JPH08506899A - ゴニオメータ - Google Patents

ゴニオメータ

Info

Publication number
JPH08506899A
JPH08506899A JP6518633A JP51863394A JPH08506899A JP H08506899 A JPH08506899 A JP H08506899A JP 6518633 A JP6518633 A JP 6518633A JP 51863394 A JP51863394 A JP 51863394A JP H08506899 A JPH08506899 A JP H08506899A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
detector
goniometer
sample
fluorescence
bragg
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP6518633A
Other languages
English (en)
Inventor
ハンス−ヴォルフガング グリュニンガー,
Original Assignee
ダイムラー−ベンツ アクチエンゲゼルシャフト
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ダイムラー−ベンツ アクチエンゲゼルシャフト filed Critical ダイムラー−ベンツ アクチエンゲゼルシャフト
Publication of JPH08506899A publication Critical patent/JPH08506899A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/22Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
    • G01N23/2204Specimen supports therefor; Sample conveying means therefore
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/20Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials
    • G01N23/20008Constructional details of analysers, e.g. characterised by X-ray source, detector or optical system; Accessories therefor; Preparing specimens therefor
    • G01N23/20016Goniometers

Abstract

(57)【要約】 被検結晶試料を旋回させることができる複数の軸と、放射源と、ブラッグ反射用の検出器と、蛍光放射用の検出器とを有し、格子形状及び化学組成の同時測定を可能にするゴニオメータにおいて、ホルダ(1)内に固定された、蛍光放射用の検出器(2)はその表面が試料(3)に対して平行に広がり、かつ反射が旋回可能なアーム(5)内に固定されたブラッグ検出器(6)で及び蛍光放射が蛍光検出器(2)で同時に観察可能であるように、試料(3)と共に旋回可能に試料台(4)に固定されている。

Description

【発明の詳細な説明】 ゴニオメータ 本発明は、請求項1記載の上位概念に基づくゴニオメータに関する。 このようなゴニオメータは、結晶質物質の構造分析にために公知である。一般 に、格子定数、結晶配向(多くの物質の場合には集合組織)が測定される。主な 放射は、銅、モリブデン及びその他の金属のKa線のX線放射である。このため に使用されるゴニオメータは、放射源と、3つの軸を中心に旋回可能でありかつ 試料が固定される試料台と、アームに固定されかつ反射が予測される空間の部分 を走査することができる検出器とからなる。 C.Malgrange及びC.Ferret著“Nuclear instruments and Methods in Physic s Research A 314(1992)p.285-296,North-Holland”の“X-ray standing wav e technique - Application to the study of surfaces and interfaces”から 、結晶内部及び結晶面上の原子の局在化を測定することができる方法が公知であ る。この場合、ブラッグ(Bragg)反射の際に生じる波が発生し、該波が格子に 付着した又は埋め込まれた原子の蛍光放射の強度の励起を惹起するという事実が 利用される。 ブラッグ範囲内部の角度位置に依存する蛍光強度の変動は、異種原子の立体座 標を測定することを可能にする。3つの線形で依存しないブラッグ反射から、異 種原子の3つの立体座標、ひいてはホスト格子内の正確な局在化が求められる。 しかしながら、実際には、異種原子の3つの全ての立体座標を測定することは 困難であることが判明した。この理由はしばしば装置的実情にある。該試料は、 同一面でない格子面が反射されないように、空間内の3つの軸を中心に旋回可能 であるべきである。ロッキング曲線を通過する際に発生する蛍光放射はしばしば 極めて弱いので、この放射を記録するためにエネルギー分散形検出器は試料表面 に接近して設置されねばならない。 液体窒素で冷却されるSi(Li)又はGe(Li)半導体検出器である当該 の検出器はかさばりかつ重い。従って、これらは個々の検出器の立体的交差のた めに試料に十分に接近させて設置することはできない。 しかし、この方法のために利用される装置は操作がめんどうであり、かつ与え られる立体角の全体を検出器のために利用しない。 本発明の基礎とした課題は、請求項1の上位概念に記載のゴニオメータを、手 ごろで操作しやすくかつすぐに使用できるように構成することであった。機能は 容易に制御されかつ与えられる全ての立体角範囲を通過可能であるべきである。 さらに、検出器の効果的かつ場所を取らない冷却が考慮されるべきであった。 前記課題は、請求項1の特徴部に記載の特徴を有する本発明により解決される 。 請求項1記載の対象は、特に、蛍光検出器を、可動にも構成される、スペース を取らない軽量の冷却装置を用いて、該蛍光検出器が固定されたゴニオメータで 連行することができるという利点を有する。この冷却装置は冷媒のための補充容 器を必要とせずかつ即座に使用可能でる。さらに、該冷却装置は、小さい検出器 端面にも適合し、ひいては試料の近くに設置することを可能にする。 本発明は、単結晶の格子面への原子の吸着された単層の構造測定のためにも好 適である。本方法は、蛍光を発する原子の3つの全ての立体座標を測定すること を可能にする。 請求項1記載の対象の有利な実施態様は、請求項2以降に記載されている。そ れにより、1回又は最高2回の通過でブラッグ散乱及び蛍光散乱のための立体角 度範囲の全体を測定することができる。この場合ゴニオメータの改造は最低に制 限される。それというのも、蛍光検出器の陰になる部分を今やブラッグ検出器に よって検出するために、蛍光検出器の最大1回の移動が必要であるからである。 放射検出器の小型化により、以下のことを達成することができる:体積及び視 野が十分に減少されることにより、検出器を試料と共に3つの軸を中心に旋回可 能な試料ホルダに固定し、ひいては検出器を検査すべき表面に接近させて設置す ることを可能にする。 該小型化は第一に冷却装置に関する。小型の電気駆動される冷却装置、例えば スターリング(Stirling)原理に基づき作動する冷却装置は、その構造大きさが 小さいために特に有利である。液体N2の供給が不必要である。半導体検出器は 、前増幅器と共に冷却フィンガにマウントされている。冷気遮断のための真空ジ ャケットは、放射のための入射窓を有している。 殆ど完全な単結晶のロッキング曲線の低い半値幅のために、高解像力のX線ゴ ニオメータのみを使用することができる。試料を空間内に配向すべきであるので 、ゴニオメータとしては4リングゴニオメータを使用するのが有利である。適す る検出器を、今や、測定の要求に相応して、試料ホルダの3つの軸の1つだけに 固定することができる。最も融通性のある解決手段は、まさにこのようなギフフ ラックショメータ(Gifffraktiometer)のX(Chi)リングに固定することであ る。試料を運動させる際に、検出器は試料の表面に対して一定の位置に残る。ま た、この装置の場合には、回折形状は最低の影響を受ける。検出器からの試料表 面までの距離を調整するための装置が設けられるべき である。Φ(Phi)又はΘ(Theta)軸に検出器を固定するのも有利である。しか しながら、該検出器は試料を運動させる際に場合によっては切り換えねばならな い。 次に実施例につき図面にを参照して本発明を詳細に説明する。図面は、本発明 に基づき改変されたゴニオメータを示す。試料3は試料台4に固定されかつ3つ の軸でこの場合には右から入射する放射に対して旋回させることができる。 通常、アーム5上で可動でありかつ与えられる空間を操作するブラッグ検出器 6が設けられている。この走査は有利にはステップモータ及びアングルデコーダ によって行われる。蛍光検出器2は前増幅器の最初の段で冷却フィンガ7に固定 されており、該冷却フィンガ7にはコンプレッサ8から冷媒が供給される。蛍光 検出器2は、そのホルダ1で試料台4(Φリング)に、試料台と一緒に旋回され るように固定されている。ホルダ1に固定された検出器2は、その表面が有利に は試料3に対して平行に広がりかつ該試料の可能な限り近くに設置されている。 本発明の有利な1実施態様では、蛍光検出器2を矢印(図面参照)の方向に移動 させることにより、試料3からの距離を可能な限り小さく選択しかつ入射及び出 射角度を、放射が試料に達しかつそこからブラッグ検出器6に到達するように合 わせることができる。 蛍光検出器2は、場合によってはブラッグ検出器6の測定過程を妨害する。従 って、本発明のもう1つの有利な実施態様では、蛍光検出器を幾分か側方に旋回 させ、所望の立体角範囲を今やブラッグ検出器6によって2回目の通過により検 出することができるようにすることを提案する。ブラッグ反射の対称のために、 もちろん、半空間全体を測定することは不必要である。もっぱら立体角の全体の 1/4からの情報が必要でありかつその際蛍光放射はその他のアクセス可能な立 体角範囲から測定ことができる。 それに対して選択的に、蛍光検出器を旋回可能なアーム10(Xリング)に固 定することもできる。 光源9としては、X線管を使用することができる。しかしながら、強度のため に、シンクロトロン放射器を使用するのが特に有利である。この場合にも、同じ 装置を使用することができる。 蛍光検出器は、リチウムドリフトされたシリコン又はゲルマニウム結晶からな り、該結晶は冷却フィンガに固定されて真空化したケーシングに封入されている 。X線シリコン放射は、ベリリウム結晶を経て真空室内の検出器結晶に入射する 。該結晶も、前増幅器の最初の段と同様に冷却される。検出器結晶は、可能な限 り直接その背面で冷却フィンガに固定される。ここで使用されるスターリング冷 却装置は、短時間で−170℃以下に達することができる。 結晶試料での測定プロセスを説明する。まず、選択した反射のロッキング曲線 (ブラッグ−ピーク)を測定し、かつそこからピークの正確な位置ΘB及び半値 幅 ΘBを決定する。2回目の走行で、角範囲ΘB+ΘBを小さな角度ステップで 走行させかつ励起した異種原子の蛍光放射を4チャンネル分析器で記録する。次 いで、角度位置に依存した放射の強度経過から、文献(Malfrange et al.)に記 載されているように,蛍光を発生する原子の位置座標を反射の格子面に対して垂 直な方向で測定することができる。 この手順を2つの別の無関係な反射で繰り返すことにより、ホスト格子内部の 原子を立体的固定に対する3の座標が得られる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.被検結晶試料を旋回させることができる複数の軸と、放射源と、ブラッグ反 射用の検出器と、蛍光放射用の検出器とを有し、格子形状及び化学組成の同時測 定を可能にするゴニオメータにおいて、ホルダ(1)内に固定された、蛍光放射 用の検出器(2)はその表面が試料(3)に対して平行に広がり、かつ反射が旋 回可能なアーム(5)内に固定されたブラッグ検出器(6)で及び蛍光放射が蛍 光検出器(2)で同時に観察可能であるように、試料(3)と共に旋回可能に試 料台(4)に固定されていることを特徴とするゴニオメータ。 2.蛍光検出器(2)がそのホルダで、ブラッグ検出器(6)によって既に検出 された新たな位置に移動せしめられていることにより、蛍光検出器によって検出 された立体角範囲がブラッグ検出器(6)によって第2の測定通過によりアクセ ス可能である、請求項1記載のゴニオメータ。 3.測定装置に面した半空間内で試料(3)から放出される放射に関する調査を 、蛍光検出器(2)が下方半空間からの蛍光放射を測定している間に、ブラッグ 検出器(6)が上方半空間を掃引するように実施する、請求項1記載のゴニオメ ータ。 4.試料(3)から蛍光検出器(2)までの距離がま さに、入射及びブラッグ反射が隠蔽されない大きさである、請求項1記載のゴニ オメータ。 5.放射源としてX線管が使用されている、請求項1から4までのいずれか1項 記載のゴニオメータ。 6.シンクロトロン放射器が使用されている、請求項1から4までのいずれか1 項記載のゴニオメータ。 7.蛍光検出器(2)が、その端面側に固定された冷却フィンガ(7)で少なく とも−70℃以下に冷却される、請求項1から6までのいずれか1項記載のゴニ オメータ。 8.スターリング冷却装置が使用されている、請求項1から7までのいずれか1 項記載のゴニオメータ。 9.蛍光検出器(2)が可能な限り小さく保持されかつ可能な限り小さい間隔で 試料(3)に向けられている、請求項1から8までのいずれか1項記載のゴニオ メータ。 10.冷却フィンガ(7)内にスターリング素子が配置され、該スターリング素子 が冷媒の断熱的放圧を惹起し、導管を介して冷却フィンガ(7)に圧縮ガスが供 給されかつ放圧されたガスが同じ導管を介してコンプレッサに戻される、請求項 1から9までのいずれか1項記載のゴニオメータ。
JP6518633A 1993-02-18 1994-02-16 ゴニオメータ Pending JPH08506899A (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE4304938A DE4304938C2 (de) 1993-02-18 1993-02-18 Goniometer mit mehreren Achsen
DE4304938.9 1993-02-18
PCT/EP1994/000442 WO1994019682A1 (de) 1993-02-18 1994-02-16 Goniometer

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH08506899A true JPH08506899A (ja) 1996-07-23

Family

ID=6480753

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6518633A Pending JPH08506899A (ja) 1993-02-18 1994-02-16 ゴニオメータ

Country Status (5)

Country Link
US (1) US5640437A (ja)
EP (1) EP0685067B1 (ja)
JP (1) JPH08506899A (ja)
DE (2) DE4304938C2 (ja)
WO (1) WO1994019682A1 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012255769A (ja) * 2011-05-13 2012-12-27 Rigaku Corp 複合x線分析装置
JP2018136305A (ja) * 2016-12-14 2018-08-30 ブルーカー アーイクスエス ゲーエムベーハーBruker AXS GmbH ゴニオメータのディテクタサークルにおいてモータ駆動トルク補償を行なうx線装置

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4304938C2 (de) * 1993-02-18 1996-04-25 Daimler Benz Ag Goniometer mit mehreren Achsen
GB0209558D0 (en) * 2002-04-26 2002-06-05 Council Cent Lab Res Councils Goniometer sample holder for aligning a sample to a radiation beam
DE10233950A1 (de) * 2002-07-25 2004-02-19 Siemens Ag Positionierungsgerät
US6888920B2 (en) * 2002-09-03 2005-05-03 Basil Eric Blank Low-cost, high precision goniometric stage for x-ray diffractography
US7059711B2 (en) * 2003-02-07 2006-06-13 Canon Kabushiki Kaisha Dielectric film structure, piezoelectric actuator using dielectric element film structure and ink jet head
JP5152199B2 (ja) * 2007-12-19 2013-02-27 旭硝子株式会社 エーテル組成物
US8259901B1 (en) 2010-05-25 2012-09-04 Rubicon Technology, Inc. Intelligent machines and process for production of monocrystalline products with goniometer continual feedback
DE102014208295A1 (de) * 2014-05-02 2015-11-05 Bruker Nano Gmbh Verfahren und Anordnung zur Identifikation kristalliner Phasen sowie ein entsprechendes Computerprogramm und ein entsprechendes computerlesbares Speichermedium

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3344274A (en) * 1967-09-26 Ray analysis apparatus having both diffraction amd spectrometer tubes mounted on a common housing
IL41592A (en) * 1973-02-20 1976-02-29 Tech Res & Dev Found Ltd X-ray spectrodiffractometer
US4263510A (en) * 1979-07-30 1981-04-21 General Electric Company Combined x-ray diffraction and fluorescence spectroscopy apparatus with environmentally controllable chamber
EP0197157B1 (en) * 1984-10-05 1991-07-10 Kawasaki Steel Corporation Method of determining thickness and composition of alloy film
DE3441539A1 (de) * 1984-11-14 1986-05-15 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Mehrkreis-roentgen-spektro-diffraktometer = roentgenautomat
EP0183043B1 (de) * 1984-10-22 1989-09-27 Siemens Aktiengesellschaft Einrichtung zur Röntgenanalyse
FI80524C (fi) * 1986-06-02 1990-06-11 Outokumpu Oy Foerfarande och anordning foer analysering av slamartade material.
US4959848A (en) * 1987-12-16 1990-09-25 Axic Inc. Apparatus for the measurement of the thickness and concentration of elements in thin films by means of X-ray analysis
JP2583084B2 (ja) * 1987-12-17 1997-02-19 日本合成化学工業株式会社 汚物収容容器
US5249216B1 (en) * 1989-10-19 1996-11-05 Sumitomo Electric Industries Total reflection x-ray fluorescence apparatus
US5369275A (en) * 1991-07-11 1994-11-29 International Superconductivity Technology Center Apparatus for solid surface analysis using X-ray spectroscopy
GB9223592D0 (en) * 1992-11-11 1992-12-23 Fisons Plc X-ray analysis apparatus
DE4304938C2 (de) * 1993-02-18 1996-04-25 Daimler Benz Ag Goniometer mit mehreren Achsen

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012255769A (ja) * 2011-05-13 2012-12-27 Rigaku Corp 複合x線分析装置
JP2018136305A (ja) * 2016-12-14 2018-08-30 ブルーカー アーイクスエス ゲーエムベーハーBruker AXS GmbH ゴニオメータのディテクタサークルにおいてモータ駆動トルク補償を行なうx線装置

Also Published As

Publication number Publication date
EP0685067A1 (de) 1995-12-06
DE4304938A1 (de) 1994-08-25
US5640437A (en) 1997-06-17
EP0685067B1 (de) 1997-01-08
WO1994019682A1 (de) 1994-09-01
DE59401540D1 (en) 1997-02-20
DE4304938C2 (de) 1996-04-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9823203B2 (en) X-ray surface analysis and measurement apparatus
US9594036B2 (en) X-ray surface analysis and measurement apparatus
TWI414752B (zh) 用於分析樣本之裝置及方法
US6882739B2 (en) Method and apparatus for rapid grain size analysis of polycrystalline materials
US7796726B1 (en) Instrument and method for X-ray diffraction, fluorescence, and crystal texture analysis without sample preparation
JPH05188019A (ja) X線複合分析装置
JPH08506899A (ja) ゴニオメータ
JP5031215B2 (ja) 多機能x線分析システム
KR100990592B1 (ko) 회절 분석기 및 회절 분석 방법
US11796492B2 (en) Apparatuses and methods for combined simultaneous analyses of materials
JP3821414B2 (ja) X線回折分析方法及びx線回折分析装置
JPH06258260A (ja) X線回折装置
JP2821585B2 (ja) 面内分布測定方法及び装置
US3344274A (en) Ray analysis apparatus having both diffraction amd spectrometer tubes mounted on a common housing
RU2419088C1 (ru) Рентгеновский спектрометр
JPH05196583A (ja) 全反射x線分析装置
EP0697109B1 (en) X-ray spectrometer with a grazing take-off angle
US3702933A (en) Device and method for determining x-ray reflection efficiency of optical surfaces
JPH0792112A (ja) X線評価装置
US20040151281A1 (en) Methods and devices for aligning and determining the focusing characteristics of x-ray optics
Dhez et al. Tests Of Short Period X-Ray Multilayer Mirrors Using A Position Sensitive Proportional Counter
JP3197104B2 (ja) X線解析装置
CN219737335U (zh) 一种弧形探测器机构及x射线衍射-荧光谱仪
JP2525791B2 (ja) 反射電子エネルギ−損失微細構造測定方法
JP3287069B2 (ja) 全反射蛍光x線分析の測定方法及びその装置