JPH0875369A - 真空溶解炉及びその操作方法 - Google Patents

真空溶解炉及びその操作方法

Info

Publication number
JPH0875369A
JPH0875369A JP24083994A JP24083994A JPH0875369A JP H0875369 A JPH0875369 A JP H0875369A JP 24083994 A JP24083994 A JP 24083994A JP 24083994 A JP24083994 A JP 24083994A JP H0875369 A JPH0875369 A JP H0875369A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
raw material
valve
melting furnace
gate valve
charging device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP24083994A
Other languages
English (en)
Inventor
Takashi Shimada
隆司 島田
Michio Kawasaki
道夫 川崎
Akio Kaneshiro
秋夫 金城
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fuji Electric Co Ltd
Nikko Kinzoku KK
Original Assignee
Fuji Electric Co Ltd
Nikko Kinzoku KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Electric Co Ltd, Nikko Kinzoku KK filed Critical Fuji Electric Co Ltd
Priority to JP24083994A priority Critical patent/JPH0875369A/ja
Publication of JPH0875369A publication Critical patent/JPH0875369A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Crucibles And Fluidized-Bed Furnaces (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 原料投入装置のゲート弁を密閉状に支持する
支持部材のパッキングの焼損を防止する。 【構成】 誘導溶解炉10の気密容器13を密閉する炉
蓋14と、原料投入装置16の気密函体16aとを仕切
るゲート弁21、及びゲート弁21の真下に断熱効果を
備えた遮熱弁30を配設し、開弁する際には先ずゲート
弁21を開いた後に遮熱弁30を開き、また閉弁する際
には先ず遮熱弁30を閉じた後にゲート弁21を閉じる
ように連動制御させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、活性な金属を含む合金
を溶解するのに使用される真空溶解炉およびその操作方
法に関し、特に真空溶解炉の炉蓋に設けられた原料投入
装置及びその操作方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】活性な金属(以下、活性金属という)を
含む合金の溶解に当たっては、活性金属の歩留り、及び
インゴット品質を向上させる上で合金中の活性金属の酸
化を防止することは不可欠である。従って、真空排気し
た気密容器内の誘導溶解炉(以下、単に溶解炉という)
で合金を溶解する、いわゆる真空溶解法は、合金の酸化
防止にとって有効な方法であり、従来から知られた方法
であり、よく利用されている。
【0003】例えば、図2に示す従来の溶解炉は概略次
のように構成されている。即ち、溶解炉10は、耐火材
からなるルツボ11、その外周に配置された誘導加熱コ
イル12、及び両者を収納する気密容器13から概略構
成され、気密容器13の上部は真空溶解用炉蓋14によ
り密閉される。
【0004】真空溶解用炉蓋14には真空排気管15が
接続され、気密容器13内は図に示さない真空ポンプな
どの真空発生装置により真空排気される。
【0005】また、真空溶解用炉蓋14には原料投入装
置16が設けられており、原料投入装置16は、投入口
18、及び装置内部に設けられたバケット装置19を有
し、シリンダ20によって開閉されるゲート弁21によ
り真空溶解用炉蓋14と仕切られている。原料投入装置
16は、ゲート弁21を閉鎖した状態で真空排気管22
を介して図に示さない真空発生装置により内部を真空状
態とすることができる。
【0006】原料投入装置16により溶解すべき金属原
料を溶解炉10に追加投入する際には、ゲート弁21を
閉じた状態で、投入口18を開放してバケット装置19
に原料を移入し、投入口18を閉じた後、真空排気管2
2より真空排気して原料投入装置16内部を真空状態と
する。その後、ゲート弁21を開き、バケット装置19
により原料を真空状態にあるルツボ11内に投入する。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ように構成された溶解炉10においては、原料投入装置
16のゲート弁21を密閉状に支持する支持部材26の
パッキング28が、溶湯の輻射熱により焼損するという
問題があった。このパッキング28の焼損が生じた場合
には原料投入装置16内部を所定の真空度まで真空排気
することが困難となり、溶解中の合金に含まれる活性金
属が著しく酸化する。また、このパッキング28を交換
する際には、ゲート弁21を開閉するシリンダ20を取
外さなければならず、交換作業が大がかりになる上、再
度シリンダ20を取付けた後に厳密な気密状態のチェッ
クが必要となるため、パッキング28の交換頻度は低い
ことが望ましい。
【0008】従って、本発明の目的は、原料投入装置の
ゲート弁を密閉状に支持する支持部材のパッキングの焼
損を防止できる真空溶解炉及びその操作方法を提供する
ことである。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記目的は本発明に係る
真空溶解炉にて達成される。要約すれば、本発明は、誘
導溶解炉を収納した真空排気可能な気密容器と、該気密
容器を密閉する炉蓋と、該炉蓋上に設けられ、真空排気
可能な気密函体を備えた溶解すべき金属原料を投入する
ための原料投入装置とを有する真空溶解炉において、前
記原料投入装置が、前記炉蓋と前記気密函体とを仕切る
ゲート弁と、該ゲート弁の真下に設けられた断熱効果を
備えた遮熱弁とを有することを特徴とする真空溶解炉で
ある。
【0010】また本発明による他の態様によれば、前記
原料投入装置により前記真空溶解炉内へ金属原料を投入
する際に、前記原料投入装置が大気開放状態で金属原料
を移入した前記気密函体を真空排気して前記気密容器と
同圧にし、次に前記炉蓋と前記気密函体とを仕切るゲー
ト弁を開き、続けて前記ゲート弁の真下に設けられた断
熱効果を備えた遮熱弁を開いて前記原料投入装置に移入
された金属原料を前記誘導溶解炉内へ投入することを特
徴とする操作方法が提供される。
【0011】前記原料投入装置で前記真空溶解炉への金
属原料投入を終了した際には、まず前記遮熱弁を閉じ、
続けて前記ゲート弁を閉じて前記炉蓋と前記気密函体と
を仕切り、再度前記原料投入装置に金属原料を移入する
ため前記気密函体を開放することが好ましい。
【0012】前記ゲート弁と前記遮熱弁の開閉において
は、開弁の際には先ず前記ゲート弁を開いた後に前記遮
熱弁が開き、また閉弁の際には先ず前記遮熱弁が閉じた
後に前記ゲート弁が閉じるように、前記ゲート弁と前記
遮熱弁の開閉を連動させて制御することが好ましい。
【0013】
【実施例】以下、本発明に係る真空溶解炉及びその操作
方法を図面に則して更に詳しく説明する。尚、前出の部
材と同一部材については同一符号を付すものとする。
【0014】先ず、本発明が実施される真空溶解炉の一
例について、図1を参照して説明する。尚、本実施例に
おける溶解炉は無鉄心ルツボ型誘導炉として説明する
が、これは本発明の一実施例にすぎず、本発明を限定す
るものではない。
【0015】図1において、溶解炉10は、耐火材から
なるルツボ11、その外周に配置された誘導加熱コイル
12、及び両者を収納する気密容器13から概略構成さ
れ、気密容器13の上部は真空溶解用炉蓋14により密
閉される。
【0016】真空溶解用炉蓋14には真空排気管15、
原料投入装置16、及び溶湯測温装置17が取付けられ
ている。気密容器13内は、真空排気管15を介して図
に示さない真空ポンプなどの真空発生装置により真空排
気される。
【0017】溶湯測温装置17は、真空排気管24を有
し、溶湯測温時にはゲート弁23を閉じた後真空排気管
24を介して溶湯測温装置17内を真空排気し、ゲート
弁23を開けて、熱電対25をルツボ11内に挿入し溶
湯温度を測定する。
【0018】原料投入装置16は、開閉自在の投入口1
8が設けられた気密函体16a、気密函体16a内部に
設けられ、金属原料を溶解炉10のルツボ11内に投入
するバケット装置19、エアシリンダ20によって開閉
されるゲート弁21、及びゲート弁21の真下に設けら
れ、エアシリンダ32により開閉される遮熱弁30によ
り概略構成されている。
【0019】原料投入装置16は、ゲート弁21を閉じ
た状態で、真空排気管22を介して図に示さない真空発
生装置により内部を真空状態とすることができる。
【0020】遮熱弁30は、溶湯からのゲート弁21へ
の輻射熱を遮断する断熱効果を有し、ゲート弁21及び
遮熱弁30を後述するように制御することにより、ゲー
ト弁21を支持する支持部材26に配設されたパッキン
グ28の焼損を防止することができる。
【0021】次に、上記のように構成された誘導炉の操
作方法について、原料投入装置の操作方法を中心に説明
する。
【0022】溶解炉10の開放状態にて溶解すべき金属
原料をルツボ11に投入後、待機位置にあった真空溶解
用炉蓋14を適宜手段により移動し、気密容器13を密
閉する。次に、ゲート弁21及び遮熱弁30を閉じた状
態で、真空排気管15を介して気密容器13内を真空排
気し、投入した金属原料を誘導加熱によって溶解する。
【0023】この誘導加熱によって金属原料は放熱し、
さらには溶湯となって強烈な輻射熱を発生する。真空溶
解用炉蓋14は溶解炉10を収納した気密容器13を密
閉すべく溶解炉10の真上に位置するため、溶湯からの
輻射熱に曝され、真空溶解用炉蓋の上部に備えた原料投
入装置16の遮熱弁30も輻射熱に曝される。
【0024】この際、遮熱弁30は断熱効果を備えてい
るから溶湯からの輻射熱は遮熱弁30によって遮られ、
遮熱弁30の真上にあるゲート弁21と、ゲート弁21
を密閉状に支持する支持部材26のパッキング28は直
接輻射熱に曝されることなく保護され、温度上昇による
パッキングの焼損は防止される。
【0025】金属原料を追加投入する際には、ゲート弁
21及び遮熱弁30を閉じた状態で、原料投入装置16
の投入口18を開放し、バケット装置19に金属原料を
移入する。次に投入口18を閉鎖し、原料投入装置16
の気密函体16aをまず真空排気し、溶解炉10の気密
容器13と同圧とする。次いで、ゲート弁21を開き、
続いて遮熱弁30を開いて、原料投入装置の気密函体1
6aと溶解炉10の気密容器13を連通させ、バケット
装置19の金属原料を真空状態のルツボ11内へ投入す
る。このように、先ずゲート弁21を開き、その後に遮
熱弁30を開くことにより、ゲート弁21は輻射熱に曝
されることなく保護される。
【0026】原料投入装置16による溶解炉10への金
属原料の投入が終了した際には、まず遮熱弁30を閉鎖
し、続いてゲート弁21を閉鎖して原料投入装置16と
溶解炉10の気密容器13を仕切り、溶解炉10では引
き続き真空状態で金属原料の溶解を続けると共に、再度
バケット装置19に金属原料を移入するため、原料投入
装置16の投入口18を開放する。上記のように、先ず
遮熱弁30を閉じ、続いてゲート弁21を閉じることに
より、ゲート弁21は輻射熱に曝されることなく保護さ
れ、ゲート弁21の温度上昇によるゲート弁21と直接
密着するパッキングの焼き付きが防止される。
【0027】尚、以上のように、ゲート弁21及び遮熱
弁30の開閉については、開弁の際には先ずゲート弁が
開いた後に遮熱弁が開き、閉弁の際には先ず遮熱弁が閉
じた後にゲート弁が閉じるように連動されて制御してい
る。このように連動制御することにより、各々単独操作
で開閉を行なった場合、誤操作によりゲート弁より先に
遮熱弁を開き、あるいはゲート弁を先に閉じることによ
りゲート弁を直接輻射熱に曝すことを防止でき、従っ
て、ゲート弁21と直接密着するパッキングの焼損を防
止できる。
【0028】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
による真空溶解炉は、原料投入装置が、気密容器を密閉
する炉蓋と気密函体とを仕切るゲート弁と、該ゲート弁
の真下に設けられた断熱効果を備えた遮熱弁とを有する
ことにより、原料投入装置のゲート弁を密閉状に支持す
る支持部材のパッキングの焼損を防止できる。従って、
真空溶解炉の操業効率の改善及び長寿命化を達成するこ
とができ、さらに設備の保全作業を軽減することができ
る。
【0029】又、本発明による真空溶解炉の操作方法に
おいても、原料投入装置により前記真空溶解炉内へ金属
原料を投入する際に、前記原料投入装置が大気開放状態
で金属原料を移入した気密函体を真空排気して誘導溶解
炉の気密容器と同圧にし、次に前記炉蓋と前記気密函体
とを仕切るゲート弁を開き、続けて前記ゲート弁の真下
に設けられた断熱効果を備えた遮熱弁を開いて前記原料
投入装置に移入された金属原料を前記誘導溶解炉内へ投
入し、更に前記ゲート弁を閉じて前記気密容器と前記気
密函体を仕切ることにより、上記と同様の効果を得るこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による真空溶解炉の一実施例を示す概略
断面図である。
【図2】従来の真空溶解炉の一例を示す概略断面図であ
る。
【符号の説明】
10 溶解炉 13 気密容器 14 真空溶解用炉蓋 15 真空排気配管 16 原料投入装置 16a 気密函体 18 投入口 19 バケット装置 21 ゲート弁 30 遮熱弁
フロントページの続き (72)発明者 金城 秋夫 神奈川県川崎市川崎区田辺新田1番1号 富士電機株式会社内

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 誘導溶解炉を収納した真空排気可能な気
    密容器と、該気密容器を密閉する炉蓋と、該炉蓋上に設
    けられ、真空排気可能な気密函体を備えた溶解すべき金
    属原料を投入するための原料投入装置とを有する真空溶
    解炉において、 前記原料投入装置が、前記炉蓋と前記気密函体とを仕切
    るゲート弁と、該ゲート弁の真下に設けられた断熱効果
    を備えた遮熱弁とを有することを特徴とする真空溶解
    炉。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の真空溶解炉の操作方法
    において、 前記原料投入装置により前記真空溶解炉内へ金属原料を
    投入する際に、前記原料投入装置が大気開放状態で金属
    原料を移入した前記気密函体を真空排気して前記気密容
    器と同圧にし、次に前記炉蓋と前記気密函体とを仕切る
    ゲート弁を開き、続けて前記ゲート弁の真下に設けられ
    た断熱効果を備えた遮熱弁を開いて前記原料投入装置に
    移入された金属原料を前記誘導溶解炉内へ投入すること
    を特徴とする操作方法。
  3. 【請求項3】 前記原料投入装置で前記真空溶解炉への
    金属原料投入を終了した際に、まず前記遮熱弁を閉じ、
    続けて前記ゲート弁を閉じて前記炉蓋と前記気密函体と
    を仕切り、再度前記原料投入装置に金属原料を移入する
    ため前記気密函体を開放することを特徴とする請求項2
    の操作方法。
  4. 【請求項4】 前記ゲート弁と前記遮熱弁の開閉におい
    て、開弁の際には先ず前記ゲート弁を開いた後に前記遮
    熱弁が開き、また閉弁の際には先ず前記遮熱弁が閉じた
    後に前記ゲート弁が閉じるように、前記ゲート弁と前記
    遮熱弁の開閉を連動させて制御することを特徴とする請
    求項2又は3の操作方法。
JP24083994A 1994-09-09 1994-09-09 真空溶解炉及びその操作方法 Pending JPH0875369A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP24083994A JPH0875369A (ja) 1994-09-09 1994-09-09 真空溶解炉及びその操作方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP24083994A JPH0875369A (ja) 1994-09-09 1994-09-09 真空溶解炉及びその操作方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0875369A true JPH0875369A (ja) 1996-03-19

Family

ID=17065475

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP24083994A Pending JPH0875369A (ja) 1994-09-09 1994-09-09 真空溶解炉及びその操作方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0875369A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103014244A (zh) * 2012-12-28 2013-04-03 无锡应达工业有限公司 一种感应熔炼真空脱气设备
CN103175711A (zh) * 2013-03-21 2013-06-26 中国航空工业集团公司北京航空材料研究院 一种高温合金粉末的取粉装置和取粉方法
CN107414043A (zh) * 2017-08-04 2017-12-01 芜湖君华材料有限公司 一种便于大小料分步投料的合金制带系统
KR20200008221A (ko) * 2018-07-16 2020-01-28 엔티씨 주식회사 연속식 진공 용해로

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103014244A (zh) * 2012-12-28 2013-04-03 无锡应达工业有限公司 一种感应熔炼真空脱气设备
CN103014244B (zh) * 2012-12-28 2014-11-19 无锡应达工业有限公司 一种感应熔炼真空脱气设备
CN103175711A (zh) * 2013-03-21 2013-06-26 中国航空工业集团公司北京航空材料研究院 一种高温合金粉末的取粉装置和取粉方法
CN107414043A (zh) * 2017-08-04 2017-12-01 芜湖君华材料有限公司 一种便于大小料分步投料的合金制带系统
CN107414043B (zh) * 2017-08-04 2018-11-16 芜湖君华材料有限公司 一种便于大小料分步投料的合金制带系统
KR20200008221A (ko) * 2018-07-16 2020-01-28 엔티씨 주식회사 연속식 진공 용해로

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5314846A (en) Method for processing a semiconductor wafer
CA2028655C (en) Apparatus and process for countergravity casting of metal with air exclusion
JPS6161899B2 (ja)
JPS6224238Y2 (ja)
JPH0875369A (ja) 真空溶解炉及びその操作方法
JPS62134143A (ja) 真空誘導炉
JP3423364B2 (ja) 大気に対して閉鎖された誘導溶融装置
JPH0225701B2 (ja)
CN110528087A (zh) 难熔氧化物单晶的制备设备
KR910003345A (ko) 엘렉트로슬랙 재용융작업(electroslag remelting operation)에서의 반응요소의 산화를 감소시키기 위한 방법과 수단
CN115839619A (zh) 一种真空底吹感应电炉
CA1218523A (en) Apparatus for preparing high melting point high toughness metals
JPH0490494A (ja) 低融点金属対策を施したるつぼ形誘導炉
DE3660439D1 (en) Vacuum induction furnace
JPS609574A (ja) 鋳込み装置
JPS634957Y2 (ja)
JPH0648315Y2 (ja) 真空熱処理炉
KR200219829Y1 (ko) 용융로 배기시스템
JPH0510235Y2 (ja)
JPH07180968A (ja) 真空誘導溶解炉
JPS6328188Y2 (ja)
JPH029359Y2 (ja)
JPH029358Y2 (ja)
JPS6240558Y2 (ja)
JP2508687Y2 (ja) 熱処理炉