JPH08506757A - 高度に活性なドープした金属担持触媒の製造方法 - Google Patents

高度に活性なドープした金属担持触媒の製造方法

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Abstract

(57)【要約】 本発明は有機または無機の担体物質と触媒金属前駆体から高度に活性なドープした担持触媒を製造する方法に関し、周期律表6、7、8、9、10および/または11族の少なくとも一つの金属の金属粒子、金属クラスター、または金属コロイドの形の形の触媒金属前駆体で被覆する操作に先立って、または同時に、溶媒存在下に周期律表4、5および/または6族の少なくとも一つの金属の低原子価の容易に分解可能な金属化合物で担体物質をドープし(触媒金属前駆体の金属と低原子価金属化合物の金属は周期律表の異なった族に由来する。)、次に任意的に酸素で後処理し、すべての工程は−18℃〜+25℃の温度で行う、ことを特徴とする。本発明はさらにそのような方法によって製造された触媒の使用に関する。

Description

【発明の詳細な説明】 高度に活性なドープした金属担持触媒の製造方法 本発明は高度に活性なドープした周期律表6〜11族の金属の担持触媒の製造 方法およびその方法により製造した触媒の使用に関する。 不均一金属触媒の活性は、粒径、粒子の担体上での均一な分布、および不完全 な結晶構造の形成に依存する。不均一金属触媒の古典的な製造方法は浸漬(含浸 )および沈澱である。 含浸法によれば、金属塩を吸着させ、過剰の溶液を除去し、触媒前駆体を乾燥 する。300℃〜500℃での空気中における次の焼成によって吸着した金属塩 の酸化性生成物への変換が行われる。生じた金属酸化物を還元により活性化させ ねばならない。この方法では活性成分の大部分は担体粒子の内部に拡散し、した がって基質に、特に液相反応では接近できなくなる。 この欠点は金属成分を担体上に沈澱させることにより除くことができる。理想 的な場合では、活性成分は担体粒子上で薄層を形成する(殻構造)。担体粒子上 への分布の精巧さの一つの尺度は、%で表した表面金属原子の全金属原子に対す る割合である(分散性){ジェー・ティー・リチャードソン(J.T.Richardson )、プリンシプルズ・オブ・キャタリスト・ディベロップメント(Principles ofCatalyst Development)、プレナム・プレス、ニューヨーク(1989)、 162ページ}。上記の沈澱法の欠点は、担体上への活性成分の非常に不均一な 局部的分布、および非常に広い粒径分布である(図1)。 原子状金属の分布も担体上で可能である。しかしながらそのような“単原子的 に”被覆された担体触媒は水素化において全く不活性であることが証明されてい る。それらは化学吸着および水素の触離への傾向を示さない{ダブリュー・エフ ・グレイドン(W.F.Graydon)等、ジャーナル・オブ・キャタリシス(J.Cata l.)、69巻(1981)、180〜192ページ}。粒子の金属の性質が増 加するのはクラスターの大きさが増加する場合のみである{ジー・シュミット( G.Schmid)、アスペクツ・オブ・ホモジニアス・キャタリシス、(Aspects of Hom ogeneous Catalysis)7巻(1991)、1〜36ページ}。水素の吸着的解裂 を達成できる最小の粒径は、金属原子の配列によって影響される限界値を表す{ エッチ・ジェンチュ(H.Gentsch)、エッセネル・ウニフェルシテーツベリッヒ テ(Essener Universitatsberichte)、1巻(1989)、30〜34ページ }。白金およびニッケルの場合、これらの最小集合体は12個の金属原子を含む 。 本発明の目的は、温和な条件下での、特に熱的なストレスを避けることによる 、高度に分散性の金属、クラスター当り決まった数の金属を含む容易に分解可能 な有機金属クラスター、または上述した粒径の孤立した金属および/または合金 コロイドの担体表面への析出による、狭い粒度分布を有する金属粒子で担体粒子 を均一に被覆することである。 表面に反応的に容易に結合できる有機金属試薬を用いる多くの試みがこの目的 のために行われている{キャタリスト・デザイン(Catalyst Design)、71ペ ージ以降;エム・イチカワ、ジャーナル・オブ・ケミカルソサエティ・ケミカル ・コミュニケーションズ(J.Chem.Soc.Chem.Commun.)、1976、26ペ ージ;ワイ・エルマコフ(Y.Yermakov)、キャタリシス・レビュー:サイエン ス・アンド・エンジニアリング(Catal.Rev.Sci.Engl.)、13巻(197 6)、77ページ}。しかしながら実際問題として有機リガンドを定められた方 法で温和な条件下で取除くのは困難であることが示された。遷移金属の単核また は有機金属錯体の表面上での分解により高度に分散性の金属が作られるのは事実 である。しかしながら表面上でそれから形成される集合体は小さいので、それら は最適の触媒作用を示すことができない。例えば活性炭に反応的に固定され、次 に熱的に分解されたパラジウム錯体[C35PdC55](粒径40nm以下)は ビニルアセチレンの水素化において弱い活性のみを与える。より大きい活性な金 属集合体はその一次的な粒子を200℃〜600℃で水素雰囲気中で焼結した後 にのみ得られる{ワイ・エー・リンディン(Y.A.Ryndin)等、アプライド・キ ャタリシス(Appl.Catal.)、54巻(1989)、277〜288ページ} 。しかし大きい熱的なストレスは商業的に望ましくない広い粒径分布を表面に生 じさせ る{ビー・シー・ゲイツ(B.C.Gates)等、メタル・クラスターズ・イン・キ ャタリシス(Matal Clusters in Catalysis)、エルセビア(Elsevier)、ア ムステルダム、1986;ワイ・イワサワ編、テイラード・メタル・キャタリス ト(Tailored Metal Catalysts)、ライデル、ドルドレヒト、1985;ワイ ・イワサワ、ジャーナル・オブ・モレキュラー・キャタリスト(J.Mol.Cataly sts.)、35巻(1987)、187ページ;ビー・シー・ゲイツ等、同52 巻(1989)、1ページ}。 有機金属クラスター化合物の担体上での分解が、狭い粒径分布で十分に集合し た金属粒子を先駆的に得るために提案されている。それにより、よく明らかにさ れたクラスターは表面上に得られていない{ケー・ジェー・クラブンデ(K.J. Klabunde)等、ケミ・マテル(Chem.Mater.)、3巻(1991)、31ペー ジ}。 高度に分散性の金属の、金属クラスターの、および金属コロイドの表面に均一 的に精巧に分布した温和な条件下における選択的沈澱が、初めの遷移金属の容易 に分解可能な低原子価の化合物をドープすることによりなし遂げることができる ことが驚くべきことに今見出された。 したがって本発明は有機または無機の担体物質と触媒金属前駆体から高度に活 性なドープした金属担持触媒を製造する方法に関し、この方法は、周期律表6、 7、8、9、10および/または11族の少なくとも一つの金属の金属粒子、金 属クラスター、または金属コロイドの形の触媒金属前駆体で担体を被覆する操作 に先立って、または同時に、溶液中の周期律表4、5および/または6族の少な くとも一つの金属の低原子価の容易に分解可能な金属化合物で担体物質をドープ し(触媒金属前駆体の金属と低原子価の金属化合物の金属は周期律表の異なった 族から導かれる)、次に任意的に酸素で後処理し、すべての工程は−18℃〜+ 258℃の温度で行うことに特徴がある。 図1は、120,000倍に拡大した典型的な商業的に入手できる沈澱触媒( 活性炭上の5%Rh)を示す。小さい金属粒子の外に、担体に一部分弱く結合し 、一部分は全く結合していない、1μmまでの大きさのRh集合体の大きい集合が 表面 上に見られる。 図2は、本発明の方法により製造した0.2%のTiをドープし酸素化した、2 50,000倍に拡大したロジウムコロイド触媒(活性炭上の5%Rhコロイド) を示し(粒子の90%は0.5〜3nmの大きさである)、粒子は集合体を形成せ ずに担体上に均一に分布している(実施例 表2 No.8)。 図3〜5:粉末形で作った250,000倍に拡大した均一に分布した粒径を 有する金属コロイド{図3:ロジウムコロイド、粒径(90%)0.5〜3nm; 図4:白金コロイド,粒径(90%)2〜5nm; 図5:パラジウムコロイド、 粒径(90%)5〜20nm}。 本発明による方法において用いる適当な担体物質はアルミナ、アルカリ土類金 属酸化物(例えばマグネシウムの)、塩化マグネシウム、シリカゲル、セラミッ クス、アルミノシリケート、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ニオビウム、 ランタノイドの酸化物(酸化セリウム、酸化ランタン、酸化ネオジミウム、酸化 サマリウム)、活性炭、および例えはびポリスチレンなどの有機ポリマーである 。 初めの遷移金属(周期律表の4、5および6族、Ti、Zr、Hf、V、Nb、T a、Cr、Mo、W)の容易に分解可能な低原子価化合物は文献に十分に記載され ている{ジー・ウイルキンソン(J.Wilkinson)編、“コンプレヘンシブ・オル ガノメタリック・ケミストリー”(Comprehensive Organometallic Chemistry )、パーガモン・プレス、オクスフォード(1982)}。 異なった初めの遷移金属の化合物の混合物をドーピングに使用できる(例えば Ti/Hf、Ti/Zr、Zr/Crの混合物)。本発明の意図内の化合物は−18℃ 〜+25℃の温度、好ましくは20℃で担体表面上で分解する化合物である。初 めの遷移金属のそのような低原子価化合物は対応する金属塩のその場での還元に よっても製造でき、本発明によるドーピングのため使用できる(実施例15)。 初めの遷移金属の“低原子価化合物”の語は、酸化数がそれぞれの金属の最も 安定な酸化数より小さい該金属の化合物を示すものと理解される。これらはTi の場合、+3、+2、0;Zrの場合、+3、+2、+1、0;Vの場合、+4 、 +3、+2、+1、0;Nb、Taの場合、+4、+3、+2、0;Crの場合、 +2、+1、0;およびMo、Wの場合、+3、+2、+1、0を含む。 初めの遷移金属、特にTi、Zr、Hf、Nb(エフ・ジー・エヌ・クローク(F .G.N.Cloke)等、ジャーナル・オブ・ケミカル・ソサエティ・ケミカル・コ ミュニケーションズ、1978、431頁)、Cr(ピー・エル・チムス(P.L .Timms)、同上、1969、1033頁)のアレーン化合物、Cp2V等の不耐 熱性のシクロペンタジエニル錯体{ケー・ハンドラー(K.Handlir)等、ツァイ トシュリフト・フュール・ヘミー(Z.Chem.)、19巻(1979)、256ペ ージ}、または(ブタジエン)3Mo等のオレフィン−金属錯体{ジー・ウイルキ ンソン編がドーピングに特に適している。 初めの遷移金属との反応を意図するアレーンは、6個まで置換されていてもよ いC1〜C6−アルキル、C1〜C6−アルコキシ、C1〜C6−ジアルキルアミノ、 フルオロベンゼン、および特にベンゼン自体、トルエン、o.m.またはp−キシ レン、メシチレン、ヘキサメチルベンゼン、フルオロベンゼン、アニソールであ る。 分散した金属がTiO2またはZrO2担体と相互作用することが知られていると いうのは正しい{エル・エル・ヘジダス(L.L.Hegedus)編、“キャタリスト ・デザイン(Catalyst Design)”、ジョン・ウィリー・アンド・サンズ・イン ク、ニューヨーク(1987);エス・エー・スティヴンスン(S.A.Stevenso n)編、“メタル−サポート・インターアクションズ・イン・キャタリシス、シ ンターリング・アンド・リディスパージョン(Metal−Support Interactions in Catalysis,Sintering and Redispersion”、バン・ノストランド・レイ ンホールド・カンパニー・インク(Van Nostrand Reinhold Company Inc.) 、ニューヨーク(1987)}。しかしながらこの現象はドーピング効果には関 係せず、それらは従来の“金属−担体相互作用”である。ワイ・エー・リンジン 等{アプライド・キャタリシス(Appl.Catal.)、63巻(1990)、37 〜50ページおよび55巻(1989)、109〜125頁}は周期律表(PS E)の4族 の四価金属イオンの、貴金属/SiO2および貴金属/グラファイト触媒におよぼ す影響につき報告する。しかしながらドーピング金属はそれぞれ安定な酸化数+ 4で用いられているので、熱分解および/または水素化などの特別の工程が安定 な有機リガンドを金属から取除くために必要である。初めの遷移金属の非常に反 応性の低原子価化合物で担体物質を直接ドーピングする方法、すなわち熱的な後 処理または水素化の後処理を行わない方法は未だ知られていない。 ゼロ原子価のTi、Zr、またはHfのビス−(アレーン)錯体(エフ・ジー・ エヌ・クローク等、ジャーナル・オブ・ケミカル・ソサエティ・ケミカル・コミ ュニケーション、1987、1667〜1668ページ)は、適当なアレーン( アレーンは上に定義した通りである)存在下における金属ハライドと式M[HB R3]またはM’[HBR32(R=C1〜C6−アルキル、アリール−C1〜C−6 アルキル)のアルカリ金属(M)またはアルカリ土類金属(M’)トリオルガ ノヒドロボレートとの反応によって容易に入手できる。 6〜11族の金属(PSEのVIB、VIIB、VIIIB、IBに対応する)はより 具体的にはCr、Mo、W、Mn、Re、Fe、Ru、Os、Co、Rh、Ir、Ni、Pd 、Pt、Cu、Ag、Auである。 本発明においては触媒前駆体として、四量体のロジウムクラスター[HRhC OD]4(COD=シクロオクタジエン)を用いる{エム・クルチック(M.Kulz ick)等、オルガノメタリックス(Organometallics)、1巻(1982)、12 56〜1258ページ}。そのクラスターは[XRhCOD]2(X=F、Cl、 Br、I)を式M[HBR3]またはM’[HBR32(R=C1〜C6−アルキル 、アリール−C1〜C6−アルキル)のアルカリ金属(M)またはアルカリ土類金 属(M’)トリアルキルハイドロボレートと反応させることにより製造する。有 機溶媒に容易に溶解するその親油性のテトラマークラスターは活性炭に、Al23 および他の無機および有機担体物質にも常温でよく吸着する。有機リガンドは 水素によって熱的なストレスなしに−18℃〜+25℃の温度、好ましくは室温 (20℃)で、吸着した[HRhCOD]4を水素ガスにさらすことにより容易に 除去される。四核のRh単位の 保護基として働くシクロオクタジエンは水素化されてシクロオクテンとシクロオ クタンを形成し、ロジウム集合体を放出する。水素移動剤としてアルカリ金属ト リアルキルオルガノボレートを用いることにより、[HRhCOD]4は75%ま での収率で商業的規模で容易に製造できる。 四量体の有機ロジウム錯体[HRhCOD]4の本発明によりドープされている 活性炭または任意の他の有機または無機の担体物質への吸着、次の室温における 水素による担体表面上への金属の放出によって、透過電子顕微鏡(TEM)によ って実証されるように表面に均一に分布した狭い粒径分布(1〜2nmの範囲内に 90%)を有する高度に分散性のロジウム粒子が得られる。古典的な沈澱法で不 可避であった(図1)またはリガンド除去のための吸着した有機金属への熱の作 用による、望ましくない大きい金属集合体の生成{ワイ・エー・リンジン等、ア プライド・キャタリシス(Appl.Catal.)、54巻(1989)、277〜2 88ページ}は起こらない。かくして本発明によれば表面での不活性な集合の形 の価値ある貴金属の損失を避けることができる。 初めの遷移金属の低原子価金属錯体の添加による狭い範囲の均一な直径を有す る非常に均一な粒子の形のコロイド状金属を担体上に固定する方法は知られてい ない。1989年10月14日のドイツ特許出願P3934351.0はPSE の6〜11族の金属コロイドの、および少なくとも二つの異なった金属よりなる コロイド状金属合金の、これらの金属の塩のテトラアルキルアンモニウムトリオ ルガノヒドロボレートによる還元または共還元による製造を記述する。 ドイツ特許出願3934351号による還元または共還元を行う方法はより具 体的には金属塩を不活性な有機溶媒中で(例えばTHFおよび/または炭化水素 中で)NR”4(BR3H)またはNR”4[BRn(OR’)3-nH]と反応させ ることを含んでなる。それによってコロイド状金属が通して見た時有機溶媒中で 赤色の溶液として得られ、それから狭い範囲の粒径と均一な形態を有する粉末の 金属コロイドがアルコールの試薬による処理により本発明に従って製造できる。 このようにして作られた金属コロイドまたはコロイド状金属合金は様々な溶媒 および/または溶媒混合物中に溶解され、上記ドーパントの添加により本発明に したがい担体表面上に吸着されることができる。電子顕微鏡を用いた検査から明 らかなように生成した金属担持触媒は、担体上に非常に均一な分布で狭い範囲内 の粒径を有する金属粒子を有する(図2)。したがってPt/Rhなどのコロイド 状金属合金も担体上に均一に分布することができる。そのような触媒のタイプは 今まで知られていない。 本発明による方法は好ましい温度範囲で液体である飽和のC5〜C10炭化水素 、芳香族炭化水素、エーテル、エステル、およびケトン中で行うことができる。 特に、n−ペンタン、ヘキサン、ベンゼン、トルエン、THF、ジエチルエーテ ル、アセトン、酢酸エチルまたはそれらの混合物の使用がなされる。 更に、少量の気体のまたは溶解した分子状酸素によって本発明の方法により製 造した金属担持触媒を部分的に酸化することによって、本発明の方法に従って製 造した触媒の安定性および活性が実質的に高まることが驚くべきことに見出され た。酸素化は、保護ガスの下に貯蔵された触媒粉末の環境を20容量%までの酸 素でゆっくり高めることにより達成できる。温和な条件下の酸素化は、O2/不 活性ガス混合物を触媒ベッドを通して流し、その流れているガス混合物のO2濃 度を0.5容量%から20容量%に増加するよう制御することによっても行う。 第3の方法によれば触媒を1mlの溶媒あたり0.4mlの酸素(STP)で飽和し た溶媒中で酸素化する。他のすべての工程と同様に酸素化の工程も−18℃〜+ 25℃の温度範囲、好ましくは20℃で行うことができる。 本発明により製造した担持金属クラスターおよびコロイド触媒は、一酸化炭素 、CC−、CO−、CN−多重結合システム等の不飽和化合物の水素化、および 芳香族化合物の核水素化に特別の利点を有して用いられる。さらにそれらは大豆 油などの天然物質および天然物質の混合物の選択的水素化およびアルカンの水添 分解に適している。 新規な触媒の技術的優位は、ブチロニトリルを水素化してブチルアミンを生成 する反応における様々なロジウム担持触媒の活性の比較により示された。 活性A[ml/g・分]は、 として測定された。 標準条件は以下の如くであった:水素圧=1バール;温度=40±0.5℃; 出発物質濃度=1.04モル/1;用いた触媒量=0.3〜1g;撹拌速度=200 0rpm;溶媒=100mlのエタノール。比較は商業的に入手し得る典型的な沈澱 法触媒の水素化活性A[A=83]と比較した、この標準条件下で得られる活性 値Aを示す。すべての系は同じバッチの活性炭担体上の5%のRhを有する。 0.2%のTiで本発明によりドープした沈澱法触媒の活性[A=124]は工業 的な標準に比べ50%優れていることがわかった。[HRhCOD]4から本発明 により製造されたクラスター触媒の活性[A=102]は、本発明によるチタニ ウムのドーピングにより125.5%増加し[A=230]、先行技術[A=8 3]に比べ177%優れている。コロイド触媒[A=95]の場合には、本発明 によるドーピングは105%の活性の増加[A=195]をもたらし、先行技術 に比較して135%の増加をもたらす。 低原子価錯体化合物の添加によるドーピングは触媒の使用寿命にも顕著な効果 を及ぼす。この長所は例えば標準条件下でのブチロニトリルの水素化における1 モルのロジウム触媒あたりの触媒サイクルの比較により説明される:工業的な標 準触媒は250時間以内に5,000の触媒サイクルを達成するのみであり、そ の後はもはやほとんど活性がないのに対し、本発明によるチタニウムをドープし たロジウム触媒は250時間内に14,000サイクルを生じ、1gおよび1分当 り61mlの水素(STP)という残存活性を有する。このように本発明によりド ープしたロジウム触媒は250時間以内で約3倍の基質の転換を与える。 本発明による方法の一つの重要な利点は合金コロイド担持触媒の入手しやすさ である。例えば白金およびロジウム塩の共還元と本発明による次のワークアップ により回収可能な固体の合金コロイド粉末を得る。本発明による方法によるこの 粉末は、初めの遷移金属の低原子価錯体化合物によるドーピングにより担体上に 分散され、それに加えO2で部分的に酸素化される。かくして本発明によれば、 高価な貴金属(ロジウム)が実質的な割合まで一(白金)以上のより高価でない 金属と合金化されている、非常に活性な長期間安定な不均一触媒が得られる。次 の実施例は本発明を制限することなく本発明を説明する。実施例1 活性炭の金属クラスターによる含浸 500mlの二口フラスコ中で14.97gの活性炭を約300mlのペンタン中に 懸濁する。1.6556g(1.95ミリモル)の粉末の[HRhCOD]4を十分 撹拌しながら加える。懸濁液を0℃で16時間撹拌し、それによって最初暗赤色 の溶液がほとんど完全に脱色する。次に懸濁液を乾燥するまで段階的に濃縮する 。真空にしたフラスコに水素を充たす。一時間後水素をアスピレーションにより 除去し、触媒をさらに16時間室温(RT)で高真空下(HV、10-3ミリバー ル)に乾燥する。 収量:17.56g; 乾燥物の重量:15.77g 溶媒部分:1.79g=10.2重量%; ロジウム含量:5.1重量%(乾燥物を基準にして)。実施例2 活性炭の金属クラスターによる殻様被覆 4.56gの活性炭を約100mlのペンタン中に0℃でよく撹拌しながら懸濁さ せる。0.5176g(0.61ミリモル)の[HRhCOD]4の全量の50%を 加え、懸濁液をさらに1.5時間撹拌する。十分な撹拌を続けながら混合物を水 素で15分間パージする。固体が沈降した後、無色の溶液をサイホンで吸い、残 渣を室温で高真空下(10-3ミリバール)に16時間乾燥する。次に100mlの ペンタンを加え、残りの量の[HRhCOD]4を撹拌しながら加える。1.5時 間後懸濁液を再度水素で15分間パージし、無色の溶液を除き、触媒を室温で高 真空下(10-3ミリバール)に16時間乾燥する。 収量:5.25g; 乾燥物の重量:4.81g 溶媒部分:0.71g=12.8重量%; ロジウム含量:5.1重量%(乾燥物質を基準にして)実施例3 活性炭のドーパント金属Ti、Zr、V、NbおよびCrによる前処理 約3gの活性炭を溶媒に懸濁し、同じ溶媒に溶解したドーパント金属錯体の適 当量を撹拌しながらそれに加える。溶液が完全に脱色した後に活性炭を沈降させ 、上澄みの金属を含まない溶媒をサイフォンで吸うことにより除去する。残渣を 高真空下(10-3ミリバール)で16時間乾燥し、対応したドーパント金属含量 と約10%の残存溶媒含量を有する活性炭を製造する。 完全な吸着のために(表1、No9参照)、活性炭をG4ガラスフリット上で の濾過により脱色されない溶媒から除き、10mlのn−ペンタンで2回洗浄した 。乾燥後、6.98%のTiが活性炭上に吸着されていた。 実施例4 0.2%のTiと5%のRhの組合せによる活性炭の被覆 3.00gの活性炭を30mlのペンタンに懸濁し、ペンタン(数回の再凝縮と脱 ガス工程により特別に精製)中の30.6mgのビス(トルエン)チタニウム(表 12.No2)および1.30gの[HRhCOD]4(実施例27)の溶液をそれ に撹拌しながら加える。溶液の活性炭上への作用の持続によって含浸触媒(方法 a)または殻触媒(方法b)を製造できる。 方法a:16時間撹拌後、ペンタンを室温で高真空下(10-3ミリバール)に溜 去する。 方法b:1時間撹拌後、未だ溶解している錯体の量を溶液を濃縮することにより 担体上に持ってくる。 16時間高真空下(10-3ミリバール)で乾燥後、CODを水素による水素化 によって、生じた担体−錯体吸着物から除去する(実施例27)。さらに16時 間の高真空(10-3ミリバール)下での乾燥の後、方法a)により3.51gの触 媒、および方法b)により3.64gの触媒が得られる。実施例5 a)チタニウムで前処理した活性体の金属クラスターによる含浸 250mlの二口フラスコ中に表1、No4によりTiで前処理した7.66gの活 性炭を約150mlのペンタンに懸濁する。0.8443g(1.00ミリモル)の [HRhCOD]4を粉末として十分撹拌しながら加える。懸濁液を0℃で16時 間撹拌し、それによって最初暗赤色の溶液がほとんど完全に脱色する。次に懸濁 液を乾燥するまで段階的に濃縮する。減圧にしたフラスコに水素ガスを充たす。 1時間後水素をアスピレーションにより除去し、活性化した触媒をさらに16時 間室温で高真空下(10-3バール)に乾燥する。 収量 9.16g; 乾燥物の重量:8.05g 溶媒部分:1.11g=12.1重量% Rh含量:5.1重量%(乾燥物を基準にして) Ti含量:0.2重量%(乾燥物を基準にして) b)Zr、V、NbまたCrで前処理した活性炭の金属クラスターによる含浸 上記と同じ方法で、しかし表1のNo.10、11、12または13により前処 理した活性炭を用いて、5%のRhと0.2%(乾燥物を基準にして)の各ドーパ ント金属(Zr、V、Nb、またはCr)を含んでなる触媒を得る。実施例6 チタンで前処理した活性炭の従来法による被覆 表1、No.4によりTiで前処理した15.31gの活性炭を約300mlの蒸留 水に懸濁する。2.1163g(8.04ミリモル)のRhCl3・3H2Oの添加後 に、懸濁液を90℃に加熱する。懸濁液を十分撹拌しながら70mlの0.35M NaOHを3時間かけて加える。撹拌を1時間続け、次に懸濁液を50℃に冷 却する。 H2を懸濁液に16時間通し、次に固体をD4−フリット上での濾過により除去 し、フィルターケーキを蒸留水で数回洗浄する。触媒を16時間室温で高真空下 (10-3ミリバール)に乾燥する。 収量:24.23g; 乾燥物の重量:16.11g 溶媒部分:8.12g=33.5重量%; Rh含量:5.1重量%(乾燥物を基準にして); Ti含量:0.2重量%(乾燥物を基準にして)。実施例7 1.ロジウムコロイドの調製 2.79g(13.33ミリモル)のRhCl3の500mlのTHF中の懸濁液に 、THF中のN(C8174BEt3Hの0.4モルの溶液100mlを40℃で撹 拌しながら保護ガス下に1時間かけて滴下する。40℃での加熱をさらに2時間 続け、それによってRhCl3を完全に溶解する。室温で一晩撹拌後完全に透明な 暗赤色−黒色反応溶液を得る。すべての揮発性物を真空室温で透明な溶液から除 去し、40℃高真空下(10-3ミリバール)での3時間の乾燥後に22.25gの 黒色−褐色ワックス状残渣を得る。それはTHF、エーテル、トルエン、アセト ンに可溶であり、エタノールに不溶で、6.1%のRhを含む。 2.ロジウムコロイドのワークアップおよび回収 1で得た残渣を空気下に500mlのテクニカルグレードのエーテルに溶解し、 50mlの非変性アルコールを加えると灰色−褐色の沈澱が生じる。その沈澱を1 時間沈降させ、上澄みの透明な溶液を保護ガス(アルゴン)により沈澱から除去 する。その沈澱を90mlのエーテル/10mlのエタノールの混合物で2回洗浄し 、真空下での乾燥(室温、20分)後に1.24gの灰色のロジウムコロイド粉末 (Rh:61.05%; N:0.61%; C:17.26%; H:2.61%; B:0.67%)を得る。それはTHFに非常によく溶け、アセトンによく溶け 、トルエンにあまり溶けず、エーテルには不溶である。 TEM写真による粒径:0.5〜3nm(図3参照)実施例8 1.白金コロイドの調製 9.87g(37.11ミリモル)のPtCl2を保護ガス下に1000mlのTHF に懸濁し、THF中のN(C8174BEt3Hの0.371モルの溶液200ml (74.2ミリモル)をそれに撹拌しながら室温で2時間かけて加える。これに よってPtCl2は溶解し、深い褐色−黒色の反応混合物を形成する。一晩撹拌後 すべて不溶解物をD4−ガラスフリット上で濾去する。沈澱量:2.3gのPt金 属(11.8ミリモル)。すべての揮発性物を透明な濾液から真空で室温で除去 し、40℃での高真空下(10-3ミリバール)での3時間の乾燥後に、いくらか の時間の後に固体化する46.2gの黒色−褐色の粘稠な残渣を得る。それはTH F、エーテル、トルエン、アセトンに可溶で、エタノールに不溶であり、10. 5%のPtを含む。 2.白金コロイドのワークアップと回収 1に記載した残渣34.9gに1600mlのテクニカルグレードのエーテルを加 え空気下でよく混合する。160mlの非変性エタノールを加えると灰色−褐色沈 澱を形成する。沈澱を約1/2時間沈降させ、上澄みの明るい黄色の透明な溶液を アルゴンにより沈澱から除く。沈澱を60mlのエーテル/6mlのエタノール混合 物で洗浄し、真空下乾燥後(20分、室温)、3.5gの灰色−黒色白金コロイド 粉末(Pt:64.46%; N:0.71%; C:23.44%; H:4.52% ; B:0.32%)を得る。それはTHFに非常によく溶け、トルエンにあまり 溶けず、アセトンおよびエーテルに不溶である。 ESCA分析:結合エネルギーPt(4f7/2)=69.6eV TEM写真による粒径:2〜5nm(図4参照)実施例9 1.ルテニウムコロイドの調製 400mlのTHF中の3.46g(16.2ミリモル)のRuCl3の混合物に、 THF中のN(C8174BEt3Hの0.252モルの溶液200mlを40℃で 撹拌しながら保護気体下に2時間にわたって滴下する。50℃で加熱をさらに2 時間続 けるとRuCl3が溶解する。一晩室温で撹拌後、透明な暗赤色−黒色反応溶液を 得る。すべての不溶物を除去するためにその混合物をD4−ガラスフリットを通 して濾過し、すべての揮発性物を透明な溶液から真空で室温で除去する。30℃ 、高真空下(10-3ミリバール)での3時間の乾燥の後に26.62gの黒色−褐 色のワックス状残渣を得る。それはTHF、エーテル、トルエン、アセトンに可 溶、エタノールにわずかに溶け、6.15%のルテニウムを有する。 2.ルテニウムコロイドのワークアップと回収 1で得た残渣を空気下950mlのテクニカルグレードのエタノールに溶解し、 80mlのテクニカルグレードのペンタンを加えると灰色−褐色の沈澱が形成する 。沈澱を1時間沈降させ、上澄みの透明な溶液を保護ガス(アルゴン)により沈 澱から除去する。沈澱を100mlのテクニカルグレードのエタノール/10mlの テクニカルグレードのペンタンの混合物で2回洗浄し、真空で乾燥(20分、室 温)後、2.36gの灰色のルテニウムコロイド粉末(Ru:68.72%; N: 0.59%; C:19.8%; H:2.79%; B:0.35%)を得る。それ はTHFに非常によく溶け、アセトンによく溶け、トルエンにあまり溶けず、エ ーテルに不溶である。 TEM写真による粒径:1〜5nm実施例10 1.パラジウムコロイドの調製 500mlのTHF中の3.52g(19.8ミルモル)のPdCl2の懸濁液に、 THF中のN(C8174BEt3Hの0.347モルの溶液100mlを室温で撹 拌しながら保護気体下に1時間かけて滴下する。その過程においてPdCl2は完 全に溶解する。一晩撹拌後完全に透明な深い褐色−黒色の反応溶液を得る。すべ ての揮発性物を真空下室温でそれから除去し、30℃で高真空下(10-3ミリバ ール)での3時間の乾燥後に黒色−褐色の非常に粘稠な残渣21.45gを得る。 それはTHF、エーテル、トルエン、アセトンに可溶で、エタノールに不溶であ り、9.8%のPdを含む。 2.パラジウムのコロイドのワークアップと回収 1に記載した14.3gの残渣を空気下320mlのテクニカルグレードのエーテ ル/30mlの非変性エタノールよりなる混合物中に溶解しよく振とうする。不溶 物を1時間沈降させ、上澄みの溶液を保護ガス(アルゴン)により暗灰色−褐色 沈澱から分離する。沈澱を100mlのエーテル/10mlのエタノールで洗浄し、 真空下で乾燥(20分、室温)後、1.5gの暗灰色のパラジウムコロイド粉末( Pd:83.62%; N:0.28%; C:8.72%; H:2.64%; B: 0.54%)を得る。それはTHFに非常によく溶け、アセトンによく溶け、ト ルエンにあまり溶けず、エーテルに不溶である。 TEM写真による粒径:5〜20nm(図5参照)実施例11 Pdコロイドの調製 0.25gのPdCl2および1.56gのN(C8174Brを30mlのTHF中で 還流下16時間加熱する。PdCl2が溶解し、深赤色溶液が生成する。生成物を 一晩高真空下(10-3ミリバール)に乾燥し、赤色固体(Pt:7.7%; N: 2.9%; C:60.5%; H:10.6%; Cl:5.6%; Br:11.3%) を得る。 その赤色固体を70mlのTHFに溶解する。2.143mg/mlのPdを含むかく して得た溶液を室温で1バールの圧力の水素と14日間撹拌する。コロイド状の 溶解したPdが得られる。実施例12 1.ロジウム−白金コロイドの調製 2.1g(10.03ミリモル)のRhCl3および2.68g(10.03ミリモル )のPtCl2を保護ガス下に630mlのTHFに懸濁し、それにTHF中のN( C8174BEt3Hの0.397モルの溶液127ml(50.15ミリモル)を撹 拌しながら50℃で1時間かけて加える。それによってそれらの塩は溶解し、深 赤色−黒色の反応混合物を生成する。一晩撹拌後すべての不溶物をD4ガラスフ リット上で濾去する。0.2gの沈澱物を得る(元素分析により95%のPtと1% のRhを 含む)。すべての揮発性物を透明な濾液から真空下で室温で除去し、40℃で高 真空下(10-3ミリバール)での3時間の乾燥後に25.5gの褐色−黒色のワッ クス状残渣を得る。それはTHF、エーテル、トルエン、アセトンに可溶で、エ タノールに不溶で、3.9%のRhと6.8%のPtを含む。 2.ロジウム−白金コロイドのワークアップと回収 1に記載した5.1gの残渣に180mlのテクニカルグレードエーテルおよび2 0mlの非変性エタノールを空気下に加え、それによって灰色−褐色沈澱が生成す る。沈澱を1/2時間沈降させ、上澄みの透明溶液を保護ガス(アルゴン)によ り沈澱から分離する。沈澱を50mlのエーテル/5mlのエタノールの混合物で洗 浄し、真空下で乾燥(20分、室温)後に0.42gの黒色−灰色のロジウム−白 金コロイド粉末(Rh:24.09%; Pt:24.45%; N:0.3%; C: 12.02%; H:1.74%; B:1.00%)を得る。それはTHFに非常 によく溶け、アセトンにあまり溶けず、エーテルおよびトルエンに不溶である。 TEM写真による粒径:0.5〜3nm実施例13 1.ニッケルコロイドの調製 550mlのTHF中の4.19g(19.2ミリモル)のNiBr2の懸濁液に、T HF中のN(C8174BEt3Hの0.256モルの溶液150mlを撹拌しなが ら保護ガス下30分かけて滴下する。一晩撹拌した時NiBr2は完全に溶解し、 完全に透明な黒色−赤色の反応溶液が生成する。すべての揮発性物をそれから真 空下室温で除去し、30℃、高真空下(10-3ミリバール)で3時間乾燥後に2 2.31gの褐色−黒色の固体残渣を得る。それはTHF、アセトン、トルエンに 可溶で、エタノールにあまり溶けず、エーテルに不溶で、4.9%のニッケルを 含む。 2.ニッケルコロイドのワークアップと回収 1で得た10.81gの残渣を保護ガス下380mlの無水エタノールに溶解し、 40mlの無水エーテルを添加する。沈澱した灰色−褐色物を1時間沈降させ、上 澄みの透明な溶液を分離する。沈澱物を100mlのエタノール/10mlのエーテ ルよりなる混合物で洗浄し、真空で乾燥(20分、室温)後、0.35gの灰色− 黒色のニッケルコロイド粉末(Ni:66.13%; N:0.32%; C:13. 96%; H:2.62%; B:0.59%)を得る。それはTHFに非常によく 溶け、トルエンによく溶け、エタノールおよびエーテルに不溶である。 TEM写真による粒径:5〜20nm実施例14 金属コロイドによる活性炭の被覆 約2〜4gの活性炭(未処理のままの、あるいは表1、No3によりチタニウム で処理した)を約50mlの無水THFに懸濁し、THFに溶解した金属コロイド の適当量をそれに加える。混合物を一晩撹拌した後に、完全に無色の金属を含ま ない溶液からD4フリット上で濾過する。金属コロイドで被覆された活性炭を1 6時間、室温で高真空下(10-3ミリバール)に乾燥する。その後に約10%の 溶媒が吸着して残る。かくして0.1%〜10%の金属含量を調節できる。表2 〜5に示したすべての触媒は5%の貴金属を含む(溶媒のない生成物を基準にし て)。 実施例15 溶液中のロジウムコロイドと還元チタニウムからの高度に活性なロジウム担持 触媒の調製 250mlのTHF中の6.68g(20ミリモル)のTiCl4・2THFの溶液 に、THF中のK[BEt3H]の1.15モルの溶液(80ミリモル)の70ml を撹拌しながら40℃で2時間以内に滴下する。約450ml(STP)(20ミ リモル)の水 素を発生させガスビュレットに集める。添加の完了時に撹拌を40℃でさらに3 0分続ける。沈澱したKClはD4ガラスフリット上での濾過により除去し、溶出 するTHFが無色になるまで少しずつのTHFで洗浄する。灰色の残渣をオイル ポンプ真空下16時間乾燥する。BEt3およびTHFを褐色の濾液から除去し、 残渣を50mlのTHFに溶解し、不溶物から濾過により分離する。濾液へのペン タンの添加により沈澱する黒色−褐色固体を濾去し、オイルポンプ真空下16時 間乾燥する。収量:1.68gの還元チタニウム。 1.668gの活性炭を30mlのTHFに懸濁し、20mlのTHFに溶解した還 元チタニウム(42.6%Ti)8.3mgを撹拌した懸濁液に加える。溶液が完全 に脱色した時(約5分)、THF中のロジウムコロイド溶液52ml(1.695m g/mlのRh)を撹拌した溶液に加える。混合物を一晩撹拌し、固体を、完全に無 色の金属を含まない溶液からD4ガラスフリット上での濾過により除去する。そ の触媒を室温でオイルポンプ真空下に16時間乾燥する。その触媒を0.2容量 %のO2を含むアルゴンで16時間パージすることにより酸素化する。 収量:2.021g; 乾燥物:1.760g; 溶媒含量:12.9% Rh含量:5.0重量%(溶媒を含まない触媒を基準にして) Ti含量:0.2重量%(溶媒を含まない触媒を基準にして)実施例16 無機担体物質上の高度に活性な貴金属担持触媒の調製 実施例3、表1、No.4と同じ方法で、約3gの担体物質をTiで被覆し、Rh を次に実施例5と同じ方法で担体に適用する。その後触媒は5%のRhと0.2% のTi(乾燥物を基準にして)を含む。 実施例17 チタニウムで前処理したAl23のニッケルコロイドによる被覆 1.176gのニッケルコロイド(実施例13.2による)を保護ガス下に15 0mlのTHFに溶解し、表1、No.3と同じ方法でTiで前処理した6.0gのAl23を撹拌しながら加える。撹拌を約3時間行い、溶媒を除去する。室温での高 真空(10-3ミリバール)下の3時間の乾燥の後に、12%のニッケルと0.1 %のTi(乾燥物を基準にして)を含むAl23を得る。実施例18 気体酸素による酸素化 保護ガスの下で作った60gのロジウム活性炭触媒(5重量%のロジウム)を D3フリット(d=40mm)にチャージする。その触媒ベッドを500ml/分の 0.2容量%のO2を有するアルゴン/酸素混合物でパージする。そのガス混合物 は計量した量のO2をArの気流に導入することにより製造する。混合比は二つの 前もってキャリブレートしたロタメーターにより制御する。その一つはAr気流 中にあり、他の一つはO2気流中にある。 触媒ベッドの内部で垂直に動きうる熱電対(精度1/10℃)は、前もって選 択したO2濃度により起されるベッドにおける温度変化を示さない。O2濃度を1 時間以内に0.5容量%まで段階的に増加させる。その途中で触媒の上層の温度 は8℃増加する。この温度ゾーンは16時間内に12cmの深さを有するベッドを 通して流れの方向に動く。そのブレークスルーの後にガス気流中のO2含量を2 時間内に20容量%まで増加させる。それにより記録された温度増加は2℃以下 で ある。実施例19 溶解した酸素による酸素化 5gの自燃性ロジウム活性炭触媒(5重量%のロジウム)を200mlのペンタ ンに懸濁させる。撹拌した懸濁液を酸素(約10ml/分)で0℃で16時間パー ジする。次に触媒をD4フリット上で濾過により除去し、室温で高真空(10-3 ミリバール)下に16時間乾燥する。実施例20 ブチロニトリルを基質として用いたスキーム1に記載した装置によるロジウム触 媒(Rh5%)の初期水素化活性の測定 計量した量の0.1904gのロジウム触媒(表8、No.5)を100mlの滴下 漏斗に不活性条件下に満たし、滴下漏斗を装置上に置き、全装置を数回排気し、 水素を(再び)満たす。次に滴下漏斗中の触媒を50mlのエタノール(空気を含 まない、DAB7)に懸濁し、装置に導入し、さらなる50mlのエタノールで後 洗浄する。装置は永久的に水素でパージする。次に触媒懸濁液を40℃の温度( サーモスタット、±0.2℃)に加熱し、2000rpmで撹拌する。圧力をバラン スした後、水銀でシールした精密ガスビュレット(200ml)方向への経路を開 ける。次に10mlのブチロニトリル(アルゴン下で蒸留)を触媒懸濁液にセプタ ムを通して注入する。一分間あたりの水素の消費を記録する。第1分:46ml; 第2分:44ml; 第3分:42ml; 第4分:39ml。1分当りのH2の標準条 件の温度および圧力(STP)下でのmlの計算量は39.33ml/分(STP) である。約10%の触媒中の溶媒含量を考慮に入れると触媒の真の量は0.17 14gである。それより水素の(STP)230ml/g・分の触媒活性が計算され る。この実施例に従って次の表7に説明した初期水素化活性を測定し計算した。 実施例21 基質としてクロトン酸を用いたスキーム1に記載した装置による白金活性炭触 媒の初期水素化活性の測定 計量した量の0.1597gの白金触媒(表8、No.4)を100mlの滴下漏斗 に満たし、滴下漏斗を装置上に置き、全装置を数回排気し、水素を(再び)満た す。次に滴下漏斗中の触媒を20mlのエタノールに懸濁し(DAB7、サーモス タットでコントロールした25℃の温度)、水素化装置に入れる。次に1lのエ タノール中の72.6gのクロトン酸の溶液80ml(25℃で恒温に保つ)を滴下 漏斗にピペットで分注し、水素化装置に導入し、20mlのエタノールで後洗浄す る。触媒は25℃(±0.2℃)で恒温に保つ。充填操作の間水素化装置を水素 で永久的にパージする。ガスを導入する撹拌器は未だ働かない。圧力をバランス した後、1l精密ガスビュレット(水銀でシールし、記録計に結合する)への経 路を開け、撹拌器を2000rpmの速度まで働かせる。水素消費量を6分にわた って記録する。その最初の1分は評価のために用いない。第2〜6分の間に50 0mlの水素消費量が測定される。温度および圧力の標準条件(STP)下での計 算した消費量は92ml/分(STP)である。10%の触媒中の溶媒含量を考慮 すると640ml/g・分(STP)の触媒活性が計算される。この実施例に従っ て次の表8に説明した初期水素化活性を測定し計算した。 実施例22 基質として桂皮酸を用いてスキーム1に記載した装置によるパラジウム活性炭 触媒の初期水素化活性の測定 実施例21と同じ方法で、50mlのエタノール中の0.2226gのパラジウム 触媒(表9,No.3)の懸濁液および基質として桂皮酸の0.843モルのエタ ノール溶液(桂皮酸の126g/l)の50mlを用いて試験を行う。水素消費量は 533mlであり、98.1ml/分(STP)に対応する。10%の溶媒含有を考 慮した触媒活性は490ml/g・分(STP)であることがわかる。表9に説明 した様々なPd触媒の初期水素化活性をこの記載した実施例に従って測定し計算 した。 実施例23 基質としてブチロニトリルを用いたスキーム2に記載の水素化装置による金属 担持触媒(例えばRh)の使用寿命の測定 計量した量の0.5647gのロジウム触媒(表7、No.2)をアルゴン下に10 0mlの滴下漏斗に満たし、滴下漏斗を装置上に置き、全体の装置を数回排気し、 水素を(再び)満たす。次に滴下漏斗中の触媒を50mlのエタノール(空気を含 まない、DAB7)に懸濁し、装置に入れ、更なる50mlのエタノールで後洗浄 する(上記参照)。装置を永久的にH2でパージする。次に触媒懸濁液を40℃ の温度(サーモスタット、±0.5℃)に加熱し、2000rpmで撹拌する。圧力 をバランスした後、H2供給(0.2l、100バール)への経路を開き、圧力を 減圧バルブを用いて1.0バールに調節する。30mlのブチロニトリル(アルゴ ン下に蒸留)を触媒懸濁液にセプタムを通して注入する。水素消費量をオートク レーブの圧力降下として記録計により記録する。もはや圧力降下が認められない なら水素供給を止め、装置をアルゴンでパージする。触媒懸濁液を遠心容器にサ イホンで移し、アルゴン下に2000rpmで30分間遠心する。上澄液をサイホ ンで除き、触媒を高真空(10-3ミリバール)下4時間乾燥する。乾燥触媒を1 00mlのエタノー ル(上記参照)に懸濁し、再度装置にサイホンで移す。H2で洗浄した後、使用 寿命試験を上記したように続ける。バッチの開始で測定した残存活性が20ml/ g・分(STP)という最小限以下に落ちた時、使用寿命試験は終了したと考え る。 次の値をRh触媒(表7、No.2)について5回測定した。 次の表10に説明した使用寿命試験はこの実施例に従って測定し、計算した。 実施例24 酸化アルミニウム上のニッケルコロイド触媒を用いたiso−ノナナールの水素化 撹拌手段を備えた500mlのオートクレーブにアルゴン下270mlのi−ノナ ナール(テクニカルグレード、i−ブテンのハイドロホルミル化により製造)、 および12%のNiと0.1%のTiを含む酸化アルミニウム上へのニッケルコロ イド触媒(実施例17参照)5gをチャージする。オートクレーブを室温で25 バールの水素で加圧し、次に磁気的に撹拌し、130℃に5時間加熱する。それ によって圧力は80バールまで増加する。室温まで冷却後、オートクレーブを脱 圧し、反応混合物を保護ガス下取り出す。濾過後、生成物のガスクロマトグラフ ィーによる評価は98.2%の変換率とi−ノナナールに対して98.7%の選択 性を示した。望ましくない高沸点副生物(アルドール化生成物、エステル、高級 エーテル=“濃密オイル”)は1.3%であった。
【手続補正書】特許法第184条の8 【提出日】1993年5月25日 【補正内容】 請求の範囲 1.担体物質と触媒金属前駆体から高度に活性なドープした金属担持触媒を製 造する方法であって、 該方法においては周期律表6、7、8、9、10および/または11族の少な くとも一つの金属の金属粒子、金属クラスター、または金属コロイドの形の触媒 金属前駆体で担体を被覆する操作に先立って、または同時に、溶媒の存在下に周 期律表4、5および/または6族の少なくとも一つの金属の低原子価の容易に分 解可能な金属化合物で担体物質をドープし(該触媒金属前駆体の金属と該低原子 価金属化合物の金属は周期律表の異なった族に由来する。)、次に任意的に酸素 で後処理し、すべての工程は−18℃〜+25℃の温度で行い、 担体物質は有機または無機の担体物質であるが、表面にヒドロキシル基を有す る担体物質は除外することを特徴とする製造方法。 2.塩化マグネシウム、酸化ランタン、酸化セリウム、酸化ネオジミウム、酸 化サマリウム、セラミックス、活性炭、または有機ポリマーを担体物質として用 いることを特徴とする請求の範囲第1項に記載の方法。 3.ビス−アレーン化合物、シクロペンタジエニル錯体、またはオレフィン− 金属錯体を、周期律表4、5、または6族からの低原子価金属化合物として用い ることを特徴とする請求の範囲第1項または第2項に記載の方法。 4.低原子価の容易に分解可能な金属化合物が周期律表4族の金属としてTi 、Zr、またはHfを、5族の金属としてV、Nb、またはTaを、6族の金属とし てCr、Mo、またはWを含むことを特徴とする請求の範囲第3項に記載の方法。 5.周期律表の6、7、8、9、10および/または11族の金属の金属クラ スターまたは金属コロイドを触媒前駆体として用いることを特徴とする請求の範 囲第1〜4項のいずれかに記載の方法。 6.Cr、Mo、W、Mn、Re、Fe、Ru、Os、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、P t、Cu、Ag、またはAuを用いることを特徴とする請求の範囲第1〜5項のいず れかに記載の方法。 7.少なくとも二つの異なった金属のコロイド状金属合金を金属コロイドとし て用いることを特徴とする請求の範囲第5項または第6項に記載の方法。 8.0.5〜3nmの間に90%の粒径分布(透過電子顕微鏡、TEM)を有す るロジウムコロイドを金属コロイドとして用いることを特徴とする請求の範囲第 1〜6項のいずれかに記載の方法。 9.2〜5nmの間に90%の粒径分布(TEM)を有する白金コロイドを金属 コロイドとして用いることを特徴とする請求の範囲第1〜6項のいずれかに記載 の方法。 10.0.5〜3nmの間に90%の粒径分布(TEM)を有する白金/ロジウム コロイドを金属コロイドとして用いることを特徴とする請求の範囲第1〜7項の いずれかに記載の方法。 11.5〜20nmの間に90%の粒径分布(TEM)を有するパラジウムコロイ ドを金属コロイドとして用いることを特徴とする請求の範囲第1〜6項のいずれ かに記載の方法。 12.5〜20nmの間に90%の粒径分布(TEM)を有するニッケルコロイド を金属コロイドとして用いることを特徴とする請求の範囲第1〜6項のいずれか に記載の方法。 13.1〜5nmの間に90%の粒径分布(TEM)を有するルテニウムコロイド を金属コロイドとして用いることを特徴とする)請求の範囲第1〜6項のいずれ かに記載の方法。 14.少量の溶解したまたは気体の酸素の計量した添加により金属触媒を部分的 に酸素化することを特徴とする請求の範囲第1〜11項のいずれかに記載の方法 。 15.不飽和化合物の水素化、芳香族化合物の核の水素化、一酸化炭素の水素化 、またはアルカンの水素化のための、請求の範囲第1〜13項のいずれかに定義 した高度に活性なドープした金属担持触媒の使用。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI C07C 57/44 9450−4H 209/48 211/03 8517−4H // B01J 13/00 C 9342−4D (72)発明者 ブリンクマン、ライナー ドイツ連邦共和国 デー−4330 ミュール ハイム/ルール、メンデナー・シュトラア セ 96番 (72)発明者 ディニュス、エックハルト ドイツ連邦共和国 デー−6900 イエー ナ、フライリグラートシュトラアセ 72番 (72)発明者 フレッツェン、ライナー ドイツ連邦共和国 デー−4390 グラドベ ック、アーホルンシュトラアセ 1番 (72)発明者 コラル、バルバラ ドイツ連邦共和国 デー−4150 クレフェ ルト、ディオニシウスシュトラアセ 26番

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.有機または無機の担体物質と触媒金属前駆体から高度に活性なドープした 金属担持触媒を製造する方法であって、 周期律表6、7、8、9、10および/または11族の少なくとも一つの金属 の金属粒子、金属クラスター、または金属コロイドの形の触媒金属前駆体で被覆 する操作に先立って、または同時に、溶媒の存在下に周期律表4、5および/ま たは6族の少なくとも一つの金属の低原子価の容易に分解可能な金属化合物で担 体物質をドープし(触媒金属前駆体の金属と低原子価金属化合物の金属は周期律 表の異なった族に由来する。)、次に任意的に酸素で後処理し、すべての工程は −18℃〜+25℃の温度で行うことを特徴とする製造方法。 2.酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、塩化マグネシウム、シリカゲル、 酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ニオビウム、酸化ランタン、酸化セリウム 、酸化ネオジミウム、酸化サマリウム、セラミックス、アルミノシリケート、活 性炭、または有機ポリマーを担体物質として用いることを特徴とする請求の範囲 第1項に記載の方法。 3.ビス−アレーン化合物、不耐熱性のシクロペンタジエニル錯体、またはオ レフィン−金属錯体を、周期律表4、5、または6族からの低原子価金属化合物 として用いることを特徴とする請求の範囲第1項または第2項に記載の方法。 4.低原子価の容易に分解可能な金属化合物が周期律表4族の金属としてTi 、Zr、またはHfを、5族の金属としてV、Nb、またはTaを、6族の金属とし てCr、Mo、またはWを含むことを特徴とする請求の範囲第3項に記載の方法。 5.周期律表の6、7、8、9、10および/または11族の金属の金属クラ スターまたは金属コロイドを触媒前駆体として用いることを特徴とする請求の範 囲第1〜4項のいずれかに記載の方法。 6.Cr、Mo、W、Mn、Re、Fe、Ru、Os、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、P t、Cu、Ag、またはAuを用いることを特徴とする請求の範囲第1〜5項のいず れかに記載の方法。 7.少なくとも二つの異なった金属のコロイド状金属合金を金属コロイドとし て用いることを特徴とする請求の範囲第5項または第6項に記載の方法。 8.[HRh−シクロオクタジエン]4を後で水素ガスにさらす金属クラスター として用いることを特徴とする請求の範囲第5項または第6項に記載の方法。 9.0.5〜3nmの間に90%の粒径分布(透過電子顕微鏡、TEM)を有す るロジウムコロイドを金属コロイドとして用いることを特徴とする請求の範囲第 1〜6項のいずれかに記載の方法。 10.2〜5nmの間に90%の粒径分布(TEM)を有する白金コロイドを金属 コロイドとして用いることを特徴とする請求の範囲第1〜6項のいずれかに記載 の方法。 11.0.5〜3nmの間に90%の粒径分布(TEM)を有する白金/ロジウム コロイドを金属コロイドとして用いることを特徴とする請求の範囲第1〜7項の いずれかに記載の方法。 12.5〜20nmの間に90%の粒径分布(TEM)を有するパラジウムコロイ ドを金属コロイドとして用いることを特徴とする請求の範囲第1〜6項のいずれ かに記載の方法。 13.5〜20nmの間に90%の粒径分布(TEM)を有するニッケルコロイド を金属コロイドとして用いることを特徴とする請求の範囲第1〜6項のいずれか に記載の方法。 14.1〜5nmの間に90%の粒径分布(TEM)を有するルテニウムコロイド を金属コロイドとして用いることを特徴とする)請求の範囲第1〜6項のいずれ かに記載の方法。 15.少量の溶解したまたは気体の酸素の計量した添加により金属触媒を部分的 に酸素化することを特徴とする請求の範囲第1〜12項のいずれかに記載の方法 。 16.不飽和化合物の水素化、芳香族化合物の核の水素化、一酸化炭素の水素化 、またはアルカンの水素化のための、請求の範囲第1〜14項のいずれかに定義 した高度に活性なドープした金属担持触媒の使用。
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