JPH085968B2 - エチレン系架橋共重合体の製造方法 - Google Patents

エチレン系架橋共重合体の製造方法

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JPH085968B2
JPH085968B2 JP61293769A JP29376986A JPH085968B2 JP H085968 B2 JPH085968 B2 JP H085968B2 JP 61293769 A JP61293769 A JP 61293769A JP 29376986 A JP29376986 A JP 29376986A JP H085968 B2 JPH085968 B2 JP H085968B2
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和男 馬場
邦夫 山田
良一 野村
裕嗣 後藤
久雄 田中
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Description

【発明の詳細な説明】 <産業上の利用分野> 本発明は、エチレン系架橋共重合体の製造方法に関す
るもので、押出成形法、射出成形法、ブロー成形法等に
より、所望の成形体とした後、その成形品に電離性放射
線を照射し架橋させ機械的、化学的、熱的性質等の改良
をするか、又は架橋した成形品を更に延伸したり、発泡
させたりして熱収縮フィルムや発泡体とするのに好適な
共重合体を安価に提供するものである。
<従来の技術> 一般にエチレン系樹脂の電離性放射線照射による架橋
方法は、照射装置の設備費が高価であるため照射速度が
製品のコストに相当影響する。
従って、照射効率を上げるために、光増感性化合物や
有機過酸化物、反応性モノマーなどの架橋保進剤を新た
に添加し行われる。これらの技術に関する特許は、いま
までに多く開示されている。
例えば特公昭46−41117号公報、特公昭44−16788号公
報、特公昭57−14296号公報、特公昭58−3485号公報な
どがある。しかしながら、上記方法には次のような欠点
がある。
すなわち、第一にいずれの場合も電離性放射線照射を
行う前に架橋促進剤を練り込む等の前処理が必要である
ことであり、特に有機過酸化物を使用する場合は加熱分
解を必要とし、工程管理をよりいっそう厳密にしなけれ
ばならず製品のコストアップにつながる。
第二に添加する光増感性化合物や有機過酸化物には制
約がある。即ち添加量が少なすぎると効果がみられず、
添加量が多すぎるとその分解物等により架橋体の臭気を
著しく損なうことがあり、食品用途などの使用が制限さ
れる。又、不均一架橋となる場合もあり、その場合は、
加工性が損なわれる。
<発明が解決しようとする問題点> 本発明の目的は、これらの欠点即ち、電離性放射線照
射を行う前の架橋促進剤の添加量を著しく低減し、又は
練り込む前処理を省くことを可能にしてコスト低減をは
かることともに優れたエチレン系架橋共重合体を提供す
ることにある。
<問題を解決するための手段> 本発明はかかる状況に鑑み、鋭意研究の結果、エチレ
ン(A)と、2個以上の二重結合を有する単量体からな
る重合体(B)を、予め共重合させて得られたエチレン
系共重合体(C)に、電離性放射線を照射し架橋させる
ことを特徴とするエチレン系架橋共重合体に、電離性放
射線を照射し架橋させることにより上記欠点を改良し、
優れたエチレン系架橋共重合体を提供する方法を見出し
た。
すなわち、本発明はエチレンと、2個以上の二重結合
を有する単量体からなる重合体及び/又はエチレンと共
重合可能なモノマーを予め共重合させて得られたエチレ
ン系共重合体に、電離性放射線を照射し架橋させること
を特徴とするエチレン系架橋共重合体の製造方法に関す
るものである。
本発明において、エチレン(A)と、2個以上の二重
結合を有する単量体からなる重合体(B)を、予め共重
合させる方法は、通常ラジカル重合が用いられ、有機過
酸化物、酸素等の遊離基重合開始剤の存在下で高圧高温
条件、例えば50ないし3000Kg/cm2の重合圧力下、100な
いし350℃の重合温度下で行われる方法である。
又、ここで使用される少なくとも2個以上の二重結合
を有する単量体からなる重合体とは、ブタジエン、イソ
プレンなどのジエンからなるポリジエン等が例示され、
かつ数平均分子量が5000以下のものであることが好まし
い。
数平均分子量が5000以上になると、粘度が高くなりす
ぎ取り扱いが困難となる。これらの重合体は1種のみな
らず2種以上混合して用いることもできる。
本発明で用いるエチレン系架橋共重合体中のポリジエ
ンの含有量は、0.1wt%ないし10wt%であり、好ましく
は0.1wt%ないし5wt%である。特に好ましくは、0.1wt
%ないし2wt%の範囲である。
ポリジエンの含有量が0.1wt%より少ないと、十分な
架橋度を得るためには、電離性放射線架橋時の照射速度
を遅くしなければならず、一方10wt%より多い含有量の
重合体は製造上、遊離基重合開始剤の使用量が著しく多
くなり好ましくない。
上記ラジカル重合で得られ本発明で用いるエチレン系
共重合体のメルトフローレイト(以下MFRという)は0.1
ないし100g/10分であり、好ましくは0.5ないし50g/10
分、特に1ないし20g/10分の範囲にあることが望まし
い。
本発明における電離性放射線とは、電離作用をもつ放
射線で波長の短い紫外線、X線、α線、β線、γ線、高
速荷重電粒子線、高速中性子線などである。
この電離性放射線の照射線量は、エチレン系重合体中
のポリジエンの含有量にもよるが0.5Mradないし20Mra
d、好ましくは0.5Mradないし10Mradである。
0.5Mrad以下では十分な、架橋度が得られず、一方20M
rad以上照射しても架橋度がほぼ平衡に達してしまうの
で意味がない。
本発明のエチレン系架橋共重合体には、公知の配合
剤、例えば耐候安定剤、酸化防止剤、帯電防止剤、防曇
剤、滑剤、離型剤、アンチブロッキング剤、顔料、無機
または有機の充填剤などを添加してもさしつかえない。
<実施例> 各実施例において、MFR及び、ゲル分率の測定は次の
如く行った。
(1)MFR(g/10分)JIS K7210に従って行った。
試験温度 190℃ 試験荷重 2.16kgf (2)ゲル分率(%) ゲル分率(%)とは、架橋した試料中のゲル分重量を
百分率で表したものであり、ゲル分重量は、試料を還流
P−キシレン中で6時間抽出した後、100メッシュの金
網にて濾過し、金網上に残った不溶物を50℃にて4時間
真空乾燥したものの重量である。
ゲル分率を次式に基づいて計算した。
尚、実施例1及び2において使用したポリジエンは、
次の通りである。
ポリジエン−I:液状ポリブタジエン (日本曹達(株)製B−3000) ポリジエン−II:液状ポリブタジエン (日本石油(株)製B−3000) 実施例−1 エチレン及び、ポリジエン−Iを、エチレン17Kg/H
r、ポリジエン−I24g/Hrの割合で連続的にオートクレー
ブ型反応器にフィードし重合圧力1200Kg/cm2、重合温度
220℃でt−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエ
ートを開始剤としてラジカル重合させ1時間当たり3.1K
gのエチレン系共重合体を得た。
この得られたエチレン系共重合体のポリジエン−Iの
含有量は0.77wt%であった。又MFRは、5.7g/10分、密度
は0.921g/cm3であった。
このエチレン系共重合体を厚さ1mmにプレス成形し、
次いで、電子線加速器により電離性放射線を0.6ないし6
Mrad照射し、エチレン系架橋共重合体を得た。このエチ
レン系架橋共重合体についてゲル分率(%)を測定し
た。結果を第1表に示す。
実施例−2 エチレン及びポリジエン−IIを、エチレン17Kg/Hr、
ポリジエン−II42g/Hrの割合で連続的に反応器にフィー
ドし重合圧力1200Kg/cm2、重合温度220℃でt−ブチル
パーオキシ−2−エチルヘキサノエートを開示剤として
ラジンル重合させ1時間当たり3.3Kgのエチレン系共重
合体を得た。
この時得られたエチレン系共重合体のポリジエン−II
の含有量は、1.2wt%であった。又MFRは、8.8g/10分、
密度は、0.921g/cm3であった。
このエチレン系共重合体を厚さ1mmにプレス成形し、
次いで、電子線加速器により電離性放射線を0.6ないし6
Mrad照射し、エチレン系架橋共重合体を得た。このエチ
レン系架橋共重合体についてゲル分率(%)を測定し
た。結果を第1表に示す。
尚、実施例1及び2においてフィードしたポリジエン
の共重合の程度の確認は、重合で得られたエチレン系共
重合体を30℃のn−ヘプタン中で90時間抽出し、抽出前
後のエチレン系共重合体の二重結合を、赤外分光光度計
を使用し、測定した結果、差がなく又、抽出液を濃縮
し、分析した結果、遊離のポリジエンが検出されなかっ
たことより、実質的にすべて共重合しているものと判断
できる。
従って、含有量は下記の計算式より求めた。
比較例−1 実施例−1においてポリジエン−Iを除いた以外は、
実施例−1と同様にして、ラジカル重合させた重合体に
ついてゲル分率(%)を測定した。尚、この時、電離性
放射線の照射前のメルトフローレイトは、6.6g/10分、
密度は、0.923g/cm3であった。
測定結果を第1表に示す。
<発明の効果> 本発明によって、電離性放射線を、照射する前に架橋
促進剤添加等の前処理を行うことなく、良好なエチレン
系架橋共重合体が得られた。
フロントページの続き (72)発明者 後藤 裕嗣 千葉県市原市姉崎海岸5の1 住友化学工 業株式会社内 (72)発明者 田中 久雄 千葉県市原市姉崎海岸5の1 住友化学工 業株式会社内 (56)参考文献 特開 昭60−51728(JP,A) 特開 昭56−155226(JP,A)

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】エチレン(A)と、2個以上の二重結合を
    有する単量体からなる重合体(B)を、予め共重合させ
    て得られたエチレン系共重合体(C)に、電離性放射線
    を照射し架橋させることを特徴とするエチレン系架橋共
    重合体の製造方法。
  2. 【請求項2】2個以上の二重結合を有する単量体からな
    る重合体(B)が、ポリジエンであり、かつ数平均分子
    量が5000以下である特許請求の範囲第1項記載のエチレ
    ン系架橋共重合体の製造方法。
  3. 【請求項3】エチレン系共重合体(C)中にポリジエン
    が、0.1wt%ないし10wt%共重合している特許請求の範
    囲第1項記載のエチレン系架橋共重合体の製造方法。
  4. 【請求項4】電離性放射線を0.5Mrad以上照射して架橋
    させる特許請求の範囲第1項記載のエチレン系架橋共重
    合体の製造方法。
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JPS6051728A (ja) * 1983-08-31 1985-03-23 Sumitomo Chem Co Ltd 共加硫性の改良されたゴム製品製造方法

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