JP3075704B2 - 多層薄膜絶縁体バンドパスフィルタおよびその製造方法 - Google Patents

多層薄膜絶縁体バンドパスフィルタおよびその製造方法

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は多層絶縁体バンドパ
スフィルタに関し、特に2つの材料を有する層構造を備
え、好ましくは隣り合う媒質同士の不整合により生じる
反射を低減するために初めと終わりの近くの層は4分の
1波長の光路長に相当する厚さではないということを除
いて、層が波長の4分の1倍の光路長をなす多共振多層
絶縁体バンドパスフィルタに関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、光路に対してある入射角をなし
てフィルタが使用される場合に伝送特性の低下を招かな
いようなバンドパスフィルタが望まれる。光干渉原理に
基づくフィルタは用途が極めて広く、全光スペクトルに
わたって使用されるように設計され得る。
【0003】多共振フィルタは40年以上も前から製造
されている。フィルタの設計者の通常のアプローチは基
板および媒質に対して等しい長さの共振構造を単に反射
しないことである。この単純な構造は、ある角度で使用
されることにより中心波長が異なる2つの偏波モードに
対するフィルタとなる。
【0004】これらのタイプのフィルタについては、
P.W.BaumeisterによりContinui
ng Education Instituteで19
86年6月16日〜20日に行われた5日間の短期コー
スエンジニアリング190.01に対する講演ノート
「Optical Coatings Technol
ogy」の第1章1−38〜1−41頁の中で詳述され
ている。この問題を小さくするために、共振特性を緩和
する必要性が薄膜分野の専門家により徹底的に研究され
た。
【0005】P.Baumeisterは、Appli
ed Optics 31(1992年)の504〜5
12頁に掲載された論文「Bandpass desi
gn−applications to non−no
rmal incidence」の中で、マイクロ波フ
ィルタの総合を適用することによって反射波長領域を一
致させるために定在波比技術が用いられたと報告してい
る。これらの共振器は単一の角度を最適化するように調
整された。
【0006】T.Yanagimachiらは論文「H
igh−performanceand highly
stable 0.3−nm−full−width
−at−half−maximum interfer
ence opticalfilters」(Appl
ied Optics 33、3513〜3517頁、
1994年)において、単一の共振器フィルタに有用な
交互に厚さが異なる方法を用いた。しかしながら角度が
変更されるにつれて各偏光に対する波長は変化する。
【0007】G.P.KonukhovおよびE.A.
Nesmelovは論文「To the theory
of a dielectric narrow−b
and filter」(Journal of Ap
plied Spectroscopy、第11巻、4
68〜474頁、1969年)の中で、2分の1波長層
に対して第3の材料を用いることを説明している。この
技術は理論的にはうまくゆくが、実際には選択可能な範
囲に制限がある。さらには種々の材料に関する長期間の
安定性にも問題があるかもしれない。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上述
した従来技術の幾つかの欠点を克服する多層薄膜構造を
提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は、屈折率の異な
る2つの透明な絶縁膜の交互層を有する多層膜を提供す
る。好ましい具体例では、本発明は、フィルタ構造から
基板および出力界面(必要な場合)への反射防止を利用
し、また偏光モードの一致を調整するために4分の3波
長層を含む共振器を備えている。
【0010】共振器内の中央の2分の1波長として、2
分の1波長の反対の屈折率材と1または2以上の2分の
1波長の同じ屈折率材と2分の1波長の反対の屈折率材
とからなる組合わせを用いることにより、「s」偏光ピ
ークが完全に「p」偏光ピークのバンド内に入るような
フィルタが得られる。
【0011】さらには、ピークを集中させることはミラ
ー積層体に対するさらなる調整を必要とする。偏光モー
ドの一致を実現するために必要な4分の3波長の数およ
び配置は、フィルタを作製するために選択された屈折率
に伴って変化する。
【0012】本発明によれば、低屈折率材の4分の1波
長層で終わる第1の4分の1波長積層体、2分の1波長
の低屈折率材と2分の1波長またはその倍数の高屈折率
材と2分の1波長の低屈折率材とからなる2分の1波長
アレイ、および低屈折率材の4分の1波長層で始まる第
2の4分の1波長積層体を含む共振器を具備し、第1お
よび第2の4分の1波長積層体のそれぞれは、偶数層を
有し、かつそれらの層は、反対の順序になっている多層
薄膜絶縁体バンドパスフィルタが得られる。さらには、
これらの複数の共振器は、4分の1波長の低屈折率によ
って分離されていてもよい。ここで、上述した4分の3
波長層は、第1の4分の1波長積層体における2分の1
波長アレイ側の低屈折率の4分の1波長層と、第1の4
分の1波長積層体側における2分の1波長の低屈折率材
との隣接によって実現される。たとえば、高屈折率の4
分の1波長層を「H」とし、低屈折率の4分の1波長層
を「L」とし、第1の4分の1波長積層体が「HLH
L」で、波長アレイが「LLHH LL」で、第2の4
分の1波長積層体が「LHLH」であると、共振器の層
構造は、「HLHL LL HH LL LHLH」と
なり、第1および第2の4分の1波長積層体と、2分の
1波長アレイとの隣接位置に「LLL」なる4分の3波
長層が形成される。
【0013】本発明によれば、高屈折率および低屈折率
の4分の1波長層からなる第1の積層体、2分の1波長
の低屈折率材と2分の1波長またはその倍数の高屈折率
材と2分の1波長の低屈折率材とからなる2分の1波長
アレイ、および低屈折率および高屈折率の4分の1波長
層からなる第2の積層体をそれぞれ含む複数の共振器を
具備し、第1および第2の4分の1波長積層体のそれぞ
れは偶数層を有し、かつ第1の積層体は第2の積層体を
鏡で映したようになっていて、それらの共振器は4分の
1波長の低屈折率材により分離されているバンドパスフ
ィルタがさらに得られる。
【0014】本発明によれば、高屈折率材の4分の1波
長層で終わり、高屈折率および低屈折率の4分の1波長
層からなる第1の4分の1波長積層体、2分の1波長の
高屈折率材と2分の1波長またはその倍数の低屈折率材
と2分の1波長の高屈折率材とからなる2分の1波長ア
レイ、および高屈折率材の4分の1波長層で始まり、低
屈折率および高屈折率の4分の1波長層からなる第2の
4分の1波長積層体を含む共振器を具備し、第1および
第2の4分の1波長積層体のそれぞれは、奇数層を有
し、かつそれらの層は、反対の順序になっている多層薄
膜絶縁体バンドパスフィルタが得られる。さらには、こ
れらの複数の共振器は、4分の1波長の低屈折率によっ
て分離されていてもよい。ここで、上述した4分の3波
長層は、第1の4分の1波長積層体における2分の1波
長アレイ側の高屈折率の4分の1波長層と、第1の4分
の1波長積層体側における2分の1波長の高屈折率材と
の隣接によって実現される。たとえば、高屈折率の4分
の1波長層を「H」とし、低屈折率の4分の1波長層を
「L」とし、第1の4分の1波長積層体が「HLHL
H」で、波長アレイが「HH LL HH」で、第2の
4分の1波長積層体が「HLHLH」であると、共振器
の層構造は、「HLHLH HH LL HHHLHL
H」となり、第1および第2の4分の1波長積層体と、
2分の1波長アレイとの隣接位置に「HHH」なる4分
の3波長層が形成される。
【0015】本発明によれば、多層のうちの幾つかの層
は高屈折率材であり、かつ幾つかの層が反対の低屈折率
材である多層バンドパスフィルタが得られる。そのフィ
ルタは、第1の所定の屈折率からなり、かつ異なる反対
の屈折率からなる2分の1波長層同士の間でそれらに接
触して挟まれてなる2分の1波長または多数の2分の1
波長のスペーサ層を有する共振器を具備する。
【0016】異なる反対の屈折率の前記2分の1波長層
は、高屈折率材と低屈折率材とが交互に積層されてなる
2つの4分の1波長積層体を決める層の間に挟まれてお
り、異なる反対の屈折率の2分の1波長層に接触して隣
接する4分の1波長層は実質的に同一の異なる反対の屈
折率になっている。2つの4分の1波長積層体のそれぞ
れは同数の交互層を有し、かつ実質的に反対の順序にな
っている。
【0017】本発明によれば、nおよびmは整数であ
り、またXは高屈折率層および低屈折率層の何れか一方
であり、かつYは高屈折率層および低屈折率層の他方で
あって、XとYは反対の屈折率であるときに、(XY)
n (YY)(XX)m (YY)(YX)n の層構造を具
備する多層バンドパスフィルタが得られる。
【0018】さらに、本発明の他の一つによれば、2つ
の反射する積層体の間に入る低屈折率材からなる2分の
1波長のスペーサ層を有し、かつそれら2つの積層体が
高屈折率材と低屈折率材とが反対の順序で交互に積層さ
、各2つの積層体の該スペーサ層側が高屈折率材であ
るバンドパスフィルタにおいて、入射光の偏光に対して
過敏でないフィルタを製造する方法であって、スペーサ
層と2つの反射する積層体との間でそれらに接触して1
または2以上の2分の1波長の高屈折率材を設ける工程
を含む。
【0019】あるいは、2つの反射する積層体の間に入
る高屈折率材からなる2分の1波長のスペーサ層を有
し、かつそれら2つの積層体が低屈折率材と高屈折率材
とが反対の順序で交互に積層され、各2つの積層体の該
スペーサ層側が低屈折率材であるバンドパスフィルタに
おいて、入射光の偏光に対して過敏でないフィルタを製
造する方法であって、スペーサ層と2つの反射する積層
体との間でそれらに接触して1または2以上の2分の1
波長の低屈折率材を設ける工程を含む。
【0020】本発明によれば、今まで定義されたバンド
パスフィルタにおいて、バンドパスフィルタに応じて種
々の偏光のピークの相対的な位置を微調整するために、
1または2以上の2分の1波長層が1または2以上の積
層体の1または2以上の所定の層に付加されているバン
ドパスフィルタがさらに得られる。
【0021】1または2以上の2分の1波長層を積層体
の1または2以上の所定の4分の1波長層に付加するこ
とは、1または2以上の2分の1波長層を既存の層に物
理的に付加することによって、すなわちより具体的には
少なくとも4分の3波長層またはそれよりも大きな厚さ
の層を堆積することによって、実現され得るということ
に注意する必要がある。
【0022】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る多層薄膜絶縁
体バンドパスフィルタおよびその製造方法の実施の形態
について図面とともに詳細に説明する。
【0023】まず、フィルタ構造についての一般的な知
識について説明する。波長分割多重および他の通信産業
の用途のためのフィルタは低損失でかつ殆どリプルのな
い極めて直線的な傾きを必要とする。典型的なバンド幅
は、1250nmから1650nmまでの波長範囲に対して
0.5nmから100nmまでの範囲である。技術的な改善
によりフィルタにもたらされる利益によって、フィルタ
の用途がさらに広がる。
【0024】最も単純な共振器フィルタは、図13に示
すように、透明な絶縁材からなる2分の1波長倍の光路
長を有する層により分離された2つの部分反射鏡ででき
ている(エタロンと同様である)。
【0025】全ての絶縁体フィルタに対して、反射鏡は
図14に例示された高屈折率と低屈折率の材料からなる
交互の層を含んでいる。各層の厚さは所望のフィルタ波
長にて4分の1波長になるように調整される。各反射鏡
(単一層のみであってもよい)は4分の1波長積層体と
呼ばれる。フィルタのバンド幅はこの構造における4分
の1波長積層体の反射率の関数である。
【0026】フィルタ共振器は全ての絶縁体干渉フィル
タに対する基本構成要素である。これは単一(または複
数)の2分の1波長層により分離されてなる、4分の1
波長積層体でできた2つの同一な反射鏡からなる。共振
器は、傾きを急峻にするために低屈折率材料からなる4
分の1波長層を間に挟んで他の共振器の上に堆積され
る。これは多共振フィルタとなる(図12参照)。
【0027】そのフィルタがある角度でもって光に照ら
された場合、各偏光モードに適した異なるスペクトル特
性を生じる。その角度がフィルタのバンド幅と比較して
大きい場合には、フィルタによって完全に異なる波長が
選択される。いずれにしても、平均偏光応答曲線は歪
み、その結果生じるフィルタは望ましいものではない。
【0028】つぎに、本発明にかかるフィルタ構造の一
例について説明する。図1に示すように、本発明による
フィルタ全体は、透明な基板40、N層のフィルタ共振
器42、低屈折率層44、Nまたは(N+4)層の第2
の共振器46、および場合によってはさらに多くの共振
器を備えており、各共振器の後には低屈折率層、N層か
らなる別のフィルタ共振器、および別のマッチング層
(必要な場合)が続く。ここで、図1に示した「高屈折
率のFW」とは、高屈折率の1波長(Full Wave)層を
意味する。また、低屈折率層44は、N層のフィルタ共
振器42側の最下部層に対応する低屈折率の4分の1波
長層に低屈折率の2分の1波長層とを含めて隣接した4
分の3波長層、あるいはNまたは(N+4)層の第2の
共振器46側の最上部層に対応する低屈折率の4分の1
波長層に低屈折率の2分の1波長層とを含めて隣接した
4分の3波長層である。
【0029】殆どの場合、マッチング層は低屈折率の4
分の1波長である。マッチング層の材料および屈折率は
先の低屈折率層の材料および屈折率と異なっていてもよ
い。共振器は交互に積層された高屈折率の材料と低屈折
率の材料からなる4分の1波長の厚さの層でできてい
る。この発明においては、2分の1波長がこれらの層の
どれかに付加され、それによって付加された層の厚さが
増え、ピークの一致を改善するために偏光の中心波長を
移動させる。共振器の第1の材料は高屈折率であり、そ
のつぎに低屈折率材料が続く。
【0030】従来技術の知見に関して、最も単純な場合
には低屈折率材料は2分の1波長の倍数であり、そのつ
ぎに高屈折率材が続き、すなわちHLLHとなる。ここ
でHとLの各層は4分の1波長厚の高屈折率材または低
屈折率材を表している。つぎに、後に続く各共振器との
間に低屈折率層が設けられる。
【0031】そのつぎの共振器は従来技術の層構造、す
なわち最も単純な場合にはHLHLL HLHでできて
いてもよい。この構造は急峻な傾きを有するフィルタを
製造するために何回も繰り返される。それから第1の共
振器が繰り返される。最後につぎの媒質に対する別のマ
ッチング層が必要に応じて付加される。
【0032】本発明によれば、その構造は最初と最後の
共振器に対して3H LL 3Hに変更され、また内側
の共振器はHL3H LL 3HLHの構造を有する。
共振器が4つよりも多いと、大きな入射角に対して電力
半原点でのリプルが大きい平均偏光バンド形状を有する
フィルタができてしまう。これは好ましくない。
【0033】本発明は、反射鏡の層数が増やされてフィ
ルタのバンド幅が小さくなる時に最も有効になる。この
時点でピークの中心は極めて重要となり、中央部分のつ
ぎの層には2分の1波長が付加される必要があり、すな
わち共振器の一例としてHLHLH 3L3H LL
3H3L HLHLHとなる。
【0034】基板は重要な波長に亘って透明であり、ガ
ラス、石英、透明なプラスチック、シリコンおよびゲル
マニウムを含む(ただし、これらに限定されない)多種
多様の材料でできていてもよい。この目的のために使用
される絶縁材料は1.3から4.0を超える範囲の屈折
率を有している。
【0035】好ましい材料はフッ化マグネシウム(1.
38)、フッ化トリウム(1.47)、氷晶石(Cryolit
h)(1.35)、二酸化シリコン(1.46)、酸化ア
ルミニウム(1.63)、酸化ハフニウム(1.8
5)、五酸化タンタル(2.05)、酸化ニオブ(2.
19)、硫化亜鉛(2.27)、酸化チタン(2.3
7)、シリコン(3.5)、ゲルマニウム(4.0)お
よびテルル化鉛(5.0)である。他の絶縁材料も同様
に目的にかなうであろう。
【0036】フィルタの設計は今日、最適化ルーチンを
備えた商業的に利用可能なコンピュータプログラム(す
なわちSoftware Spectra株式会社製の
TFCalcTMの支援によって簡単に達成される。設計
の要点をそのプログラムに入力すると、特定の応答が計
算される。
【0037】要求された名目上のバンド幅に一致するよ
うに適切なサイズの共振器を有する設計が選択される場
合、マッチング層に対してフィルタの透過を最適化する
ことがなされる。設計者は、4分の1波長に相当する状
態で使用すべき材料の範囲から選択するか、または同じ
低屈折率材料をマッチングをなすように厚さを調整して
使用することを選んでもよい。
【0038】従来技術を超える改善を実証するために、
同程度の選択的な透光をなすように設計された同様のフ
ィルタの分析が行われる。図2〜図6では直角の入射角
での中心波長は1340nmであり、またH層の屈折率は
2.25であり、L層の屈折率は1.47である。
【0039】本明細書中では、「反対の屈折率」という
語が時々用いられているが、これは高屈折率材料と低屈
折率材料とを区別するためであり、従って低屈折率材料
は高屈折率材料に対して反対の屈折率を有しているとい
うように用いられ得る。図2〜図6においては、フィル
タはすべて低屈折率の4分の1波長層によって分離され
た2共振器フィルタである。
【0040】図2は従来の2共振器フィルタの透過率を
表すグラフであり、各共振器は25層を有している。2
分の1波長は高屈折率である。その構造は最後のLが除
去された((HL)6 HH (LH)6 L)2であ
る。図2の3つの曲線は左から右へ順に「p」偏光、平
均の偏光および「s」偏光のものである。図3では、こ
の2共振器フィルタにおいて4より少ない層が用いられ
ている。
【0041】その構造は((HL)5 HHH LL
HHH (LH)5) L ((HL)5 HHH L
L HHH (LH)5)である。通過帯域の中心はこ
の設計条件に対して今や0.18nm以内にある。この設
計のさらなる改善点について説明する。図4は2共振器
フィルタの透過率を表すグラフであり、各共振器は
((HL)5 HHH LL HHH LHLL (L
H)4) L ((HL)5HHH LL HHH LH
LL (LH)4)の構造を備えた23層を有してい
る。中心は今や0.1nm以内にある。
【0042】低屈折率の2分の1波長を有するフィルタ
として、図5に示す設計が選択された。そのグラフは、
従来の2共振器フィルタの透過率を表しており、各共振
器は低屈折率の4分の1波長層により分離されてなる2
3層を有している。2分の1波長は低屈折率である。上
述したように、図5の3つの曲線は左から右へ順に
「p」偏光、平均の偏光および「s」偏光のものであ
る。
【0043】重要な観察点は、この例では図2とは反対
に「s」偏光曲線が中心の左側に位置しているというこ
とである。中心に位置させることを実現するため、2共
振器フィルタであり、各共振器が((HL)5 LL
HH LL (LH)5)L ((HL)5 LL H
H LL (LH)5)の構造を備えた21層を有する
図6に示すように設計が変更された。中心は再び0.1
nm以内にある。
【0044】直角の入射角からの波長変化は、異なる屈
折率の2分の1波長に対して異なる等式を導く。低屈折
率の2分の1波長を有するフィルタは、従来の設計に対
して高屈折率の2分の1波長で作製されたフィルタより
もさらにシフトする。
【0045】「s」偏光は典型的に、低屈折率のスペー
サフィルタに対して最も大きくシフトされ、また高屈折
率のスペーサフィルタに対して最も小さくシフトされ
る。この発明は「s」偏光特性と「p」偏光特性の不一
致に対して「s」偏光特性を「p」偏光特性に向かって
シフトさせる。
【0046】「p」偏光の波長シフトの比較は興味深
い。図3および図4に特徴づけられた設計の反応は図2
に示す高屈折率スペーサタイプの反応に似ている。図6
に示す設計に対する波長変化は図5に示す低屈折率スペ
ーサタイプに対する波長変化に密接に対応している。
【0047】もしG.P.KonukhovおよびE.
A.Nesmelovにより教えられた方法でスプリッ
ティング・リダクション (the splitting reduction)が
作製されたならば、たとえ何れの屈折率のタイプが選択
されたとしてもピーク波長は中間の値に近づくであろ
う。このことは、本発明の原理がG.P.Konukh
ovおよびE.A.Nesmelovの原理と全く異な
ることを実証している。
【0048】このシフトの要因は、より形状の歪みが小
さい状態で小さな円錐角を可能にすること、逆に言えば
正しいピークの選択で小さな角度で大きな波長変化をな
くすことによる利点に対して利用されてもよい。
【0049】図10は、本発明によるものであり、35
nmの波長範囲に対する傾斜調整のために設計された3共
振器フィルタ(84層)の応答を示している。図10に
示された曲線は対称的であり、その半値帯域幅は直角の
入射角での値と同じである。
【0050】その構造は、最後の2層がそれぞれ屈折率
1.3の4分の1波長に変更された((HL)6 HH
H LL HHH L H LL (LH)5 L)3
である。このグラフは空気中で大きな角度(22度)を
なす場合のものである。図11は同じ波長範囲に亘る従
来のフィルタ(90層)の比較を示す応答のグラフであ
る。「s」偏光はこのバンド幅に対して平均および
「p」偏光の左側へ位置している。
【0051】図9について説明すると、本発明による図
6のタイプ(左側)と従来技術による図2に示すタイプ
(右側)との比較が示されている。このグラフは低屈折
率材料での空気中における45度での平均偏光に対する
ものである。Hの屈折率は1.88であり、Lの屈折率
は1.38である。最後の2層の厚さは、それぞれ屈折
率1.3の4分の1波長にして反射を防ぐために調整さ
れた。
【0052】本発明が有用となる屈折率の範囲は、フィ
ルタ構造に使用される低屈折率材料に対する高屈折率材
料の比によってのみ制限されるだけである。極めて大き
な角度に対して、図9は、屈折率比が小さくても特性が
改善され得ることを実証している。図9における屈折率
(1.88および1.38)と同様の屈折率の材料はス
ペクトルの紫外領域で使用される。その比が1.3より
もさらに小さい場合には、その角度の特性は本発明の特
別な層を保証しなくてもよい。
【0053】スペクトルのもう一方の端部は赤外であ
り、好ましい高屈折率材料は4.0の屈折率を有するゲ
ルマニウムである。波長の分割は狭い帯域のフィルタに
とって重大な問題のままである。
【0054】図7は、4.0の高屈折率と1.75の低
屈折率を有し、その構造が((HL)4 (LH)4
L)2である32層の2共振器フィルタに対する分割の
程度を示している。中心化を行うためには積層体の大規
模な変更が必要となる。作製の観点からすれば好ましい
設計は((H 3L H 3L H 5L)5H LL
5H(5L H 3L H 3LH)L)2である。
これは同様の結果を生じるより厚い層と比べてストレス
が小さい。
【0055】勿論、本発明の範囲および趣旨から逸脱し
ない範囲で多くの他の具体例が予想され得る。
【0056】
【発明の効果】以上説明したとおり、この発明に係る多
層薄膜絶縁体バンドパスフィルタおよびその製造方法に
よれば、各偏光モードに対して同一の波長に集中してな
る通過帯域を備えたバンドパスフィルタを得ることがで
きる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による多共振バンドパスフィルタ全体の
断面図である。
【図2】従来の2共振器フィルタの透過率を表す特性図
であり、各共振器は低屈折率の4分の1波長層により分
離されてなる25層を有し、2分の1波長は高屈折率で
ある。
【図3】2共振器フィルタの透過率を表す特性図であ
り、各共振器は((HL)5 HHH LL HHH
(LH)5) L ((HL)5 HHH LL HH
H(LH)5)の構造を備えた23層を有している。
【図4】2共振器フィルタの透過率を表す特性図であ
り、各共振器は((HL)5 HHH LL HHH
LHLL (LH)4) L ((HL)5 HHH
LL HHH LHLL (LH)4)の構造を備えた
23層を有している。
【図5】従来の2共振器フィルタの透過率を表す特性図
であり、各共振器は低屈折率の4分の1波長層により分
離されてなる23層を有し、2分の1波長は低屈折率で
ある。
【図6】本発明による2共振器フィルタの透過率を表す
特性図であり、各共振器は((HL)5 LL HH
LL (LH)5) L ((HL)5 LL HHL
L (LH)5)の構造を備えた21層を有している。
【図7】従来技術による従来の2共振器フィルタの透過
率を表す特性図であり、各共振器は低屈折率の4分の1
波長層により分離されてなる15層を有し、かつ低屈折
率の4分の1波長層で終わり、また2分の1波長は低屈
折率であって、高屈折率は4.0で低屈折率は1.75
であり、その構造は((HL)4 (LH)4L)2で
ある。
【図8】本発明による2共振器フィルタの透過率を表す
特性図であり、各共振器は((H 3L H 3L H
5L 5H LL 5H 3L H 3L H 3L
H) L)2の構造を備えた21層を有し、図7におけ
るのと同じ屈折率を有している。
【図9】図6に示す本発明によるフィルタの出力応答と
図2に示す従来技術のフィルタの応答との比較を示す特
性図である。
【図10】本発明の技術により作製されたバンド幅が
0.9nmの3共振器フィルタの透過率を表す特性図であ
る。
【図11】従来方法で作製されたバンド幅が0.9nmの
従来技術の3共振器フィルタの透過率を表す特性図であ
り、その構造は、最後の2層がそれぞれ屈折率1.3の
4分の1波長に変更された((HL)8 (LH)8
L)3であり、またこの特性図は空気中で大きな角度
(20.6度)をなす場合のものである。
【図12】従来技術の多共振絶縁体フィルタの断面図で
ある。
【図13】従来技術の固体エタロンフィルタの断面図で
ある。
【図14】従来技術の4分の1波長積層体の断面図であ
る。
【符号の説明】
40 基板 42 N層のフィルタ共振器 44 低屈折率層 46 Nまたは(N+4)層の第2の共振器
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平8−160220(JP,A) 特開 昭62−39801(JP,A) 特開 昭61−262704(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02B 5/28 G02B 5/30 G02B 6/293

Claims (17)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 低屈折率材の4分の1波長層で終わる
    1の4分の1波長積層体、2分の1波長の低屈折率材と
    2分の1波長またはその倍数の高屈折率材と2分の1波
    長の低屈折率材とからなる2分の1波長アレイ、および
    低屈折率材の4分の1波長層で始まる第2の4分の1波
    長積層体を含む共振器を具備し、 第1および第2の4分の1波長積層体のそれぞれは、偶
    数層を有し、かつそれらの層は、実質的に反対の順序に
    なっていることを特徴とする多層薄膜絶縁体バンドパス
    フィルタ。
  2. 【請求項2】 第1の積層体は第2の積層体を鏡で映し
    たようになっていることを特徴とする請求項1に記載の
    多層薄膜絶縁体バンドパスフィルタ。
  3. 【請求項3】 複数の前記共振器を有し、 各共振器は、4分の1波長の低屈折率材によって分離さ
    れていることを特徴とする請求項1に記載の多層薄膜絶
    縁体バンドパスフィルタ。
  4. 【請求項4】 低屈折率材の4分の1波長層で終わり、
    高屈折率および低屈折率の4分の1波長層からなる第1
    4分の1波長積層体、2分の1波長の低屈折率材と2
    分の1波長またはその倍数の高屈折率材と2分の1波長
    の低屈折率材とからなる2分の1波長アレイ、および
    屈折率材の4分の1波長層で始まり、低屈折率および高
    屈折率の4分の1波長層からなる第2の4分の1波長
    層体をそれぞれ含む複数の共振器を具備し、 第1および第2の4分の1波長積層体のそれぞれは、偶
    数層を有し、かつそれらの層は、4分の1波長の低屈折
    率材によって分離されていることを特徴とする多層薄膜
    絶縁体バンドパスフィルタ。
  5. 【請求項5】 第1の積層体は第2の積層体を鏡で映し
    たようになっていることを特徴とする請求項4に記載の
    多層薄膜絶縁体バンドパスフィルタ。
  6. 【請求項6】 バンドパスフィルタに応じて種々の偏光
    のピークの相対的な位置を微調整するために、1または
    2以上の2分の1波長層が1または2以上の積層体の1
    または2以上の所定の層に付加されていることを特徴と
    する請求項1に記載の多層薄膜絶縁体バンドパスフィル
    タ。
  7. 【請求項7】 バンドパスフィルタに応じて種々の偏光
    のピークの相対的な位置を微調整するために、1または
    2以上の2分の1波長層が1または2以上の積層体の1
    または2以上の所定の層に付加されていることを特徴と
    する請求項4に記載の多層薄膜絶縁体バンドパスフィル
    タ。
  8. 【請求項8】 高屈折率材の4分の1波長層で終わり、
    高屈折率および低屈折率の4分の1波長層からなる第1
    4分の1波長積層体、2分の1波長の高屈折率材と2
    分の1波長またはその倍数の低屈折率材と2分の1波長
    の高屈折率材とからなる2分の1波長アレイ、および
    屈折率材の4分の1波長層で始まり、低屈折率および高
    屈折率の4分の1波長層からなる第2の4分の1波長
    層体をそれぞれ含む複数の共振器を具備し、 第1および第2の4分の1波長積層体のそれぞれは、奇
    数層を有し、かつそれらの層は、4分の1波長の低屈折
    率材によって分離されていることを特徴とする多層薄膜
    絶縁体バンドパスフィルタ。
  9. 【請求項9】 第1の積層体は第2の積層体を鏡で映し
    たようになっていることを特徴とする請求項8に記載の
    多層薄膜絶縁体バンドパスフィルタ。
  10. 【請求項10】 多層のうちの幾つかの層は、高屈折率
    材であり、かつ幾つかの層が反対の低屈折率材である多
    層バンドパスフィルタであって、第1の所定の屈折率か
    らなり、かつ異なる反対の屈折率からなる2分の1波長
    層同士の間でそれらに接触して挟まれてなる2分の1波
    長または多数の2分の1波長のスペーサ層を有する共振
    器を具備し、 異なる反対の屈折率の前記2分の1波長層は、高屈折率
    材と低屈折率材とが交互に積層されてなる2つの4分の
    1波長積層体を決める層の間に挟まれており、異なる反
    対の屈折率の2分の1波長層に接触して隣接する4分の
    1波長層は、実質的に同一の異なる反対の屈折率であ
    ることを特徴とする多層薄膜絶縁体バンドパスフィル
    タ。
  11. 【請求項11】 バンドパスフィルタに応じて種々の偏
    光のピークの相対的な位置を微調整するために、1また
    は2以上の2分の1波長層が1または2以上の積層体の
    1または2以上の所定の層に付加されていることを特徴
    とする請求項10に記載の多層薄膜絶縁体バンドパスフ
    ィルタ。
  12. 【請求項12】 2つの4分の1波長積層体のそれぞれ
    は、同数の交互層を有し、かつ実質的に反対の順序にな
    っていることを特徴とする請求項10に記載の多層薄膜
    絶縁体バンドパスフィルタ。
  13. 【請求項13】 nおよびmは整数であり、またXは高
    屈折率層および低屈折率層の何れかであり、かつYは高
    屈折率層および低屈折率層の他方であって、XとYとは
    反対の屈折率でかつ実質的に同一の光学的な厚さである
    ときに、(XY)n(YY)(XX)m(YY)(YX)
    nの層構造を具備することを特徴とする多層薄膜絶縁体
    バンドパスフィルタ。
  14. 【請求項14】 バンドパスフィルタに応じて種々の偏
    光のピークの相対的な位置を微調整するために、複数の
    2分の1波長層が1または2以上の4分の1波長積層体
    (XY)n(YX)nの所定の層に付加されていることを
    特徴とする請求項13に記載の多層薄膜絶縁体バンドパ
    スフィルタ。
  15. 【請求項15】 2つの反射する積層体の間に入る低屈
    折率材からなる2分の1波長のスペーサ層を有し、かつ
    それら2つの積層体が高屈折率材と低屈折率材とが反対
    の順序で交互に積層され、各2つの積層体の該スペーサ
    層側が高屈折率材であるバンドパスフィルタにおいて、
    入射光の偏光に対して過敏でないフィルタを製造する方
    法であって、 スペーサ層と2つの反射する積層体との間でそれらに接
    触して1または2以上の2分の1波長の高屈折率材を設
    ける工程を含むことを特徴とするフィルタの製造方法。
  16. 【請求項16】 2つの反射する積層体の間に入る高屈
    折率材からなる2分の1波長のスペーサ層を有し、かつ
    それら2つの積層体が低屈折率材と高屈折率材とが反対
    の順序で交互に積層され、各2つの積層体の該スペーサ
    層側が低屈折率材であるバンドパスフィルタにおいて、
    入射光の偏光に対して過敏でないフィルタを製造する方
    法であって、 スペーサ層と2つの反射する積層体との間でそれらに接
    触して1または2以上の2分の1波長の屈折率材を設
    ける工程を含むことを特徴とするフィルタの製造方法。
  17. 【請求項17】 1または2以上の2分の1波長層が1
    または2以上の積層体の1または2以上の所定の層に付
    加されており、それによってバンドパスフィルタに応じ
    て種々の偏光のピークの相対的な位置を微調整するため
    に1または2以上の層の厚さを増大していることを特徴
    とする請求項8に記載の多層薄膜絶縁体バンドパスフィ
    ルタ。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102093791B1 (ko) * 2018-01-09 2020-03-26 인제대학교 산학협력단 돋보기 안경

Families Citing this family (47)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB9901858D0 (en) * 1999-01-29 1999-03-17 Secr Defence Optical filters
US6407863B1 (en) * 1999-04-20 2002-06-18 Ciena Corporation Dual transmission band interference filter
WO2001084749A1 (fr) * 2000-04-28 2001-11-08 Oyokoden Lab Co., Ltd. Dispositif de compensation de la dispersion optique, et procede de compensation de la dispersion optique utilisant ledit dispositif
US6587608B2 (en) 2000-11-14 2003-07-01 Chameleon Optics, Inc. Reconfigurable, all optical add/drop nodes using non-interrupting switching apparatus and methods
US6844977B2 (en) 2001-01-26 2005-01-18 Ciena Corporation Multi-channel optical filter
US6624945B2 (en) * 2001-02-12 2003-09-23 Massachusetts Institute Of Technology Thin film filters using omnidirectional reflectors
US6781757B2 (en) 2001-04-20 2004-08-24 Micron Optics, Inc. Polarization insensitive tunable optical filters
US20030128432A1 (en) * 2001-09-21 2003-07-10 Cormack Robert H. Polarization independent thin film optical interference filters
US6656761B2 (en) * 2001-11-21 2003-12-02 Motorola, Inc. Method for forming a semiconductor device for detecting light
US6611378B1 (en) 2001-12-20 2003-08-26 Semrock, Inc. Thin-film interference filter with quarter-wavelength unit sub-layers arranged in a generalized pattern
TW584742B (en) * 2002-01-25 2004-04-21 Alps Electric Co Ltd Multilayer film optical filter, method of producing the same, and optical component using the same
US7238424B2 (en) * 2002-05-31 2007-07-03 Jds Uniphase Corporation All-dielectric optically variable pigments
US6947218B2 (en) * 2002-08-30 2005-09-20 Research Electro-Optics, Inc. Fabry-perot etalon with independently selectable resonance frequency and free spectral range
US6850366B2 (en) 2002-10-09 2005-02-01 Jds Uniphase Corporation Multi-cavity optical filter
US6804063B2 (en) * 2002-10-25 2004-10-12 Research Electro-Optics, Inc. Optical interference filter having parallel phase control elements
US7061946B2 (en) * 2002-11-13 2006-06-13 Intel Corporation Intra-cavity etalon with asymmetric power transfer function
US6831784B2 (en) * 2003-03-31 2004-12-14 Kyocera Corporation Multilayered optical thin-film filter, method of designing the same and filter module utilizing the same
US7023620B1 (en) 2003-07-03 2006-04-04 Research Electro-Optics, Inc. Beam array pitch controller
JP4383194B2 (ja) * 2004-02-03 2009-12-16 古河電気工業株式会社 所定の波長光学特性を有する誘電体多層膜フィルタ、その設計方法、その設計プログラム、およびその誘電体多層膜フィルタを用いた光アド・ドロップシステム
TWI237129B (en) * 2004-06-17 2005-08-01 Asia Optical Co Inc CWDM filter
JP4401880B2 (ja) * 2004-07-09 2010-01-20 光伸光学工業株式会社 多重バンドパスフィルタ
CN100385264C (zh) * 2004-11-05 2008-04-30 中国科学院上海技术物理研究所 集成窄带滤光片
TWI344018B (en) * 2005-07-01 2011-06-21 Hon Hai Prec Ind Co Ltd Optical filter
TWI335997B (en) * 2005-07-01 2011-01-11 Hon Hai Prec Ind Co Ltd Optical filter
CN100454050C (zh) * 2005-07-15 2009-01-21 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 滤光装置
CN100462738C (zh) * 2005-07-15 2009-02-18 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 滤光装置
CA2570965A1 (en) 2005-12-15 2007-06-15 Jds Uniphase Corporation Security device with metameric features using diffractive pigment flakes
US7773300B2 (en) * 2006-05-12 2010-08-10 Semrock, Inc. Multiphoton fluorescence filters
US8958156B1 (en) 2007-05-30 2015-02-17 Semrock, Inc. Interference filter for non-zero angle of incidence spectroscopy
US9354370B1 (en) 2007-09-25 2016-05-31 Semrock, Inc. Optical thin-film notch filter with very wide pass band regions
CN101446648B (zh) * 2007-11-27 2010-06-02 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 分光镜及其分光膜层
US7916395B2 (en) * 2008-02-26 2011-03-29 Honeywell International Inc. Cavity ring-down spectroscopy mirror, and methods of using same
US8879150B1 (en) 2009-03-20 2014-11-04 Semrock, Inc. Optical thin-film polarizing bandpass filter
US8441710B2 (en) * 2010-01-08 2013-05-14 Semrock, Inc. Tunable thin-film filter
US9019606B2 (en) 2011-05-20 2015-04-28 Semrock, Inc. Multilayer thin film attenuators
US10007039B2 (en) 2012-09-26 2018-06-26 8797625 Canada Inc. Multilayer optical interference filter
US9304237B1 (en) 2012-12-10 2016-04-05 Semrock, Inc. Tunable band-pass filter
KR102401136B1 (ko) 2013-01-29 2022-05-24 비아비 솔루션즈 아이엔씨. 가변 광 필터 및 그에 기반한 파장­선택 센서
CN103576229B (zh) * 2013-11-25 2015-07-29 杭州科汀光学技术有限公司 无偏振的立方棱镜带通滤光片
CN103713342B (zh) * 2013-11-29 2016-04-27 杭州麦乐克电子科技有限公司 通过带为11500-12500nm的自然环境普查的红外成像滤光片
US10145999B2 (en) * 2016-01-28 2018-12-04 Apple Inc. Polarizing beamsplitter that passes s-polarization and reflects p-polarization
US10782460B2 (en) 2017-05-22 2020-09-22 Viavi Solutions Inc. Multispectral filter
CN111399103B (zh) * 2020-04-22 2023-07-18 杭州科汀光学技术有限公司 一种低应力的多层薄膜滤光片及其制备方法
CN112130243B (zh) * 2020-09-29 2022-08-16 苏州众为光电有限公司 一种透过率线性变化的滤光片
CN112230323B (zh) * 2020-09-29 2022-11-11 苏州众为光电有限公司 一种透过率线性变化的滤光片的制备方法
CN112230324B (zh) * 2020-10-15 2022-08-12 苏州众为光电有限公司 一种高性能的带通滤光片
CN113433607B (zh) * 2021-05-28 2023-06-27 浙江晶驰光电科技有限公司 一种双带通滤光片及其制作方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1270042A (en) * 1970-05-29 1972-04-12 Standard Telephones Cables Ltd Optical filters
US4373782A (en) * 1980-06-03 1983-02-15 Optical Coating Laboratory, Inc. Non-polarizing thin film edge filter
JPS6038683B2 (ja) * 1981-06-24 1985-09-02 キヤノン株式会社 トリミングフイルタ−
GB8621510D0 (en) * 1986-09-06 1986-10-15 British Aerospace Ring laser gyroscopes
JPH04212102A (ja) * 1990-07-26 1992-08-03 Canon Inc ダイクロイックミラーおよび該ミラーを用いた投写型表示装置
US5274661A (en) * 1992-12-07 1993-12-28 Spectra Physics Lasers, Inc. Thin film dielectric coating for laser resonator
US5999322A (en) * 1995-06-28 1999-12-07 Cushing; David Henry Multilayer thin film bandpass filter

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102093791B1 (ko) * 2018-01-09 2020-03-26 인제대학교 산학협력단 돋보기 안경

Also Published As

Publication number Publication date
CA2220291C (en) 2003-07-08
EP0916973A1 (en) 1999-05-19
US5926317A (en) 1999-07-20
JPH10197721A (ja) 1998-07-31
CA2220291A1 (en) 1998-05-06

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