JPH08508311A - 導電性ポリマー/ヌクレオチドコポリマー、その製造方法及びその用途 - Google Patents

導電性ポリマー/ヌクレオチドコポリマー、その製造方法及びその用途

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Abstract

(57)【要約】 1.一般式(I)

Description

【発明の詳細な説明】 導電性ポリマー/ヌクレオチドコポリマー、 その製造方法及びその用途 本発明は、導電性ポリマー(ECP)と核酸との結合に関する。 生物学で通常使用される非常に多くの技術、例えば核酸の合成又はハイブリッ ド形成において、オリゴヌクレオチドは、固体支持体にそれらの末端で共有結合 されている。種々の支持体、紙、ナイロン、ガラス、シリカ、ポリスチレン、ポ リアクリルアミド等がこの目的のために使用されている。 現在、多くのチームが、予め確立した配列に従って配列された種々の配列で、 同時に種々の反応(例えば支持体上のハイブリッド形成)を行うため、多くのオ リゴヌクレオチドを支持する支持体の製造について研究している。 このように、この研究方法が、例えば、核酸の配列決定を容易にするため提案 されている。 微細表面(支持体上のオリゴヌクレオチド・マトリクス)上の行及び列に配列 した種々のオリゴヌクレオチドが、核酸の配列のために提案されている〔リソフ ら、プロク.ユーエスエスアール アカッド.サイ.(LYSOV et al.,Proc.USSR Acad.Sci.)、303巻、1508〜1511頁、1988年;キラプコら、エフイービーエス レット.(KHRAPKO et al.,FEBS Lett.)、256巻、 118〜122頁、1989年;キラプコら、DNA セクエンス(KHRAPKO et al.,DNA S equence)、1巻、375〜388頁、1991年;ベインズ アンド スミス、ジェイ. セオル.バイオル.(BAINS & SMITH,J.Theor.Biol.)、135巻、303〜307頁、1 988年;チャーチ アンド キーファー・ヒギンス、サイエンス(CHURCH & KIEF FER-HIGGINS,Science)、240巻、185〜188頁、1988年;サザーン、国際特許出願 WO89/10977号(SOUTHERN,PCT apprication WO89/10977)、1989年 〕。その方法は、1組のオリゴヌクレオチド上の標的DNA又はRNA鎖のハイ ブリッド形成に基づいている。理論上、標的核酸における配列の存在又は不存在 は、定義された厳格な条件下、微細表面上で観察されるハイブリッド形成によっ て決定してもよい。 ポリヌクレオチド又はポリペプチドのその場での合成に関して、固相上への化 学合成、感光結合法及びフォトリソグラフィを組み合わせることによって、フォ ドアーら(FODOR et al.)〔サイエンス(Science)、251巻、767〜773頁、1991 年〕は、グリッド(正方形、側長100μm)上に1024個のペプチドを合成 することに成功している。これらのペプチドは、ペプチド合成のためにフォトリ ソグラフィマスク及び感光保護基(photolabile protective group)を用いて、 同時かつ並行合成によって得られた。dCpTジヌクレオチドが、感光保護基に よって5′位が保護されたチミジン(5′−ニトロベラトリルチミジン)を用い て、その場に合成された。光がフォトリソグラフィマスクによって導かれ、側長 100μmを有するチ ェック・パターン中で堆積物が得られた。 マスコス アンド サザーン(MASKOS & SOUTHERN)(ヌクレイック アシッ ド レス.(Nucleic Acids Res.)、20巻、1675〜78頁、1992年)が、顕微鏡下 、スライドガラス上で4つの異なったオリゴヌクレオチドのその場での合成を行 った。 これまで、オリゴヌクレオチドの直接の堆積に用いられる技術は、マニュアル 堆積(depot manuel)(工業規模で使用することはできない)又は“マスク”の 使用を必要とし、かつ、さらに、感光性である核酸を利用することが困難である フォトリソグラフィ技術のいずれかを使用する。 本発明の目的は、新規な支持体及び先行技術で提案されている方法の欠点を有 さないオリゴヌクレオチドを結合するための新規な方法を得ることである。 この目的で、発明者らは、結合支持体として導電性ポリマーを使用する概念を 持っている。 発明者らは、共有結合を介してヌクレオチド及びオリゴヌクレオチドを導電性 ポリマーに安定に結合させることができ、よって新規のコポリマーを得ることが できる。 本発明の対象は、下記の一般式(I)に対応するコポリマー (式中、単位Aは導電性ポリマーのモノマー、単位Bはヌクレオチド、オリゴヌ クレオチド又はそれらの類似体の一つ、x,y及びzは1又は1以上の整数又は yは0、及びlは共有結合又はスペーサー手(bras espaceur)を示す。) である。 Aがモノマーを示す導電性ポリマーの限定されていない例として、ポリアセチ レン、ポリアジン、ポリ(p−フェニレン)、ポリ(p−フェニレンビニレン) 、ポリピレン、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリフラン、ポリセレノフェン 、ポリピリダジン、ポリカルバゾール、ポリアニリン等が挙げられる。 Aはピロール単位が有利である。 本発明の説明に関して、用語ヌクレオチド類は、例えば、ウールマン(UHLMAN N)〔ケミカル レビュー(Chemical Review)、90巻、4号、543〜584頁、1990 年〕に述べられているような、いずれかの変性ヌクレオチドを意味するものと理 解される。 単位Bがヌクレオチドの時、通常、それは天然のオリゴヌクレオチドの組成の 一部を形成するもの1つであるのみならず、実験室において使用されるそれらの 類似体又は誘導体でもある。 例えば、 *合成オリゴヌクレオチドの組成の一部を形成するヌクレオチド類似体、 *核酸の合成のために通常使用される保護された官能基を有するヌクレオチド 誘導体(この場合、Bzはオリゴヌクレオチ ドの合成中間体を構成する。) である。 Bzは、ウールマン(UHLMANN)(上述の刊行物)に述べられているような核酸 とハイブリッド化しうる非天然化合物であってもよい。 Bzの構成の一部を形成する単位Bは、同一又は異なっていてもよく、かつBz はホモポリマー又はヘテロポリマーを構成してもよく、後者の場合、単位Bは、 予め決定された又は決定されていないいずれかの配列において、ともに結合して もよい。 本発明の好ましい実施態様によれば、x/y比は1/5と1/100,000 の間である。 本発明の他の好ましい実施態様によれば、fは下記の式の1つ −R1−[(CH2)n−R2x−[(CH2)m−R3y−(CH2)p− 〔式中、 ・nは1〜10の整数、 ・mは0又は1〜10の整数、 ・pは0又は1〜10の整数、 ・xは0又は1〜8の整数、 ・yは0又は1〜8の整数、 ・R1、R2及びR3は、同一又は異なっていてもよく、 CH2、O、S、NR′、CO、CH=CH、NR′CO、CONR′、NHS O2(式中、R′は水素原子又はC1〜C12のアルキル鎖)〕に対応するスペーサ手 を示す。 本発明の対象は、共有結合を介して、少なくとも1つのヌクレオチドの結合の ための支持体としての導電性ポリマーの用途である。 本発明の他の対象は、一般式(I)のコポリマーの製造方法である。 第1の変形によれば、この方法は少なくとも以下の工程からなる。 ・一般式(II) −〔A*x−〔A]y− (II) (式中、A,x及びyは上記定義と同義、及びA*は官能化(fonctionnalise) Aを示す)のコポリマーを製造する第1工程。 ・式(II)のポリマーに、一般式(III) l*−〔B〕z (III) (式中、B及びzは上記定義と同義、l*はA*に結合することができる活性化手 (bras active)である。)の少なくとも1つの基を結合する第2工程。 本発明の認識において、用語“官能化”及び“活性化”は、共有結合を形成す るために共に反応することができる化学的な 機能をA及びlに付与することを意図するいずれかの化学的変化の結果を意味す るものと理解される。 他の変形によれば、一般式(I)のコポリマーの製造方法は、少なくとも以下 の工程からなる。 ・一般式(IV) 式中、A、B、z及びlは上記定義と同義である。) 化合物を製造する工程a)、 ・化合物(IV)をモノマーAと共重合する工程b)。 好ましくは、本発明に対応する方法の1つ又は他の変形の少なくとも1つの工 程が、少なくとも1つの電気化学的反応を含むことである。この電気化学的共重 合は、電極表面上でなされることが好ましく、よって反応の終わりに、表面が本 発明に対応するコポリマーからなる電極が得られる。 例えば、本発明に対応する方法の第1の変形をなすために、一般式(II)のコ ポリマーの製造のための工程及び/又は一般式(III)の基の結合のための工程 を、電気化学的反応によって行ってもよく、第2の変形において、工程b)は、 化合物(IV)とモノマーAとの電気化学的共重合によって行うことが好ましい。 電気化学的共重合は、例えば、サイクリックボルタンメトリーによって、混合 物〔(IV):A〕を逐次酸化及び還元による重合をなし遂げるに十分な電気的ポ テンシャル変化に付すことによってなされ、形成されたポリマーが導電性である ため、酸化−還元サイクルが数回繰り返される。 電流が設定された(定電流電解法)又は電位が設定された(定電位電解法)重 合のようなECPの製造のために一般に用いられる電気化学的重合の方法も、本 発明による共重合体の製造に応用される。 堆積物の品質は実験条件、オリゴヌクレオチド−ピロール/ピロール比、浴温 度、溶媒の性質、使用された電気化学的方法(サイクリックボルタンメトリー、 定電流電解法又は定電位電解法)の選択によって制御できる。よって、得られる コポリマーは、気孔率及び所望の以後の用途に基づく利用しやすさの異なった品 質を有し、結合するオリゴヌクレオチドの量を変化させることができる。 本発明による方法の実行に関して、電気化学的反応は、電極表面で行うことが 好ましい。反応中に放出される電流の測定によって、電極は有効に重合反応の進 行(例えば形成されたポリマーの膜厚)又はコポリマー上で行われる次の反応の 進行を監視することができる。 1つの又は他の変形における本発明の方法の好ましい実施態様によれば、さら に、いくつかの後続する工程において、オリゴヌクレオチドBzの伸長を含み、 これら工程のそれぞれは、 1つ以上の単位Bの結合からなる。 オリゴヌクレオチドBzの伸長は、導電性ポリマーの表面に結合した少なくと も1つのヌクレオチド又はオリゴヌクレオチドで開始して、保護されたモノマー の組み立てによって支持体の表面で行われる。 核酸の化学合成の標準的な方法を、この実施態様の実行において用いてもよい 。 本発明による支持体は、成長ポリマー鎖の保護、脱保護及び縮合反応を行うた めに電極電位の変化を用いることにより、さらにオリゴヌクレオチドを電気化学 的に伸長させてもよい。 本発明の他の目的は、その表面が本発明による式(I)のコポリマーを有する コーティングからなる電極である。 このような電極は、例えば、白金、金、金で被覆されたクロム又はチタン、あ るいはガラス質の炭素等からなる電極の表面で式(I)のコポリマーの層を堆積 させることにより得ることができる。 好ましくは、異なった性質のコポリマーを有してもよいいくつかの電極を組み 合わせてもよい。装置は、このように得られ、核酸の合成のための反応及び/又 はハイブリッド形成のための反応を行うために用いることができる。 本発明に対応する装置の特に好ましい実施態様は、いくつかの電極、異なった 基Bzを有する少なくとも2つの組み合わせからなる。これは、例えば、それぞ れが異なったヌクレオチド(又は類自体)を有する一組の電極、又はそれぞれが 異なった 配列のオリゴヌクレオチドを有する一組の電極である。 オリゴヌクレオチドの非常に小さい表面への結合の結果、電気化学的反応を制 限することができる限りにおいて、本発明による装置は、支持体上に分布した微 小電極(EPCマイクロチップ)を有する複数のECP微小表面からなってもよ い。この点で、所望により、すべての異なるオリゴヌクレオチドBzは、制御さ れ、系統化された方法でこれら微小電極へ結合するであろう。 “ECPマイクロチップ”は、特に核酸配列及び診断に使用されるであろう。 上記に示した限定されていない実施例によって、本発明によるコポリマー〔オ リゴヌクレオチドを有するポリピロール/ポリピロール〕を得ることができる。 1)ヌクレオシド、ヌクレオチド、オリゴヌクレオチド又はこれらの類似体の 一つと官能化されたポリピロールとの化学反応による。例えば、アミノエチルピ ロールと、一端に遊離燐酸又は活性化カルボキシルを有するオリゴヌクレオチド との縮合を行うことができる。 2)ピロールと、ヌクレオシド、ヌクレオチド、オリゴヌクレオチド又はこれ らの類似体の1つとピロールとの縮合の生成物と、ピロールとの化学的又は電気 化学的共重合による。例えば、ピロールは、その一端にピロールを有するスペー サ手を持つオリゴヌクレオチドと電気化学的に共重合することができる。白金表 面上に強力に密着して得られるコポリマー層の厚さは0. 1μm〜数μmであり、例えば100μm2の表面上に形成されていてもよい。 干渉されることなく、オリゴヌクレオチドの分解反応を証明することができる。 3)保護された化学的機能を有する導電性ポリマーの製造による。これらの機 能は局部的かつ選択的に、ヌクレオシド、ヌクレオチド又はオリゴヌクレオチド とのそれらのカップリングをさせるため脱保護される。例えば、モノメトキシト リチルアミノエチルポリール/ポリピロールを製造し、酸性媒体中又は電位印加 のいずれかで局所的にそれを脱保護することが可能である。遊離アミン基はこの ようにヌクレオシド、ヌクレオチド又は、例えば活性化燐酸又は活性化カルボキ シルを有するオリゴヌクレオチドと反応させることができる。 4)種々のオリゴヌクレオチドの立体制御された同時合成による。 オリゴヌクレオチドの合成は、コポリマーの表面で影響を受けやすいヌクレオ シドを出発原料として、保護されたヌクレオチドを組み立てることにより、支持 体上のある点で行われる。保護されたヌクレオチドは、ヌクレオシドホスファー アミジテス(phosphoramidites)、ヌクレオシドホスホネート又はヌクレオシド ホスホトリエステルである。局所的に、合成は、オリゴヌクレオチドが、合成装 置中でシリカ支持体上に合成されるのと同様の方法で行われる。しかしながら、 その差異は、オリゴヌクレオチドの全体の一連の合成が非常に小さい表面上で選 択的な脱保護又は縮合操作を電気化学的に行うことによって、 同時になされ、よって反応すべきでないオリゴヌクレオチドをマスクすることが できることである。これは異なったオリゴヌクレオチドを同時に合成させる。 明らかに、コポリマー〔ピロール/オリゴヌクレオチドピロール〕の合成を示 すために上記に簡単に要点を述べた方法は、ポリヌクレオチド類似体、例えば、 モノ−又はジチオ燐酸塩、メチルホスホン酸塩及びリン酸トリエステルのような 糖−燐酸塩鎖類似体、及びホルムアセタール、カルバメート及びスルホキシドの ような非イオン性非燐酸化類似体に応用することができる。 本発明によるコポリマーは、機械的ストレス、水分、乾燥、熱及び塩基に対し て良好な安定性を有し、かつこのように非常に多くの反応と適合し、よって、使 用の広範囲の変形が可能である。 本発明者らは、選択的にオリゴヌクレオチドが、ポリピロール支持体に結合し た相補的オリゴヌクレオチドにハイブリド形成し、この支持体の使用が、以下の 利点を与えることを見出した。 ・本発明によるコポリマーは多孔質であり、よって支持体に結合したオリゴヌ クレオチドに、相補的配列の核酸とハイブリッド形成するために良好な得易さを 与える。この得易さは、コポリマー層の厚さに比例するハイブリッド形成の観察 によって証明される。ハイブリッド形成媒体における相補的オリゴヌクレオチド は、3倍厚のピロール/オリゴヌクレオチド−ピ ロールコポリマー層(かつこのように支持体に結合した3倍以上のオリゴヌクレ オチドを含有する)の上に3回ものハイブリッド形成を行う。ハイブリッド形成 動力学は、従来のハイブリッド形成支持体で観察されるこれらに類似している。 同じ条件下で、非相補的オリゴヌクレオチド配列は、支持体に結合しないことに 注目すべきである。 ・発明者らは、また、ハイブリッド形成が可逆的であり、いずれかのハイブリ ッド形成されたオリゴヌクレオチドは、加熱、又は希釈水酸化ナトリウムとの処 理によって、ポリピロール及び結合オリゴヌクレオチドに損傷を与えることなく 脱離することを確認している。 ・上述したように、制御された共重合は、非常に小さい電極表面で行うことが できる。これは、支持体上で完全に整理され小型化されたグリッドを製造するこ とを可能にし、このグリッドのそれぞれの点は、十分明確にされた性質のオリゴ ヌクレオチドを有している。支持体に結合している鎖に対して相補的な配列を有 する標的核酸鎖を選択的にハイブリッド形成する。これは、標的核酸の非常に高 い局所密度を生じさせ、よって、それらを検出しやすくさせ、又はある場合でさ え、検出の前に拡大のための必要性を排除する。ハイブリッド形成の検出は、特 に、コポリマーを製造するために用いられ、次いで、その表面で生じる会合又は 解離現象を測定するために使用される電極によってなされる。相補的核酸のハイ ブリッド形成は、例えば、直接的な測定法、又は例えばフェノチアジンあるいは キノンの 電気的活性分子での標的オリゴヌクレオチドの標識のいずれかによって、導電性 ポリマーを支持する電極上の電気的測定法によってその場で監視される。 核酸の標的配列を検出する従来の方法も応用できることは言うまでもない。 発明者らはさらに、その場での電気化学的脱保護によって、本発明によるコポ リマー上に直接的にオリゴヌクレオチドを合成することに成功した。 一般に、支持体上に成長したポリヌクレオチド鎖上のヌクレオチドの集合は、 与えられた官能基への反応を指向するため及び他でのそれを防止するために保護 基を含む一連の反応を用いる。発明者らは、ヌクレオチドを挿入することを目的 として選択されたオリゴヌクレオチドに相当する表面上での集合のための反応を 指向するためにこの性質を利用される。 本発明によれば、成長したオリゴヌクレオチド鎖のための保護基は、電気化学 的反応によって局所的に移動し、よって選択された位置にヌクレオチドを加える ことが可能になる。 さらに利点は、本発明による支持体上でその場でのオリゴヌクレオチド合成を 行うことを可能にする。実際にこの場合、その場で、かつグリット上に配列する 一連のオリゴヌクレオチドと並行して、ピロール手を有する合成オリゴヌクレオ チドと別個ではなく合成され、次いで共重合が可能になる。これは数千の微小表 面のマトリックスの工業的製造を観察することを可能にする。 本発明は以下に述べる明細書、本発明によるコポリマーの製造方法及び用途の 例の引用によって、より理解することができるだろう。ピロール及びピロール基を有するオリゴヌクレオチドの共重合によるポリピロー ル支持体の製造:この支持体の性質 実施例1:変性オリゴヌクレオチドの合成 I.ピロールヌクレオシドアミド(AMIDITE)の製造 第1方法 この合成の全般的な反応体系は図1に示される。 ・第1化合物の製造(図1) この化合物は、ロゲットら(ROGET et al.)〔ヌクレイックアシッド レス. (Nucleic Acids Res.)、17巻、7643〜7651頁、1989年〕によって述べられた方 法によってジアミンと、ジメトキシトリチルチオチミジン又はジメトキシトリチ ルチオデオキシウリジンとの反応で得られる。 ・第2化合物の製造(図1) 第1化合物(2g;3.1mmol)を無水アセトニトリルとの共蒸発によっ て乾燥し、ジクロロメタン20mlに再溶解した。ジスクシンイミジルセバコエ イト(dissuccinimidylsebacoate)2当量(2.45g;6.2mmol)を添 加した。室温で3時間反応をさせた。得られた生成物をシリカのカラム(クロロ ホルム中、0〜10%のメタノール勾配)で分離、またはヘキサン中に沈殿させ た(収率=60%)。第3化合物の合成のため、更に精製をすることなく用いる こともできる。 ・第3化合物の製造(図1) この生成物は、アミノエチルピロール(1.36g;12. 4mmol)を前記反応混合物に添加するか、又はアミノエチルピロール220 mg(2mmol)を精製した後に得られた第2化合物に添加して製造される。 pHは第3級アミン(トリエチルアミン)を添加することにより8〜8.5にな る。2時間反応をさせ、クロロホルム250mlを添加する。得られた有機溶液 を0.5M NaHCO3100mlで2度、及び蒸留水100mlで洗浄し、 次いで硫酸ナトリウムで乾燥させた。生成物をクロロホルム中のメタノール(0 〜10%)のシリカのカラムで分離する。溶媒の蒸発後、第3化合物をエタノー ル10mlに取り出し、エチルエーテル400ml中で沈殿させる(収率=60 %)。 ・第4化合物の製造(図1) 第3化合物(100mg;0.11mmol)とジイソプロピルアンモニウム テトラゾレート(9mg;0.5当量)とを、無水ジクロロメタン(2ml)と 無水アトニトリル(3ml)との混合物との共蒸発によって乾燥させる。残渣を アミレンで安定化したジクロロメタン2.5mlに取り出す。ビス(ジイソプロ ピルアミノシアノエトキシ)ホスフィン(39μl;1.2当量)を隔膜を通し て添加する。2時間の反応後、無水ジクロロメタン20mlを添加する。得られ た溶液を、飽和NaHCO325mlで2度、次いで蒸留水25mlで洗浄する 。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、蒸発乾固させる。得られたホスホラミデ ートをジクロロメタン2ml中に取り出し、ヘキサン100mlに沈殿させ、乾 燥器で一晩乾燥させる。第4化 合物は収率85%で得られる。それを湿気のない20℃のアルゴンの下で貯蔵す る。 第2方法 この製法の工程は図2に示される。 手順: ・第18化合物の製造(図2) この化合物は、ロゲットら(ROGET et al.)〔ヌクレイックアシッド レス. (Nucleic Acids Res.)、17巻、7643〜7651頁、1989年〕によって述べられた方 法によってジアミンと、ジメトキシトリチルチオチミジン又はジメトキシトリチ ルチオデオキシウリジンとの反応によって製造できる。 ・第19化合物の製造(図2) 第18化合物(4g;6.60mmol)を無水ピリジン中で共蒸発によって 乾燥させ、無水ピリジン4mlと無水THF(テトラヒドロフラン)40mlに 再溶解させる。 無水コハク酸1.2当量(800mg;8mmol)を添加し、混合物を1時 間反応させる。溶媒を蒸発させ、次いで、ピリジンを除去するため、混合物をト ルエンで共蒸発させる。アミノエチルピロール1.5当量(1.1ml;9.9 mmol)を添加する。混合物をTHFと共蒸発させる。THF30mlと30 mlのTHFであらかじめ溶解したDCC(ジシクロヘキシルカルボジイミド) 2当量(2.70g;13.2mmol)を添加する。一晩反応させる。沈殿物 を濾過により除去し、白くなるまでジクロロメタンで洗浄する。濾液を蒸発乾 固させ、ジクロロメタン250ml中に取り出す。得られた有機溶液を飽和Na HCO32×250mlで、次いで蒸留水250mlで洗浄する。有機相を硫酸 ナトリウムで乾燥させ、蒸発乾固させる。この生成物(第19化合物)をシリカ のカラムによるクロマトグラフィーによって精製する。それはCH2Cl2/Me OH/TEA:97.5/2.5/1.で溶出する。収率=67%。 ・第20化合物の製造(図2) 第19化合物(600mg;0.75mmol)とジイソプピルアンモニウム テトラゾレート(63mg;0.37mmol)をジクロロメタン/アセトニト リル:2.5ml/2.5ml中で共蒸発によって乾燥させ、ジクロロメタン5 ml中に取り出す。ビス(ジイソプロプピルアミノシアノエトキシホスフィン) (280μl:0.9mmol)を隔膜を通して添加する。2時間の反応後、ジ クロロメタン20mlを添加する。得られた有機溶液を飽和NaHCO32×2 5mlで、次いで飽和NaCl125mlで洗浄する。有機相をNa2SO4で乾 燥させ、蒸発乾固させる。蒸発残留物をジクロロメタン5ml中に取り出す。生 成物(第20化合物)は78%の収率で、ヘキサン中の沈殿物によって得られる 。真空下のデシケーターで一晩乾燥させた後、それを湿気のない−20℃のアル ゴンの下で貯蔵する。 II.ピロールヌクレオシドの製造第5化合物の製造 第4化合物(68mg;0.06mmol)を無水アセトニトリル(0.2M 溶液)300μlに再溶解させる。この生成物は、配列Pyr−TGT ACC TGA ATC GTC CGC CATのオリゴヌクレオチド(オリゴ−1 −pyr)を製造するために用いられる。ここでpyrは第4化合物に対応する ヌクレオチド誘導体を表す。このオリゴヌクレオチドを製造業者によって述べら れている手順によって、自動DNA合成装置(アプライド バイオシステムズ( Applied Biosystems)381A)で製造する。本発明の第4化合物を標準ホスホ ラミジト(ACGT)と同様の合成サイクルに付す。濃度(0.1Mの代わりに 0.2M)と反応時間(15秒の代わりに30秒)のみを第4化合物のために増 加させる。 合成後、オリゴヌクレオチド−ピロールを支持体で3%TCA(トリクロロ酢 酸)の作用により脱トリチル化する。それを28%NH4OH 4×500μl で支持体から分解する。この溶液を60℃で16時間加熱し、保護基を除去する 。第5化合物(図3に示す)は、トリエチルアンモニウム酢酸塩(25mM、p H7)中、アセトニトリル10〜50%の勾配を用い、逆相クロマトグラフィー により得られる。 第20化合物は、第4化合物と同様の方法によって用いることができる。 実施例2:電解共重合によるECP−ポリヌクレオチド支持体の製造(第6化合 物、図3) A−技術原理 酸化ピロール環は、不溶性ポリマー、ポリピロールを形成するための重合が可 能である。電解共重合セルを図4aに図解的に示す:このセルは作用電極(1) 、対電極(2)及び参照電極(3)からなる。 酸化が電気化学的に行われるならば、ポリピロールは作用電極のみで合成され るであろう。従って、これは非常に局在化されたポリマーの合成となる。このよ うに一方の手の端にピロール環を有するオリゴヌクレオチドを単にピロールを共 重合することによってポリマーに挿入することができる。このように、所望のポ リマーが得られる(第6化合物、図3)。 形成されたポリマー(ポリピロール)は導電性であるため、これらの反応は継 続し、数回の合成サイクルが行われる(各々のサイクルでの電気抵抗の変化は一 つのみである)。 B−方法 重合は、10-2Mピロール、5×10-7M置換ピロール、5’ピロール基を有 するオリゴヌクレオチド(オリゴ−1−pyr)及び0.1M LiClO4( ドーピング物質)からなる溶液中、白金電極60mm2上で行われる。 5’ピロールを有するオリゴヌクレオチド(第5化合物、オリゴ−1−pyr )を前述の実施例1に記載した方法によって合成し、逆相HPLCによって精製 する。ピロールを有さない同配列のオリゴヌクレオチド(オリゴ−1)は、負の 制御として働く。 これら2つの生成物は、共重合反応をより容易に監視するために、32Pで5’ 位をラベルした。 モノマーの酸化及びポリマーの還元の反応を、−0.4及び+0.9 V/E CS間での電位のサイクル変化によって与える。図4bは12以上の重合サイク ルのサイクリックボルタンメトリー曲線(電位の関数としての強度)を表す。 時間に関する電流の集積(電子消費量)は、電極表面上に形成されるポリマー の質量及び(5×10-2Cに対し0.2μmの次数の)膜厚を与える。 C−結果 *電解重合条件下でのオリゴヌクレオチドの安定性 電解重合に付した溶液中でのオリゴヌクレオチドのHPLCの調査では、後者 の分解は見られない。 *電位を付したオリゴヌクレオチドの実際の泳動 核酸は、電界中で移動可能なポリアニオン分子である。しかしながら、媒体中 に過塩素酸塩イオンが存在するため、泳動は観察されない。更に、オリゴヌクレ オチドの形成されたポリピロールへの吸着も測定することができない。 *共重合中のオリゴヌクレオチドの取込みの特異性及びレベル 1.ピロールの重合は、未変性オリゴヌクレオチド 1 オリゴ−1(TGT ACC TGA ATC GTC CGC CAT)の存在下で行われる。 オリゴ−1:反応媒体中で10-9M 支持体上のオリゴ−1:4×10-12molすなわち非特異的取込み0.4 % 2.重合は、変性オリゴヌクレオチド オリゴ−1−pyr(P TGT A CC TGA ATC GTC CGC CAT)の存在下で行われる。 オリゴ−1−pyr:反応媒体中で10-9M 支持体上のオリゴ−1−pyr:7.2×10-12mol、すなわち0.7 2%取込み 支持体上で検出されるオリゴヌクレオチド−ピロール44%は、ピロール基に よって効果的に結合する。しかしながら、電解重合溶液に0.2Mチミジン 5 ’リン酸塩を添加することにより、未変形オリゴヌクレオチドの結合が減少し、 次いで固定の特異性が80%に増加する。 *オリゴヌクレオチド−ピロールの電気化学反応性 出発原料溶液は、20,000ピロールモノマーにつき、1オリゴヌクレオチ ド−ピロールを含む。形成されたポリマーの質量及びオリゴヌクレオチド結合の 量を算定することにより、ポリマーが、60,000ピロール鎖単位につき、1 オリゴヌクレオチド−ピロールから構成されていると判断できる。 このようにオリゴヌクレオチド−ピロールを遊離ピロールより3倍少なく取り 入れ、これにより全く十分なレベルの取り込みを構成する。 *結合の密度 上記で概説した実験条件の下で、オリゴヌクレオチド5.3 pmol/cm2を結合させる。 ポリマー中に組み込まれたオリゴヌクレオチドの割合(1/60,000)は 、反応媒体中での[オリゴヌクレオチド−ピロール/ピロールモノマー]の比が 増大することにより、容易に改善することができる。これは、次の3つの異なっ た方法により達成することができる: ・オリゴヌクレオチドの量の増加; ・遊離ピロールの濃度の減少; ・反応容積の減少。 実施例3:本発明によるオリゴヌクレオチド−ポリピロールコポリマーの性質: ハイブリッド形成支持体としての核酸の使用 オリゴヌクレオチド オリゴ−を有するポリピロール支持体を、実施例2に述 べられた方法によって合成した。厚さ0.2μmの支持体を得るために5×10-2 Cと、厚さ0.6μmの支持体を得るために15×10-2Cの電荷まで電解重 合を行った。20mMのリン酸緩衝液pH7.4、300mMのNaCl、0. 5%のSDS中でハイブリッド形成反応を行う。同様の緩衝液、但し4倍に希薄 したものの中で洗浄する。これらの反応は全て室温で行われれる。 結果 グラフト化したオリゴヌクレオチドの影響の受け易さは、周囲の液体媒体中に おいて、32P−ラベルされた相補的オリゴヌクレオチドとハイブリット形成する ためのそれらの許容量で立 証できる。 a)ハイブリッド形成 2種の異なる厚み:(●)=厚さ0.2μmの支持体;(▲)=厚さ0.6μ mの支持体について、x軸にハイブリッド形成時間(分)及びy軸に32Pでラベ ルされた支持体と結合した相補的オリゴヌクレオチドの量(cpm)を表わす図 5に示すように、様々な厚さの支持体のハイブリッド形成の速度論は比較でき、 またハイブリッド形成容量の総量は支持体の厚さに比例する。 b)変性 重複の変性を連続的に監視することは可能であり、それによってハイブリッド 形成現象の可逆性を示される。図6a)及び6b)は、異なる厚さの支持体:( ●)=0.2μm;(▲)=0.6μm上で、電極上に残存するオリゴヌクレオ チドの量及び変性の比率を、洗浄温度(1分につき1℃の温度変動)の関数とし てそれぞれ図解している。 更に、オリゴヌクレオチド−ピロール支持体が、変性/復元サイクルに影響を 及ぼさないことは既に立証されている。 用いた実験条件下で、変性の最大比率は約60℃で達成される。これはオリゴ ヌクレオチドの理論融点(61.5℃)に相当する。 実施例4:ポリピロール支持体上のオリゴヌクレオチドのその場での合成 I.第1ヌクレオチドの結合 第1方法第13化合物の製造 反応機構を図7に示す。 支持体(第8化合物、図7)を、アセトニトリル中0.1MLiClO4の存 在において、ピロール及びアミノエチルピロール(10-2M/10-3M)溶液の 電解重合によって製造する。電解重合は、白金電極60mm2上で10-2M A g/Ag+に関して広範な−0.3V〜+0.85Vで起こる。 ・第11化合物の製造(図7) 第8化合物を無水アセトニトリル(2×5ml)で、次いで、アセトニトリル 中のトリエチルアミン(500μl/5ml)で洗浄する。 活性ヌクレオシド(第2化合物)10mgを無水アセトニトリル中で共蒸発に よって乾燥させ、無水アセトニトリル500μl中に取り出し、密封共栓フラス コ中で支持体を添加する。その混合物をゆるやかな機械的な撹拌の下で24時間 置く。支持体を除去し、アセトニトリルで、次いでトリチルの色が洗浄溶剤中で 消えるまでジクロロメタンで洗浄する。 ヌクレオチドと未反応の支持体のアミン基をブロックする必要がある。これは 、ピリジン中の無水酢酸/N−メチルイミダゾール混合物との“カッピング”( capping)によって行った。6時間反応はさせる。次いで機能支持体(第11化 合物)をピリジン3×10ml、アセトニトリル3×10ml及びジクロ ロメタン3×10mlで入念に連続的に洗浄する。 第2方法 反応機構は図8に示す。 ・第14化合物の製造(図8) アミノポリピロール(第8化合物)を無水アセトニトリル(2×5ml)で、 次いでアセトニトリル中のトリエチルアミン(500μl/5ml)で洗浄する 。活性ヌクレオシド(第2化合物)(20mg)を無水アセトニトリルとの共蒸 発で乾燥させ、次いで無水アセトニトリル1mlに吸収させ、密封共栓フラスコ 中で支持体(第8化合物)を添加する。この混合物をゆるやかな機械的な撹拌の 下で24時間放置する。グラフト化された支持体(第14化合物)をアセトニト リルで、次いでそれらの酸性化の間、トリチルの色が洗浄溶媒中で消えるまでジ クロロメタンで洗浄する。 ・第15化合物の製造(図8) ヌクレオシドによって供給された第2級アルコール基及び反応していない支持 体のアミン基をマスクしなければならない。このために、ピリジン(1ml)中 の無水酢酸/N−メチルイミダゾール混合物で6時間、ブロックを行った。ピリ ジン(2×5ml)、アセトニトリル(2×5ml)及びジクロロメタン(2× 5ml)の洗浄で、第15化合物が得られる。 II.オリゴヌクレオチドの伸長第12化合物の製造(図7) ・トリマーd(CCT)は、ポリピロールで被膜した白金電 極上で2つの方法によって製造された。: ・ホスホラミデート合成の通常サイクルによる化学的脱保護での合成、 ・電気化学的脱トリチル化での合成。 a)化学合成 以下の工程は必要な回数行われる。それぞれの工程はヌクレオチドの結合に関 する。これらの工程は図9に示される。 ・ジクロロメタン中、2%トリクロロ酢酸4×500μlと支持体の脱トリチ ル化、 ・試薬(5×1ml)を除去するためアセトニトリルでの洗浄、 ・DNA合成(3×1ml)のため無水アセトニトリルでの洗浄、 ・0.1Mホスホラミジト250μlと0.5Mテトラゾール250μlの添 加、 ・カップリング(2分)及びヌクレオチド溶液の除去、 ・アセトニトリル(5×1ml)での洗浄、 ・無水酢酸/メチルイミダゾールのキャッピング(500μl、1分)、 ・アセトニトリル(2×1ml)での洗浄、 ・ヨウ素/ルチジンでの酸化1分間(500μl、1分)、 ・アセトニトリル5×1mlでの洗浄、 ・脱トリチル化、及び新サイクルの開始、等。 各サイクル後、トリチルの測定は、それぞれ0.090OD /2ml(dT)、0.095OD/2ml(dCT)及び0.087OD/2 ml(dCCT)を与える。 b)電気化学的脱保護での合成 合成工程は、上記化学合成についてと同様である。しかし、脱トリチル化は1 .2Vの電位を5分間加えることにより行われる。 形成されたトリチル陽イオンが、測定からそれを引く陽極によって捕獲される ため、脱トリチル化は定量できない。しかしながら、カップリングサイクルを行 った。 ・第13化合物の製造(図7) ネジ山栓で閉じたガラス管中において、2mlのアンモニア水で支持体の開裂 及び保護基の除去をし、室温で48時間反応させる。 シリカカラム上に製造された対照は、支持体(t=4×1/2h)から分離す るために、アンモニア水4×250μlで脱保護される。次いで、そのアンモニ ア水を室温で48時間放置する。その溶液を蒸発させ、25cm C4カラムに よる5μmでの逆相クロマトグラフィーで分析する。A(25mM酢酸トリエチ ルアンモニウム、pH7)中で、B(25mM酢酸トリエチルアンモニウム、p H7及び50%アセトニトリル)の0〜30%の勾配が30分以上付される。 ・第16化合物の製造(図10) 第16化合物は、脱トリチル化ための類似の結果を有する第12化合物と同様 の方法に従って合成される。これは、スペー サー手の性質が化学合成にほとんど影響しないことを示す。 ・第17化合物の製造(図10) 第16化合物は、密封共栓フラスコ中の28%アンモニア水中で、室温で48 時間脱保護される。次いでジメトキシトリチル基は、3%トリクロロ酢酸(3× 3ml)で開裂され、オリゴヌクレオチドが依然支持体上にあることを立証する ために、測定した。 実施例5:微小電極上でのオリゴヌクレオチド−ピロール共重合 4つの白金線(1)(直径0.6mm)のガラスシリンダー(2)(直径5m m×高さ10mm)中への挿入によって、図11aに示す4つの電極のマトリッ クスを作る。電極の1つを対電極(3)に用いる。このマトリックス系は、各々 のマトリックス位置で種々のオリゴヌクレオチドを結合することを可能にさせる 。 電極マトリックスは、反応が行われる容器(4)の中に置かれ、そこには参照 電極(5)も浸漬される。 3つの作用電極は、ピロール及びハイブリッド形成、ヒトのラスH遺伝子のコ ドン61における突然変異によって検出可能なオリゴヌクレオチドからなるコポ リマーで連続的、電気化学的に被膜される。これら3つの5’ピロール基を有す るオリゴヌクレオチドは以下の通りである: ・正常オリゴ: 5’Pyr TCCTCCTGGCCGG 3’ ・A−突然変異オリゴ: 5’Pyr TCCTCCAGGCCGG 3’ ・C−突然変異オリゴ: 5’Pyr TCCTCCGGGCCGG 3’ 各オリゴヌクレオチドは、各電極上で実施例2で述べられた条件下で連続的に 共重合化される。しかし、反応容積は3mlに代えて300μlとする。 得られたボルタンモグラムを図11bに示す。((1)第1電極上での重合、 (2)第2電極上での重合、(3)第3電極上での重合)。これらのボルタンモ グラムは、減少電荷(charge reduite)(2〜4×10-4C、トップ曲線)及び 高電荷(forte charge)(1−1.3×10-3C、ボトム曲線)の両方において 非常に不変であり、非常に再現性がある。これらの条件下で、オリゴヌクレオチ ド6×10-14molを、0.1μmの膜厚(10-4Cの電荷)に対して0.3 mm2(すなわち18pmol/cm2)で結合させる。 ・3点マトリックス上でのハイブリッド形成による核酸の架橋突然変異の検出 長さ51のヌクレオチドの3つの核酸のフラグメントを、所望の天然ラスH突 然変異体を擬態するために用いる。 これら3つの核酸は、配列: ・正常ラスH:5’CTGTTGGACATCCTGGATGCCGGCCAG GAGGAGTACAGCGCCATGCG CGAC 3’ ・T−突然変異ラスH:5’CTGTTGGACATCCTGGATGCCGG CCTGGAGGAGTACAGCGCCATGCGCGAC 3’ ・G−突然変異ラスH:5’CTGTTGGACATCCTGGATGCCGG CCGGGAGGAGTACAGCGCCATGCGCGAC 3’を有する。 それらは、特に、マトリックス結合プローブとのハイブリッド形成、それぞれ 正常オリゴ、A−突然変異オリゴ及びC−突然変異オリゴにより認識される。 ハイブリッド形成反応は、20mMリン酸緩衝液、pH7.4、300mMの NaCl、32Pで5’位にラベルされ、検出されるべき核酸0.1pmolを含 む0.5%のSDS中において25℃で1時間行われる。次いで、マトリックス は同様の緩衝液中で35℃で洗浄される。検出は写真フィルム上でのマトリック スのオートラジオグラフィーによって行われる。このような条件下で、標的核酸 のハイブリッド形成は、厳密な相補的配列のオリゴヌクレオチドを有する電極で のみ行い、クロスハイブリッド形成は検出することはできない。 このように架橋突然変異の特定検出は、このマトリックスによって可能になる 。 実施例6:超微小電極の用途 図12に示したシステムは、ガラス板に配列された10金電 極で構成される。電極の幅は、10〜100μmに変化させてもよく、活性ゾー ン(溶液に浸漬させたゾーン)の長さは、2mm程度である。シリコン酸化物絶 縁基板上への金の選択的析出、次いで接合の分離によって、もう1つのシステム を製造した。このようにして、側長25〜200μmの平方電極からなるマトリ ックスを得る。 両方の場合において、実施例5に述べられた方法に従って、ピロール及びオリ ゴヌクレオチド−ピロールの共重合は各電極上で行われ、実施例2に述べられた ように、得られたポリピロールフィルムは良質で、その厚さは十分に制御するこ とができる。 実施例7:オリゴヌクレオチドのその場での合成:5’−TTCTGAGG−3 ’の電気化学的脱保護 合成は、形成されたオリゴヌクレオチドの二次分析の必要性のために開裂でき る手を有するアミノポリピロール支持体(第8化合物)上で行われる。 方法: ・5’−TTCTGAGG−3’の電気化学的脱保護の工程での5’−TTC TGAGG−3’の合成 オリゴヌクレオチドの3’位の端からの位置(5)に導入されたチミジンアミ デート(amidites)は、保護基がチオピキシルの時、+1.1Vで15分間、あ るいは保護基がp−ニトロベンゾイル基の時、−1.3Vで15分間の電位を加 えること によって脱保護される。他のヌクレオシドは、トリチル化したアミデートの形成 に導かれ、トリクロロ酢酸の脱トリチル化によって化学的に脱保護される。 1)p−ニトロベンゾイル基の保護 保護ヌクレオシドの製造工程を図13に示す。 ・p−ニトロベンゾイルチミジン(第21化合物:図13)の合成 チミジン(2.42g、10mmol)をピリジン中での共蒸発により乾燥さ せ、次いで無水ピリジン200ml中に取り出しに、4℃に冷却する。p−ニト ロベンゾイルクロライド(2.04g、11mmol)を添加する。温度を上げ 、室温で一晩反応させる。反応は飽和炭酸水素ナトリウム5mlで停止される。 反応混合物を濃縮し、次いでクロロホルム500ml中に取り出す。得られた有 機溶液は、0.5M NaHCO32×500mlで、次いで飽和NaCl25 0mlで洗浄される。水相はCHCl3100mlで逆抽出される。有機相を蒸 発させる。純粋な生成物は、シリカ上のカラムクロマトグラフィーにより得られ る。クロロホルム中の5%メタノールで溶出する。収率=58%。 ・p−ニトロベンゾイルチミジンアミデート(第22化合物:図13)の合成 第21化合物(1.96g、5mmol)及びジイソプロピルアンモニウムテ トラゾレート(428mg、2.5mmol)は、無水ジクロロメタン/アセト ニトリル溶媒を用いる共 蒸発により乾燥される。これらの反応物は、無水ジクロロメタン25ml中に取 り出され、ビス(ジイソプロピルアミノシアノエトキシ)ホスフィン(1.8g 、6mmol)を添加する。2時間(無酸素、無湿気で)反応後、反応混合物は 、ジクロロメタン250mlで希釈され、0.5M炭酸水素ナトリウム2×25 0mlで、及び飽和塩化ナトリウム250mlで連続的に洗浄される。有機相を 蒸発させる。残留物をジクロロメタン10ml中に取り出す。生成物(第22化 合物)は、ヘキサン中の沈殿によって得られ、次いで真空下で乾燥させ、アルゴ ン中に貯蔵される。収率=84%。 2)チオピキシル基での保護 保護ヌクレオシドの製造工程を図14に示す。 ・チオピキシルチミジン(第23化合物:図14)の合成 チミジン(2.42g、10mmol)をピリジン中で共蒸発により乾燥させ 、無水ピリジン100mlに吸収させ、4℃まで冷却し、チオピキシルクロライ ド(3.4g、11mmol)と反応させる。温度を室温まで徐々に上昇させた 後、反応を続けて一晩(約8〜12時間)置く。反応は、NaCHO310ml で停止させる。溶媒を蒸発させ、残留物をジクロロメタン250ml中に取り出 す。得られた有機溶液を飽和NaHCO32×250mlで、次いで蒸留水25 0mlで抽出する。水相は、クロロホルム100mlで逆抽出される。有機相を 蒸発させる。生成物を溶媒中の0.5%TEA(トリエチルアミン)と共にシリ カカラムで精製する。最後にジクロロメタン (+0.5%TEA)中のメタノール5%で溶出する。収率=52%。 ・チオピキシルチミジンアミデート(第24化合物;図14)の合成 第24化合物は、第22化合物と同様の方法に従って、第23化合物(5mm ol)から製造される。収率=78%。 3)第1ヌクレオシドの結合 この結合工程を図15に示す。 このオリゴヌクレオチドは、共重合させたピロールとアミノエチルピロール( 9:1)の混合物上の白金(3×10mm)のストリップ上で合成される。 第1ヌクレオシド(1−3’位の端)は、活性化したエステル、N−イソブチ リル 2’デオキシグアノジン(第25化合物:図13a)で開始され、シリカ 支持体をより機能的にすることを述べた方法〔ケー.ミヨシら、ヌクレイック アシッド レス.(K.MIYOSHI et al.,Nucleic Acids Res.)、8巻、22号、54 73〜5489頁、1989年〕に従って、アミノエチルピロール(第8化合物)とカップ リングさせる。 第26化合物(10mg)をアセトニトリル500μlに溶解させる。機能化 したポリピロールで被覆した白金電極、及びトリエチルアミン1μlを添加する 。反応は、室温で20時間機械的に撹拌させる。グラフト化電極(第26化合物 )を除去し、アセトニトリルで、次いでジクロロメタンで入念に洗浄する。 未反応のアミン基を無水酢酸(ピリジン500μl中50%)と6時間ブロッ クする。グラフト化電極をピリジン及びメタノールで洗浄し、次いで乾燥させる 。 4)オリゴヌクレオチド dTTCTGAGGの合成 オシステムズ(APPLIED BIOSYSTEMS))に置く。充填は残留物量を最小にするた めのテフロンチップで終える。製造業者(アプライド バイオシステムズ(APPL IED BIOSYSTEMS))の使用説明書に従い、381A合成機において“1μmol サイクル”で、2、3及び4位のヌクレオシドを添加する。各工程間のジメトキ シトリチル基の化学的脱保護は、製造業者の推奨する条件下で、ジクロロメタン 中TCAで行われる。 5位のアミデート(第22化合物あるいは第24化合物)を1分間カップリン グする正常アミデートと同様の方法に従って、カップリングする。製造したホス フィートトリエステル結合の酸化及びカッピングは、通常の方法に従って行われ る。電極はカラムから除去され、電気化学的脱保護が行われる。 第22化合物を用いるならば、p−ニトロベンゾイル基は、次の電解質、メタ ノール中の0.1Mテトラブチルアンモニウムペルクロレートで電極を浸すこと により、及び−1.3Vの電位を15分間印加することにより開裂される。 第24化合物を用いるならば、チオピキシルは、アセトニトリル中の0.1M テトラブチルアンモニウムペルクロレートの電解質で、+1.1Vの電位を1 5分間印加することにより 開裂される。 両方の場合において、5’位のTヌクレオシドの保護基の開裂後、テフロンチ ップを有するカラム中に再び電極を置き、アミデートC(6位)、T(7位)及 びT(8位)を連続的に添加することにより合成が続けられる。 合成終了時、オリゴヌクレオチドは支持体から開裂される。電極は、共栓フラ スコ中の28%アンモニア水4×500μlで、4×1/2時間処理される。こ の4留分は、共栓の4mlホイートンフラスコ(flacon WHEATON)で合わされ、 オリゴヌクレオチドを脱保護するために55℃で16時間置かれる。 TEA存在下での共蒸発後、得られたオリゴヌクレオチドの1部分(1/10 0)は、ポリヌクレオチドキナーゼの存在下で32Pで5’位にラベルされ、次い でポリアクリルアミドゲル電気泳動により分析される。アクリルアミドゲル電気 泳動分析は、所望の生成物(8量体)の存在、及びオリゴヌクレオチド(5量体 )の欠如、チミジンアミデートの電気化学脱保護が不十分なことを意味する存在 を示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI C25B 11/12 9046−4K C25B 11/12 (72)発明者 リバシュ,チエリ フランス国、38000 グルノーブル、リュ フェリックス エスクラニョン 22 (72)発明者 バルテ,クリステル フランス国、38600 フォンテーヌ、リュ ドゥ シャルメット 7 (72)発明者 ビダン,ジェラール フランス国、38100 グルノーブル、リュ ドゥ トロア ゼピ 3

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.一般式(I) (式中、単位Aは導電性ポリマーのモノマーを表し、単位Bはヌクレオチド、オ リゴヌクレオチド又はそれらの類自体の一つを表し、x,y及びzは1又は1以 上の整数、或いはyは0表し、lは共有結合又はスペーサー手を表す。)のコポ リマー。 2.Aが、ポリアセチレン、ポリアジン、ポリ(p−フェニレン)、ポリ(p− フェニレンビニレン)、ポリピレン、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリフラ ン、ポリセレノフェン、ポリピリダジン、ポリカルバゾール及びポリアニリンか らなる群から選択されるECPのモノマー単位である請求項1記載のコポリマー 。 3.Aが、ポリピロール単位である請求項2記載のコポリマー。 4.x/y比が、1/5と1/100,000の間である請求項1〜3のいずれ か1つに記載のコポリマー。 5.lが、下記の式 −R1−[(CH2)n−R2x−[(CH2)m−R3y−(CH2)p− 〔式中、 ・nは1〜10の整数、 ・mは0又は1〜10の整数、 ・pは0又は1〜10の整数、 ・xは0又は1〜8の整数、 ・yは0又は1〜8の整数、 ・R1、R2及びR3は、同一又は異なっていてもよい、 CH2、O、S、NR′、CO、CH=CH、NR′CO、CONR′、NHS O2(式中、R′は水素原子又はC1〜C12アルキル鎖を表す)を示す〕に対応する スペーサ手である請求項1〜4のいずれか1つに記載のコポリマー。 6.少なくとも以下の工程、 ・一般式(II) −〔A*x−〔A〕y− (II) (式中、A,x及びyは請求項1と同義、及びA*は官能化Aを表す)のコポリ マーを製造する第1工程、 ・式(II)のポリマーに、一般式(III) l*−〔B〕z (III) (式中、B及びzは上記定義と同義、l*はA*に結合することができる活性化手 である。)の少なくとも1つの基のコポリ マーを結合する第2工程、 からなる請求項1〜5のいずれか1つに記載の一般式(I)のコポリマーの製造 方法。 7.一般式(II)のコポリマーの製造のための工程及び/又は一般式(III)の 基の結合のための工程が、電気化学的反応によって行われる請求項6記載の製造 方法。 8.少なくとも以下の工程、 ・一般式(IV) (式中、A、B、z及びlは上記定義と同義である。) の化合物を製造する工程a) ・化合物(IV)をモノマーAと共重合する工程b)、 からなる請求項1〜5のいずれか1つに記載の一般式(I)のコポリマーの製造 方法。 9.工程b)が、化合物(IV)とモノマーAとの電気化学的共重合によって行わ れる請求項8記載の製造方法。 10.Bzが、いくつかの後続する工程において、さらに伸長し、これら工程の それぞれが、1つ以上の単位Bの結合からなる請求項6〜9のいずれか1つに記 載の製造方法。 11.Bzの伸長が、一連の電気化学的反応を伴う請求項10 記載の製造方法。 12.電極表面上で行われる請求項7、9及び11いずれか1つに記載の製造方 法。 13.少なくとも1つのヌクレオチド、或いは少なくとも1つのオリゴヌクレオ チドを共有結合によって、結合した支持体の導電性ポリマーの用途。 14.ポリヌクレオチドが、支持体に合成された請求項1〜5のいずれか1つに 記載のコポリマーの用途。 15.ハイブリット形成が、核酸に支持される請求項1〜5のいずれか1つに記 載のコポリマーの用途。 16.表面が、式(I)のコポリマーを有するコーティングからなる請求項1〜 5のいずれか1つに記載の電極。 17.同一又は異なってもよい請求項16記載の1つ以上の電極からなる装置で 、核酸合成及びハイブリット形成反応を提供する装置。 18.いくつかの電極が、それぞれ異なった基Bzを有する少なくとも2つから なる請求項17記載の装置。
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