JPH0853412A - 光学活性な３−アミノピロリジン誘導体 - Google Patents
光学活性な３−アミノピロリジン誘導体Info
- Publication number
- JPH0853412A JPH0853412A JP6189331A JP18933194A JPH0853412A JP H0853412 A JPH0853412 A JP H0853412A JP 6189331 A JP6189331 A JP 6189331A JP 18933194 A JP18933194 A JP 18933194A JP H0853412 A JPH0853412 A JP H0853412A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- compound
- acid
- group
- reactional
- Prior art date
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- Pending
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Pyrrole Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【構成】一般式（Ｉ）で示される化合物、ならびに当該
化合物に、パラジウム、ロジウム、ルチニウム等の遷移
金属触媒を作用させて、オレフィンの異性化を伴う脱ア
リル化反応を行わしめることより成る、一般式（II）で
示される光学活性な３−アミノピロリジン類を製造する
方法。 ［式中、Ｒ１、Ｒ２はＨ、アミノ保護基などＲ３〜Ｒ５
はＨ、ハロゲン、アルキル基などを示す。］で示す化合
物。 【効果】優れた抗菌活性を示す１β−メチルカルバペネ
ム誘導体の有用な合成原料である。
化合物に、パラジウム、ロジウム、ルチニウム等の遷移
金属触媒を作用させて、オレフィンの異性化を伴う脱ア
リル化反応を行わしめることより成る、一般式（II）で
示される光学活性な３−アミノピロリジン類を製造する
方法。 ［式中、Ｒ１、Ｒ２はＨ、アミノ保護基などＲ３〜Ｒ５
はＨ、ハロゲン、アルキル基などを示す。］で示す化合
物。 【効果】優れた抗菌活性を示す１β−メチルカルバペネ
ム誘導体の有用な合成原料である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は医薬品として利用できる
化合物の合成中間体として有用な、光学活性な３−アミ
ノピロリジン類の効率的な製造法に関する。
化合物の合成中間体として有用な、光学活性な３−アミ
ノピロリジン類の効率的な製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術】光学活性な３−アミノピロリジン類は抗
菌剤の合成中間体として重要であり、これまで数多くの
製造法が報告されている。例えば、特開平５−３３９２
６９号公報では、極めて優れた抗菌活性を有する１β−
メチルカルバペネム誘導体の合成中間体として利用され
ている。この１β−メチルカルバペネム誘導体の２位の
側鎖のピロリジン基（ａ）のアミノピロリジン部分は、
ピロリジン環の１位と３位の２つのアミノ基を保護した
化合物（ｃ）の１位のアミノ保護基を脱保護して得られ
る化合物（ｂ）から合成される。
菌剤の合成中間体として重要であり、これまで数多くの
製造法が報告されている。例えば、特開平５−３３９２
６９号公報では、極めて優れた抗菌活性を有する１β−
メチルカルバペネム誘導体の合成中間体として利用され
ている。この１β−メチルカルバペネム誘導体の２位の
側鎖のピロリジン基（ａ）のアミノピロリジン部分は、
ピロリジン環の１位と３位の２つのアミノ基を保護した
化合物（ｃ）の１位のアミノ保護基を脱保護して得られ
る化合物（ｂ）から合成される。
【０００３】この化合物（ｂ）の合成法においては、化
合物（ｃ）の２つのアミノ保護基を差別化して脱保護す
ることが必要である。
合物（ｃ）の２つのアミノ保護基を差別化して脱保護す
ることが必要である。
【０００４】
【化４】
【０００５】［式中、Protは保護基を示す。］ このような差別化した脱保護による化合物（ｂ）の合成
法としては、化合物（ｃ）のピロリジン環の１位のアミ
ノ保護基をパラジウム触媒を用いて水素添加し、脱保護
する以下の方法が知られている。（特開平２−２９０８
７０号公報）
法としては、化合物（ｃ）のピロリジン環の１位のアミ
ノ保護基をパラジウム触媒を用いて水素添加し、脱保護
する以下の方法が知られている。（特開平２−２９０８
７０号公報）
【０００６】
【化５】
【０００７】（T.Rosen 等、Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．，
３１，１５８６，（１９８８））
３１，１５８６，（１９８８））
【０００８】
【化６】
【０００９】（Ｊ．Ｓａｎｃｈｅｚ等、J.Med.Chem.,3
5,1764,(1992))
5,1764,(1992))
【００１０】
【化７】
【００１１】しかし、これらの水素添加反応を用いる方
法は、工業的な製法としては問題がある。そこでピロリ
ジン誘導体（ｃ）の１位のアミノ基の保護基と３位のア
ミノ基の保護基との差別化が容易で反応条件も水素添加
反応を用いない３−アミノピロリジン類（ｂ）の製造法
の検討を行った。
法は、工業的な製法としては問題がある。そこでピロリ
ジン誘導体（ｃ）の１位のアミノ基の保護基と３位のア
ミノ基の保護基との差別化が容易で反応条件も水素添加
反応を用いない３−アミノピロリジン類（ｂ）の製造法
の検討を行った。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、光学活
性な３−アミノピロリジン類（ｂ）の水素添加によらな
い脱保護反応を使用した工業的製造法について鋭意研究
を行った結果、安価なアミノ酸から高収率で誘導される
新規な化合物（Ｉ）を遷移金属触媒と作用させ、オレフ
ィンの異性化を伴う脱アリル化を行うことにより、簡便
かつ高収率で目的とする光学活性な３−アミノピロリジ
ン類（ｂ）が製造出来ることを見出し、本発明を完成し
た。
性な３−アミノピロリジン類（ｂ）の水素添加によらな
い脱保護反応を使用した工業的製造法について鋭意研究
を行った結果、安価なアミノ酸から高収率で誘導される
新規な化合物（Ｉ）を遷移金属触媒と作用させ、オレフ
ィンの異性化を伴う脱アリル化を行うことにより、簡便
かつ高収率で目的とする光学活性な３−アミノピロリジ
ン類（ｂ）が製造出来ることを見出し、本発明を完成し
た。
【００１３】
【課題を解決するための手段】本発明は一般式（Ｉ）
【００１４】
【化８】
【００１５】［式中、Ｒ1 、Ｒ2 は同一又は異なって水
素原子もしくはアミノ保護基を表し、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5
は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、
又はアラルキル基を表し、＊は不斉炭素を表す］で示さ
れる化合物であり、この化合物に遷移金属触媒を作用さ
せ、オレフィンの異性化を伴う脱アリル化を行うことを
特徴とする、一般式
素原子もしくはアミノ保護基を表し、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5
は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、
又はアラルキル基を表し、＊は不斉炭素を表す］で示さ
れる化合物であり、この化合物に遷移金属触媒を作用さ
せ、オレフィンの異性化を伴う脱アリル化を行うことを
特徴とする、一般式
【００１６】
【化９】
【００１７】［式中、Ｒ1 、Ｒ2 、＊は前述と同じ意味
を表す］で示される光学活性な３−アミノピロリジン類
の製造法。特に、遷移金属触媒が８〜１０属の遷移金属
触媒である場合の製造法であり、更には、８〜１０属の
遷移金属触媒がパラジウム触媒、ルテニウム触媒、ロジ
ウム触媒である場合の光学活性な３−アミノピロリジン
類の新規な工業的製造法である。
を表す］で示される光学活性な３−アミノピロリジン類
の製造法。特に、遷移金属触媒が８〜１０属の遷移金属
触媒である場合の製造法であり、更には、８〜１０属の
遷移金属触媒がパラジウム触媒、ルテニウム触媒、ロジ
ウム触媒である場合の光学活性な３−アミノピロリジン
類の新規な工業的製造法である。
【００１８】Ｒ1 、Ｒ2 の定義における「アミノ保護
基」とは、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、
ブチルオキシカルボニル、イソブチルオキシカルボニ
ル、ｔ−ブチルオキシカルボニル、ｔ−アミルオキシカ
ルボニルのような低級アルキルオキシカルボニル基、
２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル、２−トリ
メチルシリルエトキシカルボニルのようなハロゲン又は
トリ低級アルキルシリル基で置換された低級アルキルオ
キシカルボニル基、ビニルオキシカルボニル、アリルオ
キシカルボニルのようなアルケニルオキシカルボニル
基、ベンジルオキシカルボニル、４−ブロモベンジルオ
キシカルボニル、２，４−ジクロロベンジルオキシカル
ボニル、４−ニトロベンジルオキシカルボニル、２−ニ
トロベンジルオキシカルボニル、４−メトキシベンジル
オキシカルボニル、３，５−ジメトキシベンジルオキシ
カルボニルのような、１から２個の低級アルコキシ基、
ハロゲン原子又はニトロ基でアリール環が置換されてい
てもよいアラルキルオキシカルボニル基等の「カルバメ
ート型保護基」；ホルミル基、アセチル基、プロピオニ
ル基、ブチリル基、イソブチリル基、ピバロイル基のよ
うなアルキルカルボニル基、トリクロロアセチル、トリ
フルオロアセチルのようなハロゲン化アルキルカルボニ
ル基、ベンゾイル、２−トルオイル、４−トルオイル、
２，４，６−トリメチルベンゾイル、α−ナフトイル、
β−ナフトイル、フタロイル、２−メトキシベンゾイ
ル、４−メトキシベンゾイル、２，４−ジメトキシベン
ゾイル、２−ニトロベンゾイル、４−ニトロベンゾイ
ル、２，４−ジニトロベンゾイル、４−ブロモベンゾイ
ル、２−ブロモベンゾイル、２，４−ジブロモベンゾイ
ル、２−クロロベンゾイル、４−クロロベンゾイル、
２，４−ジクロロベンゾイルのような１から３個の低級
アルコキシ基、ハロゲン原子又はニトロ基でアリール環
が置換されていてもよいアリールカルボニル基等の「ア
ミド型保護基」；ベンジル、４−メトキシベンジル、
２，４−ジメトキシベンジル、３，４−ジメトキシベン
ジル、２−ニトロベンジル、４−ニトロベンジル、ジフ
ェニルメチル、ジ（４−メトキシフェニル）メチル、ト
リフェニルメチルのような１から２個の低級アルコキシ
基又はニトロ基でアリール環が置換されていてもよいア
ラルキル基等の「アルキル型保護基」；ジフェニルホス
フィニルのような「ホスフィンアミド型保護基」；ジエ
チルホスホリルのようなジ低級アルキルホスホリル基、
ジベンジルホスホリルのようなジアラルキルホスホリル
基、ジフェニルホスホリルのようなジアリールホスホリ
ル基等の「ホスホアミド型保護基」；ベンゼンスルフェ
ニル、２−ニトロベンゼンスルフェニル、２，４−ジニ
トロベンゼンスルフェニル、２−ニトロ−４−メトキシ
ベンゼンスルフェニルのような１から２個の低級アルコ
キシ基、又はニトロ基でアリール環が置換されていても
よいアラルキルスルフェニル基等の「スルフェンアミド
型保護基」；メタンスルホニル、エタンスルホニル、プ
ロパンスルホニル、ブタンスルホニルのようなアルキル
スルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基のよう
なハロゲン化メタンスルホニル基、ベンゼンスルホニ
ル、４−トルエンスルホニル、４−メトキシベンゼンス
ルホニル、２，４，６−トリメチルベンゼンスルホニル
のような１から３個の、低級アルコキシ基又は低級アル
キル基でアリール環が置換されていてもよいアリールス
ルホニル基、ベンジルスルホニル、４−メチルベンジル
スルホニルのような低級アルキル基で置換されていても
よいアラルキルスルホニル基等の「スルホンアミド型保
護基」を挙げることができ、好適には「カルバメート型
保護基」、「スルフェンアミド型保護基」および「アミ
ド型保護基」を挙げることができ、更に好適には、低級
アルコキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル
基、ニトロ化アラルキルオキシカルボニル基、アルキル
カルボニル基であり、最も好適には、ｔ−ブチルオキシ
カルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、４−ニト
ロベンジルオキシカルボニル基およびアセチル基であ
る。
基」とは、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、
ブチルオキシカルボニル、イソブチルオキシカルボニ
ル、ｔ−ブチルオキシカルボニル、ｔ−アミルオキシカ
ルボニルのような低級アルキルオキシカルボニル基、
２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル、２−トリ
メチルシリルエトキシカルボニルのようなハロゲン又は
トリ低級アルキルシリル基で置換された低級アルキルオ
キシカルボニル基、ビニルオキシカルボニル、アリルオ
キシカルボニルのようなアルケニルオキシカルボニル
基、ベンジルオキシカルボニル、４−ブロモベンジルオ
キシカルボニル、２，４−ジクロロベンジルオキシカル
ボニル、４−ニトロベンジルオキシカルボニル、２−ニ
トロベンジルオキシカルボニル、４−メトキシベンジル
オキシカルボニル、３，５−ジメトキシベンジルオキシ
カルボニルのような、１から２個の低級アルコキシ基、
ハロゲン原子又はニトロ基でアリール環が置換されてい
てもよいアラルキルオキシカルボニル基等の「カルバメ
ート型保護基」；ホルミル基、アセチル基、プロピオニ
ル基、ブチリル基、イソブチリル基、ピバロイル基のよ
うなアルキルカルボニル基、トリクロロアセチル、トリ
フルオロアセチルのようなハロゲン化アルキルカルボニ
ル基、ベンゾイル、２−トルオイル、４−トルオイル、
２，４，６−トリメチルベンゾイル、α−ナフトイル、
β−ナフトイル、フタロイル、２−メトキシベンゾイ
ル、４−メトキシベンゾイル、２，４−ジメトキシベン
ゾイル、２−ニトロベンゾイル、４−ニトロベンゾイ
ル、２，４−ジニトロベンゾイル、４−ブロモベンゾイ
ル、２−ブロモベンゾイル、２，４−ジブロモベンゾイ
ル、２−クロロベンゾイル、４−クロロベンゾイル、
２，４−ジクロロベンゾイルのような１から３個の低級
アルコキシ基、ハロゲン原子又はニトロ基でアリール環
が置換されていてもよいアリールカルボニル基等の「ア
ミド型保護基」；ベンジル、４−メトキシベンジル、
２，４−ジメトキシベンジル、３，４−ジメトキシベン
ジル、２−ニトロベンジル、４−ニトロベンジル、ジフ
ェニルメチル、ジ（４−メトキシフェニル）メチル、ト
リフェニルメチルのような１から２個の低級アルコキシ
基又はニトロ基でアリール環が置換されていてもよいア
ラルキル基等の「アルキル型保護基」；ジフェニルホス
フィニルのような「ホスフィンアミド型保護基」；ジエ
チルホスホリルのようなジ低級アルキルホスホリル基、
ジベンジルホスホリルのようなジアラルキルホスホリル
基、ジフェニルホスホリルのようなジアリールホスホリ
ル基等の「ホスホアミド型保護基」；ベンゼンスルフェ
ニル、２−ニトロベンゼンスルフェニル、２，４−ジニ
トロベンゼンスルフェニル、２−ニトロ−４−メトキシ
ベンゼンスルフェニルのような１から２個の低級アルコ
キシ基、又はニトロ基でアリール環が置換されていても
よいアラルキルスルフェニル基等の「スルフェンアミド
型保護基」；メタンスルホニル、エタンスルホニル、プ
ロパンスルホニル、ブタンスルホニルのようなアルキル
スルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基のよう
なハロゲン化メタンスルホニル基、ベンゼンスルホニ
ル、４−トルエンスルホニル、４−メトキシベンゼンス
ルホニル、２，４，６−トリメチルベンゼンスルホニル
のような１から３個の、低級アルコキシ基又は低級アル
キル基でアリール環が置換されていてもよいアリールス
ルホニル基、ベンジルスルホニル、４−メチルベンジル
スルホニルのような低級アルキル基で置換されていても
よいアラルキルスルホニル基等の「スルホンアミド型保
護基」を挙げることができ、好適には「カルバメート型
保護基」、「スルフェンアミド型保護基」および「アミ
ド型保護基」を挙げることができ、更に好適には、低級
アルコキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル
基、ニトロ化アラルキルオキシカルボニル基、アルキル
カルボニル基であり、最も好適には、ｔ−ブチルオキシ
カルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、４−ニト
ロベンジルオキシカルボニル基およびアセチル基であ
る。
【００１９】Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 の定義における「ハロゲ
ン原子」としては、塩素原子、臭素原子、沃素原子、弗
素原子が挙げられ、好適には塩素原子及び臭素原子であ
り、更に好適には塩素原子である。Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 の
定義における「アルキル基」としては、メチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチルのよ
うな側鎖を有してもよい低級アルキル基、Ｒ3 とＲ4 、
若しくは、Ｒ4 とＲ5 が一緒になった、エチレン、トリ
メチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン基を挙げる
ことができ、好適にはメチル、エチル、トリメチレン及
びテトラメチレン基である。Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 の定義に
おける「アリール基」としては、低級アルコキシ基、低
級アルキル基、ハロゲン原子及びニトロ基でアリール環
が置換されていてもよいアリール基を挙げることがで
き、好適にはフェニル基である。Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 の定
義における「アラルキル基」としては、低級アルコキシ
基、低級アルキル基、ハロゲン原子及びニトロ基でアリ
ール環が置換されていてもよいアラルキル基を挙げるこ
とができ、好適にはベンジル基である。
ン原子」としては、塩素原子、臭素原子、沃素原子、弗
素原子が挙げられ、好適には塩素原子及び臭素原子であ
り、更に好適には塩素原子である。Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 の
定義における「アルキル基」としては、メチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチルのよ
うな側鎖を有してもよい低級アルキル基、Ｒ3 とＲ4 、
若しくは、Ｒ4 とＲ5 が一緒になった、エチレン、トリ
メチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン基を挙げる
ことができ、好適にはメチル、エチル、トリメチレン及
びテトラメチレン基である。Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 の定義に
おける「アリール基」としては、低級アルコキシ基、低
級アルキル基、ハロゲン原子及びニトロ基でアリール環
が置換されていてもよいアリール基を挙げることがで
き、好適にはフェニル基である。Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 の定
義における「アラルキル基」としては、低級アルコキシ
基、低級アルキル基、ハロゲン原子及びニトロ基でアリ
ール環が置換されていてもよいアラルキル基を挙げるこ
とができ、好適にはベンジル基である。
【００２０】本発明の代表化合物としては、表１に記載
の化合物をあげることができるが、本発明はこれらの化
合物に限定されるものではない。
の化合物をあげることができるが、本発明はこれらの化
合物に限定されるものではない。
【００２１】表中、ＰＮｚはｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボニル基、ＰＭｚはｐ−メトキシベンジルオキシカ
ルボニル基、Ｂｏｃはｔ−ブトキシカルボニル基、Ｐｈ
はフェニル基、Ｐｈｔｌはフタロイル基、Ｔｏｓはｐ−
トルエンスルホニル基を示す。
カルボニル基、ＰＭｚはｐ−メトキシベンジルオキシカ
ルボニル基、Ｂｏｃはｔ−ブトキシカルボニル基、Ｐｈ
はフェニル基、Ｐｈｔｌはフタロイル基、Ｔｏｓはｐ−
トルエンスルホニル基を示す。
【００２２】
【表１】
【００２３】
【化１０】
【００２４】 ──────────────────────────────────── 番号 Ｒ1 Ｒ2 Ｒ3 Ｒ4 Ｒ5 ──────────────────────────────────── １ -COOCH3 Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ ２ -COOC2H5 Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ ３ -COOCH2CCl3 Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ ４ -COOCH2CH=CH2 Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ ５ -COOC3H7 Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ ６ -COOC4H9 Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ ７ -COOCH(CH3)CH2CH3 Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ ８ - Ｂｏｃ Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ ９ -COOC(CH3)2CH2CH3 Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ １０ -COOCH2Ph Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ １１ - ＰＮｚ Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ １２ - ＰＭｚ Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ １３ -CHO Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ １４ -COCH3 Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ １５ -COCF3 Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ １６ -COPh Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ １７ −Ｐｈｔｌ− Ｈ Ｈ Ｈ １８ -SO2Ph Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ １９ - Ｔｏｓ Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ ２０ -S-(2-NO2-Ph) Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ ２１ -CH2Ph -CH2Ph Ｈ Ｈ Ｈ ２２ -C(Ph)3 Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ ２３ Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ ２４ -COOCH3 Ｈ CH3 Ｈ Ｈ ２５ -COOC2H5 Ｈ CH3 Ｈ Ｈ ２６ -COOCH2CCl3 Ｈ CH3 Ｈ Ｈ ２７ -COOCH2CH=CH2 Ｈ CH3 Ｈ Ｈ ２８ -COOC3H7 Ｈ CH3 Ｈ Ｈ ２９ -COOC4H9 Ｈ CH3 Ｈ Ｈ ３０ -COOCH(CH3)CH2CH3 Ｈ CH3 Ｈ Ｈ ３１ - Ｂｏｃ Ｈ CH3 Ｈ Ｈ ３２ -COOC(CH3)2CH2CH3 Ｈ CH3 Ｈ Ｈ ３３ -COOCH2Ph Ｈ CH3 Ｈ Ｈ ３４ - ＰＮｚ Ｈ CH3 Ｈ Ｈ ３５ - ＰＭｚ Ｈ CH3 Ｈ Ｈ ３６ -CHO Ｈ CH3 Ｈ Ｈ ３７ -COCH3 Ｈ CH3 Ｈ Ｈ ３８ -COCF3 Ｈ CH3 Ｈ Ｈ ３９ -COPh Ｈ CH3 Ｈ Ｈ ４０ −Ｐｈｔｌ− CH3 Ｈ Ｈ ４１ -SO2Ph Ｈ CH3 Ｈ Ｈ ４２ - Ｔｏｓ Ｈ CH3 Ｈ Ｈ ４３ -S-(2-NO2-Ph) Ｈ CH3 Ｈ Ｈ ４４ -CH2Ph -CH2Ph CH3 Ｈ Ｈ ４５ -C(Ph)3 Ｈ CH3 Ｈ Ｈ ４６ Ｈ Ｈ CH3 Ｈ Ｈ ４７ -COOCH3 Ｈ Ｈ CH3 Ｈ ４８ -COOC2H5 Ｈ Ｈ CH3 Ｈ ４９ -COOCH2CCl3 Ｈ Ｈ CH3 Ｈ ５０ -COOCH2CH=CH2 Ｈ Ｈ CH3 Ｈ ５１ -COOC3H7 Ｈ Ｈ CH3 Ｈ ５２ -COOC4H9 Ｈ Ｈ CH3 Ｈ ５３ -COOCH(CH3)CH2CH3 Ｈ Ｈ CH3 Ｈ ５４ - Ｂｏｃ Ｈ Ｈ CH3 Ｈ ５５ -COOC(CH3)2CH2CH3 Ｈ Ｈ CH3 Ｈ ５６ -COOCH2Ph Ｈ Ｈ CH3 Ｈ ５７ - ＰＮｚ Ｈ Ｈ CH3 Ｈ ５８ - ＰＭｚ Ｈ Ｈ CH3 Ｈ ５９ -CHO Ｈ Ｈ CH3 Ｈ ６０ -COCH3 Ｈ Ｈ CH3 Ｈ ６１ -COCF3 Ｈ Ｈ CH3 Ｈ ６２ -COPh Ｈ Ｈ CH3 Ｈ ６３ −Ｐｈｔｌ− Ｈ CH3 Ｈ ６４ -SO2Ph Ｈ Ｈ CH3 Ｈ ６５ - Ｔｏｓ Ｈ Ｈ CH3 Ｈ ６６ -S-(2-NO2-Ph) Ｈ Ｈ CH3 Ｈ ６７ -CH2Ph -CH2Ph Ｈ CH3 Ｈ ６８ -C(Ph)3 Ｈ Ｈ CH3 Ｈ ６９ Ｈ Ｈ Ｈ CH3 Ｈ ７０ -COOCH3 Ｈ Ｈ CH3 CH3 ７１ -COOC2H5 Ｈ Ｈ CH3 CH3 ７２ -COOCH2CCl3 Ｈ Ｈ CH3 CH3 ７３ -COOCH2CH=CH2 Ｈ Ｈ CH3 CH3 ７４ -COOC3H7 Ｈ Ｈ CH3 CH3 ７５ -COOC4H9 Ｈ Ｈ CH3 CH3 ７６ -COOCH(CH3)CH2CH3 Ｈ Ｈ CH3 CH3 ７７ - Ｂｏｃ Ｈ Ｈ CH3 CH3 ７８ -COOC(CH3)2CH2CH3 Ｈ Ｈ CH3 CH3 ７９ -COOCH2Ph Ｈ Ｈ CH3 CH3 ８０ - ＰＮｚ Ｈ Ｈ CH3 CH3 ８１ - ＰＭｚ Ｈ Ｈ CH3 CH3 ８２ -CHO Ｈ Ｈ CH3 CH3 ８３ -COCH3 Ｈ Ｈ CH3 CH3 ８４ -COCF3 Ｈ Ｈ CH3 CH3 ８５ -COPh Ｈ Ｈ CH3 CH3 ８６ −Ｐｈｔｌ− Ｈ CH3 CH3 ８７ -SO2Ph Ｈ Ｈ CH3 CH3 ８８ - Ｔｏｓ Ｈ Ｈ CH3 CH3 ８９ -S-(2-NO2-Ph) Ｈ Ｈ CH3 CH3 ９０ -CH2Ph -CH2Ph Ｈ CH3 CH3 ９１ -C(Ph)3 Ｈ Ｈ CH3 CH3 ９２ Ｈ Ｈ Ｈ CH3 CH3 ──────────────────────────────────── 本発明の光学活性な３−アミノピロリジンの製造法は遷
移金属触媒によるオレフィンの異性化反応と、オレフィ
ンの異性化により生成したエナミン体及び／又はそのア
ルコール付加体の酸加水分解反応の２段階反応からな
る。
移金属触媒によるオレフィンの異性化反応と、オレフィ
ンの異性化により生成したエナミン体及び／又はそのア
ルコール付加体の酸加水分解反応の２段階反応からな
る。
【００２５】
【化１１】
【００２６】［式中、Ｒ1 〜Ｒ5 は前述したものと同意
義を示す。］ オレフィンの異性化に用いる遷移金属触媒としては、８
属（鉄、ルテニウム、オスニウム）、９属（コバルト、
ロジウム、イリジウム）及び１０属（ニッケル、パラジ
ウム、白金）の遷移金属触媒が挙げられ、好ましくは、
炭素に担持されたパラジウム、硫酸バリウムに担持され
たパラジウム、炭酸バリウムに担持されたパラジウム、
炭酸カルシウムに担持されたパラジウム又はアルミニウ
ムに担持されたパラジウム、塩化パラジウム（II）、臭
化パラジウム（II）のようなハロゲン化パラジウム（I
I）、酢酸パラジウム（II）、トリフルオロアセチルパ
ラジウム（II）のようなハロゲン化されていてもよい酢
酸パラジウム（II）、ビス（アセチルアセトナト）パラ
ジウム（II）、ジクロロ（１，５−シクロオクタジエ
ン）パラジウム（II）、ジクロロビス（ベンゾニトリ
ル）パラジウム（II）のようなジハロゲノビス（ベンゾ
ニトリル）パラジウム（II）、ジクロロビス（アセトニ
トリル）パラジウム（II）のようなジハロゲノビス（ア
セトニトリル）パラジウム（II）、ジクロロビス（トリ
エチルホスフィン）パラジウム（II）、ジクロロビス
（トリフェニルホスフィン）パラジウム（II）のような
ジハロゲノビス（トリアルキルホスフィン）パラジウム
（II）等の「パラジウム触媒」；炭素に担持されたロジ
ウム、塩化ロジウム（III ）、クロロトリス（トリフェ
ニルホスフィン）ロジウム（Ｉ）、ヒドリドテトラキス
（トリフェニルホスフィン）ロジウム（Ｉ）、カルボニ
ルヒドリドトリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム
（Ｉ）、１，５−シクロオクタジエン（ジフェニルホス
フィン）ロジウム（Ｉ）過塩素酸塩、ノルボルナジエン
（ジフェニルホスフィン）ロジウム（Ｉ）過塩素酸塩、
ジフェニルホスフィンロジウム（Ｉ）過塩素酸塩、１，
１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセンロジウ
ム（Ｉ）過塩素酸塩、１，３−ビス（ジイソプロピルホ
スフィノプロパン）ロジウム（Ｉ）過塩素酸塩等の「ロ
ジウム触媒」；ジクロロトリス（トリフェニルホスフィ
ン）ルテニウム（II) 、クロロヒドリドトリス（トリフ
ェニルホスフィン）ルテニウム（II）、アセタトヒドリ
ドトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム（I
I）、カルボニルクロロヒドリドトリス（トリフェニル
ホスフィン）ルテニウム（II）、カルボニルジヒドリド
トリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム（II）、
ジヒドリドテトラキス（トリフェニルホスフィン）ルテ
ニウム（II）、ジクロロビス（アセトニトリル）ビス
（トリフェニルホスフィン）ルテニウム（II）、クロロ
（シクロペンタジエニル）ビス（トリフェニルホスフィ
ン）ルテニウム（II）等の「ルテニウム触媒」であり、
より好ましくは、炭素に担持されたパラジウム、ハロゲ
ン化パラジウム、酢酸パラジウム、クロロトリス（トリ
フェニルホスフィン）ロジウム（Ｉ）、カルボニルヒド
リドトリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム
（Ｉ）、クロロヒドリドトリス（トリフェニルホスフィ
ン）ルテニウム（II）及びジクロロトリス（トリフェニ
ルホスフィン）ルテニウム（II）であり、最も好ましく
は、炭素に担持されたパラジウムである。
義を示す。］ オレフィンの異性化に用いる遷移金属触媒としては、８
属（鉄、ルテニウム、オスニウム）、９属（コバルト、
ロジウム、イリジウム）及び１０属（ニッケル、パラジ
ウム、白金）の遷移金属触媒が挙げられ、好ましくは、
炭素に担持されたパラジウム、硫酸バリウムに担持され
たパラジウム、炭酸バリウムに担持されたパラジウム、
炭酸カルシウムに担持されたパラジウム又はアルミニウ
ムに担持されたパラジウム、塩化パラジウム（II）、臭
化パラジウム（II）のようなハロゲン化パラジウム（I
I）、酢酸パラジウム（II）、トリフルオロアセチルパ
ラジウム（II）のようなハロゲン化されていてもよい酢
酸パラジウム（II）、ビス（アセチルアセトナト）パラ
ジウム（II）、ジクロロ（１，５−シクロオクタジエ
ン）パラジウム（II）、ジクロロビス（ベンゾニトリ
ル）パラジウム（II）のようなジハロゲノビス（ベンゾ
ニトリル）パラジウム（II）、ジクロロビス（アセトニ
トリル）パラジウム（II）のようなジハロゲノビス（ア
セトニトリル）パラジウム（II）、ジクロロビス（トリ
エチルホスフィン）パラジウム（II）、ジクロロビス
（トリフェニルホスフィン）パラジウム（II）のような
ジハロゲノビス（トリアルキルホスフィン）パラジウム
（II）等の「パラジウム触媒」；炭素に担持されたロジ
ウム、塩化ロジウム（III ）、クロロトリス（トリフェ
ニルホスフィン）ロジウム（Ｉ）、ヒドリドテトラキス
（トリフェニルホスフィン）ロジウム（Ｉ）、カルボニ
ルヒドリドトリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム
（Ｉ）、１，５−シクロオクタジエン（ジフェニルホス
フィン）ロジウム（Ｉ）過塩素酸塩、ノルボルナジエン
（ジフェニルホスフィン）ロジウム（Ｉ）過塩素酸塩、
ジフェニルホスフィンロジウム（Ｉ）過塩素酸塩、１，
１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセンロジウ
ム（Ｉ）過塩素酸塩、１，３−ビス（ジイソプロピルホ
スフィノプロパン）ロジウム（Ｉ）過塩素酸塩等の「ロ
ジウム触媒」；ジクロロトリス（トリフェニルホスフィ
ン）ルテニウム（II) 、クロロヒドリドトリス（トリフ
ェニルホスフィン）ルテニウム（II）、アセタトヒドリ
ドトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム（I
I）、カルボニルクロロヒドリドトリス（トリフェニル
ホスフィン）ルテニウム（II）、カルボニルジヒドリド
トリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム（II）、
ジヒドリドテトラキス（トリフェニルホスフィン）ルテ
ニウム（II）、ジクロロビス（アセトニトリル）ビス
（トリフェニルホスフィン）ルテニウム（II）、クロロ
（シクロペンタジエニル）ビス（トリフェニルホスフィ
ン）ルテニウム（II）等の「ルテニウム触媒」であり、
より好ましくは、炭素に担持されたパラジウム、ハロゲ
ン化パラジウム、酢酸パラジウム、クロロトリス（トリ
フェニルホスフィン）ロジウム（Ｉ）、カルボニルヒド
リドトリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム
（Ｉ）、クロロヒドリドトリス（トリフェニルホスフィ
ン）ルテニウム（II）及びジクロロトリス（トリフェニ
ルホスフィン）ルテニウム（II）であり、最も好ましく
は、炭素に担持されたパラジウムである。
【００２７】オレフィンの異性化反応に用いる触媒量
は、触媒にもよるが、通常、基質に対し、０．００１等
量〜１０等量であり、好ましくは、０．０１等量〜１等
量である。
は、触媒にもよるが、通常、基質に対し、０．００１等
量〜１０等量であり、好ましくは、０．０１等量〜１等
量である。
【００２８】オレフィンの異性化反応に用いる溶媒は、
反応を阻害しなければ特に限定はないが、好適には、ト
ルエン、ベンゼン、キシレンなどの芳香族炭化水素；ジ
オキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類；ク
ロロホルム、１，２−ジクロロエタン、四塩化炭素、ク
ロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭
化水素；メタノール、エタノール、プロパノール、イソ
プロパノール、ブタノール、イソブタノール、ｔ−ブタ
ノールのようなアルコール類；水；及びこれらの溶媒の
混合溶媒が挙げられ、より好適には、芳香族炭化水素、
含水アルコール類及び水であり、より好ましくは、トル
エン、キシレン、含水エタノール、含水プロパノール及
び水である。
反応を阻害しなければ特に限定はないが、好適には、ト
ルエン、ベンゼン、キシレンなどの芳香族炭化水素；ジ
オキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類；ク
ロロホルム、１，２−ジクロロエタン、四塩化炭素、ク
ロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭
化水素；メタノール、エタノール、プロパノール、イソ
プロパノール、ブタノール、イソブタノール、ｔ−ブタ
ノールのようなアルコール類；水；及びこれらの溶媒の
混合溶媒が挙げられ、より好適には、芳香族炭化水素、
含水アルコール類及び水であり、より好ましくは、トル
エン、キシレン、含水エタノール、含水プロパノール及
び水である。
【００２９】オレフィンの異性化反応の反応温度は、反
応に用いる基質にもよるが、通常、５０℃〜１５０℃で
あり、好適には、７０℃〜１２０℃である。
応に用いる基質にもよるが、通常、５０℃〜１５０℃で
あり、好適には、７０℃〜１２０℃である。
【００３０】エナミン体及び／又はそのアルコール付加
体の加水分解反応に用いる酸としては、ギ酸、酢酸、プ
ロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、イソ吉草酸、ピ
バル酸、シュウ酸、リンゴ酸、マロン酸、コハク酸、酒
石酸、グルタル酸、アジピン酸のような飽和脂肪族カル
ボン酸；トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸のようなハ
ロゲン化脂肪族カルボン酸；アクリル酸、クロトン酸、
フマル酸、マレイン酸のような不飽和脂肪族カルボン
酸；安息香酸、２，４，６−トリメチル安息香酸、フタ
ル酸、２−メトキシ安息香酸、４−メトキシ安息香酸、
２，４−ジメトキシ安息香酸、２−ニトロ安息香酸、４
−ニトロ安息香酸、２，４−ジニトロ安息香酸、４−ブ
ロモ安息香酸、２−ブロモ安息香酸、２，４−ジブロモ
安息香酸、２−クロロ安息香酸、４−クロロ安息香酸、
２，４−ジクロロ安息香酸のような１から３個の低級ア
ルコキシ基、ハロゲン原子又はニトロ基でアリール環が
置換されていてもよいアリールカルボン酸；メタンスル
ホン酸、エタンスルホン酸、プロパンスルホン酸、ブタ
ンスルホン酸、カンファースルホン酸のようなアルキル
スルホン酸；トリフルオロメタンスルホン酸のようなハ
ロゲン化アルキルスルホン酸；ベンゼンスルホン酸、４
−トルエンスルホン酸、４−メトキシフェニルスルホン
酸、２，４，６−トリメチルフェニルスルホン酸のよう
な１から３個の、低級アルコキシ基又は低級アルキル基
でアリール環が置換されていてもよいアリールスルホン
酸、ベンジルスルホン酸、４−メチルベンジルスルホン
酸のような低級アルキル基で置換されていてもよいアラ
ルキルスルホン酸；塩酸、臭化水素酸、妖化水素酸、硝
酸、硫酸、燐酸、過塩素酸のような無機酸が挙げられ、
好ましくは、飽和脂肪族カルボン酸、アリールカルボン
酸、アルキルスルホン酸、アリールスルホン酸及び無機
酸であり、更に好ましくは、脂肪族カルボン酸であり、
最適には酢酸である。
体の加水分解反応に用いる酸としては、ギ酸、酢酸、プ
ロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、イソ吉草酸、ピ
バル酸、シュウ酸、リンゴ酸、マロン酸、コハク酸、酒
石酸、グルタル酸、アジピン酸のような飽和脂肪族カル
ボン酸；トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸のようなハ
ロゲン化脂肪族カルボン酸；アクリル酸、クロトン酸、
フマル酸、マレイン酸のような不飽和脂肪族カルボン
酸；安息香酸、２，４，６−トリメチル安息香酸、フタ
ル酸、２−メトキシ安息香酸、４−メトキシ安息香酸、
２，４−ジメトキシ安息香酸、２−ニトロ安息香酸、４
−ニトロ安息香酸、２，４−ジニトロ安息香酸、４−ブ
ロモ安息香酸、２−ブロモ安息香酸、２，４−ジブロモ
安息香酸、２−クロロ安息香酸、４−クロロ安息香酸、
２，４−ジクロロ安息香酸のような１から３個の低級ア
ルコキシ基、ハロゲン原子又はニトロ基でアリール環が
置換されていてもよいアリールカルボン酸；メタンスル
ホン酸、エタンスルホン酸、プロパンスルホン酸、ブタ
ンスルホン酸、カンファースルホン酸のようなアルキル
スルホン酸；トリフルオロメタンスルホン酸のようなハ
ロゲン化アルキルスルホン酸；ベンゼンスルホン酸、４
−トルエンスルホン酸、４−メトキシフェニルスルホン
酸、２，４，６−トリメチルフェニルスルホン酸のよう
な１から３個の、低級アルコキシ基又は低級アルキル基
でアリール環が置換されていてもよいアリールスルホン
酸、ベンジルスルホン酸、４−メチルベンジルスルホン
酸のような低級アルキル基で置換されていてもよいアラ
ルキルスルホン酸；塩酸、臭化水素酸、妖化水素酸、硝
酸、硫酸、燐酸、過塩素酸のような無機酸が挙げられ、
好ましくは、飽和脂肪族カルボン酸、アリールカルボン
酸、アルキルスルホン酸、アリールスルホン酸及び無機
酸であり、更に好ましくは、脂肪族カルボン酸であり、
最適には酢酸である。
【００３１】加水分解反応はオレフィンの異性化により
生成した、エナミン体及び／又はそのアルコール付加体
を上記酸の水溶液に溶解し、通常、０℃〜還流温度付近
で数時間撹拌することにより完結する。又、遷移金属触
媒によるオレフィンの異性化反応の際、反応混合物に酸
を添加することにより、オレフィンの異性化反応と加水
分解反応を一度に行うことができる場合もある。
生成した、エナミン体及び／又はそのアルコール付加体
を上記酸の水溶液に溶解し、通常、０℃〜還流温度付近
で数時間撹拌することにより完結する。又、遷移金属触
媒によるオレフィンの異性化反応の際、反応混合物に酸
を添加することにより、オレフィンの異性化反応と加水
分解反応を一度に行うことができる場合もある。
【００３２】反応終了後、目的化合物は、常法によっ
て、反応混合物から採取される。例えば、アルカリで中
和後、目的化合物を含む非水溶性有機層を分離し、溶剤
を留去するこにより得られる。得られた目的化合物は、
必要ならば、常法、例えば、再結晶、カラムクロマトグ
ラフィー法により分離、精製することができる。又、目
的化合物を塩酸、臭化水素酸、妖化水素酸、硝酸、硫
酸、燐酸、過塩素酸、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪
酸、イソ酪酸、吉草酸、イソ吉草酸、ピバル酸、シュウ
酸、リンゴ酸、マロン酸、コハク酸、酒石酸、グルタル
酸、アジピン酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、
アクリル酸、クロトン酸、フマル酸、マレイン酸、安息
香酸、２，４，６−トリメチル安息香酸、フタル酸、２
−メトキシ安息香酸、４−メトキシ安息香酸、２，４−
ジメトキシ安息香酸、２−ニトロ安息香酸、４−ニトロ
安息香酸、２，４−ジニトロ安息香酸、４−ブロモ安息
香酸、２−ブロモ安息香酸、２，４−ジブロモ安息香
酸、２−クロロ安息香酸、４−クロロ安息香酸、２，４
−ジクロロ安息香酸、メタンスルホン酸、エタンスルホ
ン酸、プロパンスルホン酸、ブタンスルホン酸、カンフ
ァースルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ベン
ゼンスルホン酸、４−トルエンスルホン酸、４−メトキ
シフェニルスルホン酸、２，４，６−トリメチルフェニ
ルスルホン酸、ベンジルスルホン酸、４−メチルベンジ
ルスルホン酸等の塩として分離、精製することもでき
る。
て、反応混合物から採取される。例えば、アルカリで中
和後、目的化合物を含む非水溶性有機層を分離し、溶剤
を留去するこにより得られる。得られた目的化合物は、
必要ならば、常法、例えば、再結晶、カラムクロマトグ
ラフィー法により分離、精製することができる。又、目
的化合物を塩酸、臭化水素酸、妖化水素酸、硝酸、硫
酸、燐酸、過塩素酸、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪
酸、イソ酪酸、吉草酸、イソ吉草酸、ピバル酸、シュウ
酸、リンゴ酸、マロン酸、コハク酸、酒石酸、グルタル
酸、アジピン酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、
アクリル酸、クロトン酸、フマル酸、マレイン酸、安息
香酸、２，４，６−トリメチル安息香酸、フタル酸、２
−メトキシ安息香酸、４−メトキシ安息香酸、２，４−
ジメトキシ安息香酸、２−ニトロ安息香酸、４−ニトロ
安息香酸、２，４−ジニトロ安息香酸、４−ブロモ安息
香酸、２−ブロモ安息香酸、２，４−ジブロモ安息香
酸、２−クロロ安息香酸、４−クロロ安息香酸、２，４
−ジクロロ安息香酸、メタンスルホン酸、エタンスルホ
ン酸、プロパンスルホン酸、ブタンスルホン酸、カンフ
ァースルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ベン
ゼンスルホン酸、４−トルエンスルホン酸、４−メトキ
シフェニルスルホン酸、２，４，６−トリメチルフェニ
ルスルホン酸、ベンジルスルホン酸、４−メチルベンジ
ルスルホン酸等の塩として分離、精製することもでき
る。
【００３３】本発明の新規な化合物（Ｉ）は、例えば、
下式により合成することができる。
下式により合成することができる。
【００３４】
【化１２】
【００３５】［式中、Ｒ1 〜Ｒ5 は前述と同じ意味を表
し、Ｒ6 、Ｒ7 は炭素数１〜４の直鎖アルキル基を表
す。］ 工程［Ａ］のアミノ基の保護及び工程［Ｂ］のエステル
化は、通常の方法（例えば、Ｔｅｏｄｏｒａ Ｗ．Ｇｒ
ｅｅｎｅ ａｎｄ Ｐｅｔｅｒ Ｇ．Ｍ．Ｗｕｔｓ”Ｐ
ＲＯＴＥＣＴＩＶＥ ＧＲＯＵＰＳ ＩＮ ＯＲＧＡＮ
ＩＣ ＳＹＮＴＨＥＳＩＳ ２ｎｄ．”，Ｊｏｈｎ Ｗ
ｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ，１９９１，ｃｈａｐｔｅｒ ５ａ
ｎｄ７；赤堀四郎他”タンパク質化学−アミノ酸・ペプ
チド”，共立出版，１９６９，第５章；泉屋信夫他”ペ
プチド合成”，丸善，１９７５，第２及び第３章参照）
により行われる。工程［Ｃ］のエステルの還元反応は、
テトラヒドロフラン、ｔ−ブタノール又はイソブチルア
ルコールと２当量の水素化ホウ素ナトリウムとエステル
（VII ）の混合物へ、４０℃〜６０℃の温度範囲で、適
量のメタノールを滴下することにより、ほとんどラセミ
化することなく進行する。工程［Ｄ］のスルホニル化反
応は、３級アミン又はピリジン存在下、−２０℃〜２０
℃の温度範囲で対応するスルホニルクロリドと数時間反
応させることにより行うことができる。工程［Ｅ］の環
化反応は、化合物(IX)と１〜５等量のアリルアミン
（Ｘ）を無溶媒中、３０℃〜還流温度付近で数時間撹拌
することにより、高収率で進行する。なお、過剰のアミ
ンは、反応終了後、減圧下留去することにより容易に回
収される。
し、Ｒ6 、Ｒ7 は炭素数１〜４の直鎖アルキル基を表
す。］ 工程［Ａ］のアミノ基の保護及び工程［Ｂ］のエステル
化は、通常の方法（例えば、Ｔｅｏｄｏｒａ Ｗ．Ｇｒ
ｅｅｎｅ ａｎｄ Ｐｅｔｅｒ Ｇ．Ｍ．Ｗｕｔｓ”Ｐ
ＲＯＴＥＣＴＩＶＥ ＧＲＯＵＰＳ ＩＮ ＯＲＧＡＮ
ＩＣ ＳＹＮＴＨＥＳＩＳ ２ｎｄ．”，Ｊｏｈｎ Ｗ
ｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ，１９９１，ｃｈａｐｔｅｒ ５ａ
ｎｄ７；赤堀四郎他”タンパク質化学−アミノ酸・ペプ
チド”，共立出版，１９６９，第５章；泉屋信夫他”ペ
プチド合成”，丸善，１９７５，第２及び第３章参照）
により行われる。工程［Ｃ］のエステルの還元反応は、
テトラヒドロフラン、ｔ−ブタノール又はイソブチルア
ルコールと２当量の水素化ホウ素ナトリウムとエステル
（VII ）の混合物へ、４０℃〜６０℃の温度範囲で、適
量のメタノールを滴下することにより、ほとんどラセミ
化することなく進行する。工程［Ｄ］のスルホニル化反
応は、３級アミン又はピリジン存在下、−２０℃〜２０
℃の温度範囲で対応するスルホニルクロリドと数時間反
応させることにより行うことができる。工程［Ｅ］の環
化反応は、化合物(IX)と１〜５等量のアリルアミン
（Ｘ）を無溶媒中、３０℃〜還流温度付近で数時間撹拌
することにより、高収率で進行する。なお、過剰のアミ
ンは、反応終了後、減圧下留去することにより容易に回
収される。
【００３６】
【発明の効果】本発明の化合物（Ｉ）は、水素添加法に
よらずに１位のアミノ基の保護基を選択的に除去でき、
化合物（II) に好収率で導ける。
よらずに１位のアミノ基の保護基を選択的に除去でき、
化合物（II) に好収率で導ける。
【００３７】本製造法により得られる化合物（II) は、
優れた抗菌活性を示す１β−メチルカルバペネム誘導体
の合成原料であり、特願平６−１２２３８３号の方法に
従ってカルバペネム誘導体へ導ける。
優れた抗菌活性を示す１β−メチルカルバペネム誘導体
の合成原料であり、特願平６−１２２３８３号の方法に
従ってカルバペネム誘導体へ導ける。
【００３８】次に実施例及び参考例をあげて、本発明を
さらに具体的に説明する。
さらに具体的に説明する。
【００３９】
【００４０】
【実施例１】 （Ｓ）−３−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルア
ミノ）ピロリジン （Ｓ）−１−アリル−３−（ｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボニルアミノ）ピロリジン（１５．００ｇ，４９．
１ｍｍｏｌ）の酢酸−水（１：９，６７．５ｍｌ）混合
溶液に、１０％パラジウム炭素（５０ｗｔ％含水品，
３．０ｇ）を加え、還流下２時間撹拌を続けた。室温ま
で冷却後、触媒を濾過・洗浄（エタノール，３０ｍｌ）
し、濾洗液を約１９ｇまで減圧濃縮した。次いで、残渣
をエタノール（１０５ｍｌ）に溶解し、２Ｎ塩酸酢酸エ
チル溶液（２６ｍｌ）を注加した。室温で１時間、さら
に氷冷下で１時間撹拌した後、結晶を濾過・洗浄（冷エ
タノール，３０ｍｌ）し、乾燥し、標記化合物の塩酸塩
を淡橙色固体として、１２．６３ｇ（収率：８５．２
％，光学純度：１００％ｅｅ）得た。 塩酸塩物性値 融点：１９９−２０２℃（分解） ［α］D 20 −１５．７°（ｃ＝０．４０，Ｈ2 Ｏ） ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ-1：３２７１，３１００−２２０
０，１７０５，１５２３，１３５６，１２４９1 Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ：１．８０−
１．９２（１Ｈ，ｍ），２．０３−２．１７（１Ｈ，
ｍ），３．０４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．９，４．８Ｈ
ｚ），３．１４−３．４９（３Ｈ，ｍ），４．０９−
４．２６（１Ｈ，ｍ），５．１９（２Ｈ，ｓ），７．６
２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．８４（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝６．１Ｈｚ），８．２３−８．２７（２Ｈ，
ｍ），９．２５（２Ｈ，ｂｒ．ｓ） 元素分析値（Ｃ12Ｈ16ＣｌＮ3 Ｏ4 として） 計算値：Ｃ，４７．７７；Ｈ，５．３５；Ｎ，１３．９
３；Ｃｌ，１１．７５ 実測値：Ｃ，４７．６２；Ｈ，５．３７；Ｎ，１３．８
２；Ｃｌ，１１．７９ 光学純度決定方法：標記化合物をトリフルオロアセチル
誘導体に導き、以下のＨＰＬＣ条件で測定した。 カラム：キラルパック ＡＳ（ダイセル化学工業製，
４．６φ×２５０ｍｍ） 溶離液：ヘキサン／イソプロピルアルコール＝３／１ 流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ 保持時間：（Ｓ）体＝約２１．０分 （Ｒ）体＝約２６．６分
ミノ）ピロリジン （Ｓ）−１−アリル−３−（ｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボニルアミノ）ピロリジン（１５．００ｇ，４９．
１ｍｍｏｌ）の酢酸−水（１：９，６７．５ｍｌ）混合
溶液に、１０％パラジウム炭素（５０ｗｔ％含水品，
３．０ｇ）を加え、還流下２時間撹拌を続けた。室温ま
で冷却後、触媒を濾過・洗浄（エタノール，３０ｍｌ）
し、濾洗液を約１９ｇまで減圧濃縮した。次いで、残渣
をエタノール（１０５ｍｌ）に溶解し、２Ｎ塩酸酢酸エ
チル溶液（２６ｍｌ）を注加した。室温で１時間、さら
に氷冷下で１時間撹拌した後、結晶を濾過・洗浄（冷エ
タノール，３０ｍｌ）し、乾燥し、標記化合物の塩酸塩
を淡橙色固体として、１２．６３ｇ（収率：８５．２
％，光学純度：１００％ｅｅ）得た。 塩酸塩物性値 融点：１９９−２０２℃（分解） ［α］D 20 −１５．７°（ｃ＝０．４０，Ｈ2 Ｏ） ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ-1：３２７１，３１００−２２０
０，１７０５，１５２３，１３５６，１２４９1 Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ：１．８０−
１．９２（１Ｈ，ｍ），２．０３−２．１７（１Ｈ，
ｍ），３．０４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．９，４．８Ｈ
ｚ），３．１４−３．４９（３Ｈ，ｍ），４．０９−
４．２６（１Ｈ，ｍ），５．１９（２Ｈ，ｓ），７．６
２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．８４（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝６．１Ｈｚ），８．２３−８．２７（２Ｈ，
ｍ），９．２５（２Ｈ，ｂｒ．ｓ） 元素分析値（Ｃ12Ｈ16ＣｌＮ3 Ｏ4 として） 計算値：Ｃ，４７．７７；Ｈ，５．３５；Ｎ，１３．９
３；Ｃｌ，１１．７５ 実測値：Ｃ，４７．６２；Ｈ，５．３７；Ｎ，１３．８
２；Ｃｌ，１１．７９ 光学純度決定方法：標記化合物をトリフルオロアセチル
誘導体に導き、以下のＨＰＬＣ条件で測定した。 カラム：キラルパック ＡＳ（ダイセル化学工業製，
４．６φ×２５０ｍｍ） 溶離液：ヘキサン／イソプロピルアルコール＝３／１ 流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ 保持時間：（Ｓ）体＝約２１．０分 （Ｒ）体＝約２６．６分
【００４１】
【実施例２】 （Ｓ）−３−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルア
ミノ）ピロリジン （Ｓ）−１−アリル−３−（ｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボニルアミノ）ピロリジン（２．００ｇ，６．５５
ｍｍｏｌ）のプロパノール−水（１：１，２０ｍｌ）混
合溶液に、ＰｄＣｌ2 （４０ｍｇ）を加え、還流下１．
５時間撹拌を続けた。室温まで冷却後、触媒を濾過し、
濾液を減圧濃縮した。残渣を酢酸−水（１：１，８ｍ
ｌ）混合溶媒に溶解し、一晩撹拌した。反応混合物を濃
縮し、０．５Ｎ塩酸（２０ｍｌ）を加えて酸性にし、水
層をジクロロメタン（１０ｍｌ×２）で洗浄し、次い
で、水酸化ナトリウムを加えて水層を塩基性にし、ジク
ロロメタン（２０ｍｌ×２）で抽出し、有機層を無水硫
酸ナトリウムで乾燥後、濃縮し、標記化合物を淡黄褐色
固体として１．４１ｇ（収率：７８．１％，光学純度：
１００％ｅｅ）得た。 物性値 融点：１０３−１０６℃ ［α］D 20 −１２．８°（ｃ＝０．４０，エタノー
ル） ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ-1：３３２７，３２００，３２０
１，１７１３，１５１４，１３４４，１２６７1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ：１．６５−１．
８３（１Ｈ，ｍ），２．０８−２．２３（１Ｈ，ｍ），
２．７０−３．６０（５Ｈ，ｍ），４．１１−４．３０
（１Ｈ，ｍ），５．１９（２Ｈ，ｓ），５．３９（１
Ｈ，ｂｒ．ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ），７．５０（２Ｈ，ｄ，Ｊ
＝８．６Ｈｚ），８．２０−８．２３（２Ｈ，ｍ） 元素分析値（Ｃ12Ｈ15Ｎ3 Ｏ4 として） 計算値：Ｃ，５４．３３；Ｈ，５．７０；Ｎ，１５．８
４ 実測値：Ｃ，５４．２０；Ｈ，５．５１；Ｎ，１５．６
６
ミノ）ピロリジン （Ｓ）−１−アリル−３−（ｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボニルアミノ）ピロリジン（２．００ｇ，６．５５
ｍｍｏｌ）のプロパノール−水（１：１，２０ｍｌ）混
合溶液に、ＰｄＣｌ2 （４０ｍｇ）を加え、還流下１．
５時間撹拌を続けた。室温まで冷却後、触媒を濾過し、
濾液を減圧濃縮した。残渣を酢酸−水（１：１，８ｍ
ｌ）混合溶媒に溶解し、一晩撹拌した。反応混合物を濃
縮し、０．５Ｎ塩酸（２０ｍｌ）を加えて酸性にし、水
層をジクロロメタン（１０ｍｌ×２）で洗浄し、次い
で、水酸化ナトリウムを加えて水層を塩基性にし、ジク
ロロメタン（２０ｍｌ×２）で抽出し、有機層を無水硫
酸ナトリウムで乾燥後、濃縮し、標記化合物を淡黄褐色
固体として１．４１ｇ（収率：７８．１％，光学純度：
１００％ｅｅ）得た。 物性値 融点：１０３−１０６℃ ［α］D 20 −１２．８°（ｃ＝０．４０，エタノー
ル） ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ-1：３３２７，３２００，３２０
１，１７１３，１５１４，１３４４，１２６７1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ：１．６５−１．
８３（１Ｈ，ｍ），２．０８−２．２３（１Ｈ，ｍ），
２．７０−３．６０（５Ｈ，ｍ），４．１１−４．３０
（１Ｈ，ｍ），５．１９（２Ｈ，ｓ），５．３９（１
Ｈ，ｂｒ．ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ），７．５０（２Ｈ，ｄ，Ｊ
＝８．６Ｈｚ），８．２０−８．２３（２Ｈ，ｍ） 元素分析値（Ｃ12Ｈ15Ｎ3 Ｏ4 として） 計算値：Ｃ，５４．３３；Ｈ，５．７０；Ｎ，１５．８
４ 実測値：Ｃ，５４．２０；Ｈ，５．５１；Ｎ，１５．６
６
【００４２】
【実施例３】 （Ｓ）−３−（ベンジルオキシカルボニルアミノ）ピロ
リジン （Ｓ）−１−アリル−３−（ベンジルオキシカルボニル
アミノ）ピロリジン（１．５２ｇ，５．８ｍｍｏｌ）の
エタノール−水（１：１，１５ｍｌ）混合溶液に、Ｒｕ
Ｃｌ2 （ＰＰｈ3 ）3 （４５ｍｇ）を加え、還流下６時
間撹拌した。室温まで冷却後、減圧下溶媒を留去し、さ
らに残渣を酢酸−水（１：１，９ｍｌ）混合溶媒に溶解
し、一晩撹拌した。不溶物を濾過後、濾液を減圧下濃縮
し、残渣に０．８Ｎ塩酸（１０ｍｌ）を加えた後（ＰＨ
＜２）、水層をジクロロメタン（６ｍｌ×３）で洗浄
し、次いで、水層に水酸化ナトリウム（０．５ｇ）を加
えて塩基性とし、ジクロロメタン（１０ｍｌ×３）で抽
出した。有機層を合致し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、濃縮し、標記化合物を淡黄色オイルとして、１．０
６ｇ（収率：８２．４％，光学純度：１００％ｅｅ）得
た。 物性値 ［α］D 20 −１４．１°（ｃ＝０．２１，エタノー
ル） ＩＲ（ｎｅａｔ）ｃｍ-1：３３１９，１７０１，１５３
５，１２６０1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ：１．６３−１．
８０（１Ｈ，ｍ），２．０４−２．２０（１Ｈ，ｍ），
２．８０−３．６５（５Ｈ，ｍ），４．２２（１Ｈ，ｂ
ｒ．ｍ），５．０９（２Ｈ，ｓ），５．３２（１Ｈ，ｂ
ｒ．ｓ），７．２９−７．４０（５Ｈ，ｍ） 元素分析値（Ｃ12Ｈ16Ｎ2 Ｏ2 ・１／５Ｈ2 Ｏとして） 計算値：Ｃ，６４．３８；Ｈ，７．３８；Ｎ，１２．５
１ 実測値：Ｃ，６４．４６；Ｈ，７．３０；Ｎ，１２．４
４ 光学純度決定方法：標記化合物をトリフルオロアセチル
誘導体に導き、以下のＨＰＬＣ条件で測定した。
リジン （Ｓ）−１−アリル−３−（ベンジルオキシカルボニル
アミノ）ピロリジン（１．５２ｇ，５．８ｍｍｏｌ）の
エタノール−水（１：１，１５ｍｌ）混合溶液に、Ｒｕ
Ｃｌ2 （ＰＰｈ3 ）3 （４５ｍｇ）を加え、還流下６時
間撹拌した。室温まで冷却後、減圧下溶媒を留去し、さ
らに残渣を酢酸−水（１：１，９ｍｌ）混合溶媒に溶解
し、一晩撹拌した。不溶物を濾過後、濾液を減圧下濃縮
し、残渣に０．８Ｎ塩酸（１０ｍｌ）を加えた後（ＰＨ
＜２）、水層をジクロロメタン（６ｍｌ×３）で洗浄
し、次いで、水層に水酸化ナトリウム（０．５ｇ）を加
えて塩基性とし、ジクロロメタン（１０ｍｌ×３）で抽
出した。有機層を合致し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、濃縮し、標記化合物を淡黄色オイルとして、１．０
６ｇ（収率：８２．４％，光学純度：１００％ｅｅ）得
た。 物性値 ［α］D 20 −１４．１°（ｃ＝０．２１，エタノー
ル） ＩＲ（ｎｅａｔ）ｃｍ-1：３３１９，１７０１，１５３
５，１２６０1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ：１．６３−１．
８０（１Ｈ，ｍ），２．０４−２．２０（１Ｈ，ｍ），
２．８０−３．６５（５Ｈ，ｍ），４．２２（１Ｈ，ｂ
ｒ．ｍ），５．０９（２Ｈ，ｓ），５．３２（１Ｈ，ｂ
ｒ．ｓ），７．２９−７．４０（５Ｈ，ｍ） 元素分析値（Ｃ12Ｈ16Ｎ2 Ｏ2 ・１／５Ｈ2 Ｏとして） 計算値：Ｃ，６４．３８；Ｈ，７．３８；Ｎ，１２．５
１ 実測値：Ｃ，６４．４６；Ｈ，７．３０；Ｎ，１２．４
４ 光学純度決定方法：標記化合物をトリフルオロアセチル
誘導体に導き、以下のＨＰＬＣ条件で測定した。
【００４３】カラム：キラルパック ＡＳ（ダイセル化
学工業製，４．６φ×２５０ｍｍ） 溶離液：ヘキサン／イソプロピルアルコール＝１５／１ 流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ 保持時間：（Ｓ）体＝約３５．４分 （Ｒ）体＝約４４．５分
学工業製，４．６φ×２５０ｍｍ） 溶離液：ヘキサン／イソプロピルアルコール＝１５／１ 流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ 保持時間：（Ｓ）体＝約３５．４分 （Ｒ）体＝約４４．５分
【００４４】
【実施例４】 （Ｓ）−３−（ベンジルオキシカルボニルアミノ）ピロ
リジン （Ｓ）−１−アリル−３−（ベンジルオキシカルボニル
アミノ）ピロリジン（４０６ｍｇ，１．５６ｍｍｏｌ）
のエタノール−水（１：１，４ｍｌ）混合溶液に、Ｒｈ
Ｃｌ（ＰＰｈ3 ）3 （１２ｍｇ）を加え、還流下０．５
時間撹拌した。以降、実施例３と同様な操作を行い、標
記化合物を３０３ｍｇ（収率：８８．２％，光学純度：
１００％ｅｅ）得た。
リジン （Ｓ）−１−アリル−３−（ベンジルオキシカルボニル
アミノ）ピロリジン（４０６ｍｇ，１．５６ｍｍｏｌ）
のエタノール−水（１：１，４ｍｌ）混合溶液に、Ｒｈ
Ｃｌ（ＰＰｈ3 ）3 （１２ｍｇ）を加え、還流下０．５
時間撹拌した。以降、実施例３と同様な操作を行い、標
記化合物を３０３ｍｇ（収率：８８．２％，光学純度：
１００％ｅｅ）得た。
【００４５】
【実施例５】 （Ｓ）−３−（ベンジルオキシカルボニルアミノ）ピロ
リジン （Ｓ）−１−アリル−３−（ベンジルオキシカルボニル
アミノ）ピロリジン（１．６３ｇ，６．２６ｍｍｏｌ）
の酢酸−水（１：９，７．３ｍｌ）混合溶液に、１０％
パラジウム炭素（５０ｗｔ％含水品，０．３３ｇ）を加
え、還流下２時間撹拌を続けた。室温まで冷却後、触媒
を濾過・洗浄し、濾洗液を減圧濃縮した。次いで、残渣
をジクロロメタン（５０ｍｌ）に溶解し、有機層を１０
％Ｎａ2 ＣＯ3 水溶液（１０ｍｌ）で洗浄し、濃縮し、
標記化合物を淡黄褐色オイルとして１．３４ｇ（収率：
９７．２％）得た。
リジン （Ｓ）−１−アリル−３−（ベンジルオキシカルボニル
アミノ）ピロリジン（１．６３ｇ，６．２６ｍｍｏｌ）
の酢酸−水（１：９，７．３ｍｌ）混合溶液に、１０％
パラジウム炭素（５０ｗｔ％含水品，０．３３ｇ）を加
え、還流下２時間撹拌を続けた。室温まで冷却後、触媒
を濾過・洗浄し、濾洗液を減圧濃縮した。次いで、残渣
をジクロロメタン（５０ｍｌ）に溶解し、有機層を１０
％Ｎａ2 ＣＯ3 水溶液（１０ｍｌ）で洗浄し、濃縮し、
標記化合物を淡黄褐色オイルとして１．３４ｇ（収率：
９７．２％）得た。
【００４６】
【実施例６】 （Ｓ）−３−（ｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ）ピ
ロリジン （Ｓ）−１−アリル−３−（ｔ−ブチルオキシカルボニ
ルアミノ）ピロリジン（２５６．０ｍｇ，１．１３ｍｍ
ｏｌ）の酢酸−水（１：９，１．１３ｍｌ）混合溶液
に、１０％パラジウム炭素（５０ｗｔ％含水品，５１ｍ
ｇ）を加え、還流下２時間撹拌を続けた。室温まで冷却
後、触媒を濾過・洗浄（エタノール）し、濾洗液を減圧
濃縮した。次いで、残渣をジクロロメタン（３０ｍｌ）
に溶解し、有機層を１０％Ｎａ2 ＣＯ3 水溶液（５ｍ
ｌ）で洗浄し、無水Ｎａ2 ＳＯ4 で乾燥し、濃縮し、標
記化合物を淡黄褐色固体として、１９９．４ｍｇ（収
率：９４．６％） 物性値 融点：６８−７８℃ ［α］D 20 −２０．７°（ｃ＝０．４６，エタノー
ル） ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ-1：３３２７，３１９４，２９７
１，１６９４，１５６７，１１７９1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ：１．４４（９
Ｈ，ｓ），１．６２−１．７５（１Ｈ，ｍ），２．０２
−２．２０（１Ｈ，ｍ），２．７０−３．６３（５Ｈ，
ｍ，），４．１６（１Ｈ，ｂｒ．ｍ），４．９２（１
Ｈ，ｂｒ．ｄ，Ｊ＝４Ｈｚ，） 元素分析値（Ｃ12Ｈ22Ｎ2 Ｏ2 として） 計算値：Ｃ，６３．６９；Ｈ，９．８０；Ｎ，１２．３
８ 実測値：Ｃ，６３．５８；Ｈ，９．９６；Ｎ，１２．２
８
ロリジン （Ｓ）−１−アリル−３−（ｔ−ブチルオキシカルボニ
ルアミノ）ピロリジン（２５６．０ｍｇ，１．１３ｍｍ
ｏｌ）の酢酸−水（１：９，１．１３ｍｌ）混合溶液
に、１０％パラジウム炭素（５０ｗｔ％含水品，５１ｍ
ｇ）を加え、還流下２時間撹拌を続けた。室温まで冷却
後、触媒を濾過・洗浄（エタノール）し、濾洗液を減圧
濃縮した。次いで、残渣をジクロロメタン（３０ｍｌ）
に溶解し、有機層を１０％Ｎａ2 ＣＯ3 水溶液（５ｍ
ｌ）で洗浄し、無水Ｎａ2 ＳＯ4 で乾燥し、濃縮し、標
記化合物を淡黄褐色固体として、１９９．４ｍｇ（収
率：９４．６％） 物性値 融点：６８−７８℃ ［α］D 20 −２０．７°（ｃ＝０．４６，エタノー
ル） ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ-1：３３２７，３１９４，２９７
１，１６９４，１５６７，１１７９1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ：１．４４（９
Ｈ，ｓ），１．６２−１．７５（１Ｈ，ｍ），２．０２
−２．２０（１Ｈ，ｍ），２．７０−３．６３（５Ｈ，
ｍ，），４．１６（１Ｈ，ｂｒ．ｍ），４．９２（１
Ｈ，ｂｒ．ｄ，Ｊ＝４Ｈｚ，） 元素分析値（Ｃ12Ｈ22Ｎ2 Ｏ2 として） 計算値：Ｃ，６３．６９；Ｈ，９．８０；Ｎ，１２．３
８ 実測値：Ｃ，６３．５８；Ｈ，９．９６；Ｎ，１２．２
８
【００４７】
【実施例７】 （Ｓ）−１−アリル−３−（ｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボニルアミノ）ピロリジン （Ｓ）−１，４−ジメタンスルホニルオキシ−２−（ｐ
−ニトロベンジルオキシカルボニルアミノ）ブタン（３
０．８５ｇ，７０．０ｍｍｏｌ）とアリルアミン（６
１．７ｍｌ）からなる混合物を、温浴（４０℃）で加温
しながら３時間撹拌した。次いで、減圧下過剰のアリル
アミンを留去し、残渣に酢酸エチル（３００ｍｌ）およ
び１０％Ｎａ2 ＣＯ3 水溶液（１５０ｍｌ）を加え、両
層に分配し、水層を酢酸エチル（１５０ｍｌ）で再抽出
した。有機層を合致し、水（１５０ｍｌ）で洗浄し、減
圧下溶媒を留去し、標記化合物を淡黄褐色固体として２
１．４７ｇ（収率：定量的，光学純度：１００％ｅｅ）
得た。 物性値 融点：６４−６６℃ ［α］D 20 −６．７°（ｃ＝０．５７，エタノール） ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ-1：３３０１，１６８７，１５５
３，１５３９，１３５２，１２６５1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ：１．６０−１．
７８（１Ｈ，ｍ），２．２１−３．０４（５Ｈ，ｍ），
３．１２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），４．１５−
４．３３（１Ｈ，ｍ），５．１５（１Ｈ，ｄ，１０．６
Ｈｚ），５．１８（２Ｈ，ｓ），５．２２（１Ｈ，ｄ，
１６．６Ｈｚ），５．４０（１Ｈ，ｂｒ．ｄ，７Ｈ
ｚ），５．８９（１Ｈ，ｄｄｔ，Ｊ＝１６．６，１０．
６，６．５Ｈｚ），７．５０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈ
ｚ），８．２１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ） 元素分析値（Ｃ15Ｈ19Ｎ3 Ｏ4 として） 計算値：Ｃ，５９．０１；Ｈ，６．２７；Ｎ，１３．７
６ 実測値：Ｃ，５９．０７；Ｈ，６．１４；Ｎ，１３．４
９ 光学純度測定ＨＰＬＣ条件 カラム：キラルセル ＯＤ（ダイセル化学工業製，４．
６φ×２５０ｍｍ） 溶離液：ヘキサン／イソプロピルアルコール＝２０／１ 流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ 保持時間：（Ｓ）体＝約２９．７分 （Ｒ）体＝約３７．２分
カルボニルアミノ）ピロリジン （Ｓ）−１，４−ジメタンスルホニルオキシ−２−（ｐ
−ニトロベンジルオキシカルボニルアミノ）ブタン（３
０．８５ｇ，７０．０ｍｍｏｌ）とアリルアミン（６
１．７ｍｌ）からなる混合物を、温浴（４０℃）で加温
しながら３時間撹拌した。次いで、減圧下過剰のアリル
アミンを留去し、残渣に酢酸エチル（３００ｍｌ）およ
び１０％Ｎａ2 ＣＯ3 水溶液（１５０ｍｌ）を加え、両
層に分配し、水層を酢酸エチル（１５０ｍｌ）で再抽出
した。有機層を合致し、水（１５０ｍｌ）で洗浄し、減
圧下溶媒を留去し、標記化合物を淡黄褐色固体として２
１．４７ｇ（収率：定量的，光学純度：１００％ｅｅ）
得た。 物性値 融点：６４−６６℃ ［α］D 20 −６．７°（ｃ＝０．５７，エタノール） ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ-1：３３０１，１６８７，１５５
３，１５３９，１３５２，１２６５1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ：１．６０−１．
７８（１Ｈ，ｍ），２．２１−３．０４（５Ｈ，ｍ），
３．１２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），４．１５−
４．３３（１Ｈ，ｍ），５．１５（１Ｈ，ｄ，１０．６
Ｈｚ），５．１８（２Ｈ，ｓ），５．２２（１Ｈ，ｄ，
１６．６Ｈｚ），５．４０（１Ｈ，ｂｒ．ｄ，７Ｈ
ｚ），５．８９（１Ｈ，ｄｄｔ，Ｊ＝１６．６，１０．
６，６．５Ｈｚ），７．５０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈ
ｚ），８．２１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ） 元素分析値（Ｃ15Ｈ19Ｎ3 Ｏ4 として） 計算値：Ｃ，５９．０１；Ｈ，６．２７；Ｎ，１３．７
６ 実測値：Ｃ，５９．０７；Ｈ，６．１４；Ｎ，１３．４
９ 光学純度測定ＨＰＬＣ条件 カラム：キラルセル ＯＤ（ダイセル化学工業製，４．
６φ×２５０ｍｍ） 溶離液：ヘキサン／イソプロピルアルコール＝２０／１ 流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ 保持時間：（Ｓ）体＝約２９．７分 （Ｒ）体＝約３７．２分
【００４８】
【実施例８】 （Ｓ）−１−アリル−３−（ベンジルオキシカルボニル
アミノ）ピロリジン （Ｓ）−１，４−ジメタンスルホニルオキシ−２−（ベ
ンジルオキシカルボニルアミノ）ブタン（３．９４５
ｇ，１０．０ｍｍｏｌ）とアリルアミン（７．８９ｍ
ｌ）からなる混合物を、温浴（４０℃）で加温しながら
３時間撹拌した。以降、実施例７と同様に処理し、標記
化合物を無色透明オイルとして２．６０ｇ（収率：定量
的，光学純度：１００％ｅｅ）得た。 ［α］D 20 −９．６°（ｃ＝０．５７，エタノール） ＩＲ（ｎｅａｔ）ｃｍ-1：３３１９，２９６６，１７０
１，１５３５，１２６０1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ
ｐｐｍ：１．５６−１．７３（１Ｈ，ｍ），２．１８−
２．９７（５Ｈ，ｍ），３．１０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．
４Ｈｚ），４．１１−４．３５（１Ｈ，ｍ），５．０８
（２Ｈ，ｓ），５．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．２Ｈ
ｚ），５．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．４Ｈｚ），５．
２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．６Ｈｚ），５．８８（１
Ｈ，ｄｄｔ，Ｊ＝１７．４，１０．２，６．４Ｈｚ），
７．２８−７．４３（５Ｈ，ｍ） 元素分析値（Ｃ15Ｈ20Ｎ2 Ｏ2 として） 計算値：Ｃ，６９．２０；Ｈ，７．７４；Ｎ，１０．７
６ 実測値：Ｃ，６９．２２；Ｈ，７．６０；Ｎ，１０．７
５ 光学純度測定ＨＰＬＣ条件 カラム：キラルセル ＯＤ（ダイセル化学工業製，４．
６φ×２５０ｍｍ） 溶離液：ヘキサン／イソプロピルアルコール＝５０／１ 流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ 保持時間：（Ｓ）体＝約２３．５分 （Ｒ）体＝約２９．２分
アミノ）ピロリジン （Ｓ）−１，４−ジメタンスルホニルオキシ−２−（ベ
ンジルオキシカルボニルアミノ）ブタン（３．９４５
ｇ，１０．０ｍｍｏｌ）とアリルアミン（７．８９ｍ
ｌ）からなる混合物を、温浴（４０℃）で加温しながら
３時間撹拌した。以降、実施例７と同様に処理し、標記
化合物を無色透明オイルとして２．６０ｇ（収率：定量
的，光学純度：１００％ｅｅ）得た。 ［α］D 20 −９．６°（ｃ＝０．５７，エタノール） ＩＲ（ｎｅａｔ）ｃｍ-1：３３１９，２９６６，１７０
１，１５３５，１２６０1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ
ｐｐｍ：１．５６−１．７３（１Ｈ，ｍ），２．１８−
２．９７（５Ｈ，ｍ），３．１０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．
４Ｈｚ），４．１１−４．３５（１Ｈ，ｍ），５．０８
（２Ｈ，ｓ），５．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．２Ｈ
ｚ），５．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．４Ｈｚ），５．
２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．６Ｈｚ），５．８８（１
Ｈ，ｄｄｔ，Ｊ＝１７．４，１０．２，６．４Ｈｚ），
７．２８−７．４３（５Ｈ，ｍ） 元素分析値（Ｃ15Ｈ20Ｎ2 Ｏ2 として） 計算値：Ｃ，６９．２０；Ｈ，７．７４；Ｎ，１０．７
６ 実測値：Ｃ，６９．２２；Ｈ，７．６０；Ｎ，１０．７
５ 光学純度測定ＨＰＬＣ条件 カラム：キラルセル ＯＤ（ダイセル化学工業製，４．
６φ×２５０ｍｍ） 溶離液：ヘキサン／イソプロピルアルコール＝５０／１ 流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ 保持時間：（Ｓ）体＝約２３．５分 （Ｒ）体＝約２９．２分
【００４９】
【実施例９】 （Ｓ）−１−アリル−３−（ｔ−ブチルオキシカルボニ
ルアミノ）ピロリジン （Ｓ）−２−（ｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ）−
１，４−ジメタンスルホニルオキシブタン（１．１５
ｇ，３．１８ｍｍｏｌ）とアリルアミン（３．３０ｍ
ｌ）からなる混合物を、温浴（４５℃）で加温しながら
２．５時間撹拌した。以降、実施例７と同様に処理し、
標記化合物を白色固体として０．６７３ｇ（収率：９
３．５％）得た。 物性値 融点：４３−４４℃ ［α］D 20 −１７．５°（ｃ＝０．１０，エタノー
ル） ＩＲ（ｎｅａｔ）ｃｍ-1：３２０７，２９７１，１７０
２，１５４８，１２９４，１１７５1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ：１．４３（９
Ｈ，ｓ），１．６３−１．８２（１Ｈ，ｍ），２．１７
−３．１（５Ｈ，ｍ），３．１９（２Ｈ，ｂｒ．ｄ，Ｊ
＝７Ｈｚ），４．１６−４．３７（１Ｈ，ｍ），５．１
２（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），５．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１
０．０Ｈｚ），５．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．１），
５．９３（１Ｈ，ｄｄｔ，Ｊ＝１７．１，１０．０，７
Ｈｚ） 元素分析値（Ｃ12Ｈ22Ｎ2 Ｏ2 として） 計算値：Ｃ，６３．６９；Ｈ，９．８０；Ｎ，１２．３
８ 実測値：Ｃ，６３．５８；Ｈ，９．９６；Ｎ，１２．２
８
ルアミノ）ピロリジン （Ｓ）−２−（ｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ）−
１，４−ジメタンスルホニルオキシブタン（１．１５
ｇ，３．１８ｍｍｏｌ）とアリルアミン（３．３０ｍ
ｌ）からなる混合物を、温浴（４５℃）で加温しながら
２．５時間撹拌した。以降、実施例７と同様に処理し、
標記化合物を白色固体として０．６７３ｇ（収率：９
３．５％）得た。 物性値 融点：４３−４４℃ ［α］D 20 −１７．５°（ｃ＝０．１０，エタノー
ル） ＩＲ（ｎｅａｔ）ｃｍ-1：３２０７，２９７１，１７０
２，１５４８，１２９４，１１７５1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ：１．４３（９
Ｈ，ｓ），１．６３−１．８２（１Ｈ，ｍ），２．１７
−３．１（５Ｈ，ｍ），３．１９（２Ｈ，ｂｒ．ｄ，Ｊ
＝７Ｈｚ），４．１６−４．３７（１Ｈ，ｍ），５．１
２（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），５．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１
０．０Ｈｚ），５．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．１），
５．９３（１Ｈ，ｄｄｔ，Ｊ＝１７．１，１０．０，７
Ｈｚ） 元素分析値（Ｃ12Ｈ22Ｎ2 Ｏ2 として） 計算値：Ｃ，６３．６９；Ｈ，９．８０；Ｎ，１２．３
８ 実測値：Ｃ，６３．５８；Ｈ，９．９６；Ｎ，１２．２
８
【００５０】
【参考例１】 Ｎ−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）−Ｌ−ア
スパラギン酸 Ｌ−アスパラギン酸（１３．３１ｇ，０．１０ｍｏ
ｌ），水酸化ナトリウム（８．０ｇ，０．２ｍｏｌ），
ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド（０．６７
ｇ）と水（４７ｍｌ）からなる混合物を激しく撹拌しな
がら、内温を２５−３０℃に、ＰＨを１１．１−１１．
５に保つように、クロロギ酸ｐ−ニトロベンジルのトル
エン溶液（５０％ｗ／ｗ，４６．６ｇ：０．１１ｍｏ
ｌ）および２５％水酸化ナトリウム水溶液（１４．１ｍ
ｌ）を１時間かけて滴下し、さらに、同温度で２時間激
しく撹拌した。反応終了後、両層を分離し、水層を酢酸
エチル（４０ｍｌ×３）で洗浄し、次いで水層へ濃塩酸
（２０ｍｌ）を注加して酸性（ＰＨ≦１）にし、水層を
酢酸エチル（２６７ｍｌ）で抽出し、有機層を減圧濃縮
し、標記化合物の粗製物を淡黄色粘性オイルとして３
２．７７ｇ（溶媒を若干含む）得た。粗製物は、さらに
精製することなく次工程に供した。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3 ＯＤ）δｐｐｍ：２．８０（１
Ｈ，ｄｄ，１６．７Ｈｚ，７．２Ｈｚ），２．８８（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１６．７，５．０Ｈｚ），４．５５（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，５．０Ｈｚ），５．２１（２
Ｈ，ｓ），７．６０（２Ｈ，ｄ，，Ｊ＝８．６Ｈｚ），
８．２１−８．２３（２Ｈ，ｍ）
スパラギン酸 Ｌ−アスパラギン酸（１３．３１ｇ，０．１０ｍｏ
ｌ），水酸化ナトリウム（８．０ｇ，０．２ｍｏｌ），
ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド（０．６７
ｇ）と水（４７ｍｌ）からなる混合物を激しく撹拌しな
がら、内温を２５−３０℃に、ＰＨを１１．１−１１．
５に保つように、クロロギ酸ｐ−ニトロベンジルのトル
エン溶液（５０％ｗ／ｗ，４６．６ｇ：０．１１ｍｏ
ｌ）および２５％水酸化ナトリウム水溶液（１４．１ｍ
ｌ）を１時間かけて滴下し、さらに、同温度で２時間激
しく撹拌した。反応終了後、両層を分離し、水層を酢酸
エチル（４０ｍｌ×３）で洗浄し、次いで水層へ濃塩酸
（２０ｍｌ）を注加して酸性（ＰＨ≦１）にし、水層を
酢酸エチル（２６７ｍｌ）で抽出し、有機層を減圧濃縮
し、標記化合物の粗製物を淡黄色粘性オイルとして３
２．７７ｇ（溶媒を若干含む）得た。粗製物は、さらに
精製することなく次工程に供した。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3 ＯＤ）δｐｐｍ：２．８０（１
Ｈ，ｄｄ，１６．７Ｈｚ，７．２Ｈｚ），２．８８（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１６．７，５．０Ｈｚ），４．５５（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，５．０Ｈｚ），５．２１（２
Ｈ，ｓ），７．６０（２Ｈ，ｄ，，Ｊ＝８．６Ｈｚ），
８．２１−８．２３（２Ｈ，ｍ）
【００５１】
【参考例２】 Ｎ−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）−Ｌ−ア
スパラギン酸ジメチル 参考例１で得られたＮ−（ｐ−ニトロベンジルオキシカ
ルボニル）−Ｌ−アスパラギン酸の粗製物（３２．７７
ｇ）を１Ｎ塩酸メタノール（２００ｍｌ）に溶解後、一
晩撹拌した。反応混合物液を減圧下濃縮後、残渣を酢酸
エチル（３４０ｍｌ）に溶解し、酢酸エチル層を５％Ｎ
ａＨＣＯ3 水溶液（６２ｍｌ）、水（６２ｍｌ）で順次
洗浄し、減圧下溶媒を留去して、標記化合物の粗製物を
淡黄色オイルとして３３．２９ｇ得た。粗製物は、さら
に精製することなく次工程に供した。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ：２．８７（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１７．２，４．５Ｈｚ），３．０６（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１７．２，４．６Ｈｚ），３．７１（３
Ｈ，ｓ），３．７８（３Ｈ，ｓ），４．６４（１Ｈ，ｄ
ｄｄ，Ｊ＝８．５，４．６，４．５Ｈｚ），５．２２
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．６Ｈｚ），５．２４（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝１３．６Ｈｚ），５．９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８．５Ｈｚ），７．５２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈ
ｚ），８．２０−８．２３（２Ｈ，ｍ）
スパラギン酸ジメチル 参考例１で得られたＮ−（ｐ−ニトロベンジルオキシカ
ルボニル）−Ｌ−アスパラギン酸の粗製物（３２．７７
ｇ）を１Ｎ塩酸メタノール（２００ｍｌ）に溶解後、一
晩撹拌した。反応混合物液を減圧下濃縮後、残渣を酢酸
エチル（３４０ｍｌ）に溶解し、酢酸エチル層を５％Ｎ
ａＨＣＯ3 水溶液（６２ｍｌ）、水（６２ｍｌ）で順次
洗浄し、減圧下溶媒を留去して、標記化合物の粗製物を
淡黄色オイルとして３３．２９ｇ得た。粗製物は、さら
に精製することなく次工程に供した。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ：２．８７（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１７．２，４．５Ｈｚ），３．０６（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１７．２，４．６Ｈｚ），３．７１（３
Ｈ，ｓ），３．７８（３Ｈ，ｓ），４．６４（１Ｈ，ｄ
ｄｄ，Ｊ＝８．５，４．６，４．５Ｈｚ），５．２２
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．６Ｈｚ），５．２４（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝１３．６Ｈｚ），５．９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８．５Ｈｚ），７．５２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈ
ｚ），８．２０−８．２３（２Ｈ，ｍ）
【００５２】
【参考例３】 （Ｓ）−２−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルア
ミノ）−１，４−ブタンジオール 窒素気流下、参考例２で得られたＮ−（ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニル）−Ｌ−アスパラギン酸ジメチル
の粗製物（３２．７７ｇ），水素化ホウ素ナトリウム
（７．４０ｇ、１９６ｍｍｏｌ）およびテトラヒドロフ
ラン（１６７ｍｌ）からなる混合物を４５℃まで加温
し、メタノール（１０ｍｌ）を加えた。内温を４５−５
５℃に保ちながら１５分撹拌後、メタノール（１０ｍ
ｌ）を２０分かけて滴下し、さらに同温度範囲で１時間
撹拌を続けた。室温まで冷却後、２．５％ＮａＨＣＯ3
水溶液（３３０ｍｌ）を注加し、３０分撹拌後、ブタノ
ール（１６６ｍｌ）を加え、水層と有機層を分離した。
水層をブタノール（１６６ｍｌ）で再抽出し、有機層を
合致し、水（１３３ｍｌ）で洗浄し、減圧下溶媒を留去
し、標記化合物の粗製物を黄色固体として２６．０２ｇ
（９９．３％ｅｅ）得た。粗製物は、さらに精製するこ
となく次工程に供した。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ：１．６８−１．
８０（１Ｈ，ｍ），１．８３−１．９４（１Ｈ，ｍ），
１．８（２Ｈ，ｂｒ．ｓ），３．６４−３．８３（４
Ｈ，ｍ），３．８８−３．９９（１Ｈ，ｍ），５．２０
（２Ｈ，ｓ），５．４３（１Ｈ，ｂｒ．ｄ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ），７．５２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．２
１−８．２５（２Ｈ，ｍ） 光学純度決定方法：標記化合物をジアセチル誘導体へ導
き、以下のＨＰＬＣ条件で測定した。 カラム：キラルセル ＯＪ（ダイセル化学工業製，４．
６φ×２５０ｍｍ） 溶離液：ヘキサン／イソプロピルアルコール＝２／１ 流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ 保持時間：（Ｓ）体＝約１６．７分 （Ｒ）体＝約２５．２分
ミノ）−１，４−ブタンジオール 窒素気流下、参考例２で得られたＮ−（ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニル）−Ｌ−アスパラギン酸ジメチル
の粗製物（３２．７７ｇ），水素化ホウ素ナトリウム
（７．４０ｇ、１９６ｍｍｏｌ）およびテトラヒドロフ
ラン（１６７ｍｌ）からなる混合物を４５℃まで加温
し、メタノール（１０ｍｌ）を加えた。内温を４５−５
５℃に保ちながら１５分撹拌後、メタノール（１０ｍ
ｌ）を２０分かけて滴下し、さらに同温度範囲で１時間
撹拌を続けた。室温まで冷却後、２．５％ＮａＨＣＯ3
水溶液（３３０ｍｌ）を注加し、３０分撹拌後、ブタノ
ール（１６６ｍｌ）を加え、水層と有機層を分離した。
水層をブタノール（１６６ｍｌ）で再抽出し、有機層を
合致し、水（１３３ｍｌ）で洗浄し、減圧下溶媒を留去
し、標記化合物の粗製物を黄色固体として２６．０２ｇ
（９９．３％ｅｅ）得た。粗製物は、さらに精製するこ
となく次工程に供した。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ：１．６８−１．
８０（１Ｈ，ｍ），１．８３−１．９４（１Ｈ，ｍ），
１．８（２Ｈ，ｂｒ．ｓ），３．６４−３．８３（４
Ｈ，ｍ），３．８８−３．９９（１Ｈ，ｍ），５．２０
（２Ｈ，ｓ），５．４３（１Ｈ，ｂｒ．ｄ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ），７．５２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．２
１−８．２５（２Ｈ，ｍ） 光学純度決定方法：標記化合物をジアセチル誘導体へ導
き、以下のＨＰＬＣ条件で測定した。 カラム：キラルセル ＯＪ（ダイセル化学工業製，４．
６φ×２５０ｍｍ） 溶離液：ヘキサン／イソプロピルアルコール＝２／１ 流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ 保持時間：（Ｓ）体＝約１６．７分 （Ｒ）体＝約２５．２分
【００５３】
【参考例４】 （Ｓ）−１，４−ジメタンスルホニルオキシ−２−（ｐ
−ニトロベンジルオキシカルボニルアミノ）ブタン 参考例３で得られた、（Ｓ）−２−（ｐ−ニトロベンジ
ルオキシカルボニルアミノ）−１，４−ブタンジオール
の粗製物（２６．０２ｇ）のピリジン（１３０ｍｌ）溶
液に、内温を−１２℃から−８℃に保ちながら、メタン
スルホニルクロリド（１５．５９ｍｌ）を３０分かけて
滴下した。同温で３０分間撹拌後、徐々に昇温し、氷冷
下で５時間撹拌した。反応混合物を酢酸エチル（２６０
ｍｌ）で希釈し、有機層を１０％ｖ／ｖメタノール水
（１３０ｍｌ×２）で洗浄し、水層を酢酸エチル（７８
ｍｌ）で再抽出した。有機層を合致し、残留分が約４８
ｇになるまで減圧下溶媒を留去し、次いで、残渣に温メ
タノール（３１２ｍｌ）を加え、結晶化させた。氷冷で
１時間撹拌後、結晶を濾過・洗浄（メタノール，７８ｍ
ｌ）し、乾燥し、標記化合物を微黄色固体として３０．
８５ｇ（アスパラギン酸からの通算収率：７０．０％）
得た。 物性値 融点：６５−６６℃ ［α］D 20 −２４．５°（ｃ＝１．００，アセトン） ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ-1：３３６２，１６９８，１５２
４，１３４９，１１７３1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ
ｐｐｍ：２．００−２．１７（２Ｈ，ｍ），３．０３
（３Ｈ，ｓ），３．０６（３Ｈ，ｓ），４．１０−４．
２１（１Ｈ，ｍ），４．２６−４．４４（４Ｈ，ｍ），
５．２１（３Ｈ，ｓ- ｌｉｋｅ），７．５２（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），８．２１−８．２４（２Ｈ，
ｍ） 元素分析値（Ｃ14Ｈ20Ｎ2 Ｏ10Ｓ2 として） 計算値：Ｃ，３８．１８；Ｈ，４．５８；Ｎ，６．３
６；Ｓ，１４．５６ 実測値：Ｃ，３８．０６；Ｈ，４．３９；Ｎ，６．３
７；Ｓ，１４．７４
−ニトロベンジルオキシカルボニルアミノ）ブタン 参考例３で得られた、（Ｓ）−２−（ｐ−ニトロベンジ
ルオキシカルボニルアミノ）−１，４−ブタンジオール
の粗製物（２６．０２ｇ）のピリジン（１３０ｍｌ）溶
液に、内温を−１２℃から−８℃に保ちながら、メタン
スルホニルクロリド（１５．５９ｍｌ）を３０分かけて
滴下した。同温で３０分間撹拌後、徐々に昇温し、氷冷
下で５時間撹拌した。反応混合物を酢酸エチル（２６０
ｍｌ）で希釈し、有機層を１０％ｖ／ｖメタノール水
（１３０ｍｌ×２）で洗浄し、水層を酢酸エチル（７８
ｍｌ）で再抽出した。有機層を合致し、残留分が約４８
ｇになるまで減圧下溶媒を留去し、次いで、残渣に温メ
タノール（３１２ｍｌ）を加え、結晶化させた。氷冷で
１時間撹拌後、結晶を濾過・洗浄（メタノール，７８ｍ
ｌ）し、乾燥し、標記化合物を微黄色固体として３０．
８５ｇ（アスパラギン酸からの通算収率：７０．０％）
得た。 物性値 融点：６５−６６℃ ［α］D 20 −２４．５°（ｃ＝１．００，アセトン） ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ-1：３３６２，１６９８，１５２
４，１３４９，１１７３1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ
ｐｐｍ：２．００−２．１７（２Ｈ，ｍ），３．０３
（３Ｈ，ｓ），３．０６（３Ｈ，ｓ），４．１０−４．
２１（１Ｈ，ｍ），４．２６−４．４４（４Ｈ，ｍ），
５．２１（３Ｈ，ｓ- ｌｉｋｅ），７．５２（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），８．２１−８．２４（２Ｈ，
ｍ） 元素分析値（Ｃ14Ｈ20Ｎ2 Ｏ10Ｓ2 として） 計算値：Ｃ，３８．１８；Ｈ，４．５８；Ｎ，６．３
６；Ｓ，１４．５６ 実測値：Ｃ，３８．０６；Ｈ，４．３９；Ｎ，６．３
７；Ｓ，１４．７４
【００５４】
【参考例５】 Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−Ｌ−アスパラギン酸ジ
メチル 市販のＮ−（ベンジルオキシカルボニル）−Ｌ−アスパ
ラギン酸（３０．０ｇ）を１Ｎ塩酸メタノール（２５０
ｍｌ）に溶解後、一晩撹拌した。以下、参考例１と同様
に処理し、標記化合物の粗製物を無色透明オイルとして
３３．２１ｇ得た。粗製物は、さらに精製することなく
次工程に供した。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ：２．８６（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１７．２，４．６Ｈｚ），３．０５（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１７．２，４．５Ｈｚ），３．６８（３
Ｈ，ｓ），３．７６（３Ｈ，ｓ），４．６４（１Ｈ，ｄ
ｄｄ，Ｊ＝８，４．６，４．５Ｈｚ），５．１３（２
Ｈ，ｓ），５．７６（１Ｈ，ｂｒ．ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），
７．３０−７．３９（５Ｈ，ｍ）
メチル 市販のＮ−（ベンジルオキシカルボニル）−Ｌ−アスパ
ラギン酸（３０．０ｇ）を１Ｎ塩酸メタノール（２５０
ｍｌ）に溶解後、一晩撹拌した。以下、参考例１と同様
に処理し、標記化合物の粗製物を無色透明オイルとして
３３．２１ｇ得た。粗製物は、さらに精製することなく
次工程に供した。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ：２．８６（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１７．２，４．６Ｈｚ），３．０５（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１７．２，４．５Ｈｚ），３．６８（３
Ｈ，ｓ），３．７６（３Ｈ，ｓ），４．６４（１Ｈ，ｄ
ｄｄ，Ｊ＝８，４．６，４．５Ｈｚ），５．１３（２
Ｈ，ｓ），５．７６（１Ｈ，ｂｒ．ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），
７．３０−７．３９（５Ｈ，ｍ）
【００５５】
【参考例６】 （Ｓ）−２−ベンジルオキシカルボニルアミノ−１，４
−ブタンジオール 窒素気流下、参考例５で得られたＮ−（ベンジルオキシ
カルボニル）−Ｌ−アスパラギン酸ジメチルの粗製物
（１４．７６ｇ），水素化ホウ素ナトリウム（３．７８
ｇ）およびテトラヒドロフラン（７５ｍｌ）からなる反
応混合物を４５℃まで加温し、メタノール（３ｍｌ）を
加えた。内温を４５−５５℃に保ちながら１５分撹拌
後、メタノール（６ｍｌ）を２０分かけて滴下し、さら
に同温度範囲で１時間撹拌を続けた。室温まで冷却後、
飽和ＮａＨＣＯ3 水溶液（３０ｍｌ）を注加し、３０分
撹拌後、水層と有機層を分離し、有機層を濃縮後、残渣
を酢酸エチル（１５０ｍｌ）に溶解した。酢酸エチル層
を１０％食塩水（１０ｍｌ）で洗浄し、減圧下溶媒を留
去し、標記化合物の粗製物を白色固体として１１．９０
ｇ（９９．５％ｅｅ）得た。粗製物は、さらに精製する
ことなく次工程に供した。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ： １．５９−
１．７２（１Ｈ，ｍ），１．７７−１．９０（１Ｈ，
ｍ），２．６６（２Ｈ，ｂｒ．ｓ），３．６３−３．７
５（４Ｈ，ｍ），３．８２−４．００（１Ｈ，ｍ），
５．１０（２Ｈ，ｓ），５．３５（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），
７．２９−７．４２（５Ｈ，ｍ） 光学純度決定方法：標記化合物をジアセチル誘導体へ導
き、以下のＨＰＬＣ条件で測定した。 カラム：キラルセル ＯＪ（ダイセル化学工業製，４．
６φ×２５０ｍｍ） 溶離液：ヘキサン／イソプロピルアルコール＝１０／１ 流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ 保持時間：（Ｓ）体＝約１９．２分 （Ｒ）体＝約２３．０分
−ブタンジオール 窒素気流下、参考例５で得られたＮ−（ベンジルオキシ
カルボニル）−Ｌ−アスパラギン酸ジメチルの粗製物
（１４．７６ｇ），水素化ホウ素ナトリウム（３．７８
ｇ）およびテトラヒドロフラン（７５ｍｌ）からなる反
応混合物を４５℃まで加温し、メタノール（３ｍｌ）を
加えた。内温を４５−５５℃に保ちながら１５分撹拌
後、メタノール（６ｍｌ）を２０分かけて滴下し、さら
に同温度範囲で１時間撹拌を続けた。室温まで冷却後、
飽和ＮａＨＣＯ3 水溶液（３０ｍｌ）を注加し、３０分
撹拌後、水層と有機層を分離し、有機層を濃縮後、残渣
を酢酸エチル（１５０ｍｌ）に溶解した。酢酸エチル層
を１０％食塩水（１０ｍｌ）で洗浄し、減圧下溶媒を留
去し、標記化合物の粗製物を白色固体として１１．９０
ｇ（９９．５％ｅｅ）得た。粗製物は、さらに精製する
ことなく次工程に供した。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ： １．５９−
１．７２（１Ｈ，ｍ），１．７７−１．９０（１Ｈ，
ｍ），２．６６（２Ｈ，ｂｒ．ｓ），３．６３−３．７
５（４Ｈ，ｍ），３．８２−４．００（１Ｈ，ｍ），
５．１０（２Ｈ，ｓ），５．３５（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），
７．２９−７．４２（５Ｈ，ｍ） 光学純度決定方法：標記化合物をジアセチル誘導体へ導
き、以下のＨＰＬＣ条件で測定した。 カラム：キラルセル ＯＪ（ダイセル化学工業製，４．
６φ×２５０ｍｍ） 溶離液：ヘキサン／イソプロピルアルコール＝１０／１ 流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ 保持時間：（Ｓ）体＝約１９．２分 （Ｒ）体＝約２３．０分
【００５６】
【参考例７】 （Ｓ）−２−（ベンジルオキシカルボニルアミノ）−
１，４−ジメタンスルホニルオキシブタン 参考例６で得られた（Ｓ）−２−（ベンジルオキシカル
ボニルアミノ）−１，４−ブタンジオールの粗製物（１
１．４５ｇ），トリエチルアミン（１６．０ｍｌ）およ
び酢酸エチル（１６０ｍｌ）からなる混合物へ、内温を
−２０℃から−５℃に保ちながら、メタンスルホニルク
ロリド（８．２ｍｌ）を３０分かけて滴下し、さらに同
温で１時間撹拌した。次いで反応混合物を水（４６ｍｌ
×２）で洗浄後、濃縮し、残渣にメタノール（１００ｍ
ｌ）を加えてスラリー化し、氷冷下で１時間撹拌後、結
晶を濾過・洗浄（冷メタノール，３０ｍｌ）し、乾燥
し、標記化合物を白色固体として１６．８６ｇ（Ｎ−ベ
ンジルオキシカルボニル−Ｌ−アスパラギン酸からの通
算収率：８２．８％）得た。 物性値 融点：６８- ６９℃ ［α］D 20 −２７．２°（ｃ＝０．９６，アセトン） ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ-1：３３７１，１６９４，１５２
３，１３４８，１１７４，９４８1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ：１．９２−２．
１５（２Ｈ，ｍ），２．９８（３Ｈ，ｓ），３．００
（３Ｈ，ｓ），４．０８−４．２（１Ｈ，ｍ），４．２
−４．４０（４Ｈ，ｍ），５．０５（１Ｈ，ｂｒ．ｄ，
Ｊ＝９Ｈｚ），５．１１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２．４Ｈ
ｚ），５．１３（１Ｈ，ｄ，１２．４Ｈｚ），７．２７
−７．４３（５Ｈ，ｍ） 元素分析値（Ｃ14Ｈ21Ｎ1 Ｏ8 Ｓ2 として） 計算値：Ｃ，４２．５２；Ｈ，５．３５；Ｎ，３．５
４；Ｓ，１６．２２ 実測値：Ｃ，４２．５２；Ｈ，５．３４；Ｎ，３．５
８；Ｓ，１６．１３
１，４−ジメタンスルホニルオキシブタン 参考例６で得られた（Ｓ）−２−（ベンジルオキシカル
ボニルアミノ）−１，４−ブタンジオールの粗製物（１
１．４５ｇ），トリエチルアミン（１６．０ｍｌ）およ
び酢酸エチル（１６０ｍｌ）からなる混合物へ、内温を
−２０℃から−５℃に保ちながら、メタンスルホニルク
ロリド（８．２ｍｌ）を３０分かけて滴下し、さらに同
温で１時間撹拌した。次いで反応混合物を水（４６ｍｌ
×２）で洗浄後、濃縮し、残渣にメタノール（１００ｍ
ｌ）を加えてスラリー化し、氷冷下で１時間撹拌後、結
晶を濾過・洗浄（冷メタノール，３０ｍｌ）し、乾燥
し、標記化合物を白色固体として１６．８６ｇ（Ｎ−ベ
ンジルオキシカルボニル−Ｌ−アスパラギン酸からの通
算収率：８２．８％）得た。 物性値 融点：６８- ６９℃ ［α］D 20 −２７．２°（ｃ＝０．９６，アセトン） ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ-1：３３７１，１６９４，１５２
３，１３４８，１１７４，９４８1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ：１．９２−２．
１５（２Ｈ，ｍ），２．９８（３Ｈ，ｓ），３．００
（３Ｈ，ｓ），４．０８−４．２（１Ｈ，ｍ），４．２
−４．４０（４Ｈ，ｍ），５．０５（１Ｈ，ｂｒ．ｄ，
Ｊ＝９Ｈｚ），５．１１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２．４Ｈ
ｚ），５．１３（１Ｈ，ｄ，１２．４Ｈｚ），７．２７
−７．４３（５Ｈ，ｍ） 元素分析値（Ｃ14Ｈ21Ｎ1 Ｏ8 Ｓ2 として） 計算値：Ｃ，４２．５２；Ｈ，５．３５；Ｎ，３．５
４；Ｓ，１６．２２ 実測値：Ｃ，４２．５２；Ｈ，５．３４；Ｎ，３．５
８；Ｓ，１６．１３
【００５７】
【参考例８】 Ｎ−（ｔ−ブチルオキシカルボニル）−Ｌ−アスパラギ
ン酸ジメチル Ｌ−アスパラギン酸ジメチル塩酸塩（９．３０ｇ），ト
リエチルアミン（１４．４３ｍｌ）及びジクロロメタン
（５６ｍｌ）からなる混合物へ、氷冷下、ジ炭酸ジｔ−
ブチル（１０．２７ｇ）のジクロロメタン（１８ｍｌ）
溶液を滴下し、更に室温で３時間撹拌を続けた。ジクロ
ロメタン（６５ｍｌ）で希釈後、水（５０ｍｌ）、５％
ＮａＨＣＯ3 水（２８ｍｌ）で順次洗浄し、有機層を無
水Ｎａ2 ＳＯ4 で乾燥し、減圧下溶媒を留去し、標記化
合物の粗製物を白色結晶として、１２．１２ｇ得た。粗
製物は更に精製することなく次工程に供した。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ：１．４５（９
Ｈ，ｓ），２．８３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１７．０，４．
８Ｈｚ），３．０１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１７．０，４．
５Ｈｚ），３．７０（３Ｈ，ｓ），３．７６（３Ｈ，
ｓ），４．５８（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝８，４．８，４．
５Ｈｚ），５．４８（１Ｈ，ｂｒ．ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）
ン酸ジメチル Ｌ−アスパラギン酸ジメチル塩酸塩（９．３０ｇ），ト
リエチルアミン（１４．４３ｍｌ）及びジクロロメタン
（５６ｍｌ）からなる混合物へ、氷冷下、ジ炭酸ジｔ−
ブチル（１０．２７ｇ）のジクロロメタン（１８ｍｌ）
溶液を滴下し、更に室温で３時間撹拌を続けた。ジクロ
ロメタン（６５ｍｌ）で希釈後、水（５０ｍｌ）、５％
ＮａＨＣＯ3 水（２８ｍｌ）で順次洗浄し、有機層を無
水Ｎａ2 ＳＯ4 で乾燥し、減圧下溶媒を留去し、標記化
合物の粗製物を白色結晶として、１２．１２ｇ得た。粗
製物は更に精製することなく次工程に供した。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ：１．４５（９
Ｈ，ｓ），２．８３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１７．０，４．
８Ｈｚ），３．０１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１７．０，４．
５Ｈｚ），３．７０（３Ｈ，ｓ），３．７６（３Ｈ，
ｓ），４．５８（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝８，４．８，４．
５Ｈｚ），５．４８（１Ｈ，ｂｒ．ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）
【００５８】
【参考例９】 （Ｓ）−２−（ｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ）−
１，４−ブタンジール 参考例８で得られたＮ−（ｔ−ブチルオキシカルボニ
ル）−Ｌ−アスパラギン酸ジメチル（１０．００ｇ）を
参考例６と同様に、水素化ホウ素ナトリウム（２．９０
ｇ）を用いて還元し、標記化合物の粗製物を白色固体と
して５．５１ｇ得た。粗製物は、さらに精製することな
く次工程に供した。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ：１．４５（９
Ｈ，ｓ），１．５７−１．７０（１Ｈ，ｍ），１．７６
−１．８９（１Ｈ，ｍ），２．７１（２Ｈ，ｂｒ．
ｓ），３．６０−３．８（４Ｈ，ｍ），３．８５（１
Ｈ，ｄｄｔ，Ｊ＝８．８，４．４，４．４Ｈｚ），４．
９（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）
１，４−ブタンジール 参考例８で得られたＮ−（ｔ−ブチルオキシカルボニ
ル）−Ｌ−アスパラギン酸ジメチル（１０．００ｇ）を
参考例６と同様に、水素化ホウ素ナトリウム（２．９０
ｇ）を用いて還元し、標記化合物の粗製物を白色固体と
して５．５１ｇ得た。粗製物は、さらに精製することな
く次工程に供した。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ：１．４５（９
Ｈ，ｓ），１．５７−１．７０（１Ｈ，ｍ），１．７６
−１．８９（１Ｈ，ｍ），２．７１（２Ｈ，ｂｒ．
ｓ），３．６０−３．８（４Ｈ，ｍ），３．８５（１
Ｈ，ｄｄｔ，Ｊ＝８．８，４．４，４．４Ｈｚ），４．
９（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）
【００５９】
【参考例１０】 （Ｓ）−２−（ｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ）−
１，４−ジメタンスルホニルオキシブタン 参考例９で得た（Ｓ）−２−（ｔ−ブチルオキシカルボ
ニルアミノ）−１，４−ブタンジオール（５．００ｇ）
を参考例７と同様にジメシル化し、標記化合物を白色固
体として、５．３０ｇ（Ｌ−アスパラギン酸ジメチル塩
酸塩からの通算収率：４１．６％）得た。 物性値 融点：７０−７４℃ ［α］D 20 −２６．３°（ｃ＝１．００，アセトン） ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ-1：３３８７，１６８７，１５１
４，１３４７，１１７１1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ：１．５０（９
Ｈ，ｓ），１．８８−２．１８（２Ｈ，ｍ），３．０５
（３Ｈ，ｓ），３．０６（３Ｈ，ｓ），３．９８−４．
２（１Ｈ，ｍ），４．２−４．４４（４Ｈ，ｍ），４．
８１（１Ｈ，ｂｒ．ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ） 元素分析値（Ｃ11Ｈ23Ｎ1 Ｏ8 Ｓ2 として） 計算値：Ｃ，３６．５５；Ｈ，６．４１；Ｎ，３．８
８；Ｓ，１７．７４ 実測値：Ｃ，３６．４０；Ｈ，６．３３；Ｎ，３．８
６；Ｓ，１７．５１
１，４−ジメタンスルホニルオキシブタン 参考例９で得た（Ｓ）−２−（ｔ−ブチルオキシカルボ
ニルアミノ）−１，４−ブタンジオール（５．００ｇ）
を参考例７と同様にジメシル化し、標記化合物を白色固
体として、５．３０ｇ（Ｌ−アスパラギン酸ジメチル塩
酸塩からの通算収率：４１．６％）得た。 物性値 融点：７０−７４℃ ［α］D 20 −２６．３°（ｃ＝１．００，アセトン） ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ-1：３３８７，１６８７，１５１
４，１３４７，１１７１1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ：１．５０（９
Ｈ，ｓ），１．８８−２．１８（２Ｈ，ｍ），３．０５
（３Ｈ，ｓ），３．０６（３Ｈ，ｓ），３．９８−４．
２（１Ｈ，ｍ），４．２−４．４４（４Ｈ，ｍ），４．
８１（１Ｈ，ｂｒ．ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ） 元素分析値（Ｃ11Ｈ23Ｎ1 Ｏ8 Ｓ2 として） 計算値：Ｃ，３６．５５；Ｈ，６．４１；Ｎ，３．８
８；Ｓ，１７．７４ 実測値：Ｃ，３６．４０；Ｈ，６．３３；Ｎ，３．８
６；Ｓ，１７．５１
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成６年８月２４日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００４】
【化４】 ─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成７年８月１６日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１７】［式中、Ｒ1 、Ｒ2 、＊は前述と同じ意味
を表す］で示される光学活性な３−アミノピロリジン類
の製造法。特に、遷移金属触媒が８〜１０属の遷移金属
触媒である場合の製造法であり、更には、８〜１０属の
遷移金属触媒がパラジウム触媒、ルテニウム触媒、ロジ
ウム触媒である場合の光学活性な３−アミノピロリジン
類の新規な工業的製造法である。なお、本製法におい
て、化合物（Ｉ）のＳ体からは化合物（II) のＳ体が得
られ、化合物（Ｉ）のＲ体からは化合物(II)のＲ体が得
られる。
を表す］で示される光学活性な３−アミノピロリジン類
の製造法。特に、遷移金属触媒が８〜１０属の遷移金属
触媒である場合の製造法であり、更には、８〜１０属の
遷移金属触媒がパラジウム触媒、ルテニウム触媒、ロジ
ウム触媒である場合の光学活性な３−アミノピロリジン
類の新規な工業的製造法である。なお、本製法におい
て、化合物（Ｉ）のＳ体からは化合物（II) のＳ体が得
られ、化合物（Ｉ）のＲ体からは化合物(II)のＲ体が得
られる。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｍ 7:00
Claims (5)
- 【請求項１】一般式（Ｉ） 【化１】 ［式中、Ｒ1 、Ｒ2 は同一又は異なって水素原子又はア
ミノ保護基を表し、Ｒ3、Ｒ4 、Ｒ5 は同一又は異なっ
て、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、又はアラル
キル基を表し、＊は不斉炭素を表す］で示される化合
物。 - 【請求項２】一般式（Ｉ） 【化２】 ［式中、Ｒ1 、Ｒ2 は同一又は異なって水素原子又はア
ミノ保護基を表し、Ｒ3、Ｒ4 、Ｒ5 は同一又は異なっ
て、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、又はアラル
キル基を表し、＊は不斉炭素を表す］で示される化合物
に遷移金属触媒を作用させ、オレフィンの異性化を伴う
脱アリル化を行うことを特徴とする、一般式 【化３】 ［式中、Ｒ1 、Ｒ2 、＊は前述と同じ意味を表す］で示
される光学活性な３−アミノピロリジン類の製造法。 - 【請求項３】遷移金属触媒が８〜１０属の遷位金属触媒
である請求項２記載の製造法。 - 【請求項４】遷移金属触媒が、パラジウム触媒、ロジウ
ム触媒、ルテニウム触媒である請求項２記載の製造法。 - 【請求項５】遷移金属触媒が、パラジウム触媒である請
求項２記載の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6189331A JPH0853412A (ja) | 1994-08-11 | 1994-08-11 | 光学活性な３−アミノピロリジン誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6189331A JPH0853412A (ja) | 1994-08-11 | 1994-08-11 | 光学活性な３−アミノピロリジン誘導体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0853412A true JPH0853412A (ja) | 1996-02-27 |
Family
ID=16239566
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6189331A Pending JPH0853412A (ja) | 1994-08-11 | 1994-08-11 | 光学活性な３−アミノピロリジン誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0853412A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999024381A1 (en) * | 1997-11-11 | 1999-05-20 | Chisso Corporation | Novel method of catalytic removal of protective group with allyl group |
| US5977381A (en) * | 1998-01-12 | 1999-11-02 | Hoffmann-La Roche Inc. | Process for making 3-amino-pyrolidine derivatives |
| US6531594B2 (en) | 2000-08-24 | 2003-03-11 | Mitsubishi Chemical Corporation | Process for producing 1H-3-aminopyrrolidine and derivatives thereof |
-
1994
- 1994-08-11 JP JP6189331A patent/JPH0853412A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999024381A1 (en) * | 1997-11-11 | 1999-05-20 | Chisso Corporation | Novel method of catalytic removal of protective group with allyl group |
| US6437133B1 (en) | 1997-11-11 | 2002-08-20 | Chisso Corporation | Method of catalytically removing a protective group containing an allyl group using a reducing agent |
| US5977381A (en) * | 1998-01-12 | 1999-11-02 | Hoffmann-La Roche Inc. | Process for making 3-amino-pyrolidine derivatives |
| US6531594B2 (en) | 2000-08-24 | 2003-03-11 | Mitsubishi Chemical Corporation | Process for producing 1H-3-aminopyrrolidine and derivatives thereof |
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