板の化学強化層の表面に微細な凹みを
一様に形成し、その後、ガラス基板の化学強化層の表面
に磁性媒体を均一厚さに形成することを特徴とする磁気
記録媒体の製造方法を提供する。
の表面に、酸素ガス中又はフロロカーボン系のガスを含
む酸素ガス中でプラズマエツチング処理を行なうことに
より、該ガラス基板の化学強化層の表面に微細な凹みを
一様に形成し、その後、ガラス基板の化学強化層の表面
に磁性媒体を均一厚さに形成することを特徴とする磁気
記録媒体の製造方法を提供する。
本発明による磁気記録媒体は、表面全体が微細な凹みに
より一様に粗面化されたガラス基板と、その表面に均一
厚さに形成された磁性媒体とを備えている。ガラス基板
にこのような微細な凹みを一様に形成するためには、表
面に化学強化層を有するガラス基板を用いることと、酸
素ガス中又はフロロカーボン系のガスを含む酸素ガス中
でプラズマエツチング処理を施すこととが必要である。
より一様に粗面化されたガラス基板と、その表面に均一
厚さに形成された磁性媒体とを備えている。ガラス基板
にこのような微細な凹みを一様に形成するためには、表
面に化学強化層を有するガラス基板を用いることと、酸
素ガス中又はフロロカーボン系のガスを含む酸素ガス中
でプラズマエツチング処理を施すこととが必要である。
このような凹み発生現象は化学強化層を有していないガ
ラス基板を用いた場合には見られず、化学強化層を有す
るガラス基板を用いた場合にのみ得られる特有の現象で
ある。これはガラス基板の化学強化層内の強い内部応力
に起因し、応力が特に強い部分が選択的に浸食されるご
とが原因と考えられる。化学強化層表面のプラズマエツ
チング処理によって得られる多数の凹みは非常に微細で
均一であり、また、凹みは化学強化層の表面全体にわた
り一様に形成される。したがって、その基板表面に均一
厚さに形成された磁性媒体の表面には化学強化層表面の
凹みに対応する多数の微細な凹みが一様に形成されるこ
ととなる。したがって、記録再生エラーやヘッドクラッ
シュが起こりにくく、高記録密度化に適合し得るものと
なる。
ラス基板を用いた場合には見られず、化学強化層を有す
るガラス基板を用いた場合にのみ得られる特有の現象で
ある。これはガラス基板の化学強化層内の強い内部応力
に起因し、応力が特に強い部分が選択的に浸食されるご
とが原因と考えられる。化学強化層表面のプラズマエツ
チング処理によって得られる多数の凹みは非常に微細で
均一であり、また、凹みは化学強化層の表面全体にわた
り一様に形成される。したがって、その基板表面に均一
厚さに形成された磁性媒体の表面には化学強化層表面の
凹みに対応する多数の微細な凹みが一様に形成されるこ
ととなる。したがって、記録再生エラーやヘッドクラッ
シュが起こりにくく、高記録密度化に適合し得るものと
なる。
また、本発明による磁気記録媒体の製造方法によれば、
プラズマエツチング処理容器内に多数の化学強化ガラス
基板をセットし、プラズマエツチング処理容器内に酸素
ガス又はフロロカーボン系のガスを含む酸素ガスを供給
してガラス基板の表面にプラズマエツチング処理を施す
ことにより、同時に多数の基板表面の粗面化処理を行う
ことができるので、高記録密度化に適合し得る高品質の
磁気記録媒体を容易に量産できることとなる。
プラズマエツチング処理容器内に多数の化学強化ガラス
基板をセットし、プラズマエツチング処理容器内に酸素
ガス又はフロロカーボン系のガスを含む酸素ガスを供給
してガラス基板の表面にプラズマエツチング処理を施す
ことにより、同時に多数の基板表面の粗面化処理を行う
ことができるので、高記録密度化に適合し得る高品質の
磁気記録媒体を容易に量産できることとなる。
以下、図面を参照して本発明の詳細な説明する。
第１図は化学強化されたガラス基板のプラズマエツチン
グ処理方法を概略的に示すものであり、第２図（ａ）〜
（Ｃ１は磁気記録媒体の製造途中の断面構造を模式的に
示すものである。これらの図を参照すると、プラズマエ
ツチング処理容器即ち真空容器１１内には多数のガラス
基板１２が間隔を隔てて設置されて容器１１を介してア
ースされている。ガラス基板１２の表面には、第２図（
ａ）に示すように、予めイオン交換法による化学強化層
１２ａが形成されており、化学強化層１２ａの内部には
問い圧縮応力が生じている。真空容器Ｕ内には酸素ガス
又はフロロカーボン系のガスを含む酸素ガスが供給され
て所定圧に維持される。真空容器１１内に設けられた電
極には高周波電圧が印加される。これにより、容器１１
の内部で高周波放電が生じて、ガラス基板１２の化学強
化層１２ａの表面には、第２図（ｂｌに示すように、プ
ラズマエ・ノチングによる多数の微細な凹み１３が一様
に形成される。その後、第２図ｆｃｌに示すように、微
細な凹み１３を有するガラス基板１２の化学強化層１２
ａの表面には磁性媒体１４が均一厚さに形成される。こ
れにより、磁性媒体１４の表面にはガラス基板１２の化
学強化層１２ａの表面の凹み１３に対応する多数の微細
な凹み１５が一様に形成される。
グ処理方法を概略的に示すものであり、第２図（ａ）〜
（Ｃ１は磁気記録媒体の製造途中の断面構造を模式的に
示すものである。これらの図を参照すると、プラズマエ
ツチング処理容器即ち真空容器１１内には多数のガラス
基板１２が間隔を隔てて設置されて容器１１を介してア
ースされている。ガラス基板１２の表面には、第２図（
ａ）に示すように、予めイオン交換法による化学強化層
１２ａが形成されており、化学強化層１２ａの内部には
問い圧縮応力が生じている。真空容器Ｕ内には酸素ガス
又はフロロカーボン系のガスを含む酸素ガスが供給され
て所定圧に維持される。真空容器１１内に設けられた電
極には高周波電圧が印加される。これにより、容器１１
の内部で高周波放電が生じて、ガラス基板１２の化学強
化層１２ａの表面には、第２図（ｂｌに示すように、プ
ラズマエ・ノチングによる多数の微細な凹み１３が一様
に形成される。その後、第２図ｆｃｌに示すように、微
細な凹み１３を有するガラス基板１２の化学強化層１２
ａの表面には磁性媒体１４が均一厚さに形成される。こ
れにより、磁性媒体１４の表面にはガラス基板１２の化
学強化層１２ａの表面の凹み１３に対応する多数の微細
な凹み１５が一様に形成される。
以下にガラス基板の粗面化処理例を更に詳細に説明する
。
。
（処理例１）
化学強化層の厚さが３０μｍとされたソーダガラス基板
を用い、プラズマエツチング装置（真空容器の内径約２
０．３ｃｍ）により、放電電力を１に−とし、酸素圧力
をＱ、５ Ｔｏｒｒとし、エツチング時間を１０〜６０
分として、ガラス基板の化学強化層の表面をエツチング
した結果、直径５００〜１０００人の多数の凹みをガラ
ス基板の化学強化層の表面全体に一様に形成することが
できた。第３図はエツチング前のガラス基板の化学強化
層の表面をレプリカ法により走査型電子顕微鏡で１最影
した３０ 、０００倍の写真である。第４図は上記エツ
チング処理を１０分間行なったときの同様の写真であり
、第５図は上記エツチング処理を３０分間行なったとき
の同様の写真であり、第６図は上記エツチング処理を６
０分間行なったときの同様の写真である。これらの写真
から判るように、上記エツチング処理により、ガラス基
板の化学強化層の表面に極めて微細で大きさの均一な凹
みを一様に形成することができた。
を用い、プラズマエツチング装置（真空容器の内径約２
０．３ｃｍ）により、放電電力を１に−とし、酸素圧力
をＱ、５ Ｔｏｒｒとし、エツチング時間を１０〜６０
分として、ガラス基板の化学強化層の表面をエツチング
した結果、直径５００〜１０００人の多数の凹みをガラ
ス基板の化学強化層の表面全体に一様に形成することが
できた。第３図はエツチング前のガラス基板の化学強化
層の表面をレプリカ法により走査型電子顕微鏡で１最影
した３０ 、０００倍の写真である。第４図は上記エツ
チング処理を１０分間行なったときの同様の写真であり
、第５図は上記エツチング処理を３０分間行なったとき
の同様の写真であり、第６図は上記エツチング処理を６
０分間行なったときの同様の写真である。これらの写真
から判るように、上記エツチング処理により、ガラス基
板の化学強化層の表面に極めて微細で大きさの均一な凹
みを一様に形成することができた。
第７図は上記エツチング処理の時間とガラス基板の１ｍ
ｍ”当たりの凹みの個数との関係を示すものである。こ
の図から判るように、エツチング時間が増加するに従っ
て凹みの個数がほぼ比例的に増加し、エツチング時間が
６０分のときに１ ｍｍ”当たりの凹みの個数がｌ０１
１個以上と極めて多くなる。
ｍ”当たりの凹みの個数との関係を示すものである。こ
の図から判るように、エツチング時間が増加するに従っ
て凹みの個数がほぼ比例的に増加し、エツチング時間が
６０分のときに１ ｍｍ”当たりの凹みの個数がｌ０１
１個以上と極めて多くなる。
したがって、エツチング時間を適宜に選択することによ
り、ガラス基板の化学強化層の表面を所望の粗さに形成
することができる。なお、凹みの発生は放電電圧が高い
程著しくなることが判った。
り、ガラス基板の化学強化層の表面を所望の粗さに形成
することができる。なお、凹みの発生は放電電圧が高い
程著しくなることが判った。
また、酸素ガスのみを用いたプラズマエツチング処理で
は放電電圧が５００に一以下の場合には凹みが殆んど発
生しなくなることが判った。
は放電電圧が５００に一以下の場合には凹みが殆んど発
生しなくなることが判った。
（処理例２）
厚さ３０μｍの化学強化層を有するソーダガラス基板の
表面をプラズマエツチング処理装置により、１０％のＣ
Ｆ ａを混入した酸素ガス中で放電型カフ００−にて１
５〜３０秒間エツチングしたところ、ガラス基板の表面
に直径３００〜７００人の微細な凹みを多数形成するこ
とができた。また、電力５００ｗにて３０秒〜１分間エ
ツチングしたところ、ガラス基板の表面に直径３００〜
７００人の微細な凹みを多数形成することができた。こ
のように、ＣＦ、を混入した酸素ガスを用いた場合には
、１分以内の処理時間で且つ１に一以下の放電電圧、即
ち短時間及び低電圧の処理にてガラス基板表面を微細に
粗面化できることが判った。
表面をプラズマエツチング処理装置により、１０％のＣ
Ｆ ａを混入した酸素ガス中で放電型カフ００−にて１
５〜３０秒間エツチングしたところ、ガラス基板の表面
に直径３００〜７００人の微細な凹みを多数形成するこ
とができた。また、電力５００ｗにて３０秒〜１分間エ
ツチングしたところ、ガラス基板の表面に直径３００〜
７００人の微細な凹みを多数形成することができた。こ
のように、ＣＦ、を混入した酸素ガスを用いた場合には
、１分以内の処理時間で且つ１に一以下の放電電圧、即
ち短時間及び低電圧の処理にてガラス基板表面を微細に
粗面化できることが判った。
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、磁性
媒体の厚みを均等に保ったまま、磁性媒体の表面に多数
の微細な凹みを一様に形成することができるので、記録
再生エラーやヘッドクラッシュが起こりにくく、高記録
密度化に適合し得る磁気記録媒体を提供できることとな
る。
媒体の厚みを均等に保ったまま、磁性媒体の表面に多数
の微細な凹みを一様に形成することができるので、記録
再生エラーやヘッドクラッシュが起こりにくく、高記録
密度化に適合し得る磁気記録媒体を提供できることとな
る。
また、本発明方法によれば、同時に多数の基板表面の粗
面化処理を行うことができるので、高記録密度化に適合
し得る高品質の磁気記録媒体を量産できることとなる。
面化処理を行うことができるので、高記録密度化に適合
し得る高品質の磁気記録媒体を量産できることとなる。
第１図は本発明方法の一実施例を示す化学強化ガラス基
板のプラズマエツチング処理装置の概略断面図、 第２図（ａ）〜（Ｃ）は本発明に係る磁気記録媒体の製
造過程における模式的断面図、 第３図はプラズマエツチング処理前の化学強化ガラス基
板の表面のレプリカ法による３０，０００倍の走査型電
子顕微鏡写真の複写図、 第４図は酸素ガスを用いたプラズマエツチング処理を１
０分間行なったときの化学強化ガラス基板の表面のレプ
リカ法による３０，０００倍の走査型電子顕微鏡写真の
複写図、 第５図は酸素ガスを用いたプラズマエツチング処理を３
０分間行なったときの化学強化ガラス基板の表面のレプ
リカ法による３０，０００倍の走査型電子ｗ４微鏡写真
の複写図、 第６図は酸素ガスを用いたプラズマエツチング処理を６
０分間行なったときの化学強化ガラス基板の表面のレプ
リカ法による３０，０００倍の走査型電子顕微鏡写真の
複写図、 第７図は酸素ガスを用いたプラズマエツチング処理時間
と化学強化ガラス基板の表面に形成される凹みの個数と
の関係を示すグラフである。 図において、１２はガラス基板、１２ａは化学強化層、
１３は化学強化層の表面に形成された凹み、１４は磁性
媒体、１５は磁性媒体の表面に形成された凹みを、それ
ぞれ示す。
板のプラズマエツチング処理装置の概略断面図、 第２図（ａ）〜（Ｃ）は本発明に係る磁気記録媒体の製
造過程における模式的断面図、 第３図はプラズマエツチング処理前の化学強化ガラス基
板の表面のレプリカ法による３０，０００倍の走査型電
子顕微鏡写真の複写図、 第４図は酸素ガスを用いたプラズマエツチング処理を１
０分間行なったときの化学強化ガラス基板の表面のレプ
リカ法による３０，０００倍の走査型電子顕微鏡写真の
複写図、 第５図は酸素ガスを用いたプラズマエツチング処理を３
０分間行なったときの化学強化ガラス基板の表面のレプ
リカ法による３０，０００倍の走査型電子ｗ４微鏡写真
の複写図、 第６図は酸素ガスを用いたプラズマエツチング処理を６
０分間行なったときの化学強化ガラス基板の表面のレプ
リカ法による３０，０００倍の走査型電子顕微鏡写真の
複写図、 第７図は酸素ガスを用いたプラズマエツチング処理時間
と化学強化ガラス基板の表面に形成される凹みの個数と
の関係を示すグラフである。 図において、１２はガラス基板、１２ａは化学強化層、
１３は化学強化層の表面に形成された凹み、１４は磁性
媒体、１５は磁性媒体の表面に形成された凹みを、それ
ぞれ示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、表面に化学強化層（１２ａ）を有するガラス基板（
１２）と該ガラス基板（１２）の化学強化層（１２ａ）
の表面に形成された磁性媒体（１４）とを備え、前記ガ
ラス基板（１２）の化学強化層（１２ａ）の表面に酸素
ガス又はフロロカーボン系のガスを含む酸素ガスを用い
たプラズマエッチング処理による微細な凹み（１３）が
一様に形成されており、前記磁性媒体（１４）が前記ガ
ラス基板（１２）の化学強化層（１２ａ）の表面に均一
厚さに形成されていることを特徴とする磁気記録媒体。 ２、表面に化学強化層（１２ａ）を有するガラス基板（
１２）の該化学強化層（１２ａ）の表面に、酸素ガス中
又はフロロカーボン系のガスを含む酸素ガス中でプラズ
マエッチング処理を行なうことにより、該ガラス基板（
１２）の化学強化層（１２ａ）の表面に微細な凹み（１
３）を一様に形成し、 その後、ガラス基板（１２）の化学強化層（１２ａ）の
表面に磁性媒体（１４）を均一厚さに形成することを特
徴とする磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5948686A JPS62219224A (ja) | 1986-03-19 | 1986-03-19 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5948686A JPS62219224A (ja) | 1986-03-19 | 1986-03-19 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62219224A true JPS62219224A (ja) | 1987-09-26 |
Family
ID=13114677
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5948686A Pending JPS62219224A (ja) | 1986-03-19 | 1986-03-19 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62219224A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0461625A (ja) * | 1990-06-27 | 1992-02-27 | Victor Co Of Japan Ltd | ガラス磁気ディスク |
| JPH04192117A (ja) * | 1990-11-26 | 1992-07-10 | Kobe Steel Ltd | 磁気ディスク用アモルファスカーボン基板 |
| WO1999045537A1 (fr) * | 1998-03-04 | 1999-09-10 | Hitachi, Ltd. | Support d'enregistrement magnetique, son procede de fabrication et appareil de memorisation magnetique fabrique par utilisation de ce support d'enregistrement magnetique |
-
1986
- 1986-03-19 JP JP5948686A patent/JPS62219224A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0461625A (ja) * | 1990-06-27 | 1992-02-27 | Victor Co Of Japan Ltd | ガラス磁気ディスク |
| JPH04192117A (ja) * | 1990-11-26 | 1992-07-10 | Kobe Steel Ltd | 磁気ディスク用アモルファスカーボン基板 |
| WO1999045537A1 (fr) * | 1998-03-04 | 1999-09-10 | Hitachi, Ltd. | Support d'enregistrement magnetique, son procede de fabrication et appareil de memorisation magnetique fabrique par utilisation de ce support d'enregistrement magnetique |
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