JPH0868906A - 誘電体多層膜反射鏡製造方法 - Google Patents
誘電体多層膜反射鏡製造方法Info
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- JPH0868906A JPH0868906A JP6203882A JP20388294A JPH0868906A JP H0868906 A JPH0868906 A JP H0868906A JP 6203882 A JP6203882 A JP 6203882A JP 20388294 A JP20388294 A JP 20388294A JP H0868906 A JPH0868906 A JP H0868906A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 誘電体材質に制約されることなく、そして膜
面粗さを粗くすることなしに長波長用の誘電体多層膜反
射鏡を製造する誘電体多層膜反射鏡の製造方法を提供す
る。 【構成】 高屈折率誘電体膜２と低屈折率誘電体膜３と
を交互に積層することにより形成される誘電体多層膜反
射鏡製造方法において、一方の誘電体膜である高屈折率
誘電体膜２或は低屈折率誘電体膜３の膜厚を膜面粗さが
粗れる膜厚より薄く形成し、他方の誘電体膜である低屈
折率誘電体膜３或は高屈折率誘電体膜２の膜厚を一方の
誘電体膜の膜厚を薄くした分だけ厚く形成することを特
徴とする誘電体多層膜反射鏡製造方法。
面粗さを粗くすることなしに長波長用の誘電体多層膜反
射鏡を製造する誘電体多層膜反射鏡の製造方法を提供す
る。 【構成】 高屈折率誘電体膜２と低屈折率誘電体膜３と
を交互に積層することにより形成される誘電体多層膜反
射鏡製造方法において、一方の誘電体膜である高屈折率
誘電体膜２或は低屈折率誘電体膜３の膜厚を膜面粗さが
粗れる膜厚より薄く形成し、他方の誘電体膜である低屈
折率誘電体膜３或は高屈折率誘電体膜２の膜厚を一方の
誘電体膜の膜厚を薄くした分だけ厚く形成することを特
徴とする誘電体多層膜反射鏡製造方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、誘電体多層膜反射鏡
製造方法に関し、特に、リングレーザ用反射鏡、ジャイ
ロ用反射鏡或は重力波用反射鏡の如き極低散乱の誘電体
多層膜反射鏡に関する。
製造方法に関し、特に、リングレーザ用反射鏡、ジャイ
ロ用反射鏡或は重力波用反射鏡の如き極低散乱の誘電体
多層膜反射鏡に関する。
【０００２】
【従来の技術】上述の如き用途に供される誘電体多層膜
反射鏡製造方法の従来例を図２および図３を参照して説
明する。図２は従来の製造方法により製造された誘電体
多層膜反射鏡の断面を説明する図である。１はガラス基
板、２は高屈折率誘電体膜、４は低屈折率誘電体膜を示
す。この種の誘電体多層膜反射鏡は、一般に、高屈折率
誘電体膜２および低屈折率誘電体膜４を交互に積層して
構成するが、これらの膜の層厚は、高屈折率誘電体膜２
の光学膜厚、即ち誘電体の屈折率と膜厚の積、と低屈折
率誘電体膜４の光学膜厚の和を、取り扱う波長の１／２
波長となる様に設計する。そして、この積層を実施する
に際しては、一般に、高屈折率誘電体膜２および低屈折
率誘電体膜４の双方の光学膜厚を取り扱う波長のほぼ１
／４波長になる様に制御しながら両者を交互に多層積層
する。
反射鏡製造方法の従来例を図２および図３を参照して説
明する。図２は従来の製造方法により製造された誘電体
多層膜反射鏡の断面を説明する図である。１はガラス基
板、２は高屈折率誘電体膜、４は低屈折率誘電体膜を示
す。この種の誘電体多層膜反射鏡は、一般に、高屈折率
誘電体膜２および低屈折率誘電体膜４を交互に積層して
構成するが、これらの膜の層厚は、高屈折率誘電体膜２
の光学膜厚、即ち誘電体の屈折率と膜厚の積、と低屈折
率誘電体膜４の光学膜厚の和を、取り扱う波長の１／２
波長となる様に設計する。そして、この積層を実施する
に際しては、一般に、高屈折率誘電体膜２および低屈折
率誘電体膜４の双方の光学膜厚を取り扱う波長のほぼ１
／４波長になる様に制御しながら両者を交互に多層積層
する。
【０００３】ところで、誘電体膜はその膜厚が或る値を
超えると、その点を境として急激に膜面粗さが増大する
特性を示す。これを図４を参照して説明するに、図４は
横軸を誘電体の膜厚とし、縦軸を膜面粗さとして両者の
関係を示す図である。材質Ａ（酸化チタン：ＴiＯ2）に
ついてみると、その膜厚ｄAを境として材質Ａの膜面粗
さは急激に粗れが増大する。材質Ｂ（５酸化タンタル：
Ｔａ2Ｏ5）についてみると、その膜面粗れは膜厚ｄBを
境として急激に増大することが示されている。なお、材
質Ｃ（酸化珪素：ＳiＯ2）については、図４の横軸の範
囲内においては格別の膜面粗れは生じない。
超えると、その点を境として急激に膜面粗さが増大する
特性を示す。これを図４を参照して説明するに、図４は
横軸を誘電体の膜厚とし、縦軸を膜面粗さとして両者の
関係を示す図である。材質Ａ（酸化チタン：ＴiＯ2）に
ついてみると、その膜厚ｄAを境として材質Ａの膜面粗
さは急激に粗れが増大する。材質Ｂ（５酸化タンタル：
Ｔａ2Ｏ5）についてみると、その膜面粗れは膜厚ｄBを
境として急激に増大することが示されている。なお、材
質Ｃ（酸化珪素：ＳiＯ2）については、図４の横軸の範
囲内においては格別の膜面粗れは生じない。
【０００４】ここで、誘電体多層膜反射鏡を製造するに
際して、高屈折率誘電体膜２の材質として図４に示され
る材質Ａを使用し、低屈折率誘電体膜４の材質として材
質Ｃを使用する例について検討する。誘電体の屈折率と
膜厚の積である光学膜厚は下記の通りである。 λ1／４＝ｎH・ｄH1 ＆ λ1／４＝ｎL・ｄL2 但し、 λ：取り扱う波長 ｎH：高屈折率誘電体膜の屈折率 ｎL：低屈折率誘電体膜の屈折率 ｄH1：高屈折率誘電体膜の膜厚 ｄL2：低屈折率誘電体膜の膜厚 材質Ａより成る高屈折率誘電体膜２の膜厚ｄH1が材質Ａ
の膜面粗さが粗れ始める膜厚ｄAより薄いｄH1＜ｄAであ
る間は、高屈折率誘電体膜２の膜面は平滑であって何等
の問題も生じない。この状態は図２に示される通りであ
る。
際して、高屈折率誘電体膜２の材質として図４に示され
る材質Ａを使用し、低屈折率誘電体膜４の材質として材
質Ｃを使用する例について検討する。誘電体の屈折率と
膜厚の積である光学膜厚は下記の通りである。 λ1／４＝ｎH・ｄH1 ＆ λ1／４＝ｎL・ｄL2 但し、 λ：取り扱う波長 ｎH：高屈折率誘電体膜の屈折率 ｎL：低屈折率誘電体膜の屈折率 ｄH1：高屈折率誘電体膜の膜厚 ｄL2：低屈折率誘電体膜の膜厚 材質Ａより成る高屈折率誘電体膜２の膜厚ｄH1が材質Ａ
の膜面粗さが粗れ始める膜厚ｄAより薄いｄH1＜ｄAであ
る間は、高屈折率誘電体膜２の膜面は平滑であって何等
の問題も生じない。この状態は図２に示される通りであ
る。
【０００５】ところが、取り扱う波長がλ1より長いλ2
である誘電体多層膜反射鏡の場合、光学膜厚は下記の通
りである。 λ2／４＝ｎH・ｄH2 ＆ λ2／４＝ｎL・ｄL3 ｄH2＞ｄA 光学膜厚の式においては、取り扱う波長λが長くなって
左辺λ2／４が大きくなれば、高屈折率誘電体膜の屈折
率ｎHは一定であるところから、波長λ2の増大に比例さ
せてｄH2を大きくする必要があり、取り扱う波長λ2に
依ってはｄH2＞ｄAとなるに到る。即ち、材質Ａより成
る高屈折率誘電体膜２の膜厚ｄH2は材質Ａの膜面粗さの
急激に増大し始める膜厚ｄAを超え、膜面が粗れるに到
る。この状態は図３に示される通りである。図３は従来
の製造方法により製造された長波長用の誘電体多層膜反
射鏡の断面を説明する図である。図３において、５は高
屈折率誘電体膜であり、屈折率をｎH 、膜厚をｄH2とす
るものである。ここで、膜厚ｄH2は図２の場合の膜厚ｄ
H1より大きい。６は低屈折率誘電体膜であり、屈折率を
ｎL 、膜厚をｄL3とするものである。ここで、膜厚ｄL3
は図２の場合の膜厚ｄH2より大きい。
である誘電体多層膜反射鏡の場合、光学膜厚は下記の通
りである。 λ2／４＝ｎH・ｄH2 ＆ λ2／４＝ｎL・ｄL3 ｄH2＞ｄA 光学膜厚の式においては、取り扱う波長λが長くなって
左辺λ2／４が大きくなれば、高屈折率誘電体膜の屈折
率ｎHは一定であるところから、波長λ2の増大に比例さ
せてｄH2を大きくする必要があり、取り扱う波長λ2に
依ってはｄH2＞ｄAとなるに到る。即ち、材質Ａより成
る高屈折率誘電体膜２の膜厚ｄH2は材質Ａの膜面粗さの
急激に増大し始める膜厚ｄAを超え、膜面が粗れるに到
る。この状態は図３に示される通りである。図３は従来
の製造方法により製造された長波長用の誘電体多層膜反
射鏡の断面を説明する図である。図３において、５は高
屈折率誘電体膜であり、屈折率をｎH 、膜厚をｄH2とす
るものである。ここで、膜厚ｄH2は図２の場合の膜厚ｄ
H1より大きい。６は低屈折率誘電体膜であり、屈折率を
ｎL 、膜厚をｄL3とするものである。ここで、膜厚ｄL3
は図２の場合の膜厚ｄH2より大きい。
【０００６】低屈折率誘電体膜４を形成する材質として
材質Ｃの代わりに材質Ｂ（５酸化タンタル：Ｔａ2Ｏ5）
を使用することもできるが、この様に材質を変更するこ
とに伴って屈折率、光吸収係数その他のパラメータも当
然に変化し、これに起因して種々の設計製造上および使
用上の制約を蒙ることとなる。
材質Ｃの代わりに材質Ｂ（５酸化タンタル：Ｔａ2Ｏ5）
を使用することもできるが、この様に材質を変更するこ
とに伴って屈折率、光吸収係数その他のパラメータも当
然に変化し、これに起因して種々の設計製造上および使
用上の制約を蒙ることとなる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上述した通り、誘電体
成膜材質には、これを或る固有の膜厚以上の膜厚に成膜
すると膜面が粗れるものがある。従って、長波長用の誘
電体多層膜反射鏡を製造する場合、従来の誘電体多層膜
反射鏡の構造を採用すると、取り扱う波長に比例して誘
電体膜の膜厚が厚くなり、膜面の粗れた誘電体多層膜反
射鏡が構成される場合が生ずる。誘電体多層膜反射鏡の
膜面の粗さは反射鏡の光散乱に密接に関連し、膜面が粗
い場合、反射鏡の光散乱は大きくなる。
成膜材質には、これを或る固有の膜厚以上の膜厚に成膜
すると膜面が粗れるものがある。従って、長波長用の誘
電体多層膜反射鏡を製造する場合、従来の誘電体多層膜
反射鏡の構造を採用すると、取り扱う波長に比例して誘
電体膜の膜厚が厚くなり、膜面の粗れた誘電体多層膜反
射鏡が構成される場合が生ずる。誘電体多層膜反射鏡の
膜面の粗さは反射鏡の光散乱に密接に関連し、膜面が粗
い場合、反射鏡の光散乱は大きくなる。
【０００８】上述した通りの誘電体多層膜反射鏡の製造
方法には、長波長用の誘電体多層膜反射鏡を製造する場
合、光散乱の大きい反射鏡が製造される欠点がある。こ
の発明は、誘電体材質に制約されることなく、そして膜
面粗さを粗くすることなしに長波長用の誘電体多層膜反
射鏡を製造する誘電体多層膜反射鏡の製造方法を提供す
るものである。
方法には、長波長用の誘電体多層膜反射鏡を製造する場
合、光散乱の大きい反射鏡が製造される欠点がある。こ
の発明は、誘電体材質に制約されることなく、そして膜
面粗さを粗くすることなしに長波長用の誘電体多層膜反
射鏡を製造する誘電体多層膜反射鏡の製造方法を提供す
るものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】高屈折率誘電体膜２と低
屈折率誘電体膜３とを交互に積層することにより形成さ
れる誘電体多層膜反射鏡製造方法において、一方の誘電
体膜である高屈折率誘電体膜２或は低屈折率誘電体膜３
の膜厚を膜面粗さが粗れる膜厚より薄く形成し、他方の
誘電体膜である低屈折率誘電体膜３或は高屈折率誘電体
膜２の膜厚を一方の誘電体膜の膜厚を薄くした分だけ厚
く形成する誘電体多層膜反射鏡製造方法を構成した。
屈折率誘電体膜３とを交互に積層することにより形成さ
れる誘電体多層膜反射鏡製造方法において、一方の誘電
体膜である高屈折率誘電体膜２或は低屈折率誘電体膜３
の膜厚を膜面粗さが粗れる膜厚より薄く形成し、他方の
誘電体膜である低屈折率誘電体膜３或は高屈折率誘電体
膜２の膜厚を一方の誘電体膜の膜厚を薄くした分だけ厚
く形成する誘電体多層膜反射鏡製造方法を構成した。
【００１０】そして、上述の誘電体多層膜反射鏡製造方
法において、高屈折率誘電体膜２を酸化チタンにより形
成し、低屈折率誘電体膜３を酸化珪素により形成する誘
電体多層膜反射鏡製造方法を構成した。
法において、高屈折率誘電体膜２を酸化チタンにより形
成し、低屈折率誘電体膜３を酸化珪素により形成する誘
電体多層膜反射鏡製造方法を構成した。
【００１１】
【実施例】この発明の実施例を図１を参照して説明す
る。図１は、この発明の誘電体多層膜反射鏡製造方法に
より製造された誘電体多層膜反射鏡の断面を示す図であ
る。図１において、１は誘電体多層膜反射鏡のガラス基
板である。２は材質Ａを使用して形成される高屈折率誘
電体膜であり、屈折率をｎH 、膜厚をｄH1とするもので
ある。３は材質Ｃを使用して形成される低屈折率誘電体
膜であり、屈折率をｎL 、膜厚をｄL1とするものであ
る。ｄAは材質Ａの膜面粗さがここを境として急激に粗
くなる膜厚である。
る。図１は、この発明の誘電体多層膜反射鏡製造方法に
より製造された誘電体多層膜反射鏡の断面を示す図であ
る。図１において、１は誘電体多層膜反射鏡のガラス基
板である。２は材質Ａを使用して形成される高屈折率誘
電体膜であり、屈折率をｎH 、膜厚をｄH1とするもので
ある。３は材質Ｃを使用して形成される低屈折率誘電体
膜であり、屈折率をｎL 、膜厚をｄL1とするものであ
る。ｄAは材質Ａの膜面粗さがここを境として急激に粗
くなる膜厚である。
【００１２】従来例において、波長λ2 である長波長用
の誘電体多層膜反射鏡は光学膜厚をλ2／４にするがた
めに膜厚ｄH2を増大させてｄH2＞ｄAとし、結局、膜面
が粗れるに到ったことは上述した通りである。この発明
は、長波長λ2 用の誘電体多層膜反射鏡を製造するに際
して、高屈折率誘電体膜２の膜厚ｄH1を ｄH1＜ｄA とする。即ち、高屈折率誘電体膜２を図４に示される材
質Ａを使用して形成し、その膜厚ｄH1を、光学膜厚をλ
2／４にすることに拘泥せずに、膜面が大きく粗れ始め
る膜厚ｄAより薄い膜厚に留めて形成する。その結果と
して、高屈折率誘電体膜２の光学膜厚ｎH・ｄH1はλ2／
４には達しない。
の誘電体多層膜反射鏡は光学膜厚をλ2／４にするがた
めに膜厚ｄH2を増大させてｄH2＞ｄAとし、結局、膜面
が粗れるに到ったことは上述した通りである。この発明
は、長波長λ2 用の誘電体多層膜反射鏡を製造するに際
して、高屈折率誘電体膜２の膜厚ｄH1を ｄH1＜ｄA とする。即ち、高屈折率誘電体膜２を図４に示される材
質Ａを使用して形成し、その膜厚ｄH1を、光学膜厚をλ
2／４にすることに拘泥せずに、膜面が大きく粗れ始め
る膜厚ｄAより薄い膜厚に留めて形成する。その結果と
して、高屈折率誘電体膜２の光学膜厚ｎH・ｄH1はλ2／
４には達しない。
【００１３】ところで、高屈折率誘電体膜２の光学膜厚
と低屈折率誘電体膜４の光学膜厚の和は、取り扱う波長
のλ2／２とするものであるところから、高屈折率誘電
体膜２の膜厚を薄く形成した分だけ低屈折率誘電体膜３
の膜厚を厚く形成する。即ち、低屈折率誘電体膜３を図
４に示される材質Ｃにより構成し、その膜厚ｄL1を ｎL・ｄL1＝λ2／２−ｎH・ｄH1 に制御する。この低屈折率誘電体膜３の光学膜厚の式
は、高屈折率誘電体膜２の光学膜厚と低屈折率誘電体膜
４の光学膜厚の和はλ2／２であるところ、高屈折率誘
電体膜２の光学膜厚ｎH・ｄH1が上述の通りλ2／４には
達しない様に形成されるために、低屈折率誘電体膜４の
光学膜厚ｎL・ｄL1はλ2／４より厚く形成されることを
意味している。この発明は、結局、高屈折率誘電体膜２
の光学膜厚ｎ H・ｄH1をλ2／４には達しないが膜面が大
きく粗れ始める膜厚ｄAより薄く形成し、その薄くした
分だけ低屈折率誘電体膜４の光学膜厚ｎL・ｄL1をλ2／
４より厚く形成して両誘電体膜の厚さの和をλ2／２と
するものである。
と低屈折率誘電体膜４の光学膜厚の和は、取り扱う波長
のλ2／２とするものであるところから、高屈折率誘電
体膜２の膜厚を薄く形成した分だけ低屈折率誘電体膜３
の膜厚を厚く形成する。即ち、低屈折率誘電体膜３を図
４に示される材質Ｃにより構成し、その膜厚ｄL1を ｎL・ｄL1＝λ2／２−ｎH・ｄH1 に制御する。この低屈折率誘電体膜３の光学膜厚の式
は、高屈折率誘電体膜２の光学膜厚と低屈折率誘電体膜
４の光学膜厚の和はλ2／２であるところ、高屈折率誘
電体膜２の光学膜厚ｎH・ｄH1が上述の通りλ2／４には
達しない様に形成されるために、低屈折率誘電体膜４の
光学膜厚ｎL・ｄL1はλ2／４より厚く形成されることを
意味している。この発明は、結局、高屈折率誘電体膜２
の光学膜厚ｎ H・ｄH1をλ2／４には達しないが膜面が大
きく粗れ始める膜厚ｄAより薄く形成し、その薄くした
分だけ低屈折率誘電体膜４の光学膜厚ｎL・ｄL1をλ2／
４より厚く形成して両誘電体膜の厚さの和をλ2／２と
するものである。
【００１４】ここで、誘電体多層膜反射鏡の反射率と波
長の関係を示す分光図は図５に示される通りである。図
５において、Ａにより示される波長領域は多層膜を構成
する２種類の誘電体の誘電率の差が大きい程広い。従っ
て、５酸化タンタルＴａ2Ｏ5（屈折率ｎH＝２.１０）と
比較して屈折率の大きい酸化チタンＴiＯ2（屈折率ｎ H
＝２.３５）を採用することにより、波長領域Ａを長波
長側により広くすることができ、それだけ誘電体多層膜
反射鏡の使用可能波長領域が拡大されて好適である。即
ち、従来は、或る使用可能波長領域の誘電体多層膜反射
鏡を構成するのに膜面粗れの関係から５酸化タンタルＴ
ａ2Ｏ5を使用せざるを得なかったところ、この発明によ
ればこれより屈折率のより大きい酸化チタンＴiＯ2を使
用することができるに到り、それだけ使用可能波長領域
を長能波長領域に拡大するに好都合である。
長の関係を示す分光図は図５に示される通りである。図
５において、Ａにより示される波長領域は多層膜を構成
する２種類の誘電体の誘電率の差が大きい程広い。従っ
て、５酸化タンタルＴａ2Ｏ5（屈折率ｎH＝２.１０）と
比較して屈折率の大きい酸化チタンＴiＯ2（屈折率ｎ H
＝２.３５）を採用することにより、波長領域Ａを長波
長側により広くすることができ、それだけ誘電体多層膜
反射鏡の使用可能波長領域が拡大されて好適である。即
ち、従来は、或る使用可能波長領域の誘電体多層膜反射
鏡を構成するのに膜面粗れの関係から５酸化タンタルＴ
ａ2Ｏ5を使用せざるを得なかったところ、この発明によ
ればこれより屈折率のより大きい酸化チタンＴiＯ2を使
用することができるに到り、それだけ使用可能波長領域
を長能波長領域に拡大するに好都合である。
【００１５】なお、以上の説明においては、高屈折率誘
電体膜２の膜厚を膜面粗さが粗れる膜厚より薄く形成
し、低屈折率誘電体膜３の膜厚を高屈折誘電体膜２の膜
厚を薄くした分だけ厚く形成する例を示したが、この逆
とすることができる。
電体膜２の膜厚を膜面粗さが粗れる膜厚より薄く形成
し、低屈折率誘電体膜３の膜厚を高屈折誘電体膜２の膜
厚を薄くした分だけ厚く形成する例を示したが、この逆
とすることができる。
【００１６】
【発明の効果】以上の通りであって、この発明は一方の
誘電体膜の膜厚を膜面粗さが粗れる膜厚より薄く形成
し、他方の誘電体膜の膜厚を一方の誘電体膜の膜厚を薄
くした分だけ厚く形成することにより、膜面の粗れない
使用可能波長領域を長波長領域に拡張した誘電体多層膜
反射鏡を製造することができる。
誘電体膜の膜厚を膜面粗さが粗れる膜厚より薄く形成
し、他方の誘電体膜の膜厚を一方の誘電体膜の膜厚を薄
くした分だけ厚く形成することにより、膜面の粗れない
使用可能波長領域を長波長領域に拡張した誘電体多層膜
反射鏡を製造することができる。
【図１】この発明の誘電体多層膜反射鏡製造方法により
製造された誘電体多層膜反射鏡の断面を示す図。
製造された誘電体多層膜反射鏡の断面を示す図。
【図２】従来の製造方法により製造された誘電体多層膜
反射鏡の断面を示す図。
反射鏡の断面を示す図。
【図３】従来の製造方法により製造された長波長用の誘
電体多層膜反射鏡の断面を説明する図。
電体多層膜反射鏡の断面を説明する図。
【図４】誘電体の膜厚と膜面粗さとの間の関係を示す
図。
図。
【図５】誘電体多層膜反射鏡の反射率と波長の関係を示
す分光図。
す分光図。
【符号の説明】 １ ガラス基板 ２ 高屈折率誘電体膜 ３ 低屈折率誘電体膜 ４ 低屈折率誘電体膜 ５ 高屈折率誘電体膜 ６ 低屈折率誘電体膜
Claims (2)
- 【請求項１】 高屈折率誘電体膜と低屈折率誘電体膜と
を交互に積層することにより形成される誘電体多層膜反
射鏡製造方法において、一方の誘電体膜である高屈折率
誘電体膜或は低屈折率誘電体膜の膜厚を膜面粗さが粗れ
る膜厚より薄く形成し、他方の誘電体膜である低屈折率
誘電体膜或は高屈折率誘電体膜の膜厚を一方の誘電体膜
の膜厚を薄くした分だけ厚く形成することを特徴とする
誘電体多層膜反射鏡製造方法。 - 【請求項２】 請求項１に記載される誘電体多層膜反射
鏡製造方法において、高屈折率誘電体膜を酸化チタンに
より形成し、低屈折率誘電体膜を酸化珪素により形成す
ることを特徴とする誘電体多層膜反射鏡製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6203882A JPH0868906A (ja) | 1994-08-29 | 1994-08-29 | 誘電体多層膜反射鏡製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6203882A JPH0868906A (ja) | 1994-08-29 | 1994-08-29 | 誘電体多層膜反射鏡製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0868906A true JPH0868906A (ja) | 1996-03-12 |
Family
ID=16481289
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6203882A Pending JPH0868906A (ja) | 1994-08-29 | 1994-08-29 | 誘電体多層膜反射鏡製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0868906A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010122094A (ja) * | 2008-11-20 | 2010-06-03 | Nuclear Fuel Ind Ltd | 燃料集合体の外観検査装置用反射鏡および燃料集合体の外観検査装置 |
-
1994
- 1994-08-29 JP JP6203882A patent/JPH0868906A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010122094A (ja) * | 2008-11-20 | 2010-06-03 | Nuclear Fuel Ind Ltd | 燃料集合体の外観検査装置用反射鏡および燃料集合体の外観検査装置 |
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