JPH0867668A

JPH0867668A - ピロリジン誘導体

Info

Publication number: JPH0867668A
Application number: JP6205342A
Authority: JP
Inventors: Hiroshi Suga; 浩菅; Fumiaki Iwasaki; 史哲岩崎
Original assignee: Tokuyama Corp
Current assignee: Tokuyama Corp
Priority date: 1994-08-30
Filing date: 1994-08-30
Publication date: 1996-03-12

Abstract

(57)【要約】【目的】医薬中間体として有用であり、その他化粧品、
及び有機品製造原料として利用できる新規なピロリジン
誘導体を提供する。【構成】一般式（Ｉ）【化１】（但し、Ｒはアルコキシカルボニル基またはヒドロキシ
メチル基である。）で示されるピロリジン誘導体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、特に医薬中間体として
有用であり、その他、化粧品及び有機品製造原料として
利用できる新規なピロリジン誘導体を提供するものであ
る。

【０００２】

【従来の技術】Ｌ−ハイドロキシプロリンは、その分子
内に反応性の高い官能基であるアミノ基及び水酸基を有
する。このため、Ｌ−ハイドロキシプロリンから各種の
誘導体を製造する場合、これらの官能基が別の官能基に
変換されないよう、また、副反応を助長しないよう何等
かの保護基で保護しておく必要がある。一般的にはアミ
ノ基をｔ−ブトキシカルボニル基で、水酸基をｔ−ブチ
ルジメチルシリル基で保護することが知られている（特
開平２−３００１８７号公報、特開平４−３２１６８８
号公報）。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来のように
アミノ基をｔ−ブトキシカルボニル基で、水酸基をｔ−
ブチルジメチルシリル基で保護したピロリジン誘導体で
は、各々の保護基が共に有機溶媒中では酸性条件下で不
安定であり、塩基性条件下で安定という特徴を有するた
め、一方の保護基を選択的に脱離させることが困難であ
った。

【０００４】このため、温和な条件下で一方の保護基の
みを選択的に脱離できるピロリジン誘導体の開発が強く
望まれていた。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、塩基性の
条件で脱離する保護基を水酸基あるいはアミノ基に導入
することができれば、上記課題を解決することができる
と考え、鋭意検討した結果、水酸基にｔ−ブトキシカル
ボニル基を導入した新規ピロリジン誘導体が、この課題
を解決することを見いだし、本発明を完成するに至っ
た。

【０００６】即ち、本発明は、一般式（Ｉ）

【０００７】

【化２】

【０００８】（但し、Ｒはアルコキシカルボニル基また
はヒドロキシメチル基である。）で示されるピロリジン
誘導体である。

【０００９】上記一般式（Ｉ）中、Ｒで示される基の具
体例としては、例えば、メトキシカルボニル基、エトキ
シカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基等の炭素
数１〜４の低級アルコキシカルボニル基；ヒドロキシル
メチル基等が挙げられる。

【００１０】上記一般式（Ｉ）で示される化合物を具体
的に例示すると、（２Ｓ，４Ｒ）−１−ｔ−ブトキシカ
ルボニル−４−ｔ−ブトキシカルボニルオキシ−２−メ
トキシカルボニルピロリジン、（２Ｓ，４Ｒ）−１−ｔ
−ブトキシカルボニル−４−ｔ−ブトキシカルボニルオ
キシ−２−エトキシカルボニルピロリジン、（２Ｓ，４
Ｒ）−１−ｔ−ブトキシカルボニル−４−ｔ−ブトキシ
カルボニルオキシ−２−イソプロポキシカルボニルピロ
リジン、（２Ｓ，４Ｒ）−１−ｔ−ブトキシカルボニル
−４−ｔ−ブトキシカルボニルオキシ−２−ヒドロキシ
メチルピロリジン等を挙げることができる。

【００１１】本発明の上記した一般式で示される化合物
は、一般に常温常圧で無色、あるいは淡黄色の粘ちょう
な液体として存在する。該化合物は、メタノール、エタ
ノール、イソプロパノール等のアルコール；塩化メチレ
ン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類；アセト
ン、メチルエチルケトン等のケトン類；アセトニトリル
等のニトリル類；酢酸エチル、酢酸プロピル等のエステ
ル類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等の
エーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトア
ミド等のアミド類；ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化
水素類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ク
ロロベンゼン等の置換芳香族炭化水素類；ジメチルスル
ホキシドなど有機溶媒に可溶であるが、水には不溶であ
り、次のような手段で確認できる。

【００１２】（１）¹Ｈ−核磁気共鳴スペクトル（¹Ｈ−
ＮＭＲ）を測定することにより、前記一般式で示される
化合物中に存在する水素原子の結合様式を知ることがで
きる。

【００１３】（２）赤外吸収スペクトル（ＩＲ）を測定
することにより、前記一般式で表される化合物の官能基
に由来する特性吸収を観察することができる。

【００１４】（３）質量スペクトル（ＭＳ）を測定し、
観察される各ピーク（一般にはイオン質量数ｍをイオン
の荷電数ｅで除したｍ／ｅで表される値）に相当する組
成式を算出することにより、測定に供した化合物の分子
内における各原子団の結合様式を知ることができる。

【００１５】（４）元素分析によって炭素、水素、窒素
の各重量％を求めることができる。更に、認知された各
元素の重量％の和を１００から減ずることにより、酸素
の重量％を算出することができる。従って、相当する生
成物の組成を決定することができる。

【００１６】前記一般式（Ｉ）で示される化合物の代表
的な製造方法としては以下の方法を挙げることができ
る。即ち、前記一般式（Ｉ）中のＲがアルコキシカルボ
ニル基である化合物の製造方法は、下記一般式（II）

【００１７】

【化３】

【００１８】（但しＲはアルコキシカルボニル基であ
る。）で示される化合物を塩基の存在下、ジ−ｔ−ブチ
ルジカーボネートと反応させることによって製造するこ
とができる。（以下反応（Ａ）と略す。）上記の一般式（II）中、Ｒは一般式（Ｉ）と同様であ
る。上記一般式（II）で示される化合物を具体的に例示
すると、（２Ｓ，４Ｒ）−１−ｔ−ブトキシカルボニル
−４−ヒドロキシ−２−メトキシカルボニルピロリジ
ン、（２Ｓ，４Ｒ）−１−ｔ−ブトキシカルボニル−４
−ヒドロキシ−２−エトキシカルボニルピロリジン、
（２Ｓ，４Ｒ）−１−ｔ−ブトキシカルボニル−４−ヒ
ドロキシ−２−イソプロポキシカルボニルピロリジン等
を挙げることができる。

【００１９】これらの化合物は、特開平２−３００１８
７号公報および特開平４−３２１６８８号公報に開示さ
れている合成法で容易に合成できる。

【００２０】反応（Ａ）に於いて用いられる塩基として
は無機塩基および有機塩基が何等制限なく使用できる。
これらを具体的に例示すると、無機塩基としてはナトリ
ウムハイドライド等のアルカリ金属水素化物；ナトリウ
ム−ｔ−ブトキサイド、カリウム−ｔ−ブトキサイド等
のアルカリ金属アルコキサイド類を挙げることができ、
有機塩基としては、ピリジン、４−Ｎ，Ｎ−ジメチルア
ミノピリジン、４−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノピリジン、
４−ピペリジノピリジン、４−ピロリジノピリジン、Ｎ
−メチルイミダゾール等の芳香族第三級アミン、トリエ
チルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ，Ｎ，
Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，
Ｎ′，Ｎ′−テトラエチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，
Ｎ′，Ｎ′−テトラメチル−１，３−プロパンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチル−１，６−ヘキ
サンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラエチル−
１，３−プロパンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テト
ラエチル−１，６−ヘキサンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，
Ｎ′−テトラメチル−１，３−ブタンジアミン、Ｎ，
Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチル−１，４−ブタンジアミ
ン、ビス−［２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチル］
エーテル、ビス−［２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）プ
ロピル］エーテル、ビス−［２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルア
ミノ）エチル］スルフィド、ビス−［２−（Ｎ，Ｎ−ジ
メチルアミノ）プロピル］スルフィド、２−（Ｎ，Ｎ−
ジメチルアミノ）エチルスルフィド、ビス−［２−
（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチル］メチルアミン等の
脂肪族第三級アミン、１，４−ジアザビシクロ［２．
２．２］オクタン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．
０］ウンデセン等の脂環式アミン、Ｎ−メチルモルホリ
ン、Ｎ−エチルモルホリン等のエーテル系アミン等を挙
げることができる。

【００２１】これら塩基の中でも、反応後の処理の容易
さ等を考慮すると特にピリジン、４−Ｎ，Ｎ−ジメチル
アミノピリジン、４−ピペリジノピリジン等の芳香族第
三級アミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチル
アミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルエチレンジ
アミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルプロパンジ
アミン等の脂肪族第三級アミン等の有機塩基を使用する
ことが好ましい。

【００２２】塩基の使用量としては、無機塩基を用いる
場合は、上記一般式（II）で示される化合物との等量反
応であることから、上記一般式（II）で示される化合物
に対して１．０〜２．０倍当量、さらには１．０〜１．
５倍当量の範囲であることが好ましい。また、有機塩基
を用いる場合には、有機塩基が触媒として反応（Ａ）に
作用するため、反応後の塩基の除去の手間と、十分な反
応速度を得ることを考慮すると、一般式（II）で示され
る化合物に対して０．０００１〜２倍等量、更には０．
０００５〜１倍当量の範囲であることが好ましい。

【００２３】反応（Ａ）に於いて使用されるジ−ｔ−ブ
チルジカーボネートの量としては、上記一般式（II）で
示される化合物に対して等量以上であれば何等制限なく
用いることができるが、反応後の未反応化合物の除去の
手間を考慮すると、一般式（II）で示される化合物に対
して１〜２当量、さらには１〜１．５当量の範囲である
ことが好ましい。

【００２４】反応においては、上記一般式（II）で示さ
れる化合物とジ−ｔ−ブチルジカーボネートを直接反応
させても一向に差し支えないが、有機溶媒を用いること
もできる。それらの溶媒を具体的に例示すると、ヘキサ
ン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類；塩化メチレン、ク
ロロホルム等のハロゲン化炭化水素類；アセトン、メチ
ルエチルケトン等のケトン類；アセトニトリル等のニト
リル類；酢酸エチル、酢酸プロピル等のエステル類；ジ
エチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラハイ
ドロフラン等のエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジ
メチルアセトアミド等のアミド類；トルエン、キシレン
等の芳香族炭化水素類；クロロベンゼン等の置換芳香族
炭化水素類；ジメチルスルホキシドなどを挙げることが
できる。

【００２５】これらの溶媒は単独で使用しても良いし、
２種類以上の溶媒を混合して用いても一向に差し支えな
い。使用する溶媒の量としては特に制限されないが、あ
まり多いと生産効率が下がるため、一般的に溶媒中での
一般式（II）で示される化合物の濃度が１重量％以上、
好ましくは５重量％以上になるように溶媒を使用するの
が好ましい。

【００２６】反応（Ａ）における温度としては特に制限
されないが、あまり温度が低いと反応速度が小さくな
り、逆に温度が高いと原料の分解、副生成物の増大等の
問題が生じるため、通常−２０〜８０℃の範囲、好まし
くは０〜６０℃の範囲で行うのがよい。

【００２７】反応は常圧、加圧、減圧いずれの場合も可
能であり、反応に要する時間は反応温度、溶媒の種類、
塩基の量によっても異なるが、通常は、０．１〜６０時
間の反応で十分である。

【００２８】反応（Ａ）により得られる化合物を単離精
製する方法は特に制限されず、例えば、反応溶媒を留去
した後、残留物をクロロホルム、トルエン、エーテル等
の有機溶媒で抽出する。水洗後、該有機層は、無水硫酸
マグネシウム、塩化カルシウム等の乾燥剤で乾燥した
後、有機溶媒を留去し、残留物を真空蒸留することによ
り、目的物を得ることができる。

【００２９】前記一般式（Ｉ）の中のＲがヒドロキシメ
チル基である化合物は、反応（Ａ）によって得られた化
合物を還元することによって合成することができる。
（以下反応（Ｂ）と略す。）反応（Ｂ）に於いて用いられる還元剤としては、金属、
金属水素化物、金属水素錯化合物が何等制限なく使用で
きる。これらを具体的に例示すると、金属としてはリチ
ウム、ナトリウム等のアルカリ金属；カルシウム、マグ
ネシウム等のアルカリ土類金属、亜鉛、スズ等のその他
の金属を挙げることができ、金属水素化物としてはホウ
素、アルミニウム、ケイ素、スズ等の水素化物を挙げる
ことができ、金属水素錯化合物としては、水素化アルミ
ニウムナトリウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホ
ウ素カルシウム、水素化ホウ素亜鉛等を挙げることがで
きる。

【００３０】これら還元剤の中でも、反応後の処理の容
易さ等を考慮すると特に水素化アルミニウムナトリウ
ム、水素化ホウ素ナトリウム等の金属水素化錯化合物等
の還元剤を使用することが好ましい。更に還元力を向上
するために、臭化リチウム、塩化リチウム、塩化アルミ
ニウム、塩化亜鉛等の金属塩を混合して使用することも
できる。

【００３１】還元剤の使用量としては、上記一般式
（Ｉ）で示される化合物に対して１．０〜５．０倍当
量、さらには１．０〜２．０倍当量の範囲であることが
好ましい。また、還元力を向上するために使用する金属
塩については、還元剤と等量使用することが好ましい。

【００３２】反応（Ｂ）においては、一般に有機溶媒を
使用することが好ましい。それらの溶媒を具体的に例示
すると、塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭
化水素類；アセトニトリル等のニトリル類；酢酸エチ
ル、酢酸プロピル等のエステル類；ジエチルエーテル、
ジイソプロピルエーテル、テトラハイドルフラン等のエ
ーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド等のアミド類；エタノール、プロパノール等のアルコ
ール；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；クロ
ロベンゼン等の置換芳香族炭化水素類；ジメチルスルホ
キシドなどを挙げることができる。これらの溶媒は、単
独で使用してもよいし、２種類以上の溶媒を混合して用
いても一向に差し支えない。使用する溶媒の量としては
特に制限されないが、あまり多いと生産効率が下がるた
め、一般に溶媒中での一般式（Ｉ）で示される化合物の
濃度が１重量％〜７０重量％、好ましくは５重量％〜６
０重量％になるように溶媒を使用するのが好ましい。

【００３３】反応（Ｂ）における温度としては特に制限
されないが、あまり温度が低いと反応速度が小さくな
り、逆に温度が高いと原料の分解、副生成物の増大等の
問題が生じるため、通常−２０〜８０℃の範囲、好まし
くは０〜６０℃の範囲で行うのがよい。

【００３４】反応は常圧、加圧、減圧いずれの場合も可
能であり、反応に要する時間は反応温度、溶媒の種類、
還元剤の量によっても異なるが、通常は、０．１〜６０
時間の反応で十分である。

【００３５】反応（Ｂ）により得られる化合物を単離精
製する方法は特に制限されず、例えば、飽和塩化アンモ
ニウム水溶液を加えて、過剰の還元剤を分解し、反応溶
媒を留去した後、残留物をクロロホルム、トルエン、エ
ーテル等の有機溶媒で抽出する。水洗後、該有機層は、
無水硫酸マグネシウム、塩化カルシウム等の乾燥剤で乾
燥した後、有機溶媒を留去し、残留物を真空蒸留するこ
とにより、目的物を得ることができる。

【００３６】

【効果】本発明の前記一般式（Ｉ）で示される化合物
は、水酸基の保護基として、ｔ−ブトキシカルボニル基
を導入することによって、塩基性条件下で容易に水酸基
の保護基の脱離が可能である。従って、塩基性条件下で
アミノ基を保護したまま、容易に水酸基を他の置換基に
変換することができる。このことより温和な条件下で一
方の保護基のみを選択的に脱離することが必要なピロリ
ジン誘導体を使用する医薬中間体、その他化粧品、及び
有機品中間体として利用することができる。

【００３７】

【実施例】本発明を更に具体的に説明するため、以下、
実施例を掲げて説明するが、本発明はこれらの実施例に
限定されるものではない。

【００３８】実施例１１００ｍｌ四つ口フラスコに、ヘプタン４０ｍｌ、（２
Ｓ，４Ｒ）−１−ｔ−ブトキシカルボニル−４−ヒドロ
キシ−２−メトキシカルボニルピロリジン２．４５ｇ
（０．０１ｍｏｌ）、４−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリ
ジン０．０１２２ｇ（０．０１ｍｍｏｌ）を溶かし、室
温でジ−ｔ−ブチルジカーボネート２．６２ｇ（０．０
１２ｍｏｌ）を加え攪拌を行った。２時間で反応が終了
した後、反応溶媒を留去し、残留物をトルエンで抽出し
た。水５０ｍｌで２回洗浄した後、該有機層は、無水硫
酸マグネシウムで乾燥した。有機溶媒を留去し、残留物
を真空蒸留することにより、無色透明の粘ちょう液体
３．２ｇを得ることができた（収率＝９３％）。

【００３９】この化合物の元素分析値は、Ｈ８．１６
％，Ｃ５５．４８％，Ｎ４．２３％，Ｏ３２．１
３％であって、Ｃ₁₆Ｈ₂₇ＮＯ₇に対する計算値であるＨ
７．８８％，Ｃ５５．６４％，Ｎ４．０５％，Ｏ
３２．４３％に極めてよく一致した。質量スペクトル
を測定した結果、ｍ／ｅ３４５にＭ⁺−１に対応するピ
ーク、ｍ／ｅ５７に（ＣＨ₃）₃Ｃ⁺に対応するピークを
示した。

【００４０】¹Ｈ−核磁気共鳴スペクトルを測定した結
果は次の通りであった。

【００４１】

【化４】

【００４２】δ１．１〜１．５ｐｐｍ付近にプロトン１
８個分の多重線を示し（ａ）（ｂ）のｔ−ブトキシカル
ボニル基のプロトンに相当し、δ２．０〜２．５ｐｐｍ
付近にプロトン２個を示し（ｄ）に相当し、δ３．５〜
３．８ｐｐｍにプロトン５個を示し（ｃ）（ｅ）に相当
し、δ４．０〜５．２ｐｐｍ付近にプロトン２個を示し
（ｇ）（ｆ）に相当した。

【００４３】赤外吸収スペクトルを測定した結果、１６
７０ｃｍ^-1にカルボニル基に基づく吸収、１２５０ｃｍ
^-1にｔ−ブチル基に基づく吸収を得た。

【００４４】上記の結果から、単離生成物が、（２Ｓ，
４Ｒ）−１−ｔ−ブトキシカルボニル−４−ｔ−ブトキ
シカルボニルオキシ−２−メトキシカルボニルピロリジ
ンであることが明かになった。

【００４５】また、保護基の脱離条件については、１）
１重量％−ＮａＯＨ／メタノール５０ｍｌ、２）１重量
％−Ｋ₂ＣＯ₃／メタノール５０ｍｌ各々に生成物１ｇを
溶解し２０時間攪拌することで、保護基の脱離の有無を
薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）（展開溶媒：酢酸エ
チル／ヘキサン＝１／１）により確認した。

【００４６】上記１）、２）の条件下で（２Ｓ，４Ｒ）
−１−ｔ−ブトキシカルボニル−４−ｔ−ブトキシカル
ボニルオキシ−２−メトキシカルボニルピロリジンをＴ
ＬＣで確認すると、全て（２Ｓ，４Ｒ）−１−ｔ−ブト
キシカルボニル−４−ヒドロキシ−２−メトキシカルボ
ニルピロリジンに変換していることを確認した。

【００４７】実施例２〜５実施例１において、用いた塩基の種類を表１に示したも
のに変えたこと以外は、実施例１と同様にして（２Ｓ，
４Ｒ）−１−ｔ−ブトキシカルボニル−４−ｔ−ブトキ
シカルボニルオキシ−２−メトキシカルボニルピロリジ
ンを合成した。得られた化合物の収率を表１に示した。

【００４８】

【表１】

【００４９】実施例６原料として（２Ｓ，４Ｒ）−１−ｔ−ブトキシカルボニ
ル−４−ヒドロキシ−２−エトキシカルボニルピロリジ
ン２．５９ｇ（０．０１ｍｏｌ）を使用したこと以外は
実施例１と同様な操作を行い、無色透明な粘ちょうな液
体である（２Ｓ，４Ｒ）−１−ｔ−ブトキシカルボニル
−４−ｔ−ブトキシカルボニルオキシ−２−エトキシカ
ルボニルピロリジンを３．３ｇ得た（収率＝９２％）。
また、脱保護条件についても同様な操作を行った。

【００５０】元素分析、質量スペクトル、^１Ｈ−核磁気
共鳴スペクトル、赤外吸収スペクトルの測定結果を以下
に示した。

【００５１】元素分析Ｃ₁₇Ｈ₂₉ＮＯ₇ 実測値Ｈ８．０３％Ｃ５６．５６％Ｎ３．９５
％Ｏ３１．４６％計算値Ｈ８．１３％Ｃ５６．８１％Ｎ３．９０
％Ｏ３１．１６％質量スペクトルｍ／ｅ３５９Ｍ⁺−１ｍ／ｅ５７（ＣＨ₃）Ｃ⁺ ¹ Ｈ−核磁気共鳴スペクトル

【００５２】

【化５】

【００５３】（ａ）（ｂ）プロトン１８個 δ：１．１〜１．５ｐｐｍ（ｅ）プロトン２個 δ：２．０〜２．５ｐｐｍ（ｃ）（ｄ）（ｆ）プロトン７個 δ：３．５〜３．８ｐｐｍ（ｇ）（ｈ）プロトン２個 δ：４．０〜５．２ｐｐｍ赤外吸収スペクトル１６７０ｃｍ^-1 Ｃ＝Ｏに基づく吸収１２５０ｃｍ^-1 （ＣＨ₃）Ｃに基づく吸収脱保護１重量％−ＮａＯＨ／ＭｅＯＨおよび１重量％−Ｋ₂Ｃ
Ｏ₃／ＭｅＯＨの条件のいずれにおいても全て（２Ｓ，
４Ｒ）−１−ｔ−ブトキシカルボニル−４−ヒドロキシ
−２−エトキシカルボニルピロリジンに変換したことを
確認した。

【００５４】実施例７原料として（２Ｓ，４Ｒ）−１−ｔ−ブトキシカルボニ
ル−４−ヒドロキシ−２−イソプロポキシカルボニルピ
ロリジン２．７３ｇ（０．０１ｍｏｌ）を使用したこと
以外は実施例１と同様な操作を行い、無色透明な粘ちょ
うな液体である（２Ｓ，４Ｒ）−１−ｔ−ブトキシカル
ボニル−４−ｔ−ブトキシカルボニルオキシ−２−イソ
ポロポキシカルボニルピロリジンを３．４ｇ得た（収率
＝９１％）。また、脱保護条件についても同様な操作を
行った。

【００５５】元素分析、質量スペクトル、¹Ｈ−核磁気
共鳴スペクトル、赤外吸収スペクトルの測定結果を以下
に示した。

【００５６】元素分析Ｃ₁₈Ｈ₃₁ＮＯ₇ 実測値Ｈ８．３２％Ｃ５７．８５％Ｎ３．７８
％Ｏ３０．０５％計算値Ｈ８．３６％Ｃ５７．８９％Ｎ３．７５
％Ｏ３０．００％質量スペクトルｍ／ｅ３７３Ｍ⁺−１ｍ／ｅ５７（ＣＨ₃）Ｃ⁺ ¹ Ｈ−核磁気共鳴スペクトル

【００５７】

【化６】

【００５８】（ａ）（ｂ）プロトン１８個 δ：１．１〜１．５ｐｐｍ（ｅ）プロトン２個 δ：２．０〜２．５ｐｐｍ（ｃ）（ｄ）（ｆ）プロトン９個 δ：３．５〜４．０ｐｐｍ（ｇ）（ｈ）プロトン２個 δ：４．０〜５．２ｐｐｍ赤外吸収スペクトル１６７０ｃｍ^-1 Ｃ＝Ｏに基づく吸収１２５０ｃｍ^-1 （ＣＨ₃）Ｃに基づく吸収脱保護１重量％−ＮａＯＨ／ＭｅＯＨおよび１重量％−Ｋ₂Ｃ
Ｏ₃／ＭｅＯＨのいずれの条件においても全て（２Ｓ，
４Ｒ）−１−ｔ−ブトキシカルボニル−４−ヒドロキシ
−２−イソプロポキシカルボニルピロリジンに変換した
ことを確認した。

【００５９】実施例８１００ｍｌ四つ口フラスコに、エタノール／テトラヒド
ロフラン＝２０／２０ｍｌ、（２Ｓ，４Ｒ）−１−ｔ−
ブトキシカルボニル−４−ｔ−ブトキシカルボニルオキ
シ−２−メトキシカルボニルピロリジン３．４５ｇ
（０．０１ｍｏｌ）、塩化リチウム０．８５ｇ（０．０
２ｍｏｌ）、水素化ほう素ナトリウム０．７６ｇ（０．
０２ｍｏｌ）とを室温で溶解し攪拌を行った。２０時間
で反応が終了した。塩化アンモニウム６０ｍｌで過剰の
還元剤を処理した後、反応溶媒を留去し、残留物をトル
エンで抽出した。５０ｍｌ水で２回洗浄洗後、該有機層
は、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。有機溶媒を留去
し、残留物を真空蒸留することにより、無色透明の粘ち
ょう液体２．９ｇを得ることができた。（収率＝９１
％）この化合物の元素分析値は、Ｈ８．６８％，Ｃ５
６．５３％，Ｎ４．４８％，Ｏ３０．３１％であっ
て、Ｃ₁₅Ｈ₂₇ＮＯ₆に対する計算値であるＨ８．５７
％，Ｃ５６．７６％，Ｎ４．４１％，Ｏ３０．２
６％に極めてよく一致した。質量スペクトルを測定した
結果、ｍ／ｅ３１７にＭ⁺−１に対応するピーク、ｍ／
ｅ５７に（ＣＨ₃）₃Ｃ⁺に対応するピークを示した。

【００６０】¹Ｈ−核磁気共鳴スペクトルを測定した結
果は次の通りであった。

【００６１】

【化７】

【００６２】δ１．１〜１．５ｐｐｍ付近にプロトン１
８個分の多重線を示し（ａ）（ｂ）のｔ−ブトキシカル
ボニル基のプロトンに相当し、δ１．５〜２．３ｐｐｍ
付近にプロトン３個を示し（ｃ）（ｄ）に相当し、δ
３．５〜４．３ｐｐｍにプロトン５個を示し（ｅ）
（ｇ）（ｈ）に相当し、δ５．０〜５．２ｐｐｍ付近に
プロトン１個を示し（ｆ）に相当した。

【００６３】赤外吸収スペクトルを測定した結果、１６
７０ｃｍ^-1にカルボニル基に基づく吸収、１２５０ｃｍ
^-1にｔ−ブチル基に基づく吸収、３５００ｃｍ^-1に水酸
基に基づく吸収を得た。

【００６４】上記の結果から、単離生成物が、（２Ｓ，
４Ｒ）−１−ｔ−ブトキシカルボニル−４−ｔ−ブトキ
シカルボニル−２−ヒドロキシメチルピロリジンである
ことが明かになった。

【００６５】また、実施例１と同様に保護基の脱離反応
を行った結果、１）、２）の条件下では全て（２Ｓ，４
Ｒ）−１−ｔ−ブトキシカルボニル−４−ヒドロキシ−
２−ヒドロキシメチルピロリジンに変換していることを
確認した。

【００６６】比較例（２Ｓ，４Ｒ）−１−ｔ−ブトキシカルボニル−４−ヒ
ドロキシ−２−メトキシカルボニルピロリジンの水酸基
の保護基として、ｔ−ブチルジメチルシリル基を導入し
た化合物を得た。実施例１と同様に脱保護を行った結果
を下記に示した。

【００６７】１重量％−ＮａＯＨ／ＭｅＯＨおよび１重
量％−Ｋ₂ＣＯ₃／ＭｅＯＨの条件においてはいずれも保
護基のはずれた化合物のスポットは認められなかった。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】下記式（１）【化１】（但し、Ｒはアルコキシカルボニル基またはヒドロキシ
メチル基である。）で示されるピロリジン誘導体。