JPH0857296A - プラズマ処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 処理チャンバの使用効率を向上させて単位時
間当りの基板処理枚数を多くし、カセット内での複数枚
の未処理基板の位置的なばらつきが基板の処理品質に影
響することを無くし、カセット内への処理済み基板の挿
入時に基板の位置ずれによる基板とカセットとの擦れで
パーティクルが発生することを防止できる装置を提供す
る。 【構成】 複数のカセットＣを載置するロータリテーブ
ル10を設け、上面に基板の外周形状に対応した配置で複
数個のガイドピン40が植設されたアライメント用テーブ
ル16を配設し、２つの基板移載用アーム26、32を有した
基板移載機構14を設ける。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、プラズマを利用して
基板の表面からフォトレジストを剥離したり基板表面を
エッチングしたりする場合などに使用されるプラズマ処
理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば超ＬＳＩを製造する場合における
重要な工程として、プラズマを利用した基板表面からの
フォトレジスト剥離や基板表面の選択的エッチングなど
の処理工程がある。これらの処理には、プラズマ処理装
置が使用され、このプラズマ処理装置では、処理チャン
バ内へ反応性ガスを導入し、電極に高周波電圧を印加す
ることによりプラズマを発生させて、基板の処理が行な
われる。

【０００３】プラズマ処理装置においては、複数枚の基
板が収容されたカセットから１枚ずつ順次基板を取り出
し、その基板を１枚ずつ処理チャンバ内へ移送し、処理
チャンバ内で処理された基板を再びカセット内へ戻すよ
うにする。このため、プラズマ処理装置は、処理チャン
バの他、カセットを載置するカセット載置テーブル、こ
のカセット載置テーブル上に載置されたカセットの各基
板収容位置にそれぞれ基板が収容されているか否かを検
知する基板センサ、カセット載置テーブル上のカセット
と処理チャンバとの間で基板の移載を行なう基板移載用
アームなどを備えて構成されている。また、処理チャン
バは一般に、特開昭６３−２６００３０号公報や特開昭
６３−２６００３１号公報等に開示されているように、
下面が開口したベルジャ（釣鐘）形をなし、その下面開
口を通して処理チャンバ内へ基板が挿入される。そし
て、基板を１枚ずつ処理チャンバ内へ挿入するために、
基板を載置する基板載置面を有し、昇降自在に支持され
た基板載置テーブルが処理チャンバの直下位置に配設さ
れている。この基板載置テーブルの基板載置面に、基板
移載用アームによりカセット載置テーブル上のカセット
から取り出された未処理の基板が移載され、続いて、基
板載置テーブルが上昇することにより、基板載置面に載
置された基板が処理チャンバ内へ挿入され、同時に、処
理チャンバの下面開口側が基板載置テーブルによって気
密に閉塞されるようになっている。また、処理チャンバ
内での基板の処理が終了すると、基板載置テーブルが下
降することにより、基板載置面に載置された処理済みの
基板が処理チャンバ内から排出され、その基板は、基板
移載用アームにより基板載置テーブル上から元のカセッ
ト内へ再び挿入されるようになっている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
装置では、１つの基板移載用アームにより、カセット載
置テーブル上のカセットから未処理の基板を処理チャン
バ直下の基板載置テーブル上へ移載し、また、処理済み
の基板を基板載置テーブル上から前記カセット内へ移載
するようにしていた。このため、カセットから未処理基
板を取り出し、その基板を基板載置テーブル上へ移載し
ようとする際に、基板載置テーブル上に既に処理済み基
板が載置されていると、基板移載用アームによって一旦
その処理済み基板を基板載置テーブル上からカセット内
へ移載し、基板載置テーブル上を空にしておいてから、
基板移載用アームによって未処理基板をカセットから基
板載置テーブル上へ移載する必要があった。従って、カ
セット載置テーブル上のカセットから未処理基板を取り
出してその基板を処理チャンバ直下の基板載置テーブル
上へ移載するに際しては、それに先立って処理済み基板
を基板載置テーブル上からカセット内へ移載する動作の
ための時間が必要となる。このため、処理チャンバの使
用効率が低く、単位時間当りにおける基板の処理枚数が
少ない、といった問題点がある。

【０００５】また、従来の装置では、カセットから未処
理の基板を取り出し、その基板をそのまま処理チャンバ
直下の基板載置テーブル上へ移載したり、また、基板載
置テーブル上から処理済みの基板を取り出し、その基板
をそのままカセット内へ移載するようにしていた。この
ため、例えばカセット内に複数枚の未処理基板が位置的
に不揃いの状態で収容されていると、基板移載用アーム
は、決まった一定の動作によってそれぞれの未処理基板
をカセット内から基板載置テーブル上へ移載するので、
基板載置テーブル上に載置された基板の位置が、カセッ
ト内における基板の位置のばらつきに対応してばらつく
ことになる。この結果、処理チャンバ内へ基板を挿入し
て処理したときに、基板の位置のばらつきが基板の処理
品質に影響する、といった問題点がある。

【０００６】一方、処理チャンバ内で基板を処理した
後、処理済みの基板を基板移載用アームによって基板載
置テーブル上からカセット内へ戻すときに、基板が位置
ずれすることがある。基板が位置ずれしたまま、その基
板をカセット内へ挿入すると、基板とカセットが擦れ、
この擦れによってパーティクルが発生し、製品価値を無
くして歩留まりが低下する、といった問題点がある。

【０００７】この発明は、以上のような事情に鑑みてな
されたものであり、処理チャンバの使用効率を向上させ
て単位時間当りの基板処理枚数を多くすることができる
とともに、カセット内に収容された複数枚の未処理の基
板間に位置のばらつきがあっても、そのばらつきが基板
の処理品質に対し影響を与えることを無くし、また、処
理済みの基板をカセット内へ戻すときに基板の位置ずれ
が起こっても、カセット内への基板挿入時における基板
とカセットとの擦れを無くし、パーティクルの発生を防
止して歩留まりの低下を回避することができるようなプ
ラズマ処理装置を提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】請求項１に記載された発
明に係るプラズマ処理装置では、カセット載置テーブル
を、水平面内において鉛直軸回りに回転自在に支持され
たロータリテーブルとし、かつ、そのロータリテーブル
は、複数個のカセットをそれぞれ基板出し入れ口が回転
中心位置に対して外向きになるように載置する載置面を
有したものとし、このロータリテーブルを回転させかつ
所定角度位置で停止させるように駆動・制御するテーブ
ル駆動・制御手段を設けるようにした。また、従来の装
置には無かったアライメント用テーブルを併設するよう
にし、そのアライメント用テーブルを、基板の外周形状
に対応した配置で複数個のガイドピンを上面に植設して
構成し、このアライメント用テーブルの上面に載置され
た基板の位置ずれが複数個のガイドピンで修正されて、
各基板が上面上の一定位置にそれぞれ揃えられるように
した。さらに、基板の移載を行なう基板移載手段を、カ
セット載置テーブル上に載置されたカセットから基板を
取り出し、その基板を前記アライメント用テーブル上へ
一旦移載してからもしくは直接に基板載置テーブルの基
板載置面へ移載する第１の基板移載用アームと、基板載
置テーブルの基板載置面から基板を受け取り、その基板
を前記アライメント用テーブル上へ一旦移載してからカ
セット載置テーブル上のカセット内へ挿入する第２の基
板移載用アームとから構成した。

【０００９】請求項２に記載された発明に係るプラズマ
処理装置において、上記基板センサを、カセットの各基
板収容位置にそれぞれ対応して複数個の固定センサ素子
を列設して構成するとともに、前面側に、前面が基板の
外周に沿った円弧面に形成されたプリアライメント用基
板当接板を具備させ、その基板センサを、前記プリアラ
イメント用基板当接板の円弧面の法線方向に進退自在に
支持するとともに、基板センサを移動させかつ所定位置
で停止させるように駆動・制御するセンサ駆動・制御手
段を設けた構成とした。

【００１０】請求項３に記載された発明に係るプラズマ
処理装置では、上記アライメント用テーブルが基板冷却
板を兼ねた構成とした。

【００１１】

【作用】請求項１に記載された発明に係るプラズマ処理
装置では、テーブル駆動・制御手段によりロータリテー
ブルが回転させられて所定角度位置で停止させられる。
ロータリテーブルが停止すると、その載置面に載置され
た複数個のカセットのうちの１つについて、基板センサ
によりカセットの各基板収容位置にそれぞれ基板が収容
されているか否かが検知される。そして、基板センサに
よって得られた情報に基づき、第１の基板移載用アーム
が駆動されて、カセットから未処理の基板が１枚取り出
され、その基板がアライメント用テーブル上へ一旦移載
される。基板がアライメント用テーブルの上面に載置さ
れると、複数個のガイドピンによって基板の位置ずれが
修正され、基板は、上面上の一定位置に揃えられる。次
いで、基板は、第１の基板移載用アームによりアライメ
ント用テーブル上から処理チャンバ直下の基板載置テー
ブル上へ移載されるが、アライメント用テーブルの上面
上で一定位置に揃えられた基板は、基板載置テーブル上
の一定位置に常に載置されることとなる。尚、ロータリ
テーブル上のカセット内に複数枚の未処理基板が位置的
に揃えられた状態で収容されていることが確実であるよ
うな場合には、カセット内から基板載置テーブル上へ未
処理基板をそのまま移載するようにしてもよい。

【００１２】そして、第１の基板移載用アームによって
未処理基板を基板載置テーブル上へ移載しようとした際
に、基板載置テーブル上に既に処理済みの基板が載置さ
れているときは、第２の基板移載用アームによって処理
済み基板を基板載置テーブル上から取り去り、その動作
と同時進行的に第１の基板移載用アームを駆動させ、処
理済み基板が取り去られた直後の基板載置テーブル上へ
未処理基板を載置する。

【００１３】また、第２の基板移載用アームによって基
板載置テーブル上から取り出された処理済み基板は、ア
ライメント用テーブル上へ一旦移載される。従って、第
２の基板移載用アームによって基板載置テーブル上から
処理済み基板を取り出すときに基板の位置ずれが起こっ
ても、基板がアライメント用テーブルの上面に載置され
ることにより、複数個のガイドピンによって基板の位置
ずれが修正され、基板は上面上の一定位置に常に揃えら
れる。そして、基板は、第２の基板移載用アームによっ
てアライメント用テーブル上からロータリテーブル上の
カセット内へ移載されるが、アライメント用テーブルで
位置ずれが修正された基板は、カセットと擦れたりする
ことなくスムーズにカセット内の所定収容位置へ挿入さ
れることとなる。

【００１４】また、請求項２に記載されたような構成と
したときは、ロータリテーブルが回転して所定角度位置
に停止すると、センサ駆動・制御手段により基板センサ
が１つのカセットに対して前進させられ所定位置に停止
させられる。このとき、基板センサの前面側に設けられ
たプリアライメント用基板当接板の前面が、カセット内
に収容された複数枚の基板の外周に同時に当接し、各基
板の外周の一部がプリアライメント用基板当接板の前面
をなす円弧面にそれぞれ密接するように、各基板がカセ
ット内で微少移動して位置ずれが修正され、カセット内
の複数枚の基板の各位置が鉛直方向において揃うことと
なる。そして、複数個列設された固定センサ素子によ
り、カセットの各基板収容位置にそれぞれ基板が収容さ
れているか否かが検知される。

【００１５】請求項３に記載されたような構成としたと
きは、処理チャンバ内での処理を終えた基板をアライメ
ント用テーブルに載置することにより、上記したように
基板の位置ずれの修正が行なわれるのと同時に、処理済
み基板が冷却される。

【００１６】

【実施例】以下、この発明の好適な実施例について図面
を参照しながら説明する。

【００１７】図１は、この発明の１実施例を示し、プラ
ズマ処理装置の各部の配置構成を示す概略平面図であ
る。この処理装置は、複数個、図示例では２個のカセッ
トＣを載置するロータリテーブル10、このロータリテー
ブル10上に載置されたカセットＣの各基板収容位置にそ
れぞれ基板Ｗが収容されているか否かを検知する基板セ
ンサ12、基板の移載を行なう基板移載機構14、基板の位
置ずれを修正するアライメント用テーブル16、反応性ガ
スを導入するとともに電極に高周波電圧を印加してプラ
ズマを発生させることにより基板の処理を行なう処理チ
ャンバ18、並びに、この処理チャンバ18の直下に配設さ
れ、処理チャンバ18内へ未処理の基板を挿入し処理チャ
ンバ18内から処理済みの基板を排出する基板載置テーブ
ル（図１においては図示せず）を備えて構成されてい
る。尚、処理チャンバの構成及び動作については、この
発明の要旨と直接に関係しないので、この明細書では説
明を省略する。

【００１８】ロータリテーブル10は、水平載置面を有
し、その中心位置の鉛直軸回りに回転自在に支持されて
いる。水平載置面には２個のカセットＣが、それぞれの
基板出し入れ口を回転中心位置に対し外向きにして互い
に背中合わせで載置されている。各カセットＣ内にはそ
れぞれ、複数枚の基板Ｗが鉛直方向に互いに僅かな間隔
をあけて水平姿勢で収容されている。また、図示してい
ないが、ロータリテーブル10を水平面内において回転さ
せ所定角度位置で停止させるように駆動・制御するテー
ブル駆動・制御機構が設けられている。このテーブル駆
動・制御機構により、ロータリテーブル10は、各カセッ
トＣの基板出し入れ口がそれぞれ基板移載機構14に対向
する角度位置及び基板センサ12に対向する角度位置に回
転移動して停止するように駆動・制御される。

【００１９】基板センサ12は、図２に要部斜視図を示す
ように、カセットＣの各基板収容位置にそれぞれ対応し
て基板収容位置の数と同数の固定センサ素子20を縦方向
に列設して構成されている。また、基板センサ12の前面
側には、プリアライメント用基板当接板22が取着されて
いる。基板当接板22の前面は、水平姿勢に保持された基
板の外周に沿いかつ水平面に対して直交する円弧面に形
成されている。そして、この基板当接板22に縦長貫通孔
24が形成されており、この縦長貫通孔24を貫通して複数
個の固定センサ素子20の先端部が、基板当接板22の円弧
面から前方へ突出している。また、基板センサ12は、基
板当接板22の円弧面の法線方向にかつ水平方向に進退自
在に支持されており、図示していないが、基板センサ12
を直線的に往復移動させ所定位置で停止させるように駆
動・制御するセンサ駆動・制御機構が設けられている。
このセンサ駆動・制御機構により、基板センサ12は、図
３に平面断面図を示すように、実線で示した待機位置と
二点鎖線で示した検知位置との間を間欠的に往復移動さ
せられる。そして、基板センサ12が二点鎖線で示した検
知位置に停止している間に、複数個の固定センサ素子20
により、ロータリテーブル10上に載置されたカセットＣ
の各基板収容位置にそれぞれ基板Ｗが収容されているか
否かが検知される。また、このとき、基板センサ12の基
板当接板22の前面が、カセットＣ内に収容された複数枚
の基板Ｗの外周に同時に当接し、各基板ＷがカセットＣ
内において、各基板Ｗの外周の一部が基板当接板22の前
面をなす円弧面に密接するように微少移動して位置ずれ
が修正される。そして、カセットＣ内の複数枚の基板Ｗ
の各位置が、鉛直方向においてそれぞれ重なり合うこと
となる。

【００２０】尚、基板センサとしては、図示例のように
複数個の固定センサ素子20から構成されたものに限ら
ず、１個の可動センサ素子が上下方向に移動しながらカ
セット内の基板の有無を検知するスキャン式センサなど
も使用することができる。但し、この場合には、図示例
のようなプリアライメント用基板当接板を設けることは
難しい。

【００２１】基板移載機構14は、２本の基板移載用アー
ム26、32を有し、各アーム26、32は、それぞれ水平面内
において回動する複数本の連結桿28、34を端部同士で連
接し、先端側に基板載置板30、36を連接してそれぞれ構
成されている。また、各アーム26、32は、全体が上下方
向に移動するように駆動部38にそれぞれ支持されてい
る。そして、一方のアーム26は、カセット載置テーブル
10上に載置されたカセットＣから未処理の基板Ｗを取り
出し、その基板Ｗをアライメント用テーブル16上へ一旦
移載し、次いでその基板をアライメント用テーブル16上
から後述する基板載置テーブル上へ移載し、或いは、カ
セットＣから未処理基板Ｗを直接に基板載置テーブル上
へ移載するように動作する。また、他方のアーム32は、
基板載置テーブル上から処理済みの基板を受け取り、そ
の基板をアライメント用テーブル16上へ一旦移載し、次
いでその基板をアライメント用テーブル16上からカセッ
ト載置テーブル10上のカセットＣ内へ移載するように動
作する。

【００２２】尚、図４に示した基板移載機構14は、回転
式の基板移載用アーム26、32を備えたものであるが、基
板移載機構としては、２つの基板移載用アームを具備し
たものであればどのような機構のものであってもよく、
例えば直動式アームを２本備えたものでもよい。

【００２３】アライメント用テーブル16は、図５に斜視
図を示すように、上面に、基板Ｗの外周形状に対応した
円形状配置で複数個の円錐状ガイドピン40が植設される
とともに、上面上に基板Ｗを載置した状態で、基板移載
用アーム26、32の基板載置板30、36の先端部を支障無く
基板Ｗの下面側から抜き出し及び基板Ｗの下面側へ挿入
することができるように凹部42が形成されている。ま
た、このアライメント用テーブル16は、基板冷却板とし
ての機能を有している。勿論、アライメント用テーブル
に基板冷却板としての機能を持たせずに、基板冷却板を
別に設置するようにしてもよい。

【００２４】このアライメント用テーブル16では、その
直上位置へ、図５に実線で示したように基板移載用アー
ム26の基板載置板30（又は基板移載用アーム32の基板載
置板36）の先端部に載置された基板Ｗを移送し、次いで
基板移載用アーム26を下降させ、二点鎖線で示すように
基板Ｗをアライメント用テーブル16の上面上に移載し
て、基板Ｗの下面側からアーム26の基板載置板30の先端
部を抜き出すようにする。このようにして基板Ｗがアラ
イメント用テーブル16の上面に載置されると、複数個の
ガイドピン40の各円錐面に案内されて基板Ｗが微少移動
し、基板Ｗの位置ずれが修正されて、それぞれの基板Ｗ
は、常にテーブル上面上の一定位置に揃えられる。この
位置ずれの修正動作が終了すると、アライメント用テー
ブル16の凹部42と基板Ｗの下面とで囲まれた隙間へアー
ム26の基板載置板30の先端部が差し入れられ、次いでア
ーム26が上昇することにより、アライメント用テーブル
16の上面から基板載置板30上へ再び基板Ｗが移し替えら
れる。

【００２５】次に、処理チャンバ18は、図示していない
が全体形状がベルジャ形をなし、図７の（Ｆ）にその下
端部分を図示しているように下面が開口しており、その
下面開口44の周縁のフランジ部がチャンバベース46の上
面に気密に接触して、チャンバベース46上に保持されて
いる。チャンバベース46には、処理チャンバ18の内部に
連通する貫通孔48が穿設されている。また、処理チャン
バ18の直下位置には、基板載置テーブル50が配設されて
いる。この基板載置テーブル50は、昇降自在に支持さ
れ、図７の（Ｆ）に実線で示した下方位置と二点鎖線で
示した上方位置との間で上昇及び下降するように駆動さ
れる（基板載置テーブル50の支持機構及び駆動機構は図
示せず）。そして、基板載置テーブル50がチャンバベー
ス46の貫通孔48を通して上昇することにより、未処理の
基板Ｗを処理チャンバ18内へ挿入するとともに、処理チ
ャンバ18の下面開口44側を気密に閉塞し、また、基板載
置テーブル50が下降することにより、処理チャンバ18内
での処理を終えた基板が処理チャンバ18内から排出され
るようになっている。処理チャンバ18及びチャンバベー
ス46には電極や真空排気路等が設けられ、またチャンバ
ベース46と基板載置テーブル50との間のシール機構など
も設けられているが、それらの構成は、従来の装置と同
様であるので、ここでは詳しい説明を省略する。

【００２６】基板載置テーブル50は、図６及び図７に示
すように、基板を１枚ずつ載置する基板載置面52を有
し、その基板載置面52には複数個、図示例では３個の小
孔54が穿設されており、それらの各小孔54からそれぞれ
出没するように昇降駆動される３本の基板支持ピン56を
有している。この基板載置テーブル50上へ基板を移載す
る一連の動作について説明すると、図６の（Ａ）に示し
た状態から、図６の（Ｂ）に示すように、３本の基板支
持ピン56を基板載置面52から上方へ突出させる。次に、
図６の（Ｃ）に示すように、基板移載用アーム26の基板
載置板30の先端部に載置された基板Ｗを基板載置テーブ
ル50の直上位置へ移送し、続いて基板移載用アーム26を
下降させ、図７の（Ｄ）に示すように、基板Ｗを基板載
置板30上から３本の基板支持ピン56上へ移載する。基板
Ｗが３本の基板支持ピン56によって水平姿勢に支持され
ると、図７の（Ｅ）に示すように、アーム26の基板載置
板30を水平方向へ移動させて基板Ｗの下方から退出させ
る。次に、基板支持ピン56を下降させ、図７の（Ｆ）に
示すように、基板Ｗを基板支持ピン56から基板載置面52
上へ移載する。以上のようにして基板載置テーブル50上
に基板Ｗが載置されると、基板載置テーブル50を上昇さ
せて、図７の（Ｆ）に二点鎖線で示したように、基板Ｗ
を処理チャンバ18内へ挿入する。

【００２７】また、処理チャンバ18内から処理済みの基
板を排出し、その基板を基板載置テーブル50上から基板
移載用アーム32の基板載置板36上へ移載するには、上記
した動作を全く逆に行なうようにすればよい。

【００２８】以上のように構成されたプラズマ処理装置
を使用して基板の処理を行なうときの基板の移送動作に
ついて、次に説明する。

【００２９】まず、ロータリテーブル10が回転して、未
処理の基板Ｗが収容されたカセットＣが基板センサ12と
対向する角度位置でロータリテーブル10が停止する。ロ
ータリテーブル10が停止すると、基板センサ12がカセッ
トＣの基板出し入れ口に対して前進し、カセットＣ内の
複数枚の基板Ｗの外周にプリアライメント用基板当接板
22の前面をなす円弧面が当接する位置で基板センサ12が
停止する。そして、基板センサ12により、カセットＣ内
の各基板収容位置にそれぞれ基板Ｗが収容されているか
否かが検知されるとともに、カセットＣ内の複数枚の基
板Ｗの位置ずれが修正される。続いて、基板センサ12が
元の待機位置へ後退した後、ロータリテーブル10が再び
回転し、前記カセットＣが基板移載機構14と対向する角
度位置でロータリテーブル10が停止する。ロータリテー
ブル10が停止すると、基板センサ12によって得られた情
報に基づき、基板移載用アーム26が駆動制御され、カセ
ットＣから未処理基板Ｗが１枚取り出される。そして、
アーム26の基板載置板30に載置された基板Ｗがアライメ
ント用テーブル16上へ一旦移載され、基板Ｗは、アライ
メント用テーブル16の上面上の一定位置に位置決め調整
される。次に、基板Ｗは、アライメント用テーブル16上
から再びアーム26の基板載置板30上へ移載され、その後
に、基板載置テーブル50の上方へ移送され、基板載置テ
ーブル50の基板載置面52の一定位置に載置される。この
とき、基板載置テーブル50上に処理済みの基板が載置さ
れているときは、基板移載用アーム26の上記動作と併行
して、もう一方の基板移載用アーム32を駆動させ、基板
載置テーブル50上から処理済み基板をアーム32の基板載
置板36上へ移し替えておき、処理済み基板が取り去られ
た直後の基板載置テーブル50上へ未処理基板Ｗを載置す
るようにする。尚、ロータリテーブル10上のカセットＣ
内に収容されている複数枚の未処理基板Ｗが位置ずれす
ることなく揃っていることが確実であるような場合に
は、カセットＣ内から基板載置テーブル50上へ未処理基
板Ｗを直接に移載するようにしてもよい。

【００３０】基板載置テーブル50上に未処理基板Ｗが載
置されると、基板載置テーブル50を上昇させることによ
り、基板Ｗは、処理チャンバ18内へ挿入される。そし
て、処理チャンバ18内において基板の所要の処理が行な
われ、その処理が終了すると、処理チャンバ18内から処
理済みの基板Ｗが排出される。処理チャンバ18内から排
出された処理済み基板は、基板載置テーブル50上から基
板移載用アーム32の基板載置板36上へ移し替えられ、ア
ーム32によりアライメント用テーブル16上へ一旦移載さ
れる。アライメント用テーブル16上に処理済み基板が載
置されることにより、その基板は、位置ずれの修正が行
なわれ、それと同時に冷却される。所要程度に冷却され
た処理済み基板は、アライメント用テーブル16上から再
びアーム32の基板載置板36上へ移し替えられ、アーム32
により、ロータリテーブル10上に載置されたカセットＣ
の所定収容位置へスムーズに挿入される。以後、同様の
動作が繰り返される。

【００３１】

【発明の効果】この発明は以上説明したように構成され
かつ作用するので、請求項１に記載された発明に係るプ
ラズマ処理装置を使用したときは、処理チャンバの使用
効率が向上し、単位時間当りの基板処理枚数が多くなっ
て、装置全体としてのスループットを向上させることが
できる。また、カセット内に複数枚の未処理の基板が位
置的にばらついて収容されているような場合でも、その
位置的なばらつきを修正した後に処理チャンバ内への基
板の挿入が行なわれるため、カセット内における基板の
位置的なばらつきが基板の処理品質に対して影響を与え
ることが無い。さらに、処理チャンバ内から処理済みの
基板を取り出して移送する過程で基板の位置ずれが起こ
るようなことがあっても、その位置ずれを修正した後に
カセット内への基板の挿入が行なわれるため、カセット
内への基板挿入時に基板とカセットが擦れてパーティク
ルが発生する、といった可能性が全く無いので、カセッ
ト内への基板の挿入時の不都合による製品歩溜りの低下
を防止することができる。

【００３２】また、請求項２に記載されている構成によ
れば、カセット内に複数枚の未処理の基板が、アライメ
ント用テーブルによって位置ずれの修正を行なうことが
不可能な程度に大きく位置的にばらついて収容されるよ
うな場合に、アライメント用テーブルでの位置修正に先
立ってカセット内での基板の位置的なばらつきを許容程
度に小さくすることができ、これにより、上記した２番
目の効果が確実に得られることとなる。

【００３３】また、請求項３に記載されている構成によ
れば、基板冷却板を別に設置する必要が無くなるので、
装置の構成をより簡単にすることができるとともに、処
理済みの基板の移送工程をより簡易化することができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の１実施例を示し、プラズマ処理装置
の各部の配置構成を示す概略平面図である。

【図２】この処理装置の構成要素の１つである基板セン
サの構成の１例を示す要部斜視図である。

【図３】図２に示した基板センサの動作を説明するため
の平面断面図である。

【図４】この処理装置の構成要素の１つである基板移載
機構の構成の１例を示す斜視図である。

【図５】この処理装置の構成要素の１つであるアライメ
ント用テーブルの構成の１例を示すとともに、その動作
を説明するための要部斜視図である。

【図６】この処理装置の構成要素の１つである基板載置
テーブルの構成の１例を示すとともに、その動作を説明
するための図であって、（Ａ）及び（Ｂ）はそれぞれ要
部斜視図、（Ｃ）は正面図である。

【図７】図６と同様の図であって、（Ｄ）及び（Ｅ）は
それぞれ正面図、（Ｆ）は、処理チャンバの下端部分を
縦断面図で併せて示す正面図である。

【符号の説明】

10 ロータリテーブル（カセット載置テーブル） 12 基板センサ 14 基板移載機構 16 アライメント用テーブル 18 処理チャンバ 20 固定センサ素子 22 プリアライメント用基板当接板 26、32 基板移載用アーム 40 ガイドピン 44 処理チャンバの下面開口 50 基板載置テーブル 52 基板載置テーブルの基板載置面

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 坂井 高正 京都市伏見区羽束師古川町322番地 大日 本スクリーン製造株式会社洛西工場内 (72)発明者 溝畑 保廣 京都市伏見区羽束師古川町322番地 大日 本スクリーン製造株式会社洛西工場内 (72)発明者 平得 貞夫 京都市伏見区羽束師古川町322番地 大日 本スクリーン製造株式会社洛西工場内

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 複数枚の基板が収容されたカセットを載
   置するカセット載置テーブルと、 このカセット載置テーブル上に載置されたカセットの各
   基板収容位置にそれぞれ基板が収容されているか否かを
   検知する基板センサと、 下面が開口した処理チャンバと、 基板を載置する基板載置面を有し、その基板載置面に載
   置された基板を前記処理チャンバ内へ、その下面開口を
   通して挿入し、かつ、処理チャンバの下面開口側を気密
   に閉塞する基板載置テーブルと、 基板の移載を行なう基板移載手段とを備えてなるプラズ
   マ処理装置において、 前記カセット載置テーブルを、 水平面内において鉛直軸回りに回転自在に支持され、か
   つ、複数個のカセットを、それぞれ基板出し入れ口が回
   転中心位置に対して外向きになるように載置する載置面
   を有したロータリテーブルとし、 このロータリテーブルを回転させかつ所定角度位置で停
   止させるように駆動・制御するテーブル駆動・制御手段
   を設け、 上面に、基板の外周形状に対応した配置で複数個のガイ
   ドピンが植設され、その上面に載置された基板の位置ず
   れを前記複数個のガイドピンで修正して、各基板を上面
   上の一定位置にそれぞれ揃えるアライメント用テーブル
   を併設し、 前記基板移載手段を、 前記カセット載置テーブル上に載置されたカセットから
   基板を取り出し、その基板を前記アライメント用テーブ
   ル上へ一旦移載してからもしくは直接に前記基板載置テ
   ーブルの基板載置面へ移載する第１の基板移載用アーム
   と、前記基板載置テーブルの基板載置面から基板を受け
   取り、その基板を前記アライメント用テーブル上へ一旦
   移載してから前記カセット載置テーブル上のカセット内
   へ挿入する第２の基板移載用アームとから構成したこと
   を特徴とするプラズマ処理装置。
2. 【請求項２】 基板センサが、 カセットの各基板収容位置にそれぞれ対応して複数個の
   固定センサ素子を列設して構成されるとともに、前面側
   に、前面が基板の外周に沿った円弧面に形成されたプリ
   アライメント用基板当接板を有し、 その基板センサを、前記プリアライメント用基板当接板
   の円弧面の法線方向に進退自在に支持するとともに、基
   板センサを移動させかつ所定位置で停止させるように駆
   動・制御するセンサ駆動・制御手段を設け、 カセット載置テーブル上に載置されたカセットに対して
   基板センサが前進し所定位置に停止したときに、カセッ
   ト内に収容された複数枚の基板の外周に同時に前記プリ
   アライメント用基板当接板の円弧面が当接することによ
   り、カセット内の複数枚の基板の各位置が鉛直方向にお
   いて揃うようにした請求項１記載のプラズマ処理装置。
3. 【請求項３】 アライメント用テーブルが基板冷却板を
   兼ねた請求項１又は請求項２記載のプラズマ処理装置。