JPH0868554A - ダウンフロー式クリーンルーム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は、半導体工場等で使用されるダウン
フロー式クリーンルームに関し、部分的にフィルタを設
けるだけで、区画室の全域に清浄空気を層流状態で下降
させることを目的とする。 【構成】 天井スラブ面と、天井スラブ面の下方に該天
井スラブ面との間に上部チャンバを形成するように配置
され、複数のフィルタと複数の盲板を交互に配置してな
る上部天井と、上部天井の下方に該上部天井との間に下
部チャンバを形成するように配置され、全面に亘って複
数の空気供給孔が形成された下部天井とを有している。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、半導体工場等で使用さ
れるダウンフロー式クリーンルームに関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、半導体ウェハー等の製造を行な
うクリーンルームは、室内空気に対して高度の清浄度が
要求される。

【０００３】クリーンルームの室内の空気を清浄化する
装置には、ＨＥＰＡ（High Efficiency Particulate Ai
rfilter)フィルタやＵＬＰＡフィルタ等の捕集フィルタ
や化学吸着を利用したケミカルフィルタ等の吸着フィル
タが用いられ、塵埃を多く含んだ空気が清浄される。

【０００４】かかる室内の空気を清浄にするダウンフロ
ー式クリーンルームとして、例えば、図７に示すものが
知られている。図において、符号１０１は建屋で、この
建屋１０１の上部一杯に天井チャンバ１０２が設けら
れ、この天井チャンバ１０２の下面全体にフィルタとし
てＨＥＰＡフィルタ１０３が敷設されるとともに、多数
の吸入孔１０４Ａを有する床１０４が敷設されている。
従って、建屋１０１の内部は、ＨＥＰＡフィルタ１０３
と床１０４とにより上記天井チャンバ１０２，室１０
５，床下チャンバ１０６とに分割されている。

【０００５】建屋１０１の一側には、送風機１０７が配
置され、この送風機１０７の一端には第１循環ダクト１
０８の一端が接続され、第１循環ダクト１０８の他端は
天井チャンバ１０２内に開口している。また、送風機１
０７の他端には第２循環ダクト１０９の一端が接続さ
れ、第２循環ダクト１０９の他端は床下チャンバ１０６
内に開口している。なお、送風機１０７の前後のいずれ
かにはクリーンルーム内の温度調節をするものとして、
ヒーティングコイル，クーリングコイル等の温度調整器
が取り付けられている（図示しない）。

【０００６】しかして、室１０５内では、ＨＥＰＡフィ
ルタ１０３から清浄空気１１０が床１０４に向って層流
状態で下降している。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】ところが、従来のダウ
ンフロー式クリーンルームにあっては、室１０５内で
は、清浄空気１１０を層流状態で全域に降下させるため
には、ＨＥＰＡフィルタ１０３を全面に亘って敷設する
必要があり、ＨＥＰＡフィルタ１０３の敷設面積が広く
なり、コストアップを招くことになる。

【０００８】なお、従来、コンベンショナル式クリーン
ルームが、実開平２−１１１４１１号公報に示すように
知られている（図８に図示）。図示のように、このコン
ベンショナル式クリーンルーム２００は、建屋２０１を
有し、この建屋２０１の天井板２０２に所定の間隔で複
数のフィルタチャンバ２０３が配置されている。コンベ
ンショナル式クリーンルーム２００では、フィルタチャ
ンバ２０３が天井板２０２の全面に亘って敷設されてい
ないので、敷設面積が少なく、ダウンフロー式クリーン
ルームのコスト高という短所を補うものではあるが、フ
ィルタチャンバ２０３のフィルタ部分２０３Ａが天井板
２０２の下面に突き出しているので、フィルタ部分２０
３Ａの側方に渦流２０４が発生して停滞し、渦流２０４
が循環気流とならないので、塵埃が速かに排出されない
という欠点がある。

【０００９】本発明は、上述の問題点を解決するために
なされたもので、その目的は、部分的にフィルタを設け
るだけで、室の全域に清浄空気を層流状態で下降させる
ことができるダウンフロー式クリーンルームを提供する
ことである。

【００１０】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は、
天井スラブ面の下方に配置された上部天井チャンバと、
天井スラブ面との間に上部天井チャンバを形成するよう
に配置され、複数のフィルタと複数の盲板を交互に配置
してなる上部天井と、上部天井の下方に配置された下部
天井チャンバと、上部天井との間に下部天井チャンバを
形成するように配置され、全面に亘って複数の空気供給
孔が形成された下部天井と、下部天井の下方に配置さ
れ、下部天井からの清浄空気が層流状態で下降する室
と、室から排出される清浄空気をフィルタに導いて室と
フィルタの間で清浄空気を循環させる空気調和装置とを
有していることを特徴とする。

【００１１】請求項２記載の発明は、天井スラブ面の下
方に配置されたダクトと、ダクトの下方に配置され、該
ダクトに接続された複数のフィルタと複数の盲板を交互
に配置してなる上部天井と、上部天井の下方に配置され
た下部天井チャンバと、上部天井との間に下部天井チャ
ンバを形成するように配置され、全面に亘って複数の空
気供給孔が形成された下部天井と、下部天井の下方に配
置され、下部天井からの清浄空気が層流状態で下降する
室と、室から排出される清浄空気をフィルタに導いて室
とフィルタの間で清浄空気を循環させる空気調和装置と
を有していることを特徴とする。

【００１２】請求項３記載の発明は、請求項１または２
記載の発明において、上部天井と下部天井の間には、フ
ィルタに対応する上流側分割チャンバと、盲板に対応す
る下流側分割チャンバとが、開閉自在な開口面積調整手
段を有する仕切板を介して隣接して設けられていること
を特徴とする。

【００１３】請求項４記載の発明は、請求項１または２
記載の発明において、上部天井と下部天井の間には、フ
ィルタに対応する上流側分割チャンバと、盲板に対応す
る下流側分割チャンバとが、開閉自在なシャッタ装置を
介して隣接して設けられていることを特徴とする。

【００１４】請求項５記載の発明は、請求項１，２，
３，４いずれか記載の発明において、複数のフィルタの
総合面積の上部天井に対する面積比率が小さくなるにつ
れて、複数の空気供給孔の総合面積の下部天井に対する
面積比率が小さくなることを特徴とする。

【００１５】請求項６記載の発明は、請求項１，２，
３，４，５いずれか記載の発明において、複数のフィル
タの総合面積の上部天井に対する面積比率が５０％に対
して、複数の空気供給孔の総合面積の下部天井に対する
面積比率が４０％であることを特徴とする。

【００１６】請求項７記載の発明は、請求項１，２，
３，４，５いずれか記載の発明において、複数のフィル
タの総合面積の上部天井に対する面積比率が２５％に対
して、複数の空気供給孔の総合面積の下部天井に対する
面積比率が２０％であることを特徴とする。

【００１７】

【作用】請求項１記載の発明において、上部天井チャン
バからの清浄空気は、上部天井のフィルタを通って下部
天井チャンバに吹き出される。

【００１８】下部天井チャンバでは、フィルタから垂直
に吹き出された清浄空気は、下部天井のフィルタに対向
する部分によって流れが遮られる。従って、清浄空気
は、下部天井チャンバの全域に亘って拡散し、下部天井
チャンバ内で減圧される。この減圧された清浄空気は、
下部天井の複数の空気供給孔を通って下部天井の下方の
室に吹き出される。

【００１９】この時、下部天井の全面に亘って複数の空
気供給孔が形成されているので、下部天井の全面を通っ
て室に流れる清浄空気は均一になり、室の全域に層流状
態で下降する。

【００２０】請求項２記載の発明において、上部天井の
フィルタにダクトが接続されているので、ダクトで清浄
空気がフィルタに導かれ、フィルタから下部天井チャン
バに吹き出す空気圧が高くなる。

【００２１】請求項３記載の発明において、上部天井と
下部天井の間には、フィルタに対応する上流側分割チャ
ンバと、盲板に対応する下流側分割チャンバとが、開閉
自在な開口面積調整手段を有する仕切板を介して隣接し
て設けられているので、開口面積調整手段の開閉量を調
整することにより、上流側分割チャンバ及び下流側分割
チャンバから下部天井を介してその下側の室へ吹き出す
清浄空気の量，速度が制御される。

【００２２】請求項４記載の発明において、請求項３記
載の発明と同様の作用が生じる。請求項５記載の発明に
おいて、複数のフィルタの総合面積の上部天井に対する
面積比率が小さくなるにつれて、複数の空気供給孔の総
合面積の下部天井に対する面積比率が小さくなるので、
下部天井からその下側の室へ吹き出される清浄空気の分
散率が確保され、下部天井から室に均一に清浄空気が吹
き出される。

【００２３】請求項６記載の発明において、複数のフィ
ルタの総合面積の上部天井に対する面積比率が５０％に
対して、複数の空気供給孔の総合面積の下部天井に対す
る面積比率が４０％であるので、下部天井からその下側
の室へ吹き出される清浄空気の分散率が確保され、下部
天井から室に均一に清浄空気が吹き出される。

【００２４】請求項７記載の発明において、複数のフィ
ルタの総合面積の上部天井に対する面積比率が２５％に
対して、複数の空気供給孔の総合面積の下部天井に対す
る面積比率が２０％であるので、下部天井からその下側
の室へ吹き出される清浄空気の分散率が確保され、下部
天井から室に均一に清浄空気が吹き出される。

【００２５】

【実施例】以下、図面により本発明の実施例について説
明する。請求項１，５，６，７記載の発明の実施例に係
わるダウンフロー式クリーンルームを図１ないし図３に
より説明する。

【００２６】図１において、符号１は建屋で、建屋１の
最上部には天井スラブ面２が形成されている。天井スラ
ブ面２の下方に上部天井３が配置され、上部天井３はＨ
ＥＰＡフィルタからなるフィルタ４と盲板５を交互に複
数組配置してなる。上部天井３と該天井スラブ面２との
間に上部天井チャンバ６が形成されている。

【００２７】上部天井３の下方に所定の距離を隔てて下
部天井７が配置され、下部天井７の全面に亘って複数の
空気供給孔７Ａが形成されている。この下部天井７と上
部天井３との間に下部天井チャンバ８が形成されてい
る。

【００２８】下部天井７の下方には多数の吸入孔９Ａを
有する床９が配設されている。床９と下部天井７の間に
室１０が形成されている。さらに、床９の下方には床下
チャンバ１１が形成されている。従って、建屋１の内部
は、上部天井３，下部天井７，床９により、上部天井チ
ャンバ６，下部天井チャンバ８，室１０，床下チャンバ
１１に分割されている。

【００２９】建屋１の一側には、送風機１２が配置さ
れ、この送風機１２の一端には第１循環ダクト１３Ａの
一端が接続され、第１循環ダクト１３Ａの他端は上部天
井チャンバ６内に開口している。また、送風機１２の他
端には第２循環ダクト１３Ｂの一端が接続され、第２循
環ダクト１３Ｂの他端は床下チャンバ１１内に開口して
いる。上記の送風機１２，第１循環ダクト１３Ａ，第２
循環ダクト１３Ｂにより空気調和装置１４が構成されて
いる。なお、送風機１２の前後のいずれかにはクリーン
ルーム内の温度調節をするものとして、ヒーティングコ
イル，クーリングコイル等の温度調整器が取り付けられ
ている（図示しない）。

【００３０】しかして、この空気調和装置１４により室
１０から床下チャンバ１１，第２循環ダクト１３Ｂを介
して排出される清浄空気は、上部天井チャンバ６に導か
れ、さらに、上部天井３のフィルタ４により清浄化され
た後、下部天井チャンバ８，下部天井７を介して室１０
に戻る。従って、清浄空気は上部天井３のフィルタ４に
より清浄化されながら、空気調和装置１４により室６と
上部天井チャンバ６の間で循環している。

【００３１】そして、上部天井チャンバ６からの清浄空
気が上部天井３のフィルタ４から下部天井チャンバ８に
吹き出される際、下部天井チャンバ８では、フィルタ４
から垂直に吹き出された清浄空気は、下部天井７のフィ
ルタ４に対向する部分によって流れが遮られる。従っ
て、清浄空気は、下部天井チャンバ８の全域に亘って拡
散し、下部天井チャンバ８内で減圧される。この減圧さ
れた清浄空気は、下部天井７の複数の空気供給孔７Ａを
通って下部天井７の下側の室１０に吹き出される。

【００３２】この時、下部天井７の全面に亘って複数の
空気供給孔７Ａが形成されているので、下部天井７の全
面を通って室１０に流れる清浄空気は均一になり、ダウ
ンフローと称される下降層流Ｋが形成され、コンベンシ
ョナルフローを形成することなく、渦流が生じなること
はない。要するに、下降層流Ｋが形成され、この下降層
流Ｋは床９に向かう。

【００３３】そして、複数のフィルタ４の総合面積の上
部天井３に対する面積比率が小さくなるにつれて、複数
の空気供給孔７Ａの総合面積の下部天井７に対する面積
比率が小さく設定されている。例えば、図２に示す実験
において、複数のフィルタ４の総合面積の上部天井３に
対する面積比率が５０％に対して、複数の空気供給孔７
Ａの総合面積の下部天井７に対する面積比率が４０％に
設定され、さらに、フィルタ吹き出し速度＝0.5m/sec、
フィルタサイズ＝610mm ×610mm 、下部天井チャンバ８
の垂直寸法＝600mm とすれば、下部天井７の直下の風速
＝0.25m/sec ±10％となる。かかる実験条件によれば、
複数の空気供給孔７Ａの総合面積の下部天井７に対する
面積比率が４０％に設定されていることからフィルタ４
から吹き出される清浄空気の下部天井７での抵抗が小さ
くなり、複数のフィルタ４の設置密度が比較的密である
ことと相まって下部天井７からその下側の室１０へ吹き
出される清浄空気の分散率が確保され、下部天井７から
室１０に均一に清浄空気が吹き出される。また、上述の
実験条件では、下部天井チャンバ８の垂直寸法＝600mm
と比較的に小さくすることができ、従って、室１０の高
さが確保される。

【００３４】また、図３に示す実験において、複数のフ
ィルタ４の総合面積の上部天井３に対する面積比率が２
５％に対して、複数の空気供給孔７Ａの総合面積の下部
天井７に対する面積比率が２０％に設定され、さらに、
フィルタ吹き出速度＝1m/sec、フィルタサイズ＝610mm
×610mm 、下部天井チャンバ８の垂直寸法＝1200mmとす
れば、下部天井７の直下の風速＝0.25m/sec ±10％とな
る。かかる実験条件によれば、複数のフィルタ４の設置
密度が比較的疎であっても、下部天井７からその下側の
室１０へ吹き出される清浄空気の分散率が確保され、下
部天井７から室１０に均一に清浄空気が吹き出される。

【００３５】なお、図７の従来例に示すように天井の全
面に亘ってフィルタを装着する場合に比して、下部天井
７からの室１０への清浄空気の下降層流Ｋの均一性は、
損なわれるものの、要求される室１０内の清浄度がクラ
ス１００以上の清浄度においては、要求される室１０内
の清浄度の品質に適合する。

【００３６】以上の如き構成によれば、上部天井３に部
分的にフィルタ４を設けることにより、下部天井７から
清浄空気を室１０の全域に層流状態で下降させることが
でき、上部天井３に全面的にフィルタ４を設置した場合
に比して、フィルタ４がないスペース分（盲板５の面積
分）だけコストを節約できる。

【００３７】なお、本実施例においては、フィルタとし
てＨＥＰＡフィルタを例に挙げて説明しているが、これ
に限定されることなく、例えば、ＵＬＰＡフィルタ等の
捕集フィルタや化学吸着を利用したケミカルフィルタ等
の吸着フィルタを用いることもできる。

【００３８】図４は、請求項２記載の発明の実施例に係
わるダウンフロー式クリーンルームを示す。本実施例に
おいては、請求項１記載の発明の実施例に係わるダウン
フロー式クリーンルームと同一構成部品を使用し、同一
構成部品については同一符号を付し、その説明を省略す
る。相違する構成部分についてのみ説明する。

【００３９】図示のように、本実施例では、上部天井チ
ャンバ６内に、二点鎖線で示すダクト１５が配置されて
いる。ダクト１５は複数のフィルタ４に接続している。
このダクト１５を用いることにより、清浄空気をフィル
タ４に導き、フィルタ４から下部天井チャンバ８に吹き
出す空気圧を高くできる。

【００４０】なお、本実施例においては、上部天井チャ
ンバ６内に二点鎖線で示すダクト１５が配置されている
が、上部天井チャンバ６がなくても、ダクト１５だけを
配置することもできる。

【００４１】請求項３記載の発明の実施例に係わるダウ
ンフロー式クリーンルームを図５により説明する。本実
施例に係わるダウンフロー式クリーンルームは請求項１
記載の発明の実施例に係わるダウンフロー式クリーンル
ームと基本的に同じ構造であり、相違する構成部分につ
いてのみ説明する。なお、本実施例においては、請求項
１記載の発明の実施例に係わるダウンフロー式クリーン
ルームと同一構成部分については同一符号を付して説明
を省略する。

【００４２】図において、上部天井３と下部天井７の間
には、図面上の左側から順番に第１仕切板２１，第２仕
切板２２，第３仕切板２３が設けられている。第１仕切
板２１，第３仕切板２３は開閉自在なダンパ（開口面積
調整手段）２１Ａ，２３Ａをそれぞれ有している。図面
上の左側壁面２４と第１仕切板２１の間に位置して上流
側分割チャンバ２５が形成され、上流側分割チャンバ２
５はフィルタ４に対応している。第１仕切板２１と第２
仕切板２２の間に位置して下流側分割チャンバ２６が形
成され、盲板５に対応している。上流側分割チャンバ２
５と下流側分割チャンバ２６は第１仕切板２１を介して
隣接している。

【００４３】さらに、第２仕切板２２と第３仕切板２３
の間に位置して上流側分割チャンバ２７が形成され、上
流側分割チャンバ２７はフィルタ４に対応している。第
３仕切板２３と図面上の右側壁面２８の間に位置して下
流側分割チャンバ２９が形成され、盲板５に対応してい
る。上流側分割チャンバ２７と下流側分割チャンバ２９
は第３仕切板２３を介して隣接している。

【００４４】しかして、ダンパ２１Ａ，２３Ａの開閉度
が調整されることにより、上流側分割チャンバ２５，２
７から、下流側分割チャンバ２６，２９に流れる風量が
調整され、従って、上流側分割チャンバ２５，２７、及
び、下流側分割チャンバ２６，２９から室１０の部分へ
の下降層流Ｋの風量が調整される。例えば、上流側分割
チャンバ２５，２７の下方に生産設備が配置され、下流
側分割チャンバ２６，２９の下方に操作員が配置されて
いる場合、上流側分割チャンバ２５，２７の下方の下降
層流Ｋの風量が多くされ、生産設備から発生した塵埃の
除去がされるとともに、下流側分割チャンバ２６，２９
の下方の下降層流Ｋの風量が少なくされ、操作員から発
生した塵埃の除去がされるようになっている。

【００４５】以上の如き構成によれば、請求項１記載の
発明の実施例に係わるダウンフロー式クリーンルームの
効果に加えて、ダンパ２１Ａ，２３Ａの開閉度を調整す
ることにより、上流側分割チャンバ２５，２７、下流側
分割チャンバ２６，２９から下部天井７を介してその下
側の室１０へ吹き出す下降層流Ｋの量，速度を制御で
き、従って、室１０内で発生する塵埃の状況に対応でき
る。

【００４６】請求項４記載の発明の実施例に係わるダウ
ンフロー式クリーンルームを図６により説明する。本実
施例に係わるダウンフロー式クリーンルームは請求項３
記載の発明の実施例に係わるダウンフロー式クリーンル
ームと基本的に同じ構造であり、相違する構成部分につ
いてのみ説明する。なお、本実施例においては、請求項
３記載の発明の実施例に係わるダウンフロー式クリーン
ルームと同一構成部分については、同一構成部分につい
ては同一符号を付して説明を省略する。

【００４７】図において、上部天井３と下部天井７の間
には、第１シャッタ装置３１，仕切板３２，第２シャッ
タ装置３３が設けられている。第１シャッタ装置３１は
２枚の引戸３１Ａ，３１Ａで構成され、開閉自在となっ
ている。第２シャッタ装置３３は２枚の引戸３３Ａ，３
３Ａで構成され、開閉自在となっている。

【００４８】図面上の左側壁面３４と第１シャッタ装置
３１の間に位置して上流側分割チャンバ３５が形成さ
れ、上流側分割チャンバ３５はフィルタ４に対応してい
る。第１シャッタ装置３１と仕切板３２の間に位置して
下流側分割チャンバ３６が形成され、盲板５に対応して
いる。上流側分割チャンバ３５と下流側分割チャンバ３
６は第１シャッタ装置３１を介して隣接している。

【００４９】さらに、仕切板３２と第２シャッタ装置３
３の間に位置して上流側分割チャンバ３７が形成され、
上流側分割チャンバ３７はフィルタ４に対応している。
第２シャッタ装置３３と図面上の右側壁面３８の間に位
置して下流側分割チャンバ３９が形成され、盲板５に対
応している。上流側分割チャンバ３７と下流側分割チャ
ンバ３９は第２シャッタ装置３３を介して隣接してい
る。

【００５０】しかして、本実施例に係わるダウンフロー
式クリーンルームは請求項３記載の発明の実施例に係わ
るダウンフロー式クリーンルームと同様の作用，効果を
奏する。

【００５１】

【発明の効果】以上説明したように、請求項１記載の発
明においては、上部天井に部分的にフィルタを設けるこ
とにより、下部天井から清浄空気を室の全域に層流状態
で下降させることができ、上部天井に全面的にフィルタ
を設置した場合に比して、フィルタがないスペース分だ
けコストを節約できる。

【００５２】請求項２記載の発明によれば、請求項１記
載の発明と同様な効果を奏する。また、上部天井のフィ
ルタにダクトが接続されているので、ダクトで清浄空気
をフィルタに導き、フィルタから下部天井チャンバに吹
き出す空気圧を高くできる。

【００５３】請求項３記載の発明において、上部天井と
下部天井の間には、フィルタに対応する上流側分割チャ
ンバと、盲板に対応する下流側分割チャンバとが、開閉
自在な開口面積調整手段を有する仕切板を介して隣接し
て設けられているので、開口面積調整手段の開閉量を調
整することにより、上流側分割チャンバ及び下流側分割
チャンバから下部天井を介してその下側の室へ吹き出す
清浄空気の量，速度を制御でき、従って、室内で発生す
る塵埃の状況に対応できる。

【００５４】請求項４記載の発明において、請求項３記
載の発明と同様の効果が生じる。請求項５記載の発明に
おいて、複数のフィルタの総合面積の上部天井に対する
面積比率が小さくなるにつれて、複数の空気供給孔の総
合面積の下部天井に対する面積比率が小さくなるので、
下部天井からその下側の室へ吹き出される清浄空気の分
散率を確保し、下部天井から室に均一に清浄空気を吹き
出すことができる。

【００５５】請求項６記載の発明において、複数のフィ
ルタの総合面積の上部天井に対する面積比率が５０％に
対して、複数の空気供給孔の総合面積の下部天井に対す
る面積比率が４０％であるので、下部天井からその下側
の室へ吹き出される清浄空気の分散率を確保し、下部天
井から室に均一に清浄空気を吹き出すことができる。

【００５６】請求項７記載の発明において、複数のフィ
ルタの総合面積の上部天井に対する面積比率が２５％に
対して、複数の空気供給孔の総合面積の下部天井に対す
る面積比率が２０％であるので、下部天井からその下側
の室へ吹き出される清浄空気の分散率を確保し、下部天
井から室に均一に清浄空気を吹き出すことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】請求項１記載の発明の実施例に係わるダウンフ
ロー式クリーンルームの断面図である。

【図２】請求項６記載の発明の実施例に係わるダウンフ
ロー式クリーンルームの要部説明図である

【図３】請求項７記載の発明の実施例に係わるダウンフ
ロー式クリーンルームの要部説明図である

【図４】請求項２記載の発明の実施例に係わるダウンフ
ロー式クリーンルームの断面図である。

【図５】請求項３記載の発明の実施例に係わるダウンフ
ロー式クリーンルームの断面図である。

【図６】請求項４記載の発明の実施例に係わるダウンフ
ロー式クリーンルームの断面図である。

【図７】従来におけるダウンフロー式クリーンルームの
断面図である。

【図８】従来におけるコンベンショナル式クリーンルー
ムの断面図である。

【符号の説明】

２ 天井スラブ面 ３ 上部天井 ４ フィルタ ５ 盲板 ６ 上部天井チャンバ ７ 下部天井 ７Ａ 空気供給孔 ８ 下部天井チャンバ １０ 室 １４ 空気調和装置

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 天井スラブ面の下方に配置された上部天
   井チャンバと、 天井スラブ面との間に上部天井チャンバを形成するよう
   に配置され、複数のフィルタと複数の盲板を交互に配置
   してなる上部天井と、 上部天井の下方に配置された下部天井チャンバと、 上部天井との間に下部天井チャンバを形成するように配
   置され、全面に亘って複数の空気供給孔が形成された下
   部天井と、 下部天井の下方に配置され、下部天井からの清浄空気が
   層流状態で下降する室と、 室から排出される清浄空気をフィルタに導いて室とフィ
   ルタの間で清浄空気を循環させる空気調和装置とを有し
   ていることを特徴とするダウンフロー式クリーンルー
   ム。
2. 【請求項２】 天井スラブ面の下方に配置されたダクト
   と、 ダクトの下方に配置され、該ダクトに接続された複数の
   フィルタと複数の盲板を交互に配置してなる上部天井
   と、 上部天井の下方に配置された下部天井チャンバと、 上部天井との間に下部天井チャンバを形成するように配
   置され、全面に亘って複数の空気供給孔が形成された下
   部天井と、 下部天井の下方に配置され、下部天井からの清浄空気が
   層流状態で下降する室と、 室から排出される清浄空気をフィルタに導いて室とフィ
   ルタの間で清浄空気を循環させる空気調和装置とを有し
   ていることを特徴とするダウンフロー式クリーンルー
   ム。
3. 【請求項３】 上部天井と下部天井の間には、フィルタ
   に対応する上流側分割チャンバと、盲板に対応する下流
   側分割チャンバとが、開閉自在な開口面積調整手段を有
   する仕切板を介して隣接して設けられていることを特徴
   とする請求項１または２記載のダウンフロー式クリーン
   ルーム。
4. 【請求項４】 上部天井と下部天井の間には、フィルタ
   に対応する上流側分割チャンバと、盲板に対応する下流
   側分割チャンバとが、開閉自在なシャッタ装置を介して
   隣接して設けられていることを特徴とする請求項１また
   は２記載のダウンフロー式クリーンルーム。
5. 【請求項５】 複数のフィルタの総合面積の上部天井に
   対する面積比率が小さくなるにつれて、複数の空気供給
   孔の総合面積の下部天井に対する面積比率が小さくなる
   ことを特徴とする請求項１，２，３，４いずれか記載の
   ダウンフロー式クリーンルーム。
6. 【請求項６】 複数のフィルタの総合面積の上部天井に
   対する面積比率が５０％に対して、複数の空気供給孔の
   総合面積の下部天井に対する面積比率が４０％であるこ
   とを特徴とする請求項１，２，３，４，５いずれか記載
   のダウンフロー式クリーンルーム。
7. 【請求項７】 複数のフィルタの総合面積の上部天井に
   対する面積比率が２５％に対して、複数の空気供給孔の
   総合面積の下部天井に対する面積比率が２０％であるこ
   とを特徴とする請求項１，２，３，４，５いずれか記載
   のダウンフロー式クリーンルーム。