JPH08506326A - C2タキサン誘導体およびそれを含有する薬剤組成物 - Google Patents

C2タキサン誘導体およびそれを含有する薬剤組成物

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JPH08506326A JP6517400A JP51740094A JPH08506326A JP H08506326 A JPH08506326 A JP H08506326A JP 6517400 A JP6517400 A JP 6517400A JP 51740094 A JP51740094 A JP 51740094A JP H08506326 A JPH08506326 A JP H08506326A
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Abstract

(57)【要約】 種々のC2置換基を有するタキサン誘導体。C2置換基は、−OCOR31であり、R31は置換フェニルであり、その置換基は、アルカンオキシ、保護ヒドロキシ、ハロゲン、アルキル、アリール、アルケニル、アシル、アシルオキシ、ニトロ、アミノおよびアミドから成る群から選択する。

Description

【発明の詳細な説明】 C2タキサン誘導体およびそれを含有する薬剤組成物 発明の背景 本発明は、抗白血病および抗腫瘍剤として有用な新規タキサン(taxanes)に 関する。 タキサン類のテルペン[タキソール(taxol)はその一種である]は、生物学 および化学の両分野で高い関心が持たれている。タキソールは、抗白血病および 腫瘍抑制活性スペクトルの広い、有望な癌化学療法剤である。タキソールは2' R,3'S配置を有し、構造式: [式中、Acはアセチルである。] で示される。タキソールは、その有望性の故に、フランスおよび米国で臨床試験 中である。 コリン(Colin)らは、米国特許第4814470号において、構造式: [式中、R'は水素またはアセチルであり、R"およびR"'の一方はヒドロキシ、 他方はt−ブトキシカルボニルアミノである。] で示されるタキソール誘導体およびその立体異性体並びにそれらの混合物は、タ キソール(1)よりも顕著に高い活性を有すると報告した。R"がヒドロキシで あり、R"'がt−ブトキシカルボニルアミノであり、2'R,3'S配置を有する式 (2)の化合物は、通常、タキソテル(taxotere)と称されている。 タキソールおよびタキソテルは有望な化学療法剤であるが、万能ではない。従 って、更なる化学療法剤が必要である。 本発明の概要 本発明の一目的は、抗白血病および抗腫瘍剤として有用な新規タキサン誘導体 を提供することである。 本発明は、C2タキサン誘導体に関する。好ましい態様においては、本発明の タキサン誘導体は三環または四環の核を有し、式(3)で示される: [式中、 X1は−OX6、−SX7または−NX89; X2は水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリールまたはヘテロアリ ール; X3およびX4はそれぞれ、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリー ルまたはヘテロアリール; X5は−COX10、−COOX10、−COSX10、−CONX810または−S O211; X6は水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリール 、ヒドロキシ保護基、またはタキサン誘導体の水溶性を高める官能基; X7はアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリールまたは スルフヒドリル保護基; X8は水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリール 、またはヘテロ置換アルキル、アルケニル、アルキニル、アリールもしくはヘテ ロアリール; X9はアミノ保護基; X10はアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリール、また はヘテロ置換アルキル、アルケニル、アルキニル、アリールもしくはヘテロアリ ール; X11はアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリール、−O X10または−NX814; X14は水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリールまたはヘテロアリ ール; R1は水素、ヒドロキシ、保護ヒドロキシ、またはR14と共にカーボネートを 形成; R2は−OCOR31; R2aは水素; R4は水素、R4aと共にオキソ、オキシランもしくはメチレンを形成、または R5aよびそれらが結合する炭素原子と共にオキセタン環を形成; R4aは水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリール 、シアノ、ヒドロキシ、−OCOR30、またはR4と共にオキソ、オキシランも しくはメチレンを形成; R5は水素、またはR5aと共にオキソを形成; R5aは水素、ヒドロキシ、保護ヒドロキシ、アシルオキシ、R5と共にオキソ を形成、またはR4およびそれらが結合する炭素原子と共にオキセタン環を形成 ; R6は水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリールもしくはヘテロア リール、ヒドロキシ、保護ヒドロキシ、またはR6aと共にオキソを形成; R6aは水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリールもしくはヘテロア リール、ヒドロキシ、保護ヒドロキシ、またはR6と共にオキソを形成; R7は水素、またはR7aと共にオキソを形成; R7aは水素、ハロゲン、保護ヒドロキシ、−OR28、またはR7と共にオキソ を形成; R9は水素、またはR9aと共にオキソを形成; R9aは水素、ヒドロキシ、保護ヒドロキシ、アシルオキシ、またはR9と共に オキソを形成; R10は水素、またはR10aと共にオキソを形成; R10aは水素、−OCOR29、ヒドロキシもしくは保護ヒドロキシ、またはR1 0 と共にオキソを形成; R14は水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリールもしくはヘテロア リール、ヒドロキシ、保護ヒドロキシ、またはR1と共にカーボネートを形成; R14aは水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリールまたはヘテロア リール; R28は水素、アシル、ヒドロキシ保護基、またはタキサン誘導体の溶解性を高 める官能基; R29およびR30はそれぞれ水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、単環ア リールまたは単環ヘテロアリール; R31は置換フェニル。]。 本発明の他の目的および特徴は、部分的には自明であり、部分的には以下の説 明において示す。 好ましい態様の詳細な説明 本発明において、"Ar"はアリール;"Ph"はフェニル;"Ac"はアセチル; "Et"はエチル;"R"は特記しない限りアルキル;"Bu"はブチル;"Pr"はプ ロピル;"TES"はトリエチルシリル;"TMS"はトリメチルシリル;"TPA P" は過ルテニウム酸テトラプロピルアンモニウム;"DMAP"はp−ジメチルアミ ノピリジン;"DMF"はジメチルホルムアミド;"LDA"はリチウムジイソプロ ピルアミド;"LHMDS"はリチウムヘキサメチルジシラジド;"LAW"は水素 化アルミニウムリチウム;"Red−A1"は水素化ナトリウムビス(2−メトキ シエトキシ)アルミニウム;"AIBN"はアゾ−(ビス)−イソブチロニトリル ;"10−DAB"は10−デスアセチルバッカチンIII;FARは2−クロロ− 1,1,2−トリフルオロトリエチルアミン;保護ヒドロキシは−OR(Rはヒド ロキシ保護基)である。スルフヒドリル保護基はヘミチオアセタール、例えば1 −エトキシエチルおよびメトキシメチル、チオエステル、またはチオカーボネー トを包含するが、それらに限定されない。"アミン保護基"はカルバメート、例え ば2,2,2−トリクロロエチルカルバメートまたはt−ブチルカルバメートを包 含するが、それらに限定されない。"ヒドロキシ保護基"はエーテル、例えばメチ ル、t−ブチル、ベンジル、p−メトキシベンジル、p−ニトロベンジル、アリ ル、トリチル、メトキシメチル、2−メトキシプロピル、メトキシエトキシメチ ル、エトキシエチル、テトラヒドロピラニル、テトラヒドロチオピラニル、およ びトリアルキルシリルエーテル(例えばトリメチルシリルエーテル、トリエチル シリルエーテル、ジメチルアリールシリルエーテル、トリイソプロピルシリルエ ーテルおよびt−ブチルジメチルシリルエーテル);エステル、例えばベンゾイ ル、アセチル、フェニルアセチル、ホルミル、モノ−、ジ−およびトリハロアセ チル(例えばクロロアセチル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチル、トリフ ルオロアセチル);カーボネート、例えば炭素原子数1〜6のアルキルカーボネ ート(例えばメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、t−ブ チル、イソブチルおよびn−ペンチル)、炭素原子数1〜6で、1個またはそれ 以上のハロゲン原子で置換されたアルキルカーボネート(例えば2,2,2−トリ クロロエトキシメチルおよび2,2,2−トリクロロ−エチル)、炭素原子数2〜 6のアルケニルカーボネート(例えばビニルおよびアリル)、炭素原子数3〜6 のシクロアルキルカーボネート(例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロ ペンチルおよびシクロヘキシル)、1個またはそれ以上のC1-6アルコキシまた はニトロで環が置換されてい ることもあるフェニルまたはベンジルカーボネートを包含するが、それらに限定 されない。他のヒドロキシ、スルフヒドリルおよびアミン保護基は、「プロテク ティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス(Protective Groups in Organic Synthesis)」、ティ・ダブリュ・グリーン(T.W.Greene)、ジョ ン・ワイリー・アンド・サンズ(John Wiley and Sons)、1981を参照し得 る。 アルキル基(不置換のもの、または本発明において定義する種々の置換基を有 するもの)は、好ましくは、主鎖の炭素原子数1〜6で、炭素原子数15までの 低級アルキルである。アルキル基は置換基を有し得、直鎖、分枝または環状であ ってよく、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ヘキシル、シク ロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどを包含する。 アルケニル基(不置換のもの、または本発明において定義する種々の置換基を 有するもの)は、好ましくは、主鎖の炭素原子数2〜6で、炭素原子数15まで の低級アルケニルである。アルケニル基は置換基を有し得、直鎖または分枝状で あってよく、エテニル、プロペニル、イソプロペニル、ブテニル、イソブテニル 、ヘキセニルなどを包含する。 アルキニル基(不置換のもの、または本発明において定義する種々の置換基を 有するもの)は、好ましくは、主鎖の炭素原子数2〜6で、炭素原子数15まで の低級アルキニルである。アルキニル基は置換基を有し得、直鎖または分枝状で あってよく、エチニル、プロピニル、ブチニル、イソブチニル、ヘキシニルなど を包含する。 アリール基(不置換のもの、または種々の置換基を有するもの)は、炭素原子 数6〜15で、フェニルを包含する。置換基は、アルカンオキシ、保護ヒドロキ シ、ハロゲン、アルキル、アリール、アルケニル、アシル、アシルオキシ、ニト ロ、アミノ、アミドなどを包含する。フェニルが好ましいアリールである。 ヘテロアリール基(不置換のもの、または種々の置換基を有するもの)は、炭 素原子数5〜15で、フリル、チエニル、ピリジルなどを包含する。置換基は、 アルカンオキシ、保護ヒドロキシ、ハロゲン、アルキル、アリール、アルケニル 、 アシル、アシルオキシ、ニトロ、アミノおよびアミドを包含する。 アシルオキシ基は、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリールまたはヘテ ロアリール基を有する。 置換アルキル、アルケニル、アルキニル、アリールおよびヘテロアリール基並 びに本発明中に記載する基の置換基は、アルキル、アルケニル、アルキニル、ア リール、ヘテロアリールであり得、および/または窒素、酸素、イオウ、ハロゲ ンを含み得、例えば低級アルコキシ(例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシ)、 ハロゲン(例えばクロロまたはフルオロ)、ニトロ、アミノおよびケトを包含す る。 本発明により、構造式(3)で示される化合物がインビトロで顕著な作用を示 し、有用な抗白血病および抗腫瘍剤であることがわかった。その生物学的活性を 、パーネス(Parness)ら、ジャーナル・オブ・セル・バイオロジー(J.CellB iology)、91:479−487(1981)の方法によるチューブリンアッセ イ、およびヒト癌細胞系を用いてインビトロで試験したところ、タキソールおよ びタキソテルの活性に匹敵することがわかった。 本発明の好ましい一態様においては、本発明のタキサンは、C2置換基である R2以外は、タキソールまたはタキソテルに相当する構造を有する[R2は−OC OR31であり、R31は式: (式中、Zはアルキル、ヒドロキシ、アルコキシ、ハロゲンまたはトリフルオロ メチルである。) で示される基を含んで成る群から選択する基である。]。すなわち、R14および R14aは水素、R10は水素、R10aはヒドロキシまたはアセトキシであり、R9お よびR9a共同でオキソを形成し、R7は水素、R7aはヒドロキシ、R5は水素であ り、R5aおよびR4およびそれらの結合する炭素は共同でオキセタン環を形成 し、R4aはアセトキシ、R1はヒドロキシ、X1は−OH、X2は水素、X3はフェ ニル、X4は水素、X5は−COX10、X10はフェニルまたはt−ブトキシであり 、本発明のタキサンは2'R,3'S配置を有する。 他の本発明の態様においては、本発明のタキサンは、C2置換基および他の少 なくとも1個の置換基に関して、タキソールまたはタキソテルとは異なる構造を 有する。例えば、R9aは水素であり得、R9は水素、ヒドロキシ、アセトキシま たは他のアシルオキシであり得、R7はアセトキシもしくは他のアシルオキシま たはハロゲンであり得、R10およびR10aはいずれも水素であり得るか、または 共同でオキソを形成し得、X3はイソブテニル、イソプロピル、シクロプロピル 、n−ブチル、t−ブチル、シクロブチル、シクロヘキシル、フリル、チエニル、 ピリジルまたはそれらの置換誘導体から選択し得、X5は−COX10または−C OOX10であり得、X10はフリル、チエニル、ピリジル、アルキル置換フリルも しくはチエニル、t−、イソ−もしくはn−ブチル、エチル、イソもしくはn−プ ロピル、シクロプロピル、シクロヘキシル、アリル、クロチル、1,3−ジエト キシ−2−プロピル、2−メトキシエチル、アミル、ネオペンチル、PhCH2 O−、−NPh2、−NHnPr、−NHPh、および−NHEtから選択し得 る。 一般式(3)で示されるタキサンは、β−ラクタムと、タキサン三環または四 環核およびC−13金属オキシド置換基を有するアルコキシドとを反応させて、 β−アミドエステル置換基をC−13に有する化合物を形成することによって合 成し得る。β−ラクタムは、構造式: [式中、X1〜X5は前記と同意義である。] で示される。 このようなβ−ラクタムは、容易に入手し得る物質から、下記反応式Aおよび Bに示すように合成し得る: 反応式A 反応式B 試薬:(a)トリエチルアミン、CH2Cl2、25℃、18時間;(b)4当 量の硝酸第二セリウムアンモニウム、CH3CN、−10℃、10分間;(c) KOH、THF、H2O、0℃、30分間、またはピロリジン、ピリジン、25 ℃、3時間;(d)TESCl、ピリジン、25℃、30分間、または2−メト キシプロペン、トルエンスルホン酸(触媒)、THF、0℃、2時間;(e)n −ブチルリチウム、THF、−78℃、30分間;およびアシルクロリドもしく はクロロホルメート(X5=−COX10)、スルホニルクロリド(X5=−COS X10)、またはイソシアネート(X5=−CONX810);(f)リチウムジイ ソプロピルアミド、THF、−78℃〜−50℃;(g)リチウムヘキサメチル ジシラジド、THF、−78℃〜0℃;(h)THF、−78℃〜25℃、12 時間。 出発物質は、容易に入手し得る。反応式Aにおいては、グリコール酸からα− アセトキシアセチルクロリドを合成し、それと、アルデヒドおよびp−メトキシ アニリンから合成したイミンとを、第三級アミンの存在下に環縮合させて、1− p−メトキシフェニル−3−アシルオキシ−4−アリールアゼチジン−2−オン を得る。p−メトキシフェニル基を、硝酸第二セリウムアンモニウムで酸化する ことによって容易に除去し、アシルオキシ基を、当業者に知られた通常の条件下 に加水分解して、3−ヒドロキシ−4−アリールアゼチジン−2−オンを得るこ とができる。反応式Bにおいては、エチルα−トリエチルシリルオキシアセテー トは、グリコール酸から容易に合成する。 反応式AおよびBにおいて、X1は好ましくは−OX6で、X6はヒドロキシ保 護基である。2−メトキシプロピル(「MOP」)、1−エトキシエチル(「E E」)のような保護基が好ましいが、種々の他の通常の保護基、例えばトリエチ ルシリル基または他のトリアルキル(またはアリール)シリル基を使用してもよ い。前記のように、他のヒドロキシ保護基およびその形成については、「プロテ クティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス」、ティ・ダブリュ・ グリーン、ジョン・ワイリー・アンド・サンズ、1981を参照し得る。 ラセミ体β−ラクタムは、対応する2−メトキシ−2−(トリフルオロメチル )フェニル酢酸エステルの再結晶によって、保護前に純粋なエナンチオマーに分 割し得る。しかし、β−アミドエステル側鎖を結合する後述の反応は、高ジアス テレオ選択性であるという利点を有するので、側鎖前駆物質のラセミ混合物を使 用することができる。 三環または四環タキサン核、およびC−13金属オキシドまたはアンモニウム オキシド置換基を有するアルコキシドは、構造式: [式中、R1〜R14aは前記と同意義であり、Mはアンモニウムを含んで成るか、 またはIA族、IIA族および遷移金属から成る群から場合により選択する金属、 好ましくはLi、Mg、Na、KまたはTiである。] で示される。最も好ましくは、アルコキシドは四環タキサン核を有し、構造式: [式中、M、R2、R4a、R7、R7a、R9、R9a、R10およびR10aは前記と同意 義である。] で示される。 アルコキシドは、タキサン核およびC−13ヒドロキシル基を有するアルコー ルと、有機金属化合物とを、適当な溶媒中で反応させることによって合成し得る 。最も好ましくは、アルコールは、保護されたバッカチンIII、とりわけ7−O −トリエチルシリルバッカチンIII[グリーン(Greene)らのザ・ジャーナル・ オブ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソサエティ(JACS110:5917( 1988)に記載の方法、または他の経路により得られる]、または7,10− ビス−O−トリエチルシリルバッカチンIIIである。 グリーンらが報告しているように、次の反応式に従って、10−デアセチルバ ッカチンIIIを、7−O−トリエチルシリル−10−デアセチルバッカチンIIIに 変換する: 注意深く最適化した条件であると報告されている条件下に、10−デアセチル バッカチンIIIと20当量の(C253SiClとを、10−デアセチルバッカ チンIII1ミリモル当たり50mlのピリジンの存在下、アルゴン雰囲気中、23 ℃で20時間反応させて、7−トリエチルシリル−10−デアセチルバッカチン III(4a)を反応生成物として得る(精製後の収率84〜86%)。次いで要 すれば、反応生成物を、5当量のCH3COCl、および化合物(4a)1ミリ モル当たり25mlのピリジンにより、アルゴン雰囲気中、0℃で48時間アセチ ル化して、7−O−トリエチルシリルバッカチンIII(4b)を86%の収率で 得ることができる[グリー ンら、ザ・ジャーナル・オブ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソサエティ、110 、5917−5918(1988)]。 次の反応式に示すように、7−保護バッカチンIII(4b)を、テトラヒドロ フラン(THF)のような溶媒中で、LHMDSのような有機金属化合物と反応 させて、金属アルコキシド13−O−リチウム−7−O−トリエチルシリルバッ カチンIIIを得る: 次の反応式に示すように、13−O−リチウム−7−O−トリエチルシリルバ ッカチンIIIと、β−ラクタム[X1は好ましくは−OX6(X6はヒドロキシ保護 基)で あり、X2〜X5は前記と同意義である。]とを反応させて、C−7およびC−2 'ヒドロキシル基が保護された中間体を得る。次いで、エステル結合またはタキ サン置換基を損なわないような穏やかな条件下に、保護基を加水分解する: アルコールからアルコキシドへの変換も、最終的なタキサン誘導体の合成も、 同じ反応器内で行うことができる。アルコキシドの生成後、その反応器にβ−ラ クタムを加えることが好ましい。 本発明の式(3)の化合物は、ヒトを含む動物の癌増殖抑制に有用であり、本 発明の化合物の抗腫瘍有効量を薬学的に許容し得る担体または希釈剤と共に含有 する薬剤組成物の形態で投与することが好ましい。 本発明の抗腫瘍組成物は、所期用途(例えば経口、非経口または局所投与)に 適したどのような形態に調製してもよい。非経口投与の例は、筋肉内、静脈内、 腹腔内、直腸および皮下投与である。 希釈剤または担体成分は、抗腫瘍化合物の処置効果を減弱するものであっては ならない。 適当な経口投与形態は、錠剤、分散性粉末、顆粒、カプセル、懸濁液、シロッ プおよびエリキシル剤を包含する。錠剤用の不活性希釈剤および担体は、例えば 炭酸カルシウム、炭酸ナトリウム、ラクトースおよびタルクを包含する。錠剤は 、造粒および崩壊剤(例えばデンプンおよびアルギン酸)、結合剤(例えばデン プン、ゼラチンおよびアラビアゴム)、並びに滑沢剤(例えばステアリン酸マグ ネシウム、ステアリン酸およびタルク)をも含有し得る。錠剤はコーティング無 しでも、例えば崩壊および吸収を遅延するために、未知の方法でコーティングし てもよい。カプセル剤中に使用し得る不活性希釈剤および担体は、例えば炭酸カ ルシウム、リン酸カルシウムおよびカオリンである。懸濁液、シロップおよびエ リキシル剤は、通常の賦形剤、例えばメチルセルロース、トラガント、アルギン 酸ナトリウム;湿潤剤、例えばレシチンおよびポリオキシエチレンステアレート ;並びに保存剤、例えばエチルp−ヒドロキシベンゾエートを含有し得る。 適当な非経口投与形態は、溶液、懸濁液、分散液、乳剤などを包含する。用時 に滅菌注射用媒体に溶解または懸濁し得る滅菌固体組成物の形態に調製してもよ い。それらは、当分野で知られている懸濁または分散剤を含有し得る。 式(3)で示される化合物の水溶性は、C2'および/またはC7置換基の変 更によって改善し得る。例えば、Xlが−OX6、R7aが−OR28であり、X6お よびR28がそれぞれ水素または−COGCOR1であり、 Gがエチレン、プロピレン、−CH=CH−、1,2−シクロヘキサン、また は1,2−フェニレンであり、 R1=OH塩基、NR23、OR3、SR3、OCH2CONR45、OH、 R2=水素、メチル、 R3=(CH2nNR67;(CH2n+678- n=1〜3 R4=水素、炭素数1〜4の低級アルキル、 R5=水素、炭素数1〜4の低級アルキル、ベンジル、ヒドロキシエチル、C H2CO2H、ジメチルアミノエチル、 R67=炭素数1もしくは2の低級アルキル、ベンジル、またはR6およびR7 はNR67の窒素原子と共に環: を形成、 R8=炭素数1もしくは2の低級アルキル、ベンジル、 X-=ハライド、 塩基=NH3、(HOC243N、N(CH33、CH3N(C24OH)2、 NH2(CH26NH2、N−メチルグルカミン、NaOH、KOH である場合に、水溶性が高まり得る。X1またはX2が−COGCOR1である化 合物の製造は、ホーグウィッツ(Haugwitz)の米国特許第4942184号に記 載されており、該特許を引用により本発明の一部とする。 また、X1が−OX6であり、X6がCOCX=CHXまたは−COX−CHX −CHX−SO2O−Mを有する基であり、Xが水素、アルキルまたはアリール 、Mが水素、アルカリ金属またはアンモニオ基である場合にも、水溶性が高まり 得る[キングストン(Kingston)らの米国特許第5059699号参照;該特許 を引用により本発明の一部とする]。 C9ケト置換基を選択的に還元して、対応するC9β−ヒドロキシ誘導体とす ることによって、他のC9置換基を有するタキサンを合成することができる。還 元剤は、好ましくはボロハイドライド、最も好ましくはテトラブチルアンモニウ ムボロハイドライド(Bu4NBH4)またはトリアセトキシボロハイドライドである 。 反応式1に示すように、バッカチンIIIとBu4NBH4とを塩化メチレン中で反 応させて、9−デスオキソ−9β−ヒドロキシバッカチンIII(5)を得る。C 7ヒドロキシル基を、例えばトリエチルシリル保護基で保護した後、本明細書中 に説明するように適当な側鎖を7−保護−9β−ヒドロキシ誘導体(6)に結合 し得る。残った保護基を除去すると、9β−ヒドロキシーデスオキソタキソール 、または他のC13側鎖を有する9β−ヒドロキシ四環タキサンが得られる。 反応式1 反応式2に示すように、7−保護−9β−ヒドロキシ誘導体(6)のC13ヒ ドロキシル基を、トリメチルシリルまたは他の保護基(C7ヒドロキシ保護基に 対し相対的に選択的除去することができる)で保護し、タキサンの種々の置換基 を更に選択的に変更することができる。例えば、7,13−保護−9β−ヒドロ キシ誘導体(7)とKHとの反応により、アセテート基がC10からC9へ、ヒ ドロキシル基がC9からC10へ移り、10−デスアセチル誘導体(8)が生成 する。 10−デスアセチル誘導体(8)のC10ヒドロキシル基をトリエチルシリルで 保護して、誘導体(9)を得る。誘導体(9)からC13ヒドロキシ保護基を選 択的に除去して、誘導体(10)を得、これに適当な側鎖を前記のように結合し 得る。 反応式2 反応式3に示すように、10−デスアセチル誘導体(8)の酸化により、10 −オキソ誘導体(11)を得ることができる。次いで、C13ヒドロキシ保護基 を選択的除去した後、前記のように側鎖を結合して、9−アセトキシ−10−オ キソ−タキソール、または他のC13側鎖を有する9−アセトキシ−10−オキ ソ四環タキサンを得ることができる。また、10−オキソ誘導体(11)を、二 ヨウ化サマリウムのような還元剤で還元することにより、C9アセテート基を選 択的除去して、9−デスオキソ−10−オキソ誘導体(12)を得、そのC13 ヒドロキシ保護基を選択的除去した後、前記のように側鎖を結合して、9−デス オキソ−10−オキソタキソール、または他のC13側鎖を有する9−デスオキ ソ−10−オキソ四環タキサンを合成することができる。 反応式3 反応式4に示すように、10−DABを還元してペンタオール(13)を得る ことができる。次いで、ペンタオール(13)のC7およびC10ヒドロキシル 基を、トリエチルシリルまたは他の保護基で選択的保護して、トリオール(14 )を得、これに、場合により更に四環置換基に変更を加えた後、前記のようにC 13側鎖を結合することができる。 反応式4 C9および/またはC10にアセテート以外のアシルオキシ置換基を有するタ キサンは、反応式5に示すように、10−DABを出発物質として合成すること ができる。ピリジン中で10−DABとトリエチルシリルクロリドとを反応させ ることにより、7−保護10−DAB(15)を得る。次いで、7−保護10− DAB(15)のC10ヒドロキシ置換基を、通常のアシル化剤で容易にアシル 化して、新しいC10アシルオキシ置換基を有する誘導体(16)を得ることが できる。誘導体(16)のC9ケト置換基の選択的還元により、9β−ヒドロキ シ誘導体(17)を得、それにC13側鎖を結合し得る。また、前記反応式2と 同様に、C1 0およびC9基の転移も行い得る。 反応式5 別のC2および/またはC4エステル基を有するタキサンは、バッカチンIII および10−DABを出発物質として合成し得る。バッカチンIIIおよび10− DABのC2および/またはC4エステルを、LAHまたはRed−Alのよう な還元剤を用いて、対応するアルコールに選択的還元し、次いで、無水物および 酸クロリドのような通常のアシル化剤を、ピリジン、トリエチルアミン、DMA Pまたはジイソプロピルエチルアミンのようなアミンと組み合わせて使用して、 新しいエステルを形成し得る。また、C2および/またはC4アルコールを、新 しいC2および/またはC4エステルに変換するために、アルコールをLDAの ような適当な塩基で処理して対応するアルコキシドを形成後、酸クロリドのよう なアシル化剤で処理してもよい。 C2および/またはC4に種々の置換基を有するバッカチン(baccatin)III および10−DAB類似体は、反応式6〜10に示すように合成し得る。説明を 単純化するために、10−DABを出発物質として使用する。しかし、単に10 −DABの代わりにバッカチンIIIを出発物質として使用することにより、バッ カチンIII誘導体または類似体も同様の反応経路(C10ヒドロキシル基の保護 を除く)で合成し得ると理解すべきである。C2および他の少なくとも一つの位 置(例えばC1、C4、C7、C9、C10およびC13)に異なる置換基を有 するバッカチンIIIおよび10−DAB類似体の誘導体は、本明細書中に記載の 他の反応、および当業者に可能な他の反応を更に行うことによって合成し得る。 反応式6においては、保護10−DAB(3)を水素化アルミニウムリチウム でトリオール(18)に変換する。その後、Cl2CO/ピリジン、次いで求核 剤(例えばグリニヤール試薬またはアルキルリチウム試薬)を用いて、トリオー ル(18)を対応するC4エステルに変換する。 反応式6 トリオール(18)をLDAで脱プロトン化し、次いで酸クロリドを導入する と、C4エステルが選択的に生成する。例えば、塩化アセチルを使用して、トリ オール(18)を1,2−ジオール(4)に変換した(反応式7参照)。 トリオール(18)は、1,2−カーボネート(19)にも容易に変換し得る 。反応式8に示すように、通常の激しい条件下にカーボネート(19)をアセチ ル化して、カーボネート(21)を得る;反応式6に示すように、カーボネート (19)にアルキルリチウムまたはグリニヤール試薬を付加すると、C4に遊離 ヒドロキシル基を有するC2エステルが生成する。 反応式7 反応式8 反応式9に示すように、他のC4置換基を導入するには、カーボネート(19 )と、酸クロリドおよび第三級アミンとの反応により、カーボネート(22)を 得、それをアルキルリチウムまたはグリニヤール試薬と反応させて、C2に新し い置換基を有する10−DAB誘導体を生成すれはよい。 反応式9 また、バッカチンIIIを出発物質として使用して、反応式10に示すように反 応させることもできる。バッカチンIIIを、C7およびC13において保護した 後、LAHで還元して、1,2,4,10−テトラオール(24)を得る。テトラ オール(24)を、Cl2COおよびピリジンを用いてカーボネート(25)に 変換し、カーボネート(25)を、C10において酸クロリドおよびピリジンで アシル化してカーボネート(26)(反応式に示す)を得るか、または無水酢酸 およびピリジンと反応させる(反応式に示さず)。カーボネート(26)を通常 の激しい条件下にアセチル化してカーボネート(27)を得、これをアルキルリ チウムと反応させて、C2およびC10に新しい置換基を有するバッカチンIII 誘導体を得る。 反応式10 バッカチンIIIの10−デスアセトキシ誘導体、および10−DABの10− デスオキシ誘導体は、バッカチンIIIまたは10−DAB(またはそれらの誘導 体)と、二ヨウ化サマリウムとの反応によって合成し得る。C10脱離基を有す る四環タキサンと、二ヨウ化サマリウムとの反応は、テトラヒドロフランのよう な溶媒中、0℃で行い得る。二ヨウ化サマリウムは、C10脱離基を好都合に選 択的に脱離する;C13側鎖、および四環核上の他の置換基は損なわれない。そ の後、本明細書中に説明するように、C9ケト置換基を還元して、対応する9− デスオキソ−9β−ヒドロキシ−10−デスアセトキシまたは10−デスオキシ 誘導体を生成し得る。 C7ジヒドロおよび他のC7置換タキサンは、反応式11、12および12a に示すように合成し得る。 反応式11 反応式12 反応式12a 反応式12に示すように、バッカチンIIIをTHF溶液中、室温でFARによ り処理して、7−フルオロバッカチンIIIに変換し得る。遊離C7ヒドロキシル 基を有する他のバッカチン誘導体も、同様に反応する。7−クロロバッカチンII Iは、バッカチンIIIを、過剰のトリエチルアミンヒドロクロリドを含有する塩化 メチレン溶液中で、メタンスルホニルクロリドおよびトリエチルアミンで処理す ることによって合成し得る。 C7アシルオキシ置換基を有するタキサンは、反応式12aに示すように合成 し得る。7,13−保護10−オキソ−誘導体(11)を、そのC13保護基を 選 択的除去して金属(例えばリチウム)に交換することによって、対応するC13 アルコキシドに変換する。次いで、アルコキシドを、β−ラクタムまたは他の側 鎖前駆物質と反応させる。その後、C7保護基を加水分解すると、C7ヒドロキ シ置換基がC10に、C10オキソ置換基がC9に、C9アシルオキシ置換基が C7に転移する。 種々の三環タキサンが天然に存在し、本明細書中に説明するものと同様の方法 で、そのC13酸素に適当な側鎖を結合し得る。また、反応式13に示すように 、7−O−トリエチルシリルバッカチンIIIを、塩化メチレン溶液中、テトラフ ルオロホウ酸トリメチルオキソニウムの作用により、三環タキサンに変換し得る 。次いで、生成したジオールを四酢酸鉛と反応させて、対応するC4ケトンを得 ることができる。 反応式13 最近、ヒドロキシル化タキサン(14−ヒドロキシ−10−デアセチルバッカ チンIII)が、イチイ針葉抽出物中に見出された[ケミカル・アンド・エンジニ アリング・ニュース(C&EN)、36−37頁、1993年4月12日]。C 2、C4などに前記のような種々の官能基を有するヒドロキシル化タキサン誘導 体も、上記ヒドロキシル化タキサンを用いて合成し得る。更に、C14ヒドロキ シル基は、ケミカル・アンド・エンジニアリング・ニューズに記載のように10 −DABのC1ヒドロキシル基と共に1,2−カーボネートに変換でき、または C2、C4、C7、C9、C10およびC13置換基に関して本明細書中に説明 するような種々のエステルもしくは他の官能基に変換し得る。 以下の実施例により、本発明を更に説明する。 実施例1 (64−4) 2−デスベンゾイル−2−(3−メトキシベンゾイル)−10−デアセチル− N−デスベンゾイル−N−(t−ブトキシカルボニル)タキソールの製造 THF(0.5ml)中の2−デスベンゾイル−2−(3−メトキシベンゾイル )−10−デアセチル−7,10−ビス(トリエチルシリル)バッカチンIII( 48.2mg)0.060ミリモル)の溶液に、−45℃で、ヘキサン中のLiN( SiMe32の1.00M溶液(0.066ml)を滴下した。−45℃で0.5時 間後、THF(0.5ml)中のシス−1−(t−ブトキシカルボニル)−3−トリ エチルシリルオキシ−4−フェニルアゼチジン−2−オン(90mg)0.240 ミリモル)の溶液を、混合物に滴下した。溶液を0℃に昇温し、その温度に1時 間保った後、THF中のAcOHの10%溶液(0.5ml)を加えた。混合物を 、飽和NaHCO3水溶液および60/40酢酸エチル/ヘキサンに分配した。 有機相を蒸発して得た残渣を、シリカゲルで濾過することにより精製して、(2 'R,3'S)−2',7,10−トリス(トリエチルシリル)−2−デスベンゾイル −2−(3−メトキシベンゾイル)−10−デアセチル−N−デベンゾイル−N −(t−ブトキシカルボニル)タキソールおよび極く少量の(2'S,3'R)異性 体を含有する混合物70.8mgを得た。 アセトニトリル(4ml)およびピリジン(0.19ml)中の、上記反応によっ て得た混合物(70.8mg)の溶液に、0℃で、48%HF水溶液(0.52ml) を加えた。混合物を0℃で3時間、および次いで25℃で13時間攪拌し、飽和 炭酸水素ナトリウム水溶液および酢酸エチルに分配した。酢酸エチル溶液を蒸発 して得た残 渣50.3mgを、再結晶により精製して、2−デスベンゾイル−2−(3−メト キシベンゾイル)−10−デアセチル−N−デベンゾイル−N−(t−ブトキシ カルボニル)タキソール43.1mg(86%)を得た。 m.p.162−164℃;[α]25 Na−61.6°(c0.790、CHCl3) 。 1H NMR(CDCl3、300MHz)δ7.67(m、2H、メトキシベン ゾエート、オルト)、7.36(m、6H、芳香環)、7.15(m、1H、メトキ シベンゾエート)、6.19(m、1H、H13)、5.65(d、J=6.9Hz、 1H、H2β)、5.50(m、1H、NH)、5.21(m、2H、H3'、H1 0)、4.95(dd、J=7.8、1.8Hz、1H、H5)、4.60(m、1H 、H2')、4.33(d、J=8.7Hz、1H、H20α)、4.23(m、1H 、H7)、4.17(d、J=8.7Hz、1H、H20β)、3.89(d、J= 6.9Hz、1H、H3)、3.86(s、3H、メトキシ)、3.56(m、1H 、2'OH)、2.55(m、1H、H6α)、2.34(s、3H、4Ac)、2. 23(m、2H、H14)、1.83(s、3H、Me18)、1.79(m、1H 、H6β)、1.73(s、3H、Me19)、1.32(s、9H、t-ブチル) 、1.22(s、3H、Me17)、1.11(s、3H、Me16)。 実施例2 (65−1) 2−デスベンゾイル−2−(3−メチルベンゾイル)−10−デアセチル−N −デスベンゾイル−N−(t−ブトキシカルボニル)タキソールの製造 THF(0.5ml)中の2−デスベンゾイル−2−(3−メチルベンゾイル) −]0−デアセチル−7,10−ビス(トリエチルシリル)バッカチンIII(47 .2mg、 0.060ミリモル)の溶液に、−45℃で、ヘキサン中のLiN(SiMe32 の1.00M溶液(0.066ml)を滴下した。−45℃で0.5時間後、THF (0.5ml)中のシス−1−(t−ブトキシカルボニル)−3−トリエチルシリル オキシ−4−フェニルアゼチジン−2−オン(90mg、0.240ミリモル)の 溶液を、混合物に滴下した。溶液を0℃に昇温し、その温度に1時間保った後、 THF中のAcOHの10%溶液(0.5ml)を加えた。混合物を、飽和NaH CO3水溶液および60/40酢酸エチル/ヘキサンに分配した。有機相を蒸発 して得た残渣を、シリカゲルで濾過することにより精製して、(2'R,3'S) −2',7,10−トリス(トリエチルシリル)−2−デスベンゾイル−2−(3 −メチルベンゾイル)−10−デアセチル−N−デベンゾイル−N−(t−ブト キシカルボニル)タキソールおよび極く少量の(2'S,3'R)異性体を含有す る混合物70.0mgを得た。 アセトニトリル(4ml)およびピリジン(0.19ml)中の、上記反応によっ て得た混合物(70.0mg)の溶液に、0℃で、48%HF水溶液(0.52ml) を加えた。混合物を0℃で3時間、および次いで25℃で13時間攪拌し、飽和 炭酸水素ナトリウム水溶液および酢酸エチルに分配した。酢酸エチル溶液を蒸発 して得た残渣49.3mgを、再結晶により精製して、2−デスベンゾイル−2− (3−メチルベンゾイル)−10−デアセチル−N−デスベンゾイル−N−(t −ブトキシカルボニル)タキソール41.9mg(85%)を得た。 m.p.169−171℃;[α]25 Na−60.4°(c0.510、CHCl3) 。 1H NMR(CDCl3、300MHz)δ7.91(m、2H、ベンゾエート )、7.38(m、7H、芳香環)、6.21(m、1H、H13)、5.65(d、 J=7.2Hz、1H、H2β)、5.42(m、1H、NH)、5.26(m、1 H、H3')、5.20(d、J=1.2Hz、1H、H10)、4.94(m、1H 、H5)、4.61(m、1H、H2')、4.31(d、J=8.7Hz、1H、H 20α)、4.24(m、1H、H7)、4.17(d、J=8.7Hz、1H、H 20β)、3.91(d、J=7.2Hz、1H、H3)、3.37(m、1H、2' OH)、2.57(m、1H、H6α)、2.43(s、3H、4Ac)、2.26 (m、2H、H14)、2.17(s、3H、メチルベンゾエート)、1.84(s 、3H、Me18)、1.79(m、1H、H6β)、1.74(s、 3H、Me19)、1.33(s、9H、t−ブチル)、1.22(s、3H、Me 17)、1.12(s、3H、Me16)。 実施例3 (65−2) 2−デスベンゾイル−2−(3−クロロベンゾイル)−10−デアセチル−N −デスベンゾイル−N−(t−ブトキシカルボニル)タキソールの製造 THF(0.5ml)中の2−デスベンゾイル−2−(3−クロロベンゾイル) −10−デアセチル−7,10−ビス(トリエチルシリル)バッカチンIII(48 .4mg、0.060ミリモル)の溶液に、−45℃で、ヘキサン中のLiN(Si Me32の1.00M溶液(0.066ml)を滴下した。−45℃で0.5時間後 、THF(0.5ml)中のシス−1−(t−ブトキシカルボニル)−3−トリエチ ルシリルオキシ−4−フェニルアゼチジン−2−オン(90mg、0.240ミリ モル)の溶液を、混合物に滴下した。溶液を0℃に昇温し、その温度に1時間保 った後、THF中のAcOHの10%溶液(0.5ml)を加えた。混合物を、飽 和NaHCO3水溶液および60/40酢酸エチル/ヘキサンに分配した。有機 相を蒸発して得た残渣を、シリカゲルで濾過することにより精製して、(2'R, 3'S)−2',7,10−トリス(トリエチルシリル)−2−デスベンゾイル−2 −(3−クロロベンゾイル)−10−デアセチル−N−デスベンゾイル−N−( t−ブトキシカルボニル)タキソールおよび極く少量の(2'S,3'R)異性体を 含有する混合物71mgを得た。 アセトニトリル(4ml)およびピリジン(0.19ml)中の、上記反応によっ て得た混合物(71mg)の溶液に、0℃で、48%HF水溶液(0.52ml)を 加えた。 混合物を0℃で3時間、および次いで25℃で13時間攪拌し、飽和炭酸水素ナ トリウム水溶液および酢酸エチルに分配した。酢酸エチル溶液を蒸発して得た残 渣50.5mgを、再結晶により精製して、2−デスベンゾイル−2−(3−クロ ロベンゾイル)−10−デアセチル−N−デスベンゾイル−N−(t−ブトキシ カルボニル)タキソール40.4mg(80%)を得た。 m.p.149−150℃;[α]25 Na−53.3°(c0.510、CHCl3) 。 1H NMR(CDCl3、300MHz)δ8.11(br s、1H)クロロベ ンゾエート オルト)、7.98(d、J=7.5Hz、1H、クロロベンゾエー ト オルト)、7.59(m、1H、クロロベンゾエート)、7.45(t、J=7. 5Hz、1H、クロロベンゾエート)、7.38(m、5H、芳香環)、6.18 (m、1H、H13)、5.62(d、J=7.2Hz、1H、H2β)、5.41 (m、1H、H3')、5.24(m、1H、NH)、5.20(d、J=1.0Hz 、1H、H10)、4.95(dd、J=9.3、1.2Hz、1H、H5)、4.5 9(m、1H、H2')、4.30(d、J=8.4Hz、1H、H20α)、4.2 3(m、1H、H7)、4.15(d、J=8.4Hz、1H、H20β)、3.9 1(d、J=7.2Hz、1H、H3)、3.35(m、1H)2'OH)、2.58 (m、1H、H6α)、2.36(s、3H、4Ac)、2.24(m、2H、H1 4)、1.84(s、3H、Me18)、1.79(m、1H、H6β)、1.75 (s、3H、Me19)、1.34(s、9H、t−ブチル)、1.23(s、3H、 Me17)、1.12(s、3H、Me16)。 実施例4 (65−3) 2−デスベンゾイル−2−(3−トリフルオロメチルベンゾイル)−10−デ アセチル−N−デスベンゾイル−N−(t−ブトキシカルボニル)タキソールの 製造 THF(0.5ml)中の2−デスベンゾイル−2−(3−トリフルオロメチル ベンゾイル)−10−デアセチル−7,10−ビス(トリエチルシリル)バッカ チンIII(50.4mg、0.060ミリモル)の溶液に、−45℃で、ヘキサン中 のLiN(SiMe32の1.00M溶液(0.066ml)を滴下した。−45℃ で0.5時間後、THF(0.5ml)中のシス−1−(t−ブトキシカルボニル) −3−トリエチルシリルオキシ−4−フェニルアゼチジン−2−オン(90mg、 0.240ミリモル)の溶液を、混合物に滴下した。溶液を0℃に昇温し、その 温度に1時間保った後、THF中のAcOHの10%溶液(0.5ml)を加えた 。混合物を、飽和NaHCO3水溶液および60/40酢酸エチル/ヘキサンに 分配した。有機相を蒸発して得た残渣を、シリカゲルで濾過することにより精製 して、(2'R,3'S)−2',7,10−トリス(トリエチルシリル)−2−デス ベンゾイル−2−(3−トリフルオロメチルベンゾイル)−10−デアセチル− N−デスベンゾイル−N−(t−ブトキシカルボニル)タキソールおよび極く少 量の(2'S,3'R)異性体を含有する混合物73.0mgを得た。 アセトニトリル(4ml)およびピリジン(0.19ml)中の、上記反応によっ て得た混合物(73.0mg)の溶液に、0℃で、48%HF水溶液(0.52ml) を加えた。混合物を0℃で3時間、および次いで25℃で13時間攪拌し、飽和 炭酸水素ナトリウム水溶液および酢酸エチルに分配した。酢酸エチル溶液を蒸発 して得た残渣52.6mgを、再結晶により精製して、2−デスベンゾイル−2− (3−トリフルオロメチルベンゾイル)−10−デアセチル−N−デスベンゾイ ル−N−(t−ブトキシカルボニル)タキソール41.0mg(78%)を得た。 m.p.140−142℃;[α]25 Na−50.4°(c 1.055、CHCl3) 。 1H NMR(CDCl3、300MHz)δ8.43(s、1H、ベンゾエート 、オルト)、8.29(d、J=7.8Hz、1H、ベンゾエート、オルト)、7. 88(d、J=7.8Hz、1H、ベンゾエート)、7.66(t、J=7.8Hz 、1H、ベンゾエート)、7.38(m、5H、芳香環)、6.17(m、1H、H 13)、5.65(d、 J=7.2Hz、1H、H2β)、5.38(m、1H、NH)、5.23(m、1 H、H3')、5.21(d、J=1.8Hz、1H、H10)、4.95(m、1H 、H5)、4.58(m、1H、H2')、4.27(d、J=8.7Hz、1H、 H20α)、4.21(m、1H、H7)、4.15(d、J=8.7Hz、1H、 H20β)、3.93(d、J=7.2Hz、1H、H3)、3.35(m、1H、 2'OH)、2.59(m、1H、H6α)、2.33(s、3H、4Ac)、2.2 3(m、2H、H14)、1.85(s、3H、Me18)、1.79(m、1H、 H6β)、1.76(s、3H、Me19)、1.32(s、9H、t−ブチル)、 1.22(s、3H、Me17)、1.11(s、3H、Me16)。 実施例5 (65−4) 2−デスベンゾイル−2−(4−メトキシベンゾイル)−10−デアセチル− N−デスベンゾイル−N−(t−ブトキシカルボニル)タキソールの製造 THF(0.5ml)中の2−デスベンゾイル−2−(4−メトキシベンゾイル )−10−デアセチル−7,10−ビス(トリエチルシリル)バッカチンIII(4 8.2mg、0.060ミリモル)の溶液に、−45℃で、ヘキサン中のLiN(S iMe32の1.00M溶液(0.066ml)を滴下した。−45℃で0.5時間 後、THF(0.5ml)中のシス−1−(t−ブトキシカルボニル)−3−トリエ チルシリルオキシ−4−フェニルアゼチジン−2−オン(90mg、0.240ミ リモル)の溶液を、混合物に滴下した。溶液を0℃に昇温し、その温度に1時間 保った後、THF中のAcOHの10%溶液(0.5ml)を加えた。混合物を、 飽和NaHCO3水溶液および 60/40酢酸エチル/ヘキサンに分配した。有機相を蒸発して得た残渣を、シ リカゲルで濾過することにより精製して、(2'R,3'S)−2',7,10−トリ ス(トリエチルシリル)−2−デスベンゾイル−2−(4−メトキシベンゾイル )−10−デアセチル−N−デスベンゾイル−N−(t−ブトキシカルボニル) タキソールおよび極く少量の(2'S,3'R)異性体を含有する混合物71mgを 得た。 アセトニトリル(4ml)およびピリジン(0.19ml)中の、上記反応によっ て得た混合物(71mg)の溶液に、0℃で、48%HF水溶液(0.52ml)を 加えた。混合物を0℃で3時間、および次いで25℃で13時間攪拌し、飽和炭 酸水素ナトリウム水溶液および酢酸エチルに分配した。酢酸エチル溶液を蒸発し て得た残渣50.3mgを、再結晶により精製して、2−デスベンゾイル−2−( 4−メトキシベンゾイル)−10−デアセチル−N−デスベンゾイル−N−(t −ブトキシカルボニル)タキソール45.2mg(90%)を得た。 m.p.160−162℃;[α]25 Na−47.6°(c 0.290、CHCl3) 。 1H NMR(CDCl3、300MHz)δ8.05(dd、J=9.0、2H、 メトキシベンゾエート、オルト)、7.38(m、5H、芳香環)、6.96(dd 、J=9.0、2H、メトキシベンゾエート、メタ)、6.23(m、1H、H1 3)、5.64(d、J=7.2Hz、1H、H2β)、5.42(m、1H、H3' )、5.27(m、1H、NH)、5.19(d、J=1.2Hz、1H、H10) 、4.93(dd、J=7.8、1.8Hz、1H、H5)、4.62(m、1H、H 2')、4.31(d、J=9.0Hz、1H、H20α)、4.24(m、1H、H 7)、4.19(d、J=9.0Hz、1H、H20β)、3.89(d、J=7.2 Hz、1H、H3)、3.65(s、3H、メトキシ)、3.32(m、1H、2' OH)、2.58(m、1H、H6α)、2.37(s、3H、4Ac)、2.26 (m、2H、H14)、1.85(s、3H、Me18)、1.78(m、1H、H 6β)、1.75(s、3H、Me19)、1.34(s、9H、t−ブチル)、1. 23(s、3H、Me17)、1.12(s、3H、Me16)。 実施例6 (66−1) 2−デスベンゾイル−2−(4−クロロベンゾイル)−10−デアセチル−N −デスベンゾイル−N−(t−ブトキシカルボニル)タキソールの製造 THF(0.5ml)中の2−デスベンゾイル−2−(4−クロロベンゾイル) −10−デアセチル−7,10−ビス(トリエチルシリル)バッカチンIII(48 .4mg)0.060ミリモル)の溶液に、−45℃で、ヘキサン中のLiN(Si Me32の1.00M溶液(0.066ml)を滴下した。−45℃で0.5時間後 、THF(0.5ml)中のシス−1−(t−ブトキシカルボニル)−3−トリエチ ルシリルオキシ−4−フェニルアゼチジン−2−オン(90mg、0.240ミリ モル)の溶液を、混合物に滴下した。溶液を0℃に昇温し、その温度に1時間保 った後、THF中のAcOHの10%溶液(0.5ml)を加えた。混合物を、飽 和NaHCO3水溶液および60/40酢酸エチル/ヘキサンに分配した。有機 相を蒸発して得た残渣を、シリカゲルで濾過することにより精製して、(2'R, 3'S)−2',7,10−トリス(トリエチルシリル)−2−デスベンゾイル−2 −(4−クロロベンゾイル)−10−デアセチル−N−デスベンゾイル−N−( t−ブトキシカルボニル)タキソールおよび極く少量の(2'S,3'R)異性体を 含有する混合物71mgを得た。 アセトニトリル(4ml)およびピリジン(0.19ml)中の、上記反応によっ て得た混合物(71mg)の溶液に、0℃で、48%HF水溶液(0.52ml)を 加えた。混合物を0℃で3時間、および次いで25℃で13時間攪拌し、飽和炭 酸水素ナトリウム水溶液および酢酸エチルに分配した。酢酸エチル溶液を蒸発し て得た残 渣51mgを、再結晶により精製して、2−デスベンゾイル−2−(4−クロロベ ンゾイル)−10−デアセチル−N−デスベンゾイル−N−(t−ブトキシカル ボニル)タキソール37.9mg(75%)を得た。 m.p.160−161℃;[α]25 Na−46.0°(c 0.104、CHCl3) 。 1H NMR(CDCl3、300MHz)δ8.03(d、J=8.7Hz、2 H、クロロベンゾエート オルト)、7.48(d、J=8.7Hz、2H、クロ ロベンゾエート メタ)、7.38(m、5H、芳香環)、6.23(m、1H、H 13)、5.64(d、J=7.2Hz、1H、H2β)、5.45(m、1H、H 3')、5.26(m、1H、NH)、5.20(d、J=1.2Hz、1H、H10 )、4.93(d、J=7.8Hz、1H、H5)、4.63(m、1H、H2')、 4.28(d、J=8.2Hz、1H、H20α)、4.22(m、1H、H7)、 4.15(d、J=8.2Hz、1H、H20β)、3.90(d、J=7.2Hz、 1H、H3)、3.36(m、1H、2'OH)、2.58(m、1H、H6α)、 2.37(s、3H、4Ac)、2.25(m、2H、H14)、1.85(s、3H 、Me18)、1.80(m、1H、H6β)、1.75(s、3H、Me19)、 1.32(s、9H、t−ブチル)、1.23(s、3H、Me17)、1.11(s 、3H、Me16)。 実施例7 (66−2) 2−デスベンゾイル−2−(4−フルオロベンゾイル)−10−デアセチル− N−デスベンゾイル−N−(t−ブトキシカルボニル)タキソールの製造 THF(0.5ml)中の2−デスベンゾイル−2−(4−フルオロベンゾイル )− 10−デアセチル−7,10−ビス(トリエチルシリル)バッカチンIII(47. 5mg、0.060ミリモル)の溶液に、−45℃で、ヘキサン中のLiN(Si Me32の1.00M溶液(0.066ml)を滴下した。−45℃で0.5時間後 、THF(0.5ml)中のシス−1−(t−ブトキシカルボニル)−3−トリエチ ルシリルオキシ−4−フェニルアゼチジン−2−オン(90mg、0.240ミリ モル)の溶液を、混合物に滴下した。溶液を0℃に昇温し、その温度に1時間保 った後、THF中のAcOHの10%溶液(0.5ml)を加えた。混合物を、飽 和NaHCO3水溶液および60/40酢酸エチル/ヘキサンに分配した。有機 相を蒸発して得た残渣を、シリカゲルで濾過することにより精製して、(2'R, 3'S)−2',7,10−トリス(トリエチルシリル)−2−デスベンゾイル−2 −(4−フルオロベンゾイル)−10−デアセチル−N−デスベンゾイル−N− (t−ブトキシカルボニル)タキソールおよび極く少量の(2'S,3'R)異性体 を含有する混合物70mgを得た。 アセトニトリル(4ml)およびピリジン(0.19ml)中の、上記反応によっ て得た混合物(70mg)の溶液に、0℃で、48%HF水溶液(0.52ml)を 加えた。混合物を0℃で3時間、および次いで25℃で13時間攪拌し、飽和炭 酸水素ナトリウム水溶液および酢酸エチルに分配した。酢酸エチル溶液を蒸発し て得た残渣49.5mgを、再結晶により精製して、2−デスベンゾイル−2−( 4−フルオロベンゾイル)−10−デアセチル−N−デスベンゾイル−N−(t −ブトキシカルボニル)タキソール42.0mg(85%)を得た。 m.p.158−160℃;[α]25 Na−47.6°(c 0.290、CHCl3) 。 1H NMR(CDCl3、300MHz)δ8.13(m、2H、フルオロベン ゾエート、オルト)、7.38(m、5H、芳香環)、7.17(m、2H、フルオ ロベンゾエート)、6.23(m、1H、H13)、5.64(d、J=7.2Hz 、1H、H2β)、5.41(d、J=9.9Hz、1H、H3')、5.26(m、 1H、NH)、5.20(d、J=1.2Hz、1H、H10)、4.93(dd、J =9.9、2.1Hz、1H、H5)、4.63(m、1H、H2')、4.28(d 、J=8.2Hz、1H、H20α)、4.24(m、1H、H7)、4.17(d 、J=8.2Hz、1H、H20β)、3.91(d、J=7.2Hz、1H、H3 )、3.32(m、1H、2'OH)、2.58 (m、1H、H6α)、2.37(s、3H、4Ac)、2.25(m、2H、H1 4)、1.85(s、3H、Me18)、1.80(m、1H、H6β)、1.75 (s、3H、Me19)、1.33(s、9H、t−ブチル)、1.25(s、3H、 Me17)、1.12(s、3H、Me16)。 実施例8 (68−1) N−デスベンゾイル-N−(t−ブトキシカルボニル)−2−デスベンゾイル− 2−(2−トリフルオロメチルベンゾイル)−10−デスアセチルタキソールの 製造 THF(0.5ml)中の2−デスベンゾイル−2−(2−トリフルオロメチル ベンゾイル)−10−デアセチル−7,10−(ビス)−O−トリエチルシリル バッカチンIII(50.4mg、0.060ミリモル)の溶液に、−45℃で、ヘキ サン中のLiN(SiMe32の1.00M溶液(0.066ml)を滴下した。− 45℃で0.5時間後、THF(0.5ml)中のシス−1−(t−ブトキシカルボ ニル)−3−トリエチルシリルオキシ−4−フェニルアゼチジン−2−オン(9 0mg、0.240ミリモル)の溶液を、混合物に滴下した。溶液を0℃に昇温し 、その温度に1時間保った後、THF中のAcOHの10%溶液(0.5ml)を 加えた。混合物を、飽和NaHCO3水溶液および60/40酢酸エチル/ヘキ サンに分配した。有機相を蒸発して得た残渣を、シリカゲルで濾過することによ り精製して、(2'R,3'S)−2',7,10−(トリス)−O−トリエチルシリ ル−N−デスベンゾイル−N−(t−ブトキシカルボニル)−2−デスベンゾイ ル−2−(2−トリフルオロメチルベンゾイル) −10−デスアセチルタキソールおよび極く少量の(2'S,3'R)異性体を含 有する混合物73.0mgを得た。 アセトニトリル(4ml)およびピリジン(0.19ml)中の、上記反応によっ て得た混合物(73.0mg)の溶液に、0℃で、48%HF水溶液(0.52ml) を加えた。混合物を0℃で3時間、および次いで25℃で13時間攪拌し、飽和 炭酸水素ナトリウム水溶液および酢酸エチルに分配した。酢酸エチル溶液を蒸発 して得た残渣52.6mgを、再結晶により精製して、N−デスベンゾイル−N− (t−ブトキシカルボニル)−2−デスベンゾイル−2−(2−トリフルオロメ チルベンゾイル)−10−デスアセチルタキソール39.4mg(75%)を得た 。 m.p.121−123℃;[α]25 Na−34.2°(c 0.760、CHCl3) 。 1H NMR(CDCl3、300MHz)δ8.10(m、1H、ベンゾエート 、オルト)、7.82(d、J=7.5Hz、1H、ベンゾエート)、7.70(m、 2H、ベンゾエート)、7.35(m、5H、芳香環)、6.24(m、1H、H1 3)、5.64(d、J=7.2Hz、1H、H2β)、5.46(m、1H、NH )、5.28(m、1H、H3')、5.19(d、J=1.8Hz、1H、H10) 、4.89(dd、J=8.7、1.2Hz、1H、H5)、4.63(m、1H、H 2')、4.26(d、J=8.1Hz、1H、H20α)、4.17(m、2H、H 7、H20β)、3.90(d、J=7.2Hz、1H、H3)、3.35(m、1 H、2'OH)、2.56(m、1H、H6α)、2.39(m、2H、H14)、 2.24(s、3H、4Ac)、1.87(s、3H、Me18)、1.84(m、1 H、H6β)、1.76(s、3H、Me19)、1.38(s、9H、t−ブチル )、1.24(s、3H、Me17)、1.11(s、3H、Me16)。 実施例9 (68−2) N−デスベンゾイル−N−(t−ブトキシカルボニル)−2−デスベンゾイル −2−(2−メチルベンゾイル)−10−デスアセチルタキソールの製造 THF(0.5ml)中の2−デスベンゾイル−2−(2−メチルベンゾイル) −10−デアセチル−7,10−(ビス)−O−トリエチルシリルバッカチンIII (47.2mg、0.060ミリモル)の溶液に、−45℃で、ヘキサン中のLiN (SiMe32の1.00M溶液(0.066ml)を滴下した。−45℃で0.5 時間後、THF(0.5ml)中のシス−1−(t−ブトキシカルボニル)−3−ト リエチルシリルオキシ−4−フェニルアゼチジン−2−オン(90mg、0.24 0ミリモル)の溶液を、混合物に滴下した。溶液を0℃に昇温し、その温度に1 時間保った後、THF中のAcOHの10%溶液(0.5ml)を加えた。混合物 を、飽和NaHCO3水溶液および60/40酢酸エチル/ヘキサンに分配した 。有機相を蒸発して得た残渣を、シリカゲルで濾過することにより精製して、( 2'R,3'S)−2',7,10−(トリス)−O−トリエチルシリル−N−デスベ ンゾイル−N−(t−ブトキシカルボニル)−2−デスベンゾイル−2−(2− メチルベンゾイル)−10−デスアセチルタキソールおよび極く少量の(2'S, 3'R)異性体を含有する混合物70.0mgを得た。 アセトニトリル(4ml)およびピリジン(0.19ml)中の、上記反応によっ て得た混合物(70.0mg)の溶液に、0℃で、48%HF水溶液(0.52ml) を加えた。混合物を0℃で3時間、および次いで25℃で13時間攪拌し、飽和 炭酸水素ナ トリウム水溶液および酢酸エチルに分配した。酢酸エチル溶液を蒸発して得た残 渣49.3mgを、再結晶により精製して、2−デスベンゾイル−2−(2−メチ ルベンゾイル)−10−デスアセチル−N−デスベンゾイル−N−(t−ブトキ シカルボニル)タキソール44.4mg(90%)を得た。 m.p.129−131℃;[α]25 Na−50.8°(c 0.750、CHCl3) 。 1H NMR(CDCl3、300MHz)δ8.05(m、1H、ベンゾエート )、7.38(m、8H、芳香環)、6.21(m、1H、H13)、5.65(d、 J=6.6Hz、1H、H2β)、5.46(m、1H、NH)、5.24(m、1 H、H3')、5.20(d、J=0.9Hz、1H、H10)、4.91(dd、J =9.3、1.5Hz、1H、H5)、4.60(br s、1H、H2')、4.25 (d、J=8.1Hz、1H、H20α)、4.24(m、1H、H7)、4.17 (d、J=8.1Hz、1H、H20β)、3.88(d、J=6.6Hz、1H、 H3)、3.37(m、1H、2'OH)、2.63(s、3H、メチルベンゾエー ト)、2.57(m、1H、H6α)、2.30(s、3H、4Ac)、2.58(m 、2H、H14)、1.83(s、3H、Me18)、1.79(m、1H、H6β )、1.75(s、3H、Me19)、1.37(s、9H、t−ブチル)、1.24 (s、3H、Me17)、1.13(s、3H、Me16)。 実施例10 (73−4) N−デスベンゾイル-N−(t−ブトキシカルボニル)−2−デスベンゾイル− 2−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)ベンゾイル)−10−デスアセチル タキソールの製造 THF(0.5ml)中の2−デスベンゾイル−2−(3,5−ビス(トリフルオ ロメチル)ベンゾイル)−7,10−(ビス)−O−トリエチルシリル−10− デスアセチルバッカチンIII(51.3mg、0.060ミリモル)の溶液に、−4 5℃で、ヘキサン中のLiN(SiMe32の1.00M溶液(0.066ml)を 滴下した。−45℃で0.5時間後、THF(0.5ml)中のシス−1−(t−ブ トキシカルボニル)−3−トリエチルシリルオキシ−4−フェニルアゼチジン− 2−オン−(90mg、0.240ミリモル)の溶液を、混合物に滴下した。溶液 を0℃に昇温し、その温度に1時間保った後、THF中のAcOHの10%溶液 (0.5ml)を加えた。混合物を、飽和NaHCO3水溶液および60/40酢酸 エチル/ヘキサンに分配した。有機相を蒸発して得た残渣を、シリカゲルで濾過 することにより精製して、(2'R,3'S)−2',7,10−(トリス)−O−ト リエチルシリル−N−デスベンゾイル−N−(t−ブトキシカルボニル)−2− デスベンゾイル−2−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)ベンゾイル)−1 0−デスアセチルタキソールおよび極く少量の(2'S,3'R)異性体を含有す る混合物73.9mgを得た。 アセトニトリル(4ml)およびピリジン(0.19ml)中の、上記反応によっ て得た混合物(73.9mg)の溶液に、0℃で、48%HF水溶液(0.52ml) を加えた。混合物を0℃で3時間、および次いで25℃で13時間攪拌し、飽和 炭酸水素ナトリウム水溶液および酢酸エチルに分配した。酢酸エチル溶液を蒸発 して得た残渣53.4mgを、再結晶により精製して、N−デスベンゾイル−N− (t−ブトキシカルボニル)−2−デスベンゾイル−2−(3,5−ビス(トリフ ルオロメチル)ベンゾイル)−10−デスアセチルタキソール49.1mg(92 %)を得た。 m.p.141−143℃;[α]25 Na−43.6°(c 0.730、CHCl3) 。 1H NMR(CDCl3、300MHz)δ8.59(s、2H、ベンゾエート 、オルト)、8.12(s、1H、ベンゾエート、パラ)、7.37(m、5H、芳 香環)、6.14(m、1H、H13)、5.64(d、J=7.2Hz、1H、H 2β)、5.36(m、1H、NH)、5.21(d、J=1.2Hz、1H、H1 0)、5.18(m、1H、H3')、4.97(dd、J=9.6、2.1Hz、1H 、H5)、4.58(m、1H、H2')、4.19(m、3H、H20、H7)、 3.95(d、J=7.2Hz、1 H、H3)、3.39(m、1H、2'OH)、2.59(m、1H、H6α)、2. 30(s、3H、4Ac)、2.25(m、2H、H14)、1.85(s、3H、 Me18)、1.79(m、1H、H6β)、1.75(s、3H、Me19)、1 .32(s、9H、t−ブチル)、1.22(s、3H、Me17)、1.13(s、 3H、Me16)。 実施例11 (74−1) N−デスベンゾイル−N−(t−ブトキシカルボニル)−2−デスベンゾイル −2−(3,5−ジメチルベンゾイル)−10−デスアセチルタキソールの製造 THF(0.5ml)中の2−デスベンゾイル−2−(3,5−ジメチルベンゾイ ル)−7,10−(ビス)−O−トリエチルシリル−10−デスアセチルバッカ チンIII(48.1mg、0.060ミリモル)の溶液に、−45℃で、ヘキサン中 のLiN(SiMe32の1.00M溶液(0.066ml)を滴下した。−45℃ で0.5時間後、THF(0.5ml)中のシス−1−(t−ブトキシカルボニル) −3−トリエチルシリルオキシ−4−フェニルアゼチジン−2−オン(90mg、 0.240ミリモル)の溶液を、混合物に滴下した。溶液を0℃に昇温し、その 温度に1時間保った後、THF中のAcOHの10%溶液(0.5ml)を加えた 。混合物を、飽和NaHCO3水溶液および60/40酢酸エチル/ヘキサンに 分配した。有機相を蒸発して得た残渣を、シリカゲルで濾過することにより精製 して、(2'R,3'S)−2',7,10−(トリス)−O−トリエチルシリル−N −デスベンゾイル−N−(t−ブトキシカルボニル)−2−デスベンゾイル−2 −(3,5−ジメチルベンゾイル)−10−デスアセチルタキソールおよび極く 少量の(2'S,3'R)異性体を含有する混合 物70.1mgを得た。 アセトニトリル(4ml)およびピリジン(0.19ml)中の、上記反応によっ て得た混合物(70.1mg)の溶液に、0℃で、48%HF水溶液(0.52ml) を加えた。混合物を0℃で3時間、および次いで25℃で13時間攪拌し、飽和 炭酸水素ナトリウム水溶液および酢酸エチルに分配した。酢酸エチル溶液を蒸発 して得た残渣50.2mgを、再結晶により精製して、N−デスベンゾイル−N− (t−ブトキシカルボニル)−2−デスベンゾイル−2−(3,5−ジメチルベン ゾイル)−10−デスアセトキシタキソール45.1mg(90%)を得た。 m.p.198−200℃;[α]25 Na−49.0°(c 0.965、CHCl3) 。 1H NMR(CDCl3、300MHz)δ7.72(s、2H、ベンゾエート 、オルト)、7.37(m、5H、芳香環)、7.23(s、1H、ベンゾエート、 パラ)、6.21(m、1H、H13)、5.64(d、J=7.2Hz、1H、H 2β)、5.45(m、1H、NH)、5.25(m、1H、H3')、5.20(d 、J=1.8Hz、1H、H10)、4.94(dd、J=9.3、1.2Hz、1H 、H5)、4.61(m、1H、H2')、4.32(d、J=8.1Hz、1H、H 20α)、4.21(m、1H、H7)、4.16(d、J=8.7Hz、1H、H 20β)、3.89(d、J=7.2Hz、1H、H3)、3.39(m、1H、2' OH)、2.58(m、1H、H6α)、2.38(s、6H、ジメチルベンゾエー ト)、2.36(s、3H、4Ac)、2.27(m、2H、H14)、1.88(m 、1H、H6β)、1.83(s、3H、Me18)、1.74(s、3H、Me1 9)、1.33(s、9H、t−ブチル)、1.22(s、3H、Me17)、1.1 2(s、3H、Me16)。 実施例12 (74−2) N−デスベンゾイル−N−(t−ブトキシカルボニル)−2−デスベンゾイル −2−(3−ヒドロキシベンゾイル)−10−デスアセチルタキソールの製造 THF(0.5ml)中の2−デスベンゾイル−2−(3−トリエチルシリルオ キシベンゾイル)−7,10−(ビス)−O−トリエチルシリル−10−デスア セチルバッカチンIII(54.1mg、0.060ミリモル)の溶液に、−45℃で 、ヘキサン中のLiN(SiMe32の1.00M溶液(0.066ml)を滴下し た。−45℃で0.5時間後、THF(0.5ml)中のシス−1−(t−ブトキシ カルボニル)−3−トリエチルシリルオキシ−4−フェニルアゼチジン−2−オ ン(90mg、0.240ミリモル)の溶液を、混合物に滴下した。溶液を0℃に 昇温し、その温度に1時間保った後、THF中のAcOHの10%溶液(0.5m l)を加えた。混合物を、飽和NaHCO3水溶液および60/40酢酸エチル/ ヘキサンに分配した。有機相を蒸発して得た残渣を、シリカゲルで濾過すること により精製して、(2'R,3'S)−2',7,10−トリス−(トリエチルシリル )−N−デベンゾイル−N−(t−ブトキシカルボニル)−2−デスベンゾイル −2−(3−トリエチルシリルオキシベンゾイル)−10−デスアセチルタキソ ールおよび極く少量の(2'S,3'R)異性体を含有する混合物76.7mgを得た 。 アセトニトリル(4ml)およびピリジン(0.19ml)中の、上記反応によっ て得た混合物(76.7mg)の溶液に、0℃で、48%HF水溶液(0.52ml) を加えた。混合物を0℃で3時間、および次いで25℃で13時間攪拌し、飽和 炭酸水素ナ トリウム水溶液および酢酸エチルに分配した。酢酸エチル溶液を蒸発して得た残 渣49.4mgを、再結晶により精製して、N−デスベンゾイル−N−(t−ブトキ シカルボニル)−2−デスベンゾイル−2−(3−ヒドロキシベンゾイル)−1 0−デスアセチルタキソール43.4mg(88%)を得た。 m.p.153−155℃;[α]25 Na−45.0°(c 0.560、CHCl3) 。 1H NMR(CDCl3、300MHz)δ7.36(m、9H、芳香環)、7 .10(m、1H、OH)、6.38(m、1H、H13)、5.60(d、J=9. 9Hz、NH)、5.53(d、J=7.5Hz、1H、H2β)、5.37(m、 1H、H3')、5.18(d、J=1.2Hz、1H、H10)、4.90(dd、 J=9.9、2.4Hz)1H、H5)、4.75(m、1H、H2')、4.29( d、J=8.4Hz、1H、H20α)、4.24(m、2H、H7、H20β)、 3.93(d、J=7.5Hz、1H、H3)、3.29(m、1H、2'OH)、2 .56(m、1H、H6α)、2.36(s、3H、4Ac)、2.27(m、2H、 H14)、1.91(s、3H、Me18)、1.85(m、1H、H6β)、1. 76(s、3H、Me19)、1.33(s、9H、t−ブチル)、1.24(s、3 H、Me17)、1.08(s、3H、Me16)。 実施例13 実施例1〜12の化合物64−4、65−1、65−2、65−3、65−4 、66−1、66−2、68−1、68−2、73−4、74−1および74− 2のインビトロ細胞毒性活性を、ヒト結腸癌細胞HCT−116に対して試験し た。HCT−116細胞に対する細胞毒性の評価は、XTT(2,3−ビス(2 −メトキシ−4−ニトロ−5−スルホフェニル)−5−[(フェニルアミノ)カ ルボニル]−2H−テトラゾリウムヒドロキシド)アッセイによって行った[ス クディエロ(Scudiero)ら、「エバリュエーション・オブ・ア・ソルブル・テト ラゾリウム/ホルマザン・アッセイ・フォー・セル・グロース・アンド・ドラッ グ・センシティビティ・イン・カルチャー・ユージング・ヒューマン・アンド・ アザー・テューマ・セル・ラインズ(Evaluation of a soluble tetrazolium/ formazanassay for cell growth and drug sensitivity in culture usinghuman and other tumor cell lines)」、カンサー・リサーチ(Cancer Res.)48:4827−4833、1988]。96ウェルマイクロタイター プレートで、4000細胞/ウェルを培養し、24時間後に薬物を加え、段階希 釈した。細胞を37℃で72時間インキュベート後、テトラゾリウム色素XTT を加えた。生存細胞中のデヒドロゲナーゼ酵素はXTTを還元して、450nmの 光を吸収する形態とするので、それを分光測光法によって定量し得る。吸光度が 高いほど、生存細胞数が多い。結果をIC50として表す。IC50は、未処理対照 細胞と比較して細胞増殖(すなわち450nmにおける吸光度)を50%抑制する のに要する薬物濃度である。 全ての化合物がIC50が0.5未満であり、化合物65−4(実施例5)を除 く全ての化合物が、IC50が0.1未満であり、細胞毒性活性であることがわか った。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI C07C 311/06 7419−4H 323/51 7419−4H C07D 305/14 7329−4C (31)優先権主張番号 08/094,715 (32)優先日 1993年7月20日 (33)優先権主張国 米国(US) (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FR,GB,GR,IE,IT,LU,M C,NL,PT,SE),AU,CA,CZ,FI,H U,JP,KR,NO,NZ,PL,RU (72)発明者 タウ、チュンリン アメリカ合衆国32310フロリダ州タラハシ ー、イースト・ポール・ダイラック・ドラ イブ2035番、ハーブ・モーガン・ビルディ ング109

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.式(3)で示されるタキサン誘導体: [式中、 X1は−OX6、−SX7または−NX89; X2は水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリールまたはヘテロアリ ール; X3およびX4はそれぞれ、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリー ルまたはヘテロアリール; X5は−COX10、−COOX10、−COSX10、−CONX810または−S O211; X6は水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリール 、ヒドロキシ保護基、またはタキサン誘導体の水溶性を高める官能基; X7はアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリールまたは スルフヒドリル保護基; X8は水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリール 、またはヘテロ置換アルキル、アルケニル、アルキニル、アリールもしくはヘテ ロアリール; X9はアミノ保護基; X10はアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリール、また はヘテロ置換アルキル、アルケニル、アルキニル、アリールもしくはヘテロアリ ール; X11はアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリール、−O X10または−NX814; X14は水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリールまたはヘテロアリ ール; R1は水素、ヒドロキシ、保護ヒドロキシ、またはR14と共にカーボネートを 形成; R2は−OCOR31; R2aは水素; R4は水素、R4aと共にオキソ、オキシランもしくはメチレンを形成、または R5aおよびそれらが結合する炭素原子と共にオキセタン環を形成; R4aは水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリール 、シアノ、ヒドロキシ、−OCOR30、またはR4と共にオキソ、オキシランも しくはメチレンを形成; R5は水素、またはR5aと共にオキソを形成; R5aは水素、ヒドロキシ、保護ヒドロキシ、アシルオキシ、R5と共にオキソ を形成、またはR4およびそれらが結合する炭素原子と共にオキセタン環を形成 ; R6は水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリールもしくはヘテロア リール、ヒドロキシ、保護ヒドロキシ、またはR6aと共にオキソを形成; R6aは水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリールもしくはヘテロア リール、ヒドロキシ、保護ヒドロキシ、またはR6と共にオキソを形成; R7は水素、またはR7aと共にオキソを形成; R7aは水素、ハロゲン、保護ヒドロキシ、−OR28、またはR7と共にオキソ を形成; R9は水素、またはR9aと共にオキソを形成; R9aは水素、ヒドロキシ、保護ヒドロキシ、アシルオキシ、またはR9と共に オキソを形成; R10は水素、またはR10aと共にオキソを形成; R10aは水素、−OCOR29、ヒドロキシもしくは保護ヒドロキシ、またはR1 0 と共にオキソを形成; R14は水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリールもしくはヘテロア リール、ヒドロキシ、保護ヒドロキシ、またはR1と共にカーボネートを形成; R14aは水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリールまたはヘテロア リール; R28は水素、アシル、ヒドロキシ保護基、またはタキサン誘導体の溶解性を高 める官能基; R29およびR30はそれぞれ水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、単環ア リールまたは単環ヘテロアリール; R31は置換フェニル。]。 2.R31は式: [式中、Zはアルキル、ヒドロキシ、アルコキシ、ハロゲンまたはトリフルオロ メチルである。] で示される基から成る群から選択する請求項1記載のタキサン誘導体。 3.R14およびR14a水素、R10は水素、R10aはヒドロキシまたはアセトキシ であり、R9およびR9aは共同でオキソを形成し、R7は水素、R7aはヒドロキシ 、R5は水素であり、R5aおよびR4およびそれらの結合する炭素はオキセタン環 を形成し、R4aはアセトキシ、R1はヒドロキシ、X1は−OH、X2は水素、X3 はフェニル、X4は水素、X5は−COX10、X10はフェニルまたはt−ブトキシ であり、2'R,3'S配置を有する請求項2記載のタキサン誘導体。 4.R14およびR14aは水素、R10は水素、R10aはヒドロキシまたはアセトキ シであり、R9およびR9aは共同でオキソを形成し、R7は水素、R7aはヒドロキ シ、R5は水素であり、R5aおよびR4およびそれらの結合する炭素はオキセタン 環を形成し、R4aはアセトキシ、R1はヒドロキシ、X1は−OH、X2は水素、 X3はアルキルまたはアルケニル、X4は水素、X5は−COX10、X10はフェニ ル、t−、イソ−もしくはn−ブトキシ、エトキシ、イソもしくはn−プロポキシ 、シクロヘキシルオキシ、アリルオキシ、クロチルオキシ、1,3−ジエトキシ −2−プロポキシ、2−メトキシエトキシ、アミルオキシ、ネオペンチルオキシ 、PhCH2O−、−NPh2、−NHnPr、−NHPhおよび−NHEtであ る請求項2記載のタキサン誘導体。 5.請求項1記載のタキサン誘導体と、薬理学的に許容し得る、不活性な、ま たは生理学的に活性な希釈剤または佐剤1種またはそれ以上とを含有する薬剤組 成物。
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