JPH0855339A

JPH0855339A - 磁気記録媒体製造装置

Info

Publication number: JPH0855339A
Application number: JP19243994A
Authority: JP
Inventors: Yoshikatsu Kato; 吉克加藤; Susumu Sato; 晋佐藤
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1994-08-16
Filing date: 1994-08-16
Publication date: 1996-02-27

Abstract

(57)【要約】【構成】冷却キャン６の周面を走行する非磁性支持体
５に対し、酸化性ガスを導入しながら、入射角が規制さ
れた金属磁性材料１０の蒸気を被着させて磁性層を形成
する真空蒸着装置において、前記酸化性ガスを導入する
ためのガス放出部１４は、ガス放出口１４ａと最小入射
角θmin にて入射する蒸気流との距離ｄが２５ｍｍ以内
となる位置にて、マスク１３の内側に配設されている。
また、ガス放出口１４ａから放出される酸化性ガスの角
度θGTは、前記非磁性支持体５の走行方向に対して、１
８０°〜２７０°に設定される。【効果】製造された磁気記録媒体の磁気特性および電
磁変換特性が大幅に向上する。このため、さらなる高密
度記録化を図ることも可能となる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、真空蒸着法によって非
磁性支持体上に磁性層となる金属磁性薄膜を形成する磁
気記録媒体製造装置に関し、特に、酸化性ガスを導入す
るための放出口の配設位置および角度に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、磁気記録媒体としては、非磁
性支持体上に酸化物磁性粉末あるいは合金磁性粉末等の
粉末磁性材料を塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体、ポ
リエステル樹脂、ウレタン樹脂、ポリウレタン樹脂等の
有機バインダー中に分散せしめた磁性塗料を塗布、乾燥
することにより作成される塗布型の磁気記録媒体が広く
使用されている。

【０００３】これに対して、高密度磁気記録への要求の
高まりと共に、Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｃｏ−Ｃｒ合金、Ｃｏ
−Ｏ等の金属磁性材料を、メッキや真空薄膜形成手段
（例えば、真空蒸着法やスパッタリング法、イオンプレ
ーティング法等）によってポリエステルフィルムやポリ
アミド、ポリイミドフィルム等の非磁性支持体上に直接
被着した、いわゆる金属磁性薄膜型の磁気記録媒体が提
案され注目を集めている。

【０００４】この金属磁性薄膜型の磁気記録媒体は抗磁
力や角形比等に優れ、磁性層の厚みを極めて薄くできる
ため、記録減磁や再生時の厚み損失が著しく小さく短波
長での電磁変換特性に優れるばかりでなく、磁性層中に
非磁性材であるそのバインダーを混入する必要が無いた
め磁性材料の充填密度を高めることができることなど、
数々の利点を有している。

【０００５】さらに、この種の磁気記録媒体の電磁変換
特性を向上させ、より大きな出力を得ることができるよ
うにするために、該磁気記録媒体の磁性層を形成時、金
属磁性材料を斜めに蒸着するいわゆる斜方蒸着法が提案
され実用化されている。

【０００６】この斜方蒸着法では、金属磁性材料の蒸気
をシャッターやマスクで遮って斜め入射の蒸着成分のみ
を被着させる。なお、蒸着時に酸化性ガスを同時に導入
すると、磁性層中の磁性粒子を微細化できるために、さ
らに優れた磁気特性及び電磁変換特性が実現できる。ま
た、酸化性ガスを導入することにより、金属磁性薄膜表
面に非磁性の酸化膜が形成されることとなるため、耐久
性も大きく向上する。

【０００７】ここで、酸化性ガスを導入しながら斜方蒸
着を行う真空蒸着装置について、図１を参照しながら説
明する。

【０００８】この真空蒸着装置は、排気口１から排気さ
れて内部が真空状態となされた真空室２内に、非磁性支
持体５を走行させるための走行系と、該非磁性支持体５
に金属磁性薄膜を成膜するための成膜系が設けられてな
る。

【０００９】走行系は、同図中の矢印ａで示す方向に定
速回転する送りロール３、同様に同図中の矢印ｂで示す
方向に定速回転する巻取りロール４、これらより大径と
され、同図中の矢印ｃで示す方向に定速回転する冷却キ
ャン６、非磁性支持体５に所定のテンションをかけ該非
磁性支持体５を円滑に走行させるために、上記送りロー
ル３と上記冷却キャン６との間及び該冷却キャン６と上
記巻取りロール４との間にそれぞれ設けられるガイドロ
ール７、８よりなる。

【００１０】そして、送りロール３から順次送り出さ
れ、巻取りロール４に巻取られるテープ状の非磁性支持
体５を図中側方に引き出すようにして冷却キャン６の周
面に走行させ、その中途部にて該非磁性支持体５に所定
の成膜がなされる。

【００１１】一方、成膜系は、上記冷却キャン６の下方
に配設され、金属磁性材料１０が充填されたルツボ９、
上記ルツボ９内の金属磁性材料１０を加熱蒸発させるた
めの電子銃１１、上記冷却キャン６の周面の所定領域を
覆い、非磁性支持体５に被着する金属磁性材料１０の蒸
気の入射角を規制するシャッタ１２およびマスク１３、
該マスク１３の内側に設けられ、酸化性ガスを放出する
ガス放出部１４よりなる。なお、上記シャッタ１２は
ルツボ９内の金属磁性材料１０の溶解時には冷却キャン
６を保護する目的で開口部を閉め、蒸気量が安定した時
点で開口部を開けるように移動可能となされているが、
上記マスク１３は、該シャッタ１２よりも冷却キャン６
に近い位置に固定され、その先端にて、蒸気の最小入射
角θminを規制している。

【００１２】また、該マスク１３の冷却キャン６に対向
する面に設けられたガス放出部１４は、図示しないガス
供給管を介してガス供給源に接続され、酸化性ガスを真
空室２内に放出させるものであり、マスク１３の幅方向
に合わせて設けられている。そして、このガス放出部１
４におけるガス放出口１４ａは、該ガス放出部１４の幅
方向に沿ってスリット状に形成されている。

【００１３】そして、該ガス放出口１４ａは、図７に示
されるように、該ガス放出口１４ａにおける非磁性支持
体５の走行方向Ｔと酸化性ガスの放出方向（ガス放出方
向Ｇ）とがなす角をガス放出角度θGTとするとき、該ガ
ス放出角度θGTが１８０°未満となるように設けられい
る。なお、上記ガス放出角度θGTは、上記走行方向Ｔを
０°とし、冷却キャン６に近づく方向をプラス（＋）の
角度、冷却キャン６から離れる方向をマイナス（−）の
角度としている。

【００１４】以上のような構成を有する真空蒸着装置を
用いて金属磁性材料の蒸着を行うには、先ず、真空室２
内を一定の真空度に保ち、送りロール３から送り出され
た非磁性支持体５を順次、冷却キャン６の周面に走行さ
せておく。また、電子銃１１から放出される電子線Ｘを
ルツボ９内の金属磁性材料１０に照射して、該金属磁性
材料１０の蒸気を発生させるとともに、ガス放出口１４
ａから、ガス放出角度θGTを１８０°未満に制御された
酸化性ガスを一定の割合で放出させる。そして、蒸気量
が安定したらシャッタ１２を開放し、マスク１３にて最
小入射角θminが規制された蒸気を走行する非磁性支持
体５へ被着させたら、順次、巻取りロール４に巻き取れ
ばよい。

【００１５】

【発明が解決しようとする課題】上述したようにして酸
化性ガスを導入しながら斜方蒸着を行うと、磁気テープ
の磁気特性や電磁変換特性、さらには耐久性をも大きく
向上させることができる。しかしながら、この酸化性ガ
スが過剰に導入された場合には、磁気テープの磁気特性
および電磁変換特性が劣化してしまうといった現象も起
こる。

【００１６】これは、磁気テープの種々の特性は磁性層
の酸化度や表面の酸化膜層の厚みに大きく依存すること
を示しており、酸化性ガスの導入条件によって、磁気テ
ープの特性を向上させることも、劣化させることもでき
ることを示している。

【００１７】そこで本発明は、かかる従来の実情に鑑み
て提案されたものであり、酸化性ガスの導入条件を最適
化することによって、磁気記録媒体の磁気特性、電磁変
換特性、耐久性といった種々の特性を一層向上させるこ
とが可能な磁気記録媒体製造装置を提供することを目的
とする。

【００１８】

【課題を解決するための手段】本発明に係る磁気記録媒
体製造装置は、上述の目的を達成するために提案された
ものであり、走行する非磁性支持体に対し、酸化性ガス
を導入しながら、入射角が規制された金属磁性材料の蒸
気を被着させて磁性層を形成するものであり、前記酸化
性ガスを放出するガス放出口が、該ガス放出口と最小入
射角θmin にて入射する蒸気流との距離（ガス放出口蒸
気間距離）ｄが２５ｍｍ以内となる位置に配設されてい
るものである。

【００１９】即ち、本発明は、冷却キャン周面を走行す
る非磁性支持体に金属磁性薄膜を成膜するに際して用い
られる真空蒸着装置に関するものであり、酸化性ガスを
放出するためのガス放出口の配設位置を規制することに
より、磁気記録媒体の保磁力Ｈｃを向上させるものであ
る。なお、ガス放出口蒸気間距離ｄは、ガス放出口から
放出される酸化性ガスの方向（ガス放出方向）Ｇにおけ
る、ガス放出口から最小入射角θmin にて入射する蒸気
流までの距離と定義する。そして、このガス放出口蒸気
間距離ｄが２５ｍｍを越えると、製造された磁気記録媒
体のＨｃが著しく劣化してしまう。

【００２０】さらに、上述の磁気記録媒体製造装置にお
いては、前記ガス放出口から放出される酸化性ガスの角
度（ガス放出角度）θGTが、前記非磁性支持体の走行方
向に対して、１８０°〜２７０°に設定されて好適であ
る。なお、該ガス放出角度θGTとは、非磁性支持体の走
行方向Ｔ（ガス放出口の配設位置における冷却キャンの
接線方向）とガス放出方向Ｇとがなす角にて表されるも
のであり、上記走行方向Ｔを０°とし、冷却キャン６に
近づく方向をプラス（＋）の角度、冷却キャン６から離
れる方向をマイナス（−）の角度として数値化されたも
のと定義する。

【００２１】このようにガス放出角度θGTの範囲を規定
すると、製造される磁気記録媒体のＨｃをより一層の向
上させることができる。なお、該ガス放出角度θGTは大
きいほど、製造された磁気記録媒体のＨｃを向上させる
効果が高いが、２７０°より大きくすると、酸化性ガス
を金属磁性材料の蒸気に向かって放出させることを物理
的に困難にするため好ましくない。

【００２２】なお、上述のガス放出口は、冷却キャンの
周面の所定領域を覆うシャッタまたはマスクに配設され
ればよい。但し、シャッタよりも冷却キャン側に設けら
れ、金属磁性材料の蒸気の最小入射角θmin を規制する
マスクの内側（冷却キャンと対向する側面）に設けられ
た方が、最終的に非磁性支持体に被着する蒸気だけに対
して直接酸化性ガスを導入することができるため効果的
である。

【００２３】また、上述のガス放出口から放出される酸
化性ガスの供給量は、蒸発源の大きさや蒸着レート、シ
ャッタ又はマスクの取り付け位置によっても異なるが、
少なすぎると磁気特性や電磁変換特性が劣化し、多すぎ
ても磁気特性を劣化させるため、適宜に最適量を選ぶ必
要がある。

【００２４】ところで、本発明の磁気記録媒体製造装置
を用いて製造される磁気記録媒体は、非磁性支持体上に
磁性層として金属磁性薄膜が設けられてなる金属薄膜型
の磁気テープ（いわゆる蒸着テープ）であるが、これを
構成する材料は、何等限定されるものでなく、従来公知
のものがいずれも使用できる。

【００２５】上述した磁気記録媒体製造装置を用いて非
磁性支持体上に磁性層として形成される金属磁性材料と
しては、通常の蒸着テ−プに使用されるものであれば如
何なるものであってもよい。例示すれば、Ｆｅ，Ｃｏ，
Ｎｉ等の強磁性金属材料、Ｆｅ−Ｃｏ，Ｃｏ−Ｎｉ，Ｆ
ｅ−Ｃｏ−Ｎｉ，Ｆｅ−Ｃｕ，Ｃｏ−Ｃｕ，Ｃｏ−Ａ
ｕ，Ｃｏ−Ｐｔ，Ｍｎ−Ｂｉ，Ｍｎ−Ａｌ，Ｆｅ−Ｃ
ｒ，Ｃｏ−Ｃｒ，Ｎｉ−Ｃｒ，Ｆｅ−Ｃｏ−Ｃｒ，Ｃｏ
−Ｎｉ−Ｃｒ，Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ等の強磁性合金
材料等が挙げられる。

【００２６】また、磁性層は、上記金属磁性材料よりな
る単層膜であってもよいし多層膜であってもよい。さら
には、非磁性支持体と磁性層間に下地層を設けたり、磁
性層が多層膜よりなる場合には、各薄膜間の付着力向
上、並びに抗磁力の制御等のために中間層を設けてもよ
い。なお、本発明においては、酸化性ガスを導入しなが
ら蒸着を行うため、成膜された磁性層中には、磁性粒子
間に酸化物粒子が点在することとなり、該磁性層の表層
部には酸化物が形成されることとなる。

【００２７】なお、上記磁性層の上には保護膜が形成さ
れていてもよいがこの材料としては、通常の金属磁性薄
膜用保護膜として一般に使用されるものであればいかな
るものであってもよい。例示すれば、カーボン，ＣｒＯ
₂，Ａｌ₂Ｏ₃，ＢＮ，Ｃｏ酸化物，ＭｇＯ，Ｓｉ
Ｏ₂，Ｓｉ₃Ｏ₄，ＳｉＮ_x，ＳｉＣ，ＳｉＮ_x−Ｓｉ
Ｏ₂，ＺｒＯ₂，ＴｉＯ₂，ＴｉＣ等が挙げられる。ま
た、かかる保護膜はこれらの単層膜であってもよいし多
層膜や金属との複合膜であってもよい。

【００２８】もちろん、製造される磁気テープの構成は
これに限定されるものではなく、必要に応じてバックコ
ート層を形成したり、非磁性支持体上に下塗層を形成し
たり、潤滑剤、防錆剤などの層を形成することは何等差
し支えない。この場合、バックコート層に含まれる非磁
性顔料、樹脂結合剤あるいは潤滑剤、防錆剤層に含まれ
る材料としては従来公知のものがいずれも使用できる。

【００２９】

【作用】本発明に係る磁気記録媒体製造装置において
は、酸化性ガスを導入するに際して、ガス放出口の配設
位置および角度が最適化されているため、これを用いて
製造された磁気記録媒体は、優れた磁気特性を有するも
のとなる。

【００３０】具体的には、酸化性ガスを適正な条件にて
導入すると、磁性層中に金属磁性材料の酸化物粒子を点
在させることになるため、金属磁性材料粒子が微細化さ
れ、磁気記録媒体の磁気特性及び電磁変換特性が向上す
る。また、磁性層の表面には、非磁性の酸化膜が形成さ
れるために耐久性も向上する。

【００３１】

【実施例】以下、本発明の具体的な実施例について説明
するが、本発明がこの実施例に限定されるものではな
い。

【００３２】本実施例に係る磁気記録媒体製造装置は、
酸化性ガスを導入しながら斜方蒸着を行って、金属磁性
薄膜よりなる磁性層を成膜する真空蒸着装置である。以
下、図１、図２を参照しながら、この真空蒸着装置の構
成について説明する。

【００３３】図１に示されるように、該真空蒸着装置
は、排気口１から排気されて内部が真空状態となされた
真空室２内に、非磁性支持体５を走行させるための走行
系と、該非磁性支持体５に金属磁性薄膜を成膜するため
の成膜系が設けられてなる。

【００３４】走行系は、同図中の矢印ａで示す方向に定
速回転する送りロール３、同様に同図中の矢印ｂで示す
方向に定速回転する巻取りロール４、これらより大径と
され、同図中の矢印ｃで示す方向に定速回転する冷却キ
ャン６、上記送りロール３と上記冷却キャン６との間及
び該冷却キャン６と上記巻取りロール４との間にそれぞ
れ設けられるガイドロール７、８よりなる。

【００３５】なお、上記送りロール３、巻取りロール
４、冷却キャン６は、それぞれ非磁性支持体５の幅と略
同じ長さからなる円筒状をなすものであり、上記冷却キ
ャン６には、内部に図示しない冷却装置が設けられ、上
記非磁性支持体５の温度上昇による変形等を抑制し得る
ようになされている。また、該冷却キャン６の近傍に
は、ボンバード電極１５が設けられ、非磁性支持体５の
表面に成膜される金属磁性薄膜の密着性を高める処理が
行えるようになされている。

【００３６】そして、上記走行系においては、テープ状
の非磁性支持体５が、送りロール３から順次送り出さ
れ、巻取りロール４に巻取られる中途部で、図中側方に
引き出されるようにして冷却キャン６の周面を走行す
る。なお、ガイドロール７、８によって、上記送りロー
ル３から冷却キャン５、該冷却キャン６から巻取りロー
ル４にわたって走行する非磁性支持体５に所定のテンシ
ョンがかけられ、該非磁性支持体５が円滑に走行するよ
うになされている。

【００３７】一方、成膜系は、上記冷却キャン６の下方
に設けられたルツボ９、上記ルツボ９内に充填された金
属磁性材料１０を加熱蒸発させるための電子銃１１、上
記冷却キャン６の周面の所定領域を覆い、非磁性支持体
５に被着する金属磁性材料１０の蒸気の入射角を規制す
るシャッタ１２およびマスク１３、該マスク１３の内側
に設けられ、酸化性ガスを放出するガス放出部１４より
なる。

【００３８】なお、上記ルツボ９は、上記冷却キャン６
のロール長さと略同一長さとされた容器であり、上記電
子銃１１は、該ルツボ９内の金属磁性材料１０に対して
電子線Ｘを照射できるような位置に配設され、この電子
線Ｘの照射によって金属磁性材料１０を蒸気化するよう
になされている。そして、この蒸気が上記冷却キャン６
の周面を定速走行する非磁性支持体５上に被着すること
によって金属磁性薄膜よりなる磁性層が成膜されるので
ある。

【００３９】また、上記シャッタ１２、マスク１３は、
上記冷却キャン６と上記ルツボ９との間に配設され、上
記冷却キャン６の周面を定速走行する非磁性支持体５の
所定領域を覆う形で形成されている。そして、これらシ
ャッタ１２とこのマスク１３は、先端側の鋭角になった
先端部にて、蒸発せしめられた金属磁性材料１０を上記
非磁性支持体５に対して所定の角度範囲で斜めに蒸着す
るように規制する働きをする。なお、上記シャッタ１２
はルツボ９内の金属磁性材料１０の溶解時には冷却キャ
ン６を保護する目的で開口部を閉め、蒸気量が安定した
時点で開口部を開けるように移動可能となされている
が、上記マスク１３は、該シャッタ１２よりも冷却キャ
ン６に近い位置に固定され、その先端にて、蒸気の最小
入射角θmin を規制している。また、マスク１３には蒸
着源の熱により該マスク１３が溶け出さないようにする
ために、その内部に冷却水が循環するようになされてい
る。

【００４０】該マスク１３の冷却キャン６に対向する面
には、該マスク１３の幅方向に合わせてガス放出部１４
が設けられており、図示しないガス供給管を介してガス
供給源に接続され、酸化性ガスを真空室２内に放出する
ようになされている。そして、このガス放出部１４にお
けるガス放出口１４ａは、該ガス放出部１４の幅方向に
沿ってスリット状に形成されている。

【００４１】本実施例においては、該ガス放出口１４ａ
は、図２に示されるように、最小入射角θmin にて入射
する蒸気流との距離（ガス放出口蒸気間距離）ｄが２５
ｍｍ以下となる位置に設けられた。また、該ガス放出口
１４ａにおける非磁性支持体５の走行方向Ｔとガス放出
方向Ｇとがなす角をガス放出角度θGTとするとき、該ガ
ス放出角度θGTが１８０°以上となるように設けられ
た。なお、上記ガス放出角度θGTは、上記走行方向Ｔを
０°とし、冷却キャン６に近づく方向をプラス（＋）の
角度、冷却キャン６から離れる方向をマイナス（−）の
角度としている。

【００４２】以上のような真空蒸着装置による磁性層の
成膜は、真空室２を一定の真空度に保ち、これらの真空
室２内にガス放出口１４ａにより酸化性ガスを一定の割
合で導入しながら行った。そして、走行する非磁性支持
体５に対して金属磁性材料１０の蒸気の入射角を規制し
ながら、一定の厚さに金属磁性薄膜を蒸着して磁性層を
形成した。

【００４３】この真空蒸着装置においては、マスク１３
に配設されたガス放出部１４が、そのガス放出口１４ａ
の配設位置および角度が規制されているため、酸化性ガ
スを適正な条件にて非磁性支持体５に被着する直前の蒸
気に対して供給することができる。したがって、金属磁
性薄膜の中に酸素を効率良く取り込ませることができ、
少ないガス導入量でより大きな磁気特性を確保しながら
成膜することができる。

【００４４】なお、本装置において、ガス放出口１４ａ
の近傍に放電電極を設け、酸化性ガスを活性化する等の
変形が可能である。また、ガス放出口蒸気間距離ｄを２
５ｍｍ以下、ガス放出角度θGTを１８０°以上に設定で
きるならば、ガス放出部１４をシャッタ１２に設けても
よい。また、マスク１３を設けずにシャッタ１２もしく
はガス放出部１４の先端部にて蒸着粒子の入射角規制も
行うことも可能であり、装置の大きさや構造等によって
選択すればよい。なお、本装置は、従来のガス放出口の
配設位置および角度を改善するのみであるので、既存の
設備にも容易に導入することができるものである。

【００４５】ところで、上述のような真空蒸着装置を用
いて実際に磁気テープを作製するには、例えば以下のよ
うにすればよい。

【００４６】先ず、上述の真空蒸着装置を用い、下記に
示す条件にて、非磁性支持体５に対して、酸素雰囲気中
でＣｏ−Ｎｉ合金を斜め蒸着した。

【００４７】非磁性支持体ベース：ポリエチレンテレフタレート６２０ｍｍ幅下塗：アクリル酸エステルを主成分とする水溶性ラテックスを塗布突起密度約１０００万個／ｍｍ² 蒸着条件インゴット：Ｃｏ８０重量％，Ｎｉ２０重量％入射角：５０〜９０° テープ速度：５０ｍ/分磁性層厚：１８０〜２００ｎｍ真空度：１×１０^-1Ｐａその後、下記の条件にてバックコート、トップコートを
施し、所定のテープ幅に裁断して磁気テープが完成し
た。

【００４８】バックコート：カーボン、及びウレタンバインダ
ーを混合したものを０．６μｍ厚塗布トップコート：パーフルオロポリエーテルを塗布スリット幅：８ｍｍ幅特性の評価ここで、金属磁性薄膜成膜時の酸化性ガスの導入条件が
違なる磁気テープについて、磁気特性および電磁変換特
性を調べることにした。

【００４９】先ず、真空蒸着装置におけるガス放出口蒸
気間距離ｄを変化させて磁気テープを作製し、保磁力Ｈ
ｃの変化を調べた。

【００５０】具体的には、上述した真空蒸着装置におけ
るガス放出角度θGT＝２１０°、酸素ガスの流量＝３０
００ｃｃ／分に設定し、ガス放出口蒸気間距離ｄを種々
に変化させて酸素ガスの放出を行った。なお、これ以外
は、上述した実施例と同様にして磁気テープを作製し、
各磁気テープについて保磁力ＨｃをＶＳＭ（試料振動式
磁気特性測定装置）を用いて測定した。この結果を図３
に示す。

【００５１】図３より、ガス放出口蒸気間距離ｄを２５
ｍｍより大きくすると、保磁力Ｈｃが著しく劣化してし
まうことがわかる。

【００５２】次に、上述した真空蒸着装置において、ガ
ス放出角度θGTを種々に変化させて磁気テープを作製
し、保磁力Ｈｃの変化を調べた。なお、酸素ガスの流量
は３０００ｃｃ／分に設定した。そして、これ以外は、
上述した実施例と同様にして磁気テープを作製し、各磁
気テープについて保磁力Ｈｃを測定した。この結果を図
４に示す。

【００５３】図４より、ガス放出角度θGTを１８０°以
上とすることにより、保磁力Ｈｃが著しく向上すること
がわかる。

【００５４】さらに、上述した真空蒸着装置におけるガ
ス放出口蒸気間距離ｄ＝１８ｍｍ、ガス放出角度θGT＝
２００°に規定した場合（設定Ａ）、ガス放出口蒸気間
距離ｄ＝２５ｍｍ、ガス放出角度θGT＝２００°に規定
した場合（設定Ｂ）、ガス放出口蒸気間距離ｄ＝４３ｍ
ｍ、ガス放出角度θGT＝１８０°に規定した場合（設定
Ｃ）、ガス放出角度θGT＝１６０°に規定した場合（設
定Ｄ）について、酸素ガスの流量を種々に変化させて磁
気テープを作製し、各磁気テープの保磁力Ｈｃおよび７
ＭＨｚにおける再生出力をそれぞれ測定した。この結果
を図５、図６に示す。なお、上記再生出力はソニー社製
８ｍｍＶＴＲ，商品名：ＥＶ−Ｓ９００改造機を用いて
測定し、ガス放出口蒸気間距離ｄ＝２５ｍｍ、ガス放出
角度θGT＝２００°、酸素ガスの流量＝１６３０ｃｃ／
分なる条件にて金属磁性薄膜の成膜がなされた磁気テー
プにおける出力を０ｄＢとして、これとの相対値で示し
た。

【００５５】図５より、設定Ａ〜設定Ｄにて作製された
いずれの磁気テープにおいても、酸素ガスの流量が多い
ほど、保磁力Ｈｃが増大することがわかる。そして、同
じ流量にて設定Ａ〜設定Ｄを比較すると、ガス放出角度
θGTが大きいほど、ガス放出口蒸気間距離ｄが小さいほ
ど、保磁力Ｈｃが向上することがわかった。

【００５６】また、図６からも、同じ流量にて設定Ａ〜
設定Ｄを比較すると、ガス放出角度θGTが大きいほど、
ガス放出口蒸気間距離ｄが小さいほど、出力も増大する
ことがわかった。

【００５７】さらに、同じ保磁力Ｈｃを有する磁気テー
プ同士を比較しても、ガス放出角度θGTが大きいほど、
ガス放出口蒸気間距離ｄが小さいほど、出力が増大する
ことがわかる。

【００５８】

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、酸化
性ガスを放出するガス放出口１４ａの配設位置および角
度を最適化することにより、製造される磁気記録媒体の
磁気特性および電磁変換特性を大幅に向上させることが
できる。

【００５９】したがって、非常に高品質で信頼性の高い
磁気記録媒体を提供でき、さらなる高密度記録化を図る
ことも可能となるため、工業的価値が極めて高い。

【図面の簡単な説明】

【図１】磁気記録媒体製造装置の一構成例を示す模式図
である。

【図２】本発明の磁気記録媒体製造装置における要部を
示す模式図である。

【図３】ガス放出口蒸気間距離ｄと保磁力Ｈｃとの関係
を示す特性図である。

【図４】ガス放出角度θGTと保磁力Ｈｃとの関係を示す
特性図である。

【図５】酸素ガスの流量と保磁力Ｈｃとの関係を示す特
性図である。

【図６】酸素ガスの流量と７ＭＨｚでの再生出力との関
係を示す特性図である。

【図７】従来の磁気記録媒体製造装置における要部を示
す模式図である。

【符号の説明】

１排気口２真空室３送りロール４巻取りロール５非磁性支持体６冷却キャン７，８ガイドロール９ルツボ１０金属磁性材料１１電子銃１２シャッタ１３マスク１４ガス放出部１４ａガス放出口ｄガス放出口蒸気間距離 θGT ガス放出角度

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】走行する非磁性支持体に対し、酸化性ガ
スを導入しながら、入射角が規制された金属磁性材料の
蒸気を被着させて磁性層を形成する磁気記録媒体製造装
置において、前記酸化性ガスを放出するガス放出口が、該ガス放出口
と最小入射角にて入射する蒸気との距離が２５ｍｍ以内
となる位置に配設されていることを特徴とする磁気記録
媒体製造装置。
【請求項２】前記放出口のガス放出角度が、前記放出
口の配設位置における非磁性支持体の走行方向に対し
て、１８０°〜２７０°に設定されていることを特徴と
する請求項１記載の磁気記録媒体製造装置。