JPH08508513A - リン含有共有結合をつくる方法およびその中間体 - Google Patents
リン含有共有結合をつくる方法およびその中間体Info
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Abstract
(57)【要約】
置換シリルアルキルホスホルアミダイトがホスフェート、ホスホロチオエートおよび他のリン含有共有結合をつくるためのカップリング試薬として働く合成方法を提供する。また、そのような方法に有用な合成中間体を提供する。
Description
【発明の詳細な説明】
リン含有共有結合をつくる方法およびその中間体発明の分野
本発明は、ホスフェート、ホスホロチオエートおよび他のリン含有共有結合を
つくる新規な方法に関する。本発明はさらに、そのような方法に有用な新規な合
成中間体に関する。発明の背景
化学文献には、リン含有共有結合によりヌクレオシドをカップリングして、定
められた配列のオリゴヌクレオチドを生成する多くの方法が記載されている。最
も一般的な方法の1つはホスホルアミダイト法(例えば、Beaucage等、
Tetrahedron 1992、48、2223およびその引用文献を参照
)であり、この方法では、遊離ヒドロキシル基を有するヌクレオシドまたはオリ
ゴヌクレオチドを保護されたシアノエチルホスホルアミダイト単量体と弱酸の存
在下で反応させて、ホスファイト結合構造を形成する。ホスファイト結合を酸化
し、その後シアノエチル基を加水分解すると、所望のホスフェートまたはホスホ
ロチオエートが生じる。
しかしながら、ホスホルアミダイト法には欠点がないわけではない。例えば、
シアノエチルホスホルアミダイト単量体はたいへん高価である。かなりの量の単
量体は一般的なホスホルアミダイトカップリングにおいて未反応となり、未反応
単量体を回収することができるとしても、それは非常に難しいことである。また
、ホスフェート基上のシアノエトキシ基の脱保護の副生成物であるアクリロニト
リルは発癌性物質であり、場合によってはミハエルアクセプターとして作用して
不所望な副生成物を生成する。
従って、当業界ではこれらの問題を解消する合成方法が望まれている。本発明の目的
本発明の目的は、ホスフェート、ホスホロチオエートおよび他のリン含有共有
結合をつくる方法を提供することである。
本発明の別の目的は、自動制御に適応することができる方法を提供することで
ある。
さらに別の目的は、そのような方法において有用な出発物質および合成中間体
を提供することである。
また別の目的は、さらに使用するために回収および再循環が可能な出発物質お
よび反応生成物を提供することである。
さらにまた別の目的は、反応生成物に立体特異性をもたらす方法を提供するこ
とである。発明の概要
これらおよび他の目的は、置換シリルアルキルホスホルアミダイトカップリン
グ試薬を用いることによってリン含有共有結合をつくる方法を提供する本発明に
よって達成される。好ましい具体例では、非ラセミ生成物は、式Iの保護された
ヌクレオシドを式[(RN)2N]2PO(CH2)xSi(RS)3のカップリング
試薬と、式IIのシリルアルキルホスホルアミダイト単量体を形成するのに有効な
時間および反応条件下で接触させることを含む方法によって製造される:
(式中、
各Qは、独立して、O、S、CH2、CHFまたはCF2であり;
各BXは、独立して、ヌクレオシド塩基であり;
各Xは、独立して、H、OH、アルキル、置換アルキル、アルカリールもしく
はアラルキル、F、Cl、Br、CN、CF3、OCF3、OCN、O−アルキル
、S−アルキル、N−アルキル、O−アルケニル、S−アルケニル、N−アルケ
ニル、SOCH3、SO2CH3、ONO2、NO2、N3、NH2、ヘテロシクロア
ルキル、ヘテロシクロアルカリール、アミノアルキルアミノ、ポリアルキルアミ
ノ
もしくは置換シリル、RNA開裂基、オリゴヌクレオチドの薬物動力学的特性を
改善するための基、またはオリゴヌクレオチドの薬力学的特性を改善するための
基であり;
RHPはヒドロキシル保護基であり;
各RNは、独立して、炭素原子数1−約10のアルキルであり;
各RSは、独立して、炭素原子数1−約10のアルキルまたは炭素原子数6−
約10のアリールであり;そして
xは1−約7である)。
そのような単量体をその後、式(III)((P)=固体支持体)の支持体結合
ヌクレオシドと、式IVの支持体結合ホスファイト2量体を形成するのに有効な時
間および反応条件下で接触させる。
式IVの2量体を酸化剤と、式V(Z=OまたはS)の酸化生成物を形成するの
に有効な時間および反応条件下で接触させ、これらを水性塩基と接触させて、溶
液相シリル反応生成物を形成する。これらの反応生成物を弗化物イオンで処理し
て、式VIのホスフェートおよびホスホロチオエート2量体を生成する。
発明の詳細な説明
本発明は、リン含有共有結合をつくる新規で改良された方法およびそのような
方法において有用な中間体を提供する。これらの方法および中間体を用いると、
ホスフェートおよびホスホロチオエートオリゴヌクレオチドが多くのヌクレオシ
ドまたはオリゴヌクレオチドサブユニットから製造される。ヌクレオシドサブユ
ニットは「天然」部分でも「合成」部分でもよい。従って、本発明では、「オリ
ゴヌクレオチド」という用語は第1に多数の結合ヌクレオシド単位から生成され
たポリヌクレオチドを意味する。ヌクレオシドは天然由来の塩基およびペントフ
ラノシル糖基から生成される。従って、「オリゴヌクレオチド」という用語には
事実上、天然由来種および天然由来サブユニットから生成された合成種が含まれ
る。
本発明によるオリゴヌクレオチドはまた修飾サブユニットを含んでいてもよい
。代表的な修飾にはヌクレオシドの複素環式塩基部分またはヌクレオシドの糖部
分の修飾が含まれる。修飾の例については次の米国特許出願に記載されている:
RNA活性を検出および調節する組成物および方法(Composition
And Method For Detecting And Modulat
ing RNA Activity)と題する1990年1月11日付第463
,358号;遺伝子発現を検出および調節する糖修飾オリゴヌクレオチド(Su
g
ar Modified Oligonucleotides That De
tect And Modulate Gene Expression)と題
する1990年8月13日付第566,977号;新規なポリアミン共役オリゴ
ヌクレオチド(NOvel Polyamine Conjugated Ol
igonucleotides)と題する1990年7月27日付第558,6
63号;遺伝子発現を検出および調節するヌクレアーゼ抵抗性ピリミジン修飾オ
リゴヌクレオチド(Nuclease Resistant Pyrimidi
ne Modified Oligonucleotides That De
tect And Modulate Gene Expression)と題
する1991年7月27日付第558,806号;およびRNA活性を検出およ
び調節する組成物および方法(Composition And Method
For Detecting And Modulating RNA Ac
tivity)と題する1991年1月11日付第PCT/US91/0024
3号。これらの各特許出願は本発明の譲受人に譲渡されている。これらの記載は
参照することによってここに記載されたものとする。
従って、オリゴヌクレオチドという用語は、天然の塩基および天然の糖と同様
な機能をする修飾糖部分または修飾塩基部分である修飾部分を含めた構造を意味
する。代表的な修飾塩基には、天然プリンおよびピリミジン塩基の代わりに用い
られるデアザまたはアザプリンおよびピリミジン;5または6位置に置換基を有
するピリミジン;2、6または8位置に変更または交換された置換基を有するプ
リンが含まれる。代表的な修飾糖には炭素環式または非環式糖、2′位置に置換
基を有する糖、および糖の1つ以上の水素原子の代わりに置換基を有する糖が含
まれる。他の変更された塩基部分および変更された糖部分については米国特許第
3,687,808号およびPCT出願PCT/US89/02323号に記載
がある。
変更塩基部分または変更糖部分にはまた、本発明の精神と一致する他の修飾が
含まれる。そのようなオリゴヌクレオチドは、天然由来のまたは野生型の合成オ
リゴヌクレオチドと構造的に区別できるが機能的に交換することができる部分と
して記載するのがもっともよい。そのようなオリゴヌクレオチドの全ては、所望
のRNAまたはDNA鎖構造をまねるのに効果的に作用する限りは本発明に包含
される。
アンチセンス方法論で用いる場合、本発明のオリゴヌクレオチドは約10−約
30個のサブユニットを含むことが好ましい。そのようなオリゴヌクレオチドは
約15−約25のサブユニットを含むことがさらに好ましい。明らかなように、
サブユニットは、リン含有結合を介して隣接サブユニットに適当に結合した塩基
と糖の組み合わせである。オリゴヌクレオチドの結合に「構成ブロック」として
用いられるとき、さらに小さな集まりであるのが好ましい。
本発明のオリゴヌクレオチドを用いて調節されるべきRNAまたはDNA部分
は、生成または活性が調節されるべきタンパク質をコードするDNAまたはRN
Aの部分を含むように予め選択することが好ましい。従って、用いる組成物の標
的部分は、DNAまたはRNAの予め選択した部分に相補的であるように、すな
わちその部分に対してアンチセンスオリゴヌクレオチドであるように選択する。
本発明の好ましい具体例では、本発明の化合物はtatタンパク質をコードす
るHIV mRNAに対してまたはHIV mRNAのTAR領域にハイブリダ
イズする。別の好ましい具体例では、化合物はHIV mRNAのTAR領域の
二次構造をまね、そしてそのようにすることによってtatタンパク質を結合す
る。他の好ましい化合物はヘルペス、乳頭腫および他のウイルスの配列に相補的
である。
本発明のオリゴヌクレオチドは、診断、治療に、そして研究試薬およびキット
として用いることができる。これらは適当な薬学的に許容される希釈剤または担
体を含めることによって医薬組成物中において用いることができる。これらはさ
らに、タンパク質の不所望な生成を特徴とする疾患を有する生物の治療に用いる
ことができる。生物を、不所望なタンパク質をコード化する核酸の鎖と特異的に
ハイブリダイズしうる配列を有するオリゴヌクレオチドと接触させなければなら
ない。この種の治療は単細胞原核生物および真核生物から多細胞真核生物までの
様々な生物に実施することができる。DNA−RNA転写またはRNA−タンパ
ク翻訳をその遺伝、代謝または細胞コントロールの基本部分として用いるどのよ
うな生物も、本発明に従って治療および/または予防処置を行うことができる。
バクテリア、イースト、原生動物、藻類、全ての植物、および温血動物を含む全
ての高等動物のような見かけ上異なる生物を治療することができる。さらに、多
細胞真核生物の各細胞は、DNA−RNA転写およびRNA−タンパク翻訳をそ
れらの細胞活性の不可欠な部分として含んでいるので、これらを治療することが
できる。さらに、真核生物細胞の多くの小器官(例えば、ミトコンドリアおよび
葉緑体)も転写および翻訳機構を含む。従って、単細胞、細胞集団または小器官
も、治療または診断用オリゴヌクレオチドで治療することができる生物の定義に
含めることができる。ここで用いる治療は、生物を殺すことによって、あるいは
一定しないもしくは有害な細胞の成長または発現を制御することによって、疾病
状態をなくすことを包含する。
1つの態様において、本発明は、式Iの保護されたヌクレオシドを、式[(RN
)2N]2PO(CH2)xSi(RS)3のカップリング試薬と、式IIのシリルア
ルキルホスホルアミダイト単量体を形成するのに有効な時間および条件下で接触
させる合成方法に関する。
そのような接触は、1H−テトラゾール、5−(4−ニトロフェニル)−1H−
テトラゾールまたはジイソプロピルアミノテトラゾリドのような弱酸の存在下、
無水条件で行う。
QはS、CH2、CHF、CF2または好ましくはOである。例えば、Secr
ist等、アブストラクト21、4′−チオヌクレオシドの合成および生物学的
活性(Synthesis and Biological Activity
of 4′−Thionucleosides)、Program & Ab
s
tracts,Tenth International Roundtabl
e,Nucleotides and their Biological A
pplications,Park City,Utah,Sept.16−20
,1992を参照。各Qは独立して選択され、従って、ある1つの化合物中の他
のQと同じものでも異なるものでもよい。
BXはアデニン、グアニン、ウラシル、チミン、シトシン、2−アミノアデノ
シンまたは5−メチルシトシンから選択されるヌクレオシド塩基であるが、他の
非天然由来の種を用いて、例えばDNAと安定な二重鎖または三重鎖を形成して
もよい。代表的な塩基は米国特許第3,687,808号(Merigan等)
に記載されており、これらの記載は参照することによってここに記載されたもの
とする。
XはH、OH、アルキル、置換アルキル、アルカリールまたはアラルキル、F
、Cl、Br、CN、CF3、OCF3、OCN、O−アルキル、S−アルキル、
N−アルキル、O−アルケニル、S−アルケニル、N−アルケニル、SOCH3
、SO2CH3、ONO2、NO2、N3、NH2、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシ
クロアルカリール、アミノアルキルアミノ、ポリアルキルアミノまたは置換シリ
ル、RNA開裂基、オリゴヌクレオチドの薬物動力学的特性を改善する基、また
はオリゴヌクレオチドの薬力学的特性を改善する基である。「アルキル」という
用語は、分枝鎖および直鎖炭化水素残基を意味し、1つ以上の3Hおよび/また
は14C原子を有するアルキル基を含む。XはHまたはOH、あるいは特にQがO
である場合、F、O−アルキルまたはO−アルケニルであるのが好ましい。好ま
しいアルキルおよびアルケニル基の炭素原子数は1−約10である。
RHPはどのようなヒドロキシル保護基でもよい。RHPは塩基性条件下で安定で
あるが酸性条件下で除去しうることが好ましい。本発明の方法では広い範囲の保
護基を用いることができる。一般に、保護基は化学官能性を特定の反応条件に対
して不活性にし、分子の残りを実質的に損なうことなくそのような官能性に付加
したり、それから除くことができる。代表的な保護基はBeaucage等、T
etrahedron 1992,48,2223に記載されている。好ましい
保護基は、例えばジメトキシトリチル(DMTr)、モノメトキシトリチル、9
−フェニルキサンテン−9−イル(Pixyl)および9−(p−メトキシフェ
ニル)キサンテン−9−イル(Mox)である。
式[(RN)2N]2PO(CH2)xSi(RS)3のカップリング試薬は、式H
O(CH2)xSi(RS)3のアルコールを三塩化リンと反応させ、そして得られ
る生成物Cl2PO(CH2)xSi(RS)3を少なくとも2当量の式(RN)2N
Hのアミンと反応させることによって製造されるのが好ましい。RN基は同じも
のでも異なるものでもよく、炭素原子数1−約10、好ましくは1−6、さらに
好ましくは3のアルキルである。イソプロピル基が特に好ましい。RS基は同じ
ものでも異なるものでもよく、炭素原子数1−約10のアルキルまたは炭素原子
数6−約10のアリールである。好ましくは、RSはメチル、エチル、イソプロ
ピル、プロペニル、n−ブチル、t−ブチルおよびフェニル基から選択される。
2つのRSはフェニル基であり、1つのRSはメチル基であるのが好ましい。変数
xは1−約7、好ましくは1−約4、さらに好ましくは2である。多くの適した
アルコールはCelebuskiの1992年10月27日発行米国特許第5,
159,095号に記載されており、これらの記載は参照することによってここ
に記載されたものとする。好ましいカップリング剤の1つはジフェニルメチルシ
リルエチル N,N−ジイソプロピルホスホルアミダイトであり、これはジフェ
ニルメチルシリルエチルアルコールからジフェニルメチルシリルエチルホスホジ
クロリダイトを経て誘導することができる。
式IIのシリルアルキルホスホルアミダイト単量体は、式IIIの支持体結合ヌク
レオシドと、(P)がH、ヒドロキシル保護基または固体支持体である式IVのホ
スファイト2量体を形成するのに有効な時間および条件下で接触させることがで
きる。
好ましい具体例では、そのような接触は1H−テトラゾール、5−(4−ニト
ロフェニル)−1H−テトラゾールまたはジイソプロピルアミノテトラゾリドの
ような活性化剤の存在下、無水条件の下で行う。
本発明に従う固体支持体は、例えば制御孔ガラス(CPG)、オキサリル制御
孔ガラス(例えば、Alul等、Nucleic Acids Reseach
1991,19,1527参照)、TentaGel支持体−−アミノポリエ
チレングリコール誘導支持体(例えば、Wright等,Tetrahedro
n Letters 1993,34,3373参照)またはPoros−−ポ
リスチレン/ジビニルベンゼンの共重合体である。
式IVのホスファイト化合物を次に酸化して、例えば式Vの化合物を生成する。
そのような酸化を順次行って、ホスフェート(Z=O)およびホスホロチオエー
ト(Z=S)先駆体構造体を生成する。有用な硫化剤にはBeaucage試薬
(Iyer等,J.Am.Chem.Soc.1990,112,1253およ
びIyer等,J.Org.Chem.1990,55,4693参照)、テト
ラエチルチウラムジスルフィド(例えば、Vu等,Tetrahedron L
etters 1991,32,3005参照)、ジベンゾイルテトラスルフィ
ド(Rao等,Tetrahedron Letters 1992,33,4
839参照)、ジ(フェニルアセチル)ジスルフィド(例えば、Kamer等,
Tetrahedron Letters 1989,30,6757)、硫黄
、トリアリールまたはトリアルキルまたはトリアラルキルまたはトリアルカリー
ルホスフィンのような配位子と組み合わせた硫黄が含まれる。有用な酸化剤はヨ
ウ素/テトラヒドロフラン/水/ピリジンまたは過酸化水素/水またはt−ブチ
ルヒドロペルオキシドまたはm−クロロ過安息香酸のような過酸等である。硫化
の場合、反応は空気、特に酸素を除去した無水条件下で行い、酸化の場合、反応
は水性条件下で行う。
特定の具体例では、式Vの化合物をヒドロキシル保護基RHPを除くのに有効な
反応条件にさらし、その後、得られる生成物を追加単量体IIとカップリングさせ
て、式Va(n=1)のホスファイトオリゴヌクレオチドを生成する。明らかな
ように、さらにnが例えば2−200である式Vaの化合物は、上述の酸化、脱
保護およびカップリング工程をさらに繰り返すことによって製造することができ
る。
(P)がヒドロキシル保護基または固体支持体である場合、例えば式Vの酸化
生成物は保護基または支持体を切り離すのに有効な条件にさらしてもよい。得ら
れる生成物を水酸化アンモニウムまたはいくつかの他の水性塩基または弗化物イ
オンと接触させてそのシリルアルキル部分を除去し、例えば式VIまたはVIaのホ
スフェート含有化合物およびホスホロチオエート含有化合物を生成する。
制御孔ガラスのような固体支持体からの切り離しは、水酸化アンモニウムまた
はいくつかの他の水性塩基を用いて行うのが好ましい。
弗化物イオンとの接触はテトラヒドロフラン、アセトニトリル、ジメトキシエ
タンまたは水のような溶媒中で行うのが好ましい。弗化物イオンはテトラアルキ
ルアンモニウム弗化物(例えば、弗化テトラブチルアンモニウム(TBAF))
、弗化カリウムまたは弗化セシウムから選択される1種以上の塩の形で提供する
のが好ましい。
RHP基を当業界で周知の方法により式VIおよびVIaの化合物から除去すると、
RHPがHである式VIおよびVIaの化合物を生成することができる。例えば、ジメ
トキシトリチル保護基はプロトン性の酸、例えばギ酸、ジクロロ酢酸、トリクロ
ロ酢酸、p−トルエンスルホン酸もしくは他の酸によって、またはルイス酸、例
えば臭化亜鉛もしくは他のルイス酸を用いて除去することができる。
明らかなように、本発明の方法の工程は特定の回数または特定の順序で行う必
要はない。また、本発明の化合物の固体支持体からの切り離しは、シリルアルキ
ル基の除去前に行ってもまたは後に行ってもよい。
本発明の別の目的、利点および新しい特徴は当業者であれば次の実施例から明
らかになるであろう。これらの実施例は本発明を限定するものではない。実施例1
ジフェニルメチルシリルエチル N,N−ジイソプロピルホスホルアミダイトの
製造
磁気撹拌機、ガラス栓およびアルゴン送入口を備えた500mlの三つ口フラ
スコをアルゴン雰囲気下で組み立てる。全てのガラス器具をオーブン中で120
℃にて1時間乾燥する。反応フラスコに無水エーテル(150ml)および三塩
化リン(9.27g;67.5mmol)を入れる。ジフェニルメチルシリルエタノ
ール(12.12g;50mmol)を含むエーテル(50ml)を等圧にした滴加
漏斗を使用して撹拌しながら0℃(氷冷)で反応フラスコにゆっくり加える。添
加完了後、氷浴を除き、反応液を3時間撹拌する。次に、反応混合物を500m
lのフラスコに移し、減圧下で濃縮する。
この無色生成物を含む無水エーテル(200ml)に、ジイソプロピルアミン
(57.7ml)をアルゴン下、0℃で加える。添加完了後、室温で16時間(
一晩)撹拌し続ける。反応混合物を濾過し、濃縮すると、無色で粘性の液体が得
られる。この生成物の11P NMR(CDCl3)はδ123.4ppmで大き
なピークを示す。実施例2
保護されたシリルアルキルホスホルアミダイト単量体の製造
A. 5′−O−(4,4′−ジメトキシトリチル)チミジン−3′−O−(2
−ジフェニルメチルシリルエチル N,N−ジイソプロピルホスホルアミダイト
)
磁気撹拌機、アルゴンガス用送入口および隔壁を備えた250mlのニロフラ
スコをアルゴン雰囲気下で組み立てる。全てのガラス器具を120℃で1時間乾
燥する。フラスコに5′−O−(4,4′−ジメトキシトリチル)チミジン(C
hem−Impex;3.81g;7mmol)および5−(4−ニトロフェニル)
−1H−テトラゾール(Chem−Impex;1.07g;5.6mmol))を
入れる。無水アセトニトリル(50ml)を加える。アルゴン下、室温のこの撹
拌混合物にジフェニルメチルシリルエチル N,N−ジイソプロピルホスホルア
ミダイト(4.96g;10.5mmol)を含むアセトニトリル(50ml)の溶
液を加える。2時間撹拌した後、ホワットマンシリカゲル60AダイアモンドK
GF上での薄層クロマトグラフィー(100%酢酸エチル)から、出発ヌクレオ
シドが消えていることが分かる。反応混合物を濾過し、濾液を酢酸エチル(10
0ml)で希釈し、冷飽和炭酸水素ナトリウム溶液、ブラインで1回洗浄し、乾
燥する(MgSO4)。乾燥溶液を減圧下で濃縮すると、粘性で泡立った液体が
得られる。粗生成物をシリカゲルを用いてフラッシュクロマトグラフィーを行う
ことによって精製する。酢酸エチルおよびヘキサンからなる勾配溶媒系を用いる
。精製の間ずっとトリエチルアミン(1%)を用いる。生成物に相当するフラク
ションを一緒にし、濃縮すると、淡黄色の粘性で泡立った液体(9.87g;7
7%)が得られる。31P NMR(CDCl3)は2つのジアステレオマー生成
物に相当するδ145.483、146.176に2つの信号を示す。
B. N2−イソブチリル−5′−O−(4,4′−ジメトキシトリチル)−2
′−デオキシグアノシン−3′−O−(2−ジフェニルメチルシリルエチルN,
N−ジイソプロピルホスホルアミダイト)
磁気撹拌機、アルゴンガス用送入口および隔壁を備えた250mlの二口フラ
スコをアルゴン雰囲気下で組み立てる。全てのガラス器具を120℃で1時間乾
燥する。フラスコにN2−イソブチリル−5′−O−(4,4′−ジメトキシト
リチル)−2′−デオキシグアノシン(Chem−Impex;3.195g;
5mmol)およびジイソプロピルアンモニウムテトラゾリド(0.684g;4mm
ol)を入れる。無水アセトニトリル(50ml)を加える。アルゴン下、室温の
この撹拌混合物にジフェニルメチルシリルエチル N,N−ジイソプロピルホス
ホルアミダイト(3.543g;7.5mmol)を含むアセトニトリル(50ml
)の溶液を加える。2時間撹拌した後、ホワットマンシリカゲル60Aダイアモ
ンドKGF上での薄層クロマトグラフィー(100%酢酸エチル)から、出発ヌ
クレオシドが消えていることが分かる。反応混合物を濾過し、濾液を酢酸エチル
(100ml)で希釈し、冷飽和炭酸水素ナトリウム溶液、ブラインで1回洗浄
し、乾燥する(MgSO4)。乾燥溶液を減圧下で濃縮すると、粘性で泡立った
液体が得られる。粗生成物をシリカゲルを用いてフラッシュクロマトグラフィー
を行うことによって精製する。酢酸エチルおよびヘキサンからなる勾配溶媒系を
用いる。精製の間ずっとトリエチルアミン(1%)を用いる。生成物に相当する
フラクションを一緒にし、濃縮すると、淡黄色の粘性で泡立った液体(3.6g
;65%)が得られる。31P NMR(CDCl3)は2つのジアステレオマー
生成物に相当するδ145.483、146.176に2つの信号を示す。
C. N6−ベンゾイル−5′−O−(4,4′−ジメトキシトリチル)−2′
−デオキシアデノシン−3′−O−(2−ジフェニルメチルシリルエチル N,
N−ジイソプロピルホスホルアミダイト)
磁気撹拌機、アルゴンガス用送入口および隔壁を備えた250mlの二口フラ
スコをアルゴン雰囲気下で組み立てる。全てのガラス器具を120℃で1時間乾
燥する。フラスコにN6−ベンゾイル−5′−O−(4,4′−ジメトキシトリ
チル)−2′−デオキシアデノシン(Chem−Impex;3.285g;5
mmol)およびジイソプロピルアンモニウムテトラゾリド(0.684g;4mmol
)を入れる。無水アセトニトリル(50ml)を加える。アルゴン下、室温のこ
の撹拌混合物にジフェニルメチルシリルエチル N,N−ジイソプロピルホスホ
ルアミダイト(2.835g;6mmol)を含むアセトニトリル(50ml)の溶
液を加える。2時間撹拌した後、反応混合物を濾過し、濃縮すると、粘性で泡立
った物質が得られる。粗生成物をシリカゲルを用いてフラッシュクロマトグラフ
ィーを行うことによって精製する。酢酸エチルおよびヘキサンからなる勾配溶媒
系を用いる。精製の間ずっとトリエチルアミン(1%)を用いる。生成物に相当
するフラクションを一緒にし、濃縮すると、粘性で泡立った液体(3.81g;
68%)が得られる。31P NMR(CDCl3)は2つのジアステレオマー生
成物に相当するδ146.093、146.478に2つの信号を示す。
D. N4−ベンゾイル−5′−O−(4,4′−ジメトキシトリチル)−2′
−デオキシシチジン−3′−O−(2−ジフェニルメチルシリルエチル N,N
−ジイソプロピルホスホルアミダイト)
磁気撹拌機、アルゴンガス用送入口および隔壁を備えた250mlの二口フラ
スコをアルゴン雰囲気下で組み立てる。全てのガラス器具を120℃で1時間乾
燥する。フラスコにN4−ベンゾイル−5′−O−(4,4′−ジメトキシトリ
チル)−2′−デオキシシチジン(Chem−Impex;3.169g;5mm
ol)およびジイソプロピルアンモニウムテトラゾリド(0.684g;4mmol)
を入れる。無水アセトニトリル(50ml)を加える。アルゴン下、室温のこの
撹拌混合物にジフェニルメチルシリルエチル N,N−ジイソプロピルホスホル
アミダイト(3.543g;7.5mmol)を含むアセトニトリル(50ml)の
溶液を加える。2時間撹拌した後、ホワットマンシリカゲル60Aダイアモンド
KGF上での薄層クロマトグラフィー(100%酢酸エチル)から、出発ヌクレ
オシドが消えていることが分かる。反応混合物を濾過し、濾液を酢酸エチル(1
00ml)で希釈し、冷飽和炭酸水素ナトリウム溶液、ブラインで1回洗浄し、
乾燥する(MgSO4)。乾燥溶液を減圧下で濃縮すると、粘性で泡立った液体
が得られる。粗生成物をシリカゲルを用いてフラッシュクロマトグラフィーを行
うことによって精製する。酢酸エチルおよびヘキサンからなる勾配溶媒系を用い
る。精製の間ずっとトリエチルアミン(1%)を用いる。生成物に相当するフラ
クションを一緒にし、濃縮すると、粘性で泡立った液体(4.09g;74%)
が得られる。31P NMR(CDCl3)は2つのジアステレオマー生成物に相
当するδ146.277、146.682に2つの信号を示す。実施例3
カップリング方法
A. T−Tホスホロチオエート2量体の合成
エステル結合を介してCPG(制御孔ガラス)に結合された5′−O−ジメト
キシトリチルチミジン(100mg、4mmol)をガラス反応器に取り、2%ジク
ロロ酢酸(体積/体積)のジクロロメタン溶液を加えて、5′−ヒドロキシル基
を脱保護する。生成物をジクロロメタンで、次いでアセトニトリルで洗浄する。
その後、アセトニトリル中0.2M 5′−O−(4,4′−ジメトキシトリチ
ル)チミジン−3′−O−(2−ジフェニルメチルシリルエチル N,N−ジイ
ソプロピルホスホルアミダイト)溶液およびアセトニトリル中0.4M 1H−
テトラゾール溶液を加え、室温で5分間反応させる。生成物をアセトニトリルで
洗浄する。次に、アセトニトリル中0.05M Beaucage試薬溶液を加
え、室温で5分間反応させる。この硫化工程をもう1回、5分間繰り返す。支持
体をアセトニトリルで、次いで無水酢酸/ルチジン/THF(1:1:8)の溶
液で洗浄し、N−メチルイミダゾール/THFを加えて、未反応5′−ヒドロキ
シル基をキャップする。生成物をアセトニトリルで洗浄する。
化合物を含有する担体を30%水性水酸化アンモニウムで90分間処理する。
水溶液を濾過し、減圧下で濃縮し、そして室温にてTHF中1.0M 弗化テト
ラ−n−ブチルアンモニウム溶液で処理して、T−Tのホスホロチオエート2量
体を得る。
B. C−Tホスホロチオエート2量体の合成
エステル結合を介してCPG(制御孔ガラス)に結合された5′−O−ジメト
キシトリチルチミジン(100mg、4mmol)をガラス反応器に取り、2%ジク
ロロ酢酸(体積/体積)のジクロロメタン溶液を加えて、5′−ヒドロキシル基
を脱保護する。生成物をアセトニトリルで洗浄する。その後、アセトニトリル中
0.2M N4−ベンゾイル−5′−O−(4,4′−ジメトキシトリチル)−
2′−デオキシシチジン−3′−O−(2−ジフェニルメチルシリルエチル N
,N−ジイソプロピルホスホルアミダイト)溶液およびアセトニトリル中0.4
M 1H−テトラゾール溶液を加え、室温で5分間反応させる。生成物をアセト
ニトリルで洗浄し、次に、アセトニトリル中0.05M Beaucage試薬
溶液を加え、室温で5分間反応させる。この硫化工程をもう1回、5分間繰り返
す。支持体をアセトニトリルで、次いで無水酢酸/ルチジン/THF(1:1:
8)の溶液で洗浄し、N−メチルイミダゾール/THFを加えて、未反応5′−
ヒドロキシル基をキャップする。生成物をアセトニトリルで洗浄する。
化合物を含有する担体を30%水性水酸化アンモニウム溶液で90分間処理し
、
そして55℃で12時間インキュベートする。水溶液を濾過し、減圧下で濃縮し
て、dC−Tのホスホロチオエート2量体を得る。
C. T−Tホスホジエステル2量体の合成
エステル結合を介してCPG(制御孔ガラス)に結合された5′−O−ジメト
キシトリチルチミジン(100mg、4mmol)をガラス反応器に取り、2%ジク
ロロ酢酸(体積/体積)のジクロロメタン溶液を加えて、5′−ヒドロキシル基
を脱保護する。生成物をジクロロメタンで、次いでアセトニトリルで洗浄する。
その後、アセトニトリル中0.2M 5′−O−(4,4′−ジメトキシトリチ
ル)チミジン−3′−O−(2−ジフェニルメチルシリルエチル N,N−ジイ
ソプロピルホスホルアミダイト)溶液およびアセトニトリル中0.4M 1H−
テトラゾール溶液を加え、室温で5分間反応させる。生成物をアセトニトリルで
洗浄し、次いで水/ピリジン/THF(2/20/80)中の0.1Mヨウ素を
加え、室温で5分間反応させる。支持体をアセトニトリルで、次いで無水酢酸/
ルチジン/THF(1:1:8)の溶液で洗浄し、N−メチルイミダゾール/T
HFを加えて、未反応5′−ヒドロキシル基をキャップする。生成物をアセトニ
トリルで洗浄する。
化合物を含有する担体を30%水性水酸化アンモニウムで90分間室温で処理
し、そして55℃で1時間インキュベートする。水溶液を濾過し、減圧下で濃縮
して、T−Tのホスホジエステル2量体を得る。
D. 5′−TTTTTTT−3′ホスホロチオエート7量体の合成
エステル結合を介してCPG(制御孔ガラス)に結合された5′−O−ジメト
キシトリチルチミジン(50mg、2mmol)をガラス反応器に取り、2%ジクロ
ロ酢酸(体積/体積)のジクロロメタン溶液を加えて、5′−ヒドロキシル基を
脱保護する。生成物をアセトニトリルで洗浄する。その後、アセトニトリル中0
.2M 5′−O−(4,4′−ジメトキシトリチル)チミジン−3′−O−(
2−ジフェニルメチルシリルエチル N,N−ジイソプロピルホスホルアミダイ
ト)溶液およびアセトニトリル中0.4M 1H−テトラゾール溶液を加え、室
温で
5分間反応させる。生成物をアセトニトリルで洗浄し、次に、アセトニトリル中
0.05M Beaucage試薬溶液を加え、室温で5分間反応させる。この
硫化工程をもう1回、5分間繰り返す。支持体をアセトニトリルで、次いで無水
酢酸/ルチジン/THF(1:1:8)の溶液で洗浄し、N−メチルイミダゾー
ル/THFを加えて、未反応5′−ヒドロキシル基をキャップする。生成物をア
セトニトリルで洗浄する。
この全サイクルをさらに5回繰り返して、完全に保護されたチミジン7量体を
得る。化合物を含有する担体を30%水性水酸化アンモニウム溶液で90分間室
温で処理し、そして55℃で1時間インキュベートする。水溶液を濾過し、減圧
下で濃縮して、TTTTTTTのホスホロチオエート2量体を得る。
E. 5′−d(GACT)−3′ホスホロチオエート4量体の合成
エステル結合を介してCPG(制御孔ガラス)に結合された5′−O−ジメト
キシトリチルチミジン(50mg、2mmol)をガラス反応器に取り、2%ジクロ
ロ酢酸(体積/体積)のジクロロメタン溶液を加えて、5′−ヒドロキシル基を
脱保護する。生成物をアセトニトリルで洗浄する。その後、アセトニトリル中0
.2M 5′−O−(4,4′−ジメトキシトリチル)チミジン−3′−O−(
2−ジフェニルメチルシリルエチル N,N−ジイソプロピルホスホルアミダイ
ト)溶液およびアセトニトリル中0.4M 1H−テトラゾール溶液を加え、室
温で5分間反応させる。生成物をアセトニトリルで洗浄し、次に、アセトニトリ
ル中0.05M Beaucage試薬溶液を加え、室温で5分間反応させる。
この硫化工程をもう1回、5分間繰り返す。支持体をアセトニトリルで、次いで
無水酢酸/ルチジン/THF(1:1:8)の溶液で洗浄し、N−メチルイミダ
ゾール/THFを加えて、未反応5′−ヒドロキシル基をキャップする。生成物
をアセトニトリルで洗浄する。
2%ジクロロ酢酸(体積/体積)のジクロロメタン溶液を加えて、5′−ヒド
ロキシル基を脱保護する。生成物をアセトニトリルで洗浄する。その後、アセト
ニトリル中0.2M N4−ベンゾイル−5′−O−(4,4′−ジメトキシト
リチル)−2′−デオキシシチジン−3′−O−(2−ジフェニルメチルシリル
エチル N,N−ジイソプロピルホスホルアミダイト)溶液およびアセトニトリ
ル中0.4M 1H−テトラゾール溶液を加え、室温で5分間反応させる。生成
物をアセトニトリルで洗浄し、次に、アセトニトリル中0.05M Beauc
age試薬溶液を加え、室温で5分間反応させる。この硫化工程をさらに1回、
5分間繰り返す。支持体をアセトニトリルで、次いで無水酢酸/ルチジン/TH
F(1:1:8)の溶液で洗浄し、N−メチルイミダゾール/THFを加えて、
未反応5′−ヒドロキシル基をキャップする。生成物をアセトニトリルで洗浄す
る。
2%ジクロロ酢酸(体積/体積)のジクロロメタン溶液を加えて、5′−ヒド
ロキシル基を脱保護する。生成物をアセトニトリルで洗浄する。その後、無水ア
セトニトリル中0.2M N6−ベンゾイル−5′−O−(4,4′−ジメトキ
シトリチル)−2′−デオキシアデノシン−3′−O−(2−ジフェニルメチル
シリルエチル N,N−ジイソプロピルホスホルアミダイト)溶液およびアセト
ニトリル中0.4M 1H−テトラゾール溶液を加え、室温で5分間反応させる
。生成物をアセトニトリルで洗浄し、次に、アセトニトリル中0.05M Be
aucage試薬溶液を加え、室温で5分間反応させる。この硫化工程をさらに
1回、5分間繰り返す。支持体をアセトニトリルで、次いで無水酢酸/ルチジン
/THF(1:1:8)の溶液で洗浄し、N−メチルイミダゾール/THFを加
えて、未反応5′−ヒドロキシル基をキャップする。生成物をアセトニトリルで
洗浄する。
2%ジクロロ酢酸(体積/体積)のジクロロメタン溶液を加えて、5′−ヒド
ロキシル基を脱保護する。生成物をアセトニトリルで洗浄する。その後、アセト
ニトリル中0.2M N2−イソブチリル−5′−O−(4,4′−ジメトキシ
トリチル)−2′−デオキシグアノシン−3′−O−(2−ジフェニルメチルシ
リルエチル N,N−ジイソプロピルホスホルアミダイト)溶液およびアセトニ
トリル中0.4M 1H−テトラゾール溶液を加え、室温で5分間反応させる。
生成物をアセトニトリルで洗浄し、次に、アセトニトリル中0.05M Bea
ucage試薬溶液を加え、室温で5分間反応させる。この硫化工程をさらに1
回、5分間繰り返す。支持体をアセトニトリルで、次いで無水酢酸/ルチジン/
THF(1:1:8)の溶液で洗浄し、N−メチルイミダゾール/THFを加え
て、未反応5′−ヒドロキシル基をキャップする。生成物をアセトニトリルで洗
浄する。
化合物を含有する担体を30%水性水酸化アンモニウム溶液で90分間室温で
処理し、そして55℃で24時間インキュベートする。水溶液を濾過し、減圧下
で濃縮して、5′−dG−dA−dC−T−3′のホスホロチオエート4量体を
得る。
本発明の好ましい具体例に多くの変更を加えうること、およびそのような変更
が本発明の精神に逸脱することなくなしうることは、当業者にとって明らかなこ
とである。従って、請求の範囲は本発明の真の精神および範囲に入る全ての均等
の変更を包含するものである。
【手続補正書】
【提出日】1996年2月9日
【補正内容】
請求の範囲
1. 式IIの化合物を製造する方法であって、式Iの化合物を式:
[(RN)2N]2PO(CH2)xSi(RS)3のカップリング試薬と、式IIの化合
物を形成するのに有効な時間および反応条件下で接触させることを含む方法:
[式中、
各Qは、独立して、O、S、CH2、CHFまたはCF2であり;
各Bxは、独立して、ヌクレオシド塩基であり;
各Xは、独立して、H、OH、アルキル、置換アルキル、アルカリールもしく
はアラルキル、F、Cl、Br、CN、CF3、OCF3、OCN、O−アルキル
、S−アルキル、N−アルキル、O−アルケニル、S−アルケニル、N−アルケ
ニル、SOCH3、SO2CH3、ONO2、NO2、N3、NH2、ヘテロシクロア
ルキル、ヘテロシクロアルカリール、アミノアルキルアミノ、ポリアルキルアミ
ノもしくは置換シリル、RNA開裂基、オリゴヌクレオチドの薬物動力学的特性
を改善するための基、またはオリゴヌクレオチドの薬力学的特性を改善するため
の基であり;
RHPはヒドロキシル保護基であり;
各RNは、独立して、炭素原子数1−約10のアルキルであり;
各Rsは、独立して、炭素原子数1−約10のアルキルまたは炭素原子数6−
約10のアリールであり;そして
xは1−約7である]。
2. 式IVの化合物を製造する方法であって、請求項1記載の方法により製造さ
れた式IIの化合物を式IIIの化合物と、式IVの化合物を形成するのに有効な時間
および反応条件下で接触させることを含む方法:
[式中、(P)はH、ヒドロキシル保護基または固体支持体であり、Q、Bx、
X、RHP、Rs、およびxは請求項1において定義したとおりである]。
3. 式Vの化合物を製造する方法であって、請求項2記載の方法により製造さ
れた式IVの化合物を酸化剤と、式Vの化合物を形成するのに有効な時間および反
応条件下で接触させることを含む方法:
[式中、ZはOまたはSであり、Q、Bx、X、RHP、Rs、およびxは請求項1
において定義したとおりであり、(P)は請求項2において定義したとおりであ
る]。
4. (P)が固体支持体である上記式Vの化合物を水性塩基と接触させて、溶
液相反応生成物を形成することをさらに含む、請求項3の方法。
5. 上記溶液相反応生成物を弗化物イオンと接触させて、式IVの化合物を生成
することをさらに含む、請求項4の方法:
[式中、ZはOまたはSであり、Q、Bx、XおよびRHPは請求項1において定
義したとおりである]。
6. 上記式IVの化合物を、上記RHP基を除去するのに有効な条件にさらすこと
をさらに含む、請求項5の方法。
7. 上記式Vの化合物を弗化物イオンと接触させて、シリルアルキルホスフェ
ート保護基を除去することをさらに含む、請求項3の方法。
8. 上記シリルアルキルホスフェート保護基を除去した上記化合物を水性塩基
と接触させて、式IVの化合物を形成することをさらに含む、請求項7の方法:
[式中、ZはOまたはSであり、Q、Bx、XおよびRHPは請求項1において定
義したとおりである]。
9. 上記式IVの化合物を、上記RHP基を除去するのに有効な条件にさらすこと
をさらに含む、請求項8の方法。
10. 式IVの化合物を製造する方法であって、式IIの化合物を式IIIの化合物
と、式IVの化合物を形成するのに有効な時間および反応条件下で接触させること
を含む方法:
[式中、
各Qは、独立して、O、S、CH2、CHFまたはCF2であり;
各Bxは、独立して、ヌクレオシド塩基であり;
各Xは、独立して、H、OH、アルキル、置換アルキル、アルカリールもしく
はアラルキル、F、Cl、Br、CN、CF3、OCF3、OCN、O−アルキル
、S−アルキル、N−アルキル、O−アルケニル、S−アルケニル、N−アルケ
ニル、SOCH3、SO2CH3、ONO2、NO2、N3、NH2、ヘテロシクロア
ルキル、ヘテロシクロアルカリール、アミノアルキルアミノ、ポリアルキルアミ
ノもしくは置換シリル、RNA開裂基、オリゴヌクレオシドの薬物動力学的特性
を改善するための基、またはオリゴヌクレオシドの薬力学的特性を改善するため
の基であり;
RHPはヒドロキシル保護基であり;
各RNは、独立して、炭素原子数1−約10のアルキルであり;
各Rsは、独立して、炭素原子数1−約10のアルキルまたは炭素原子数6−
約10のアリールであり;
(P)はH、ヒドロキシル保護基または固体支持体であり;そして
xは1−約7である]。
11. 式Vの化合物を製造する方法であって、請求項10記載の方法により製
造された式IVの化合物を酸化剤と、式Vの化合物を形成するのに有効な時間およ
び反応条件下で接触させることを含む方法:
[式中、ZはOまたはSであり、Q、Bx、X、RHP、Rs、(P)およびxは請
求項10において定義したとおりである]。
12. 上記式IVの化合物を追加の式IIの化合物と接触させ、各々のそのような
追加接触工程の後、得られた生成物を酸化することをさらに含む、請求項11の
方法。
13. 式IIの化合物:
(式中、
Qは、O、S、CH2、CHFまたはCF2であり;
Bxは、ヌクレオシド塩基であり;
Xは、H、OH、アルキル、置換アルキル、アルカリールもしくはアラルキル
、F、Cl、Br、CN、CF3、OCF3、OCN、O−アルキル、S−アルキ
ル、N−アルキル、O−アルケニル、S−アルケニル、N−アルケニル、SOC
H3、SO2CH3、ONO2、NO2、N3、NH2、ヘテロシクロアルキル、ヘテ
ロシクロアルカリール、アミノアルキルアミノ、ポリアルキルアミノもしくは置
換シリル、RNA開裂基、オリゴヌクレオシドの薬物動力学的特性を改善するた
めの基、またはオリゴヌクレオシドの薬力学的特性を改善するための基であり;
RHPはヒドロキシル保護基であり;
各RNは、独立して、炭素原子数1−約10のアルキルであり;
各Rsは、独立して、炭素原子数1−約10のアルキルまたは炭素原子数6−
約10のアリールであり;そして
xは1−約7である)。
14. 式IVの化合物:
(式中、
各Qは、独立して、O、S、CH2、CHFまたはCF2であり;
各Bxは、独立して、ヌクレオシド塩基であり;
各Xは、独立して、H、OH、アルキル、置換アルキル、アルカリールもしく
はアラルキル、F、Cl、Br、CN、CF3、OCF3、OCN、O−アルキル
、S−アルキル、N−アルキル、O−アルケニル、S−アルケニル、N−アルケ
ニル、SOCH3、SO2CH3、ONO2、NO2、N3、NH2、ヘテロシクロア
ルキル、ヘテロシクロアルカリール、アミノアルキルアミノ、ポリアルキルアミ
ノもしくは置換シリル、RNA開裂基、オリゴヌクレオシドの薬物動力学的特性
を改善するための基、またはオリゴヌクレオシドの薬力学的特性を改善するため
の基であり;
RHPはヒドロキシル保護基であり;
各Rsは、独立して、炭素原子数1−約10のアルキルまたは炭素原子数6−
約10のアリールであり;
(P)はH、ヒドロキシル保護基または固体支持体であり;そして
xは1−約7である)。
15. 式Vの化合物:
(式中、
各Qは、独立して、O、S、CH2、CHFまたはCF2であり;
各Bxは、独立して、ヌクレオシド塩基であり;
各Xは、独立して、H、OH、アルキル、置換アルキル、アルカリールもしく
はアラルキル、F、Cl、Br、CN、CF3、OCF3、OCN、O−アルキル
、S−アルキル、N−アルキル、O−アルケニル、S−アルケニル、N−アルケ
ニル、SOCH3、SO2CH3、ONO2、NO2、N3、NH2、ヘテロシクロア
ルキル、ヘテロシクロアルカリール、アミノアルキルアミノ、ポリアルキルアミ
ノもしくは置換シリル、RNA開裂基、オリゴヌクレオシドの薬物動力学的特性
を改善するための基、またはオリゴヌクレオシドの薬力学的特性を改善するため
の基であり;
RHPはヒドロキシル保護基であり;
各Rsは、独立して、炭素原子数1−約10のアルキルまたは炭素原子数6−
約10のアリールであり;
(P)はH、ヒドロキシル保護基または固体支持体であり;
ZはOまたはSであり;そして
xは1−約7である)。
16. 式Cl2PO(CH2)xSi(Rs)3の化合物:
(式中、
各Rsは、独立して、炭素原子数1−約10のアルキルまたは炭素原子数6−
約10のアリールであり;そして
xは1−約7である)。
17. ジフェニルメチルシリルエチルホスホジクロリダイトである、請求項1
6の化合物。
18. 式:[(RN)2N]2PO(CH2)xSi(R3)3の化合物:
(式中、
各RNは、独立して、炭素原子数1−約10のアルキルであり;
各Rsは、独立して、炭素原子数1−約10のアルキルまたは炭素原子数6−
約10のアリールであり;そして
xは1−約7である)。
19. ジフェニルメチルシリルエチル N,N−ジイソプロピルホスホルアミ
ダイトである、請求項20の化合物。
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フロントページの続き
(51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI
A61K 31/70 ADY 8314−4C A61K 31/70 ADY
(72)発明者 コール,ダグラス・エル
アメリカ合衆国カリフォルニア州92130,
サンディエゴ,スミス・キャニオン・コー
ト 4992
(72)発明者 クック,フィリップ・ダン
アメリカ合衆国カリフォルニア州92069,
サンマルコス,アヴィラー・コート 641
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1. 式Iの化合物を式[(RN)2N]2PO(CH2)xSi(Rs)3のカップ リング試薬と、式IIの化合物を形成するのに有効な時間および反応条件下で接触 させることを含む合成方法: (式中、 各Qは、独立して、O、S、CH2、CHFまたはCF2であり; 各Bxは、独立して、ヌクレオシド塩基であり; 各Xは、独立して、H、OH、アルキル、置換アルキル、アルカリールもしく はアラルキル、F、Cl、Br、CN、CF3、OCF3、OCN、O−アルキル 、S−アルキル、N−アルキル、O−アルケニル、S−アルケニル、N−アルケ ニル、SOCH3、SO2CH3、ONO2、NO2、N3、NH2、ヘテロシクロア ルキル、ヘテロシクロアルカリール、アミノアルキルアミノ、ポリアルキルアミ ノもしくは置換シリル、RNA開裂基、オリゴヌクレオチドの薬物動力学的特性 を改善するための基、またはオリゴヌクレオチドの薬力学的特性を改善するため の基であり; RHPはヒドロキシル保護基であり; 各RNは、独立して、炭素原子数1−約10のアルキルであり; 各RSは、独立して、炭素原子数1−約10のアルキルまたは炭素原子数6− 約10のアリールであり;そして xは1−約7である)。 2. 上記式IIの化合物を式IIIの化合物と、式IVの化合物を形成するのに有効 な時間および反応条件下で接触させることをさらに含む、請求項1の方法: (式中、(P)はH、ヒドロキシル保護基または固体支持体である)。 3. 式IVの化合物を酸化剤と、式Vの化合物を形成するのに有効な時間および 反応条件下で接触させることをさらに含む、請求項2の方法: (式中、ZはOまたはSである)。 4. (P)が固体支持体である上記式Vの化合物を水性塩基と接触させて、溶 液相反応生成物を形成することをさらに含む、請求項3の方法。 5. 上記溶液相反応生成物を弗化物イオンと接触させて、式VIの化合物を生成 することをさらに含む、請求項4の方法: 6. 上記式VIの化合物を、上記RHP基を除去するのに有効な条件にさらすこと をさらに含む、請求項5の方法。 7. 上記式Vの化合物を弗化物イオンと接触させて、シリルアルキルホスフェ ート保護基を除去することをさらに含む、請求項3の方法。 8. 上記シリルアルキルホスフェート保護基を除去した上記化合物を水性塩基 と接触させて、式VIの化合物を形成することをさらに含む、請求項7の方法: 9. 上記式VIの化合物を、上記RHP基を除去するのに有効な条件にさらすこと をさらに含む、請求項8の方法。 10. 式IIの化合物を式IIIの化合物と、式IVの化合物を形成するのに有効な 時間および反応条件下で接触させることを含む合成方法: (式中、 各Qは、独立して、O、S、CH2、CHFまたはCF2であり; 各Bxは、独立して、ヌクレオシド塩基であり; 各Xは、独立して、H、OH、アルキル、置換アルキル、アルカリールもしく はアラルキル、F、Cl、Br、CN、CF3、OCF3、OCN、O−アルキル 、S−アルキル、N−アルキル、O−アルケニル、S−アルケニル、N−アルケ ニル、SOCH3、SO2CH3、ONO2、NO2、N3、NH2、ヘテロシクロア ルキル、ヘテロシクロアルカリール、アミノアルキルアミノ、ポリアルキルアミ ノもしくは置換シリル、RNA開裂基、オリゴヌクレオシドの薬物動力学的特性 を改善するための基、またはオリゴヌクレオシドの薬力学的特性を改善するため の基であり; RHPはヒドロキシル保護基であり; 各RNは、独立して、炭素原子数1−約10のアルキルであり; 各Rsは、独立して、炭素原子数1−約10のアルキルまたは炭素原子数6− 約10のアリールであり; (P)はH、ヒドロキシル保護基または固体支持体であり;そして xは1− 約7である)。 11. 上記式IVの化合物を酸化剤と、ZがOまたはSである式Vの化合物を形 成するのに有効な時間および反応条件下で接触させることをさらに含む、請求項 10の方法。 12. 上記式IVの化合物を追加の式IIの化合物と接触させ、各々のそのような 追加接触工程の後、得られた生成物を酸化することをさらに含む、請求項11の 方法。 13. 式IIの化合物: (式中、 Qは、O、S、CH2、CHFまたはCF2であり; Bxは、ヌクレオシド塩基であり; Xは、H、OH、アルキル、置換アルキル、アルカリールもしくはアラルキル 、F、Cl、Br、CN、CF3、OCF3、OCN、O−アルキル、S−アルキ ル、N−アルキル、O−アルケニル、S−アルケニル、N−アルケニル、SOC H3、SO2CH3、ONO2、NO2、N3、NH2、ヘテロシクロアルキル、ヘテ ロシクロアルカリール、アミノアルキルアミノ、ポリアルキルアミノもしくは置 換シリル、RNA開裂基、オリゴヌクレオシドの薬物動力学的特性を改善するた めの基、またはオリゴヌクレオシドの薬力学的特性を改善するための基であり; RHPはヒドロキシル保護基であり; 各RNは、独立して、炭素原子数1−約10のアルキルであり; 各Rsは、独立して、炭素原子数1−約10のアルキルまたは炭素原子数6− 約10のアリールであり;そして xは1−約7である)。 14. 式IVの化合物: (式中、 各Qは、独立して、O、S、CH2、CHFまたはCF2であり; 各Bxは、独立して、ヌクレオシド塩基であり; 各Xは、独立して、H、OH、アルキル、置換アルキル、アルカリールもしく はアラルキル、F、Cl、Br、CN、CF3、OCF3、OCN、O−アルキル 、S−アルキル、N−アルキル、O−アルケニル、S−アルケニル、N−アルケ ニル、SOCH3、SO2CH3、ONO2、NO2、N3、NH2、ヘテロシクロア ルキル、ヘテロシクロアルカリール、アミノアルキルアミノ、ポリアルキルアミ ノもしくは置換シリル、RNA開裂基、オリゴヌクレオシドの薬物動力学的特性 を改善するための基、またはオリゴヌクレオシドの薬力学的特性を改善するため の基であり; RHPはヒドロキシル保護基であり; 各Rsは、独立して、炭素原子数1−約10のアルキルまたは炭素原子数6− 約10のアリールであり; (P)はH、ヒドロキシル保護基または固体支持体であり;そして xは1− 約7である)。 15. 式Vの化合物: (式中、 各Qは、独立して、O、S、CH2、CHFまたはCF2であり; 各Bxは、独立して、ヌクレオシド塩基であり; 各Xは、独立して、H、OH、アルキル、置換アルキル、アルカリールもしく はアラルキル、F、Cl、Br、CN、CF3、OCF3、OCN、O−アルキル 、S−アルキル、N−アルキル、O−アルケニル、S−アルケニル、N−アルケ ニル、SOCH3、SO2CH3、ONO2、NO2、N3、NH2、ヘテロシクロア ルキル、ヘテロシクロアルカリール、アミノアルキルアミノ、ポリアルキルアミ ノもしくは置換シリル、RNA開裂基、オリゴヌクレオシドの薬物動力学的特性 を改善するための基、またはオリゴヌクレオシドの薬力学的特性を改善するため の基であり; RHPはヒドロキシル保護基であり; 各Rsは、独立して、炭素原子数1−約10のアルキルまたは炭素原子数6−約 10のアリールであり; (P)はH、ヒドロキシル保護基または固体支持体であり; ZはOまたはSであり;そして xは1−約7である)。 16. 式Cl2PO(CH2)xSi(Rs)3の化合物: (式中、 各RSは、独立して、炭素原子数1−約10のアルキルまたは炭素原子数6− 約10のアリールであり;そして xは1−約7である)。 17. ジフェニルメチルシリルエチルホスホジクロリダイトである、請求項1 6の化合物。 18. 式[(RN)2N]2PO(CH2)xSi(RS)3の化合物: (式中、 各RNは、独立して、炭素原子数1−約10のアルキルであり; 各RSは、独立して、炭素原子数1−約10のアルキルまたは炭素原子数6− 約10のアリールであり;そして xは1−約7である)。 19. ジフェニルメチルシリルエチル N,N−ジイソプロピルホスホルアミ ダイトである、請求項20の化合物。
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