JPH0848838A - ポリブテン−1樹脂組成物 - Google Patents
ポリブテン−1樹脂組成物Info
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- JPH0848838A JPH0848838A JP7158473A JP15847395A JPH0848838A JP H0848838 A JPH0848838 A JP H0848838A JP 7158473 A JP7158473 A JP 7158473A JP 15847395 A JP15847395 A JP 15847395A JP H0848838 A JPH0848838 A JP H0848838A
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Abstract
方晶への結晶転移の速度が大きく、更には成形直後の六
方晶の生成量の多い新規有用なポリブテン−1樹脂組成
物を提案する。 【構成】 ポリブテン−1樹脂、並びにポリカルボン酸
系アミド化合物、ポリアミン系アミド化合物及びポリア
ミノ酸系アミド化合物よりなる群から選ばれる1種若し
くは2種以上のアミド系化合物を含有する。
Description
成物に関し、詳しくはポリブテン−1樹脂特有の結晶変
態転移が促進されたポリブテン−1樹脂組成物に関す
る。
耐ストレスクラッキング性、耐衝撃性、耐熱性、耐薬品
性等が優れ、更に柔軟性を有していることから、ポリエ
チレン樹脂及びポリプロピレン樹脂と共に積極的に用途
開発が進められている。
を利用し、広範囲の応用分野が考えられる有用な樹脂で
ある。具体的には、押出成形により各種パイプやフィラ
メント及びフィルムに、射出成形によりカップやコンテ
ナー類に、ブロー成形により各種ボトル類に成形され
る。
晶変態があり、溶融状態から融点以下に冷却されたと
き、初めに不安定な正方晶(以下「F−II」と略記す
る。)が生成し、続いて時間経過とともに六方晶(以下
「F−I」と略記する。)へゆっくりと固相転移する。
この場合、F−II生成には大きな過冷却度が存在す
る。しかも、F−IIからF−Iへの転移速度は小さ
く、完了するには長時間を必要とする。一方、産業上有
用な所期の良好な性質を有している結晶変態はF−Iで
ある。
化挙動は、成形加工時において様々な問題を有してい
る。例えば、押出成形の場合、パイプを成形した後、長
時間室温に静置する必要があり、射出成形の場合、分子
の配向が生じ易いため強度に異方性が生じたり、室温放
置後の収縮が1〜2%発生して成形物の変形を招く場合
がある。
ついては種々検討されており、具体的には、ポリプロピ
レン、ポリエチレン、ステアリン酸、1−ナフタレンア
セトアミド、N,N’−エチレンビスステアロアミド、
ソルビトール誘導体等を添加する方法、有機溶剤への浸
漬法、圧縮や引張り等の外的応力を与える方法等が挙げ
られる。しかしながら、上記添加剤を配合する方法で
は、その添加量が比較的多く、物性低下を招きやすく、
又はその効果が充分でない。溶剤法は、特殊な装置等が
必要であったり、処理後の溶剤の乾燥及び回収が必要な
ため実用的でない。更に外的応力を与える方法は、やや
複雑な形状物に対しては対応ができない。
ることは、結晶転移が完了するまでの時間を短縮させ、
成形品の収縮を抑制し、変形を防止する等の目的に有効
と考えられるが、その方法に関する提案はほとんどみら
れない。
加工性の問題点を解消し、F−IIからF−Iへの結晶
転移の速度が大きく、更には成形直後のF−I生成量の
多い新規有用なポリブテン−1樹脂組成物を提案するこ
とを目的とする。
状に鑑み、上記問題点を解決すべく鋭意検討を行った結
果、ポリブテン−1樹脂に対し、特定の構造を有するア
ミド化合物を配合することにより所期の効果が得られる
ことを見いだし、かかる知見に基づいて本発明を完成す
るに至った。
成物は、ポリブテン−1樹脂、並びに一般式(1)で表
されるポリカルボン酸系アミド化合物、一般式(2)で
表されるポリアミン系アミド化合物及び一般式(3)で
示されるポリアミノ酸系アミド化合物よりなる群から選
ばれる1種若しくは2種以上のアミド系化合物を含有す
ることを特徴とする。
肪族ポリカルボン酸残基、飽和若しくは不飽和の脂環族
ポリカルボン酸残基又は芳香族ポリカルボン酸残基を表
す。R2は炭素数1〜18のアルキル基若しくはアルケ
ニル基、炭素数3〜12のシクロアルキル基若しくはシ
クロアルケニル基、フェニル基、ナフチル基、アントリ
ル基、式a、式b、式c又は式dで表される基を表す。
R3、R5、R6、R8は同一又は異なって、炭素数1〜1
8のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、シクロ
アルキル基、フェニル基又はハロゲン原子を表す。
R4、R7は同一又は異なって、炭素数1〜4の直鎖状或
いは分岐鎖状のアルキレン基を表す。kは2〜6の整数
を示す。l、nは夫々1〜5の整数を示す。m、oは夫
々0〜5の整数を示す。]
脂環族ポリアミン残基又は芳香族ポリアミン残基(但
し、キシリレンジアミン残基を除く。)を表す。R10は
一般式(1)のR2と同義である。pは2〜6の整数を
示す。]
脂肪族アミノ酸残基、飽和若しくは不飽和の脂環族アミ
ノ酸残基又は芳香族アミノ酸残基を表す。R12、R13は
夫々一般式(1)のR2と同義であって、同一又は異な
っていてもよい。q、rは夫々1〜5の整数を示す。但
し、6≧q+r≧2である。]
テン−1を主要な構成成分としてなる重合体であって、
具体的には、ポリブテン−1ホモポリマー、ブテン−1
を主体としたブテン−1−エチレンコポリマー、ブテン
−1−プロピレンコポリマー及び前記ポリブテン−1樹
脂と少量の熱可塑性樹脂又はエラストマー、例えば、ポ
リエチレン、ポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリ
−4−メチルペンテン−1とのブレンドポリマー等が例
示される。又、立体規則性としては、アイソタクティッ
ク及びシンジオタクティックが推奨される。
触媒としては、一般に使用されているチーグラー・ナッ
タ型触媒はもちろん、遷移金属化合物(例えば、三塩化
チタン、四塩化チタン等のチタンのハロゲン化物)を塩
化マグネシウム等のハロゲン化マグネシウムを主成分と
する担体に担持してなる触媒と、アルキルアルミニウム
化合物(トリエチルアルミニウム、ジエチルアルミニウ
ムクロリド等)とを組み合わせてなる触媒系の他、いわ
ゆるカミンスキー触媒も使用できる。
レート(以下「MFR」と略記する。JIS K 7210(190
℃、2.16kgf))は、その適用する成形方法により適宜選
択され、通常、0.01〜50g/10分程度、好まし
くは0.03〜20g/10分程度である。
アミド化合物は、一般式(1a)で表される脂肪族、脂
環族若しくは芳香族のポリカルボン酸又はそれらの無水
物と一般式(1b)で表される1種若しくは2種以上の
脂肪族、脂環族又は芳香族のモノアミンとをアミド化反
応に供することにより容易に調製することができる。
る方法に従って行われ、典型的な方法として、次の方法
が挙げられる。一般式(1)において、R2とR3とが相
互に異なる場合には、対応する2種類のモノアミンのほ
ぼ当モル混合物を使用する。
ンとを不活性溶媒中、60〜200℃程度で2〜10時
間程度反応させる。モノアミンは、一般にポリカルボン
酸1当量に対して1〜10当量程度使用する。
めには、活性化剤を用いることがより好ましい。当該活
性化剤としては、五酸化リン、ポリリン酸、五酸化リン
−メタンスルホン酸、亜リン酸エステル(亜リン酸トリ
フェニル)−ピリジン、亜リン酸エステル−金属塩(塩
化リチウム等)、トリフェニルホスフィン−ヘキサクロ
ロエタン等が例示され、通常、上記ポリカルボン酸とほ
ぼ同じ当量程度使用される。
上記モノアミンとを不活性溶媒中、0〜100℃程度出
1〜5時間程度反応させる。モノアミンは、一般にポリ
カルボン酸クロリド1当量に対して1〜5当量程度使用
する。
ル、特にポリアルキル(炭素数1〜3)エステルと上記
モノアミンとを不活性溶媒中、無触媒又は触媒存在下で
0〜250℃程度で3〜50時間程度反応させる。モノ
アミンは、一般にポリカルボン酸ポリエステル1当量に
対して1〜20当量程度使用する。
ド交換反応に用いられる酸触媒、塩基触媒が挙げられる
が、中でも塩基触媒が好ましい。具体的には、リチウ
ム、ナトリウム、カリウム、水素化リチウム、水素化ナ
トリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物、
水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等
のアルカリ金属水酸化物、ナトリウムメチラート、ナト
リウムエチラート、カリウム−tert−ブチラート等の金
属アルコラート、ナトリウムアミド、リチウムジプロピ
ルアミド等のアルカリ金属アミド等が例示され、通常、
上記ジカルボン酸に対して当モル程度使用される。
係る不活性溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、クロロホルム、クロルベンゼン、ジクロルベンゼ
ン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アセトニトリ
ル、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチル
アセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン等が例示さ
れる。
より得られる化合物は、慣用されている単離精製方法、
例えば、クロマトグラフィー、再沈澱、再結晶法、分別
結晶法等に従って精製される。
酸、マロン酸、ジフェニルマロン酸、コハク酸、フェニ
ルコハク酸、ジフェニルコハク酸、グルタル酸、3,3
−ジメチルグルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベ
リン酸、アゼライン酸、セバシン酸、1,12−ドデカ
ン二酸、1,14−テトラデカン二酸、1,18−オク
タデカン二酸、クエン酸、メタントリカルボン酸、トリ
カルバリル酸、プロペントリカルボン酸、ペンタントリ
カルボン酸、エタンテトラカルボン酸、プロパンテトラ
カルボン酸、ペンタンテトラカルボン酸、ブタンテトラ
カルボン酸(特に1,2,3,4−ブタンテトラカルボ
ン酸、以下「BTC」と略記する。)、ドデカンテトラ
カルボン酸、ペンタンペンタカルボン酸、テトラデカン
ヘキサカルボン酸、エチレンジアミン四酢酸、ニトリロ
三酢酸、エチレングリコ−ルビス(β−アミノエチルエ
−テル)N,N,N’,N’−四酢酸、ジエチレントリ
アミン五酢酸、N−ヒドロキシエチルエチレンジアミン
−N,N’,N’−三酢酸、1,3−ジアミノプロパン
−2−オール−N,N,N’,N’−四酢酸、1,2−
ジアミノプロパン−N,N,N’,N’−四酢酸、トリ
エチレンテトラミン六酢酸、ニトリロ三プロピオン酸、
1,6−ヘキサンジアミン四酢酸、N−(2−カルボキ
シエチル)イミノ二酢酸等が例示される。
シクロヘキサンジカルボン酸、1,4−シクロヘキサン
ジカルボン酸、1,4−シクロヘキサンジ酢酸、シクロ
ヘキサントリカルボン酸、シクロブタンテトラカルボン
酸、シクロペンタンテトラカルボン酸、シクロヘキサン
テトラカルボン酸、テトラヒドロフランテトラカルボン
酸、5−(コハク酸)−3−メチル−3−シクロヘキセ
ン−1,2−ジカルボン酸(以下「SMSD」と略記す
る。)、ビシクロ[2.2.2]オクタ−7−エン−
2,3,5,6−テトラカルボン酸、シクロヘキサンヘ
キサカルボン酸、5,6,9,10 −テトラカルボキ
シトリシクロ[6.2.2.02,7]ドデカ−2,11
−ジエン及びその低級アルキル置換体(例えば3位、8
位、11位又は12位のメチル置換体)、1,2−シク
ロヘキサンジアミン四酢酸、2,3,5−トリカルボキ
シシクロペンチル酢酸、6−メチル−4−シクロヘキセ
ン−1,2,3−トリカルボン酸、3,5,6−トリカ
ルボキシノルボネン−2−酢酸、チオビス(ノルボネン
−2,3−ジカルボン酸)、ビシクロ[4.2.0]オ
クタン−3,4,7,8−テトラカルボン酸、1,1’
−ビシクロプロパン−2,2’,3,3’−テトラカル
ボン酸、1,2−ビス(2,3−ジメチル−2,3−ジ
カルボキシシクロブチル)エタン、ピラジン−2,3,
5,6−テトラカルボン酸、トリシクロ[4.2.2.
02,5]デカン−9−エン−3,4,7,8−テトラカ
ルボン酸、3,4−ジカルボキシ−1,2,3,4−テ
トラヒドロ−1−ナフタレンコハク酸(以下「TDA」
と略記する。)及びその低級アルキル置換体(例えば、
1位、5位、6位又は7位のメチル置換体)、2,3,
4,5,6,7,12,13−オクタヒドロフェナント
レン−3,4,5,6−テトラカルボン酸等が例示され
る。
ニレン二酢酸、p−フェニレンジエタン酸、フタル酸、
4−tert−ブチルフタル酸、イソフタル酸、5−tert−
ブチルイソフタル酸、テレフタル酸、1,8−ナフタル
酸、1,4−ナフタレンジカルボン酸、2,6−ナフタ
レンジカルボン酸、2,7−ナフタレンジカルボン酸、
ジフェン酸、3,3’−ビフェニルジカルボン酸、4,
4’−ビフェニルジカルボン酸、4,4’−ビナフチル
ジカルボン酸、ビス(3−カルボキシフェニル)メタ
ン、ビス(4−カルボキシフェニル)メタン、2,2−
ビス(3−カルボキシフェニル)プロパン、2,2−ビ
ス(4−カルボキシフェニル)プロパン、3,3’−ス
ルホニルジ安息香酸、4,4’−スルホニルジ安息香
酸、3,3’−オキシジ安息香酸、4,4’−オキシジ
安息香酸、3,3’−カルボニルジ安息香酸、4,4’
−カルボニルジ安息香酸、3,3’−チオジ安息香酸、
4,4’−チオジ安息香酸、4,4’−(p−フェニレ
ンジオキシ)ジ安息香酸、4,4’−イソフタロイルジ
安息香酸、4,4’−テレフタロイルジ安息香酸、ジチ
オサリチル酸、ベンゼントリカルボン酸、ベンゼンテト
ラカルボン酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、ビフ
ェニルテトラカルボン酸、ビフェニルエーテルテトラカ
ルボン酸、ジフェニルスルフォンテトラカルボン酸、ジ
フェニルメタンテトラカルボン酸、ペリレンテトラカル
ボン酸、ナフタレンテトラカルボン酸、4,4’−ジナ
フタル酸、ベンジジン−3,3’−ジカルボキシル−
N,N’−四酢酸、ジフェニルプロパンテトラカルボン
酸、アントラセンテトラカルボン酸、フタロシアニンテ
トラカルボン酸、エチレングリコール−トリメリット酸
ジエステル、ベンゼンヘキサカルボン酸、グリセリン−
トリメリット酸トリエステル等が例示される。
ン、エチルアミン、プロピルアミン、イソプロピルアミ
ン、n−ブチルアミン、イソブチルアミン、第2ブチル
アミン、第3ブチルアミン、n−アミルアミン、第3ア
ミルアミン、ヘキシルアミン、ヘプチルアミン、n−オ
クチルアミン、2−エチルヘキシルアミン、第3オクチ
ルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ウンデシルア
ミン、ドデシルアミン、トリデシルアミン、テトラデシ
ルアミン、ペンタデシルアミン、ヘキサデシルアミン、
ペンタデシルアミン、オクタデシルアミン、オクタデセ
ニルアミン、アリルアミン等が例示される。
ルアミン、シクロブチルアミン、シクロペンチルアミ
ン、シクロヘキシルアミン、シクロブチルアミン、シク
ロオクチルアミン、シクロドデシルアミン等の他、一般
式(4)又は一般式(5)で表される化合物が挙げられ
る。
ルケニル基若しくはアルコキシル基、炭素数3〜12の
シクロアルキル基、フェニル基又はハロゲン原子を表
す。sは1〜5の整数を示す。]
としては、メチルシクロヘキシルアミン、エチルシクロ
ヘキシルアミン、プロピルシクロヘキシルアミン、イソ
プロピルシクロヘキシルアミン、tert−ブチルシクロヘ
キシルアミン、n−ブチルシクロヘキシルアミン、イソ
ブチルシクロヘキシルアミン、sec−ブチルシクロヘキ
シルアミン、n−アミルシクロヘキシルアミン、イソア
ミルシクロヘキシルアミン、sec−アミルシクロヘキシ
ルアミン、tert−アミルシクロヘキシルアミン、ヘキシ
ルシクロヘキシルアミン、ヘプチルシクロヘキシルアミ
ン、オクチルシクロヘキシルアミン、ノニルシクロヘキ
シルアミン、デシルシクロヘキシルアミン、ウンデシル
シクロヘキシルアミン、ドデシルシクロヘキシルアミ
ン、シクロヘキシルシクロヘキシルアミン、フェニルシ
クロヘキシルアミン等のモノ置換体、
シクロヘキシルアミン、ジプロピルシクロヘキシルアミ
ン、ジイソプロピルシクロヘキシルアミン、ジ−n−ブ
チルシクロヘキシルアミン、ジ−sec−ブチルシクロヘ
キシルアミン、ジ−tert−ブチルシクロヘキシルアミ
ン、ジ−n−アミルシクロヘキシルアミン、ジ−tert−
アミルシクロヘキシルアミン、ジヘキシルシクロヘキシ
ルアミン等のジ置換体、
チルシクロヘキシルアミン、トリプロピルシクロヘキシ
ルアミン、トリイソプロピルシクロヘキシルアミン、ト
リ−n−ブチルシクロヘキシルアミン、トリ−sec−ブ
チルシクロヘキシルアミン、トリ−tert−ブチルシクロ
ヘキシルアミン等のトリ置換体、
シクロヘキシルアミン、ジメトキシシクロヘキシルアミ
ン、ジエトキシシクロヘキシルアミン、ジ−n−ブトキ
シシクロヘキシルアミン、ジ−sec−ブトキシシクロヘ
キシルアミン、ジ−tert−ブトキシシクロヘキシルアミ
ン、トリメトキシシクロヘキシルアミン、トリ−n−ブ
トキシシクロヘキシルアミン等のアルコキシ置換体、
クロヘキシルアミン、メチルクロロシクロヘキシルアミ
ン、トリクロロシクロヘキシルアミン、ブロモシクロヘ
キシルアミン、ジブロモシクロヘキシルアミン、トリブ
ロモシクロヘキシルアミン等のハロゲン置換体等が例示
される。
ルキレン基を表す。R16は一般式(4)におけるR14と
同義である。tは0〜5の整数を示す。]
としては、シクロヘキシルメチルアミン、メチルシクロ
ヘキシルメチルアミン、ジメチルシクロヘキシルメチル
アミン、トリメチルシクロヘキシルメチルアミン、メト
キシシクロヘキシルメチルアミン、エトキシシクロヘキ
シルメチルアミン、ジメトキシシクロヘキシルメチルア
ミン、クロロシクロヘキシルメチルアミン、ジクロロシ
クロヘキシルメチルアミン、α−シクロヘキシルエチル
アミン、β−シクロヘキシルエチルアミン、メトキシシ
クロヘキシルエチルアミン、ジメトキシシクロヘキシル
エチルアミン、クロロシクロヘキシルエチルアミン、ジ
クロロシクロヘキシルエチルアミン、α−シクロヘキシ
ルプロピルアミン、β−シクロヘキシルプロピルアミ
ン、γ−シクロヘキシルプロピルアミン、メチルシクロ
ヘキシルプロピルアミン等が例示される。
−ナフチルアミン、2−ナフチルアミン、1−アミノア
ントラセン、2−アミノアントラセンの他に、一般式
(6)又は一般式(7)で表される化合物が挙げられ
る。
る。uは1〜5の整数を示す。]
としては、トルイジン、エチルアニリン、プロピルアニ
リン、クミジン、tert−ブチルアニリン、n−ブチルア
ニリン、イソブチルアニリン、sec−ブチルアニリン、
n−アミルアニリン、イソアミルアニリン、sec−アミ
ルアニリン、tert−アミルアニリン、ヘキシルアニリ
ン、ヘプチルアニリン、オクチルアニリン、ノニルアニ
リン、デシルアニリン、ウンデシルアニリン、ドデシル
アニリン、シクロヘキシルアニリン、アミノジフェニ
ル、アミノスチレン、ジメチルアニリン、ジエチルアニ
リン、ジプロピルアニリン、ジイソプロピルアニリン、
ジ−n−ブチルアニリン、ジ−sec−ブチルアニリン、
ジ−tert−ブチルアニリン、トリメチルアニリン、トリ
エチルアニリン、トリプロピルアニリン、トリ−tert−
ブチルアニリン、アニシジン、エトキシアニリン、ジメ
トキシアニリン、ジエトキシアニリン、トリメトキシア
ニリン、トリ−n−ブトキシアニリン、クロロアニリ
ン、ジクロロアニリン、トリクロロアニリン、ブロモア
ニリン、ジブロモアニリン、トリブロモアニリン等が例
示される。
る。R19は一般式(4)におけるR14と同義である。v
は0〜5の整数を示す。]
としては、ベンジルアミン、メチルベンジルアミン、ジ
メチルベンジルアミン、トリメチルベンジルアミン、メ
トキシベンジルアミン、エトキシベンジルアミン、ジメ
トキシベンジルアミン、クロロベンジルアミン、ジクロ
ロベンジルアミン、α−フェニルエチルアミン、β−フ
ェニルエチルアミン、メトキシフェニルエチルアミン、
ジメトキシフェニルエチルアミン、クロロフェニルエチ
ルアミン、ジクロロフェニルエチルアミン、α−フェニ
ルプロピルアミン、β−フェニルプロピルアミン、γ−
フェニルプロピルアミン、メチルフェニルプロピルアミ
ン等が例示される。
でも、特に、p−フェニレン二酢酸誘導体、アジピン酸
誘導体、トリメシン酸誘導体、トリカルバリル酸誘導
体、DSDA誘導体、TDA誘導体、BTC誘導体、
2,6−ナフタレンジカルボン酸誘導体、テレフタル酸
誘導体、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸誘導体が
推奨され、中でもp−フェニレン二酢酸ジアニリド、p
−フェニレン二酢酸ジシクロヘキシルアミド、トリカル
バリル酸トリス(2−メチルシクロヘキシルアミド)、
アジピン酸ビス(2,6−ジメチルアニリド)、ブタン
テトラカルボン酸テトラシクロヘキシルアミド、ブタン
テトラカルボン酸テトラベンジルアミド、トリメシン酸
トリシクロヘキシルアミド、トリメシン酸トリス(2−
メチルシクロヘキシルアミド)、トリメシン酸トリベン
ジルアミド、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸ジア
ニリド等の化合物が推奨される。
ド化合物は、下記一般式(2a)で表される脂環族若し
くは芳香族のポリアミンと一般式(2b)で表される1
種若しくは2種以上の脂肪族、脂環族又は芳香族のモノ
カルボン酸とを常法に従ってアミド化することにより容
易に調製することができる。
る方法に従って行われ、典型的な方法として、次の方法
が挙げられる。
ン酸とを不活性溶媒中、60〜200℃程度で2〜10
時間程度反応させる。モノカルボン酸は、一般にポリア
ミン1当量に対して1〜10当量程度使用する。
めには、前記(i)の製法で例示した活性化剤を用いる
ことが好ましい。当該活性化剤は、通常、上記ポリアミ
ンとほぼ同じ当量程度使用される。
ボン酸のクロリドとを不活性溶媒中、0〜100℃程度
出1〜5時間程度反応させる。モノカルボン酸クロリド
は、一般にポリアミン1当量に対して1〜3当量程度使
用する。
ルボン酸のエステル(特にアルキル(炭素数1〜3)エ
ステル)とを不活性溶媒中、無触媒又は触媒存在下で0
〜250℃程度で3〜50時間程度反応させる。モノカ
ルボン酸エステルは、一般にポリアミン1当量に対して
1〜20当量程度使用する。当該触媒としては、前記
(iii)の製法で例示した通常のエステル・アミド交
換反応に用いられる酸触媒、塩基触媒が挙げられるが、
中でも塩基触媒が好ましい。
が相互に異なる場合は、対応する2種類のモノカルボン
酸のほぼ当モル混合物(又は対応する2種類のモノカル
ボン酸クロリドのほぼ当モル混合物又は対応する2種類
のカルボン酸エステルのほぼ当モル混合物)を使用す
る。
i’)法に係る不活性溶媒としては、上記一般式(1)
の化合物の製法(i)、(ii)及び(iii)に係る
不活性溶媒と同じものが使用できる。
されている単離精製方法、例えば、クロマトグラフィ
ー、再沈澱、再結晶法、分別結晶法等に従って精製され
る。
ミノシクロヘキサン、1,4−ジアミノシクロヘキサ
ン、4,4’−ジアミノジシクロヘキシル、4,4’−
ジアミノ−3,3’−ジメチルジシクロヘキシル、4,
4’−ジアミノジシクロヘキシルメタン、4,4’−ジ
アミノ−3,3’−ジメチルジシクロヘキシルメタン、
1,3−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、1,4
−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、イソフォロン
ジアミン、メンセンジアミン、メラミン、2,4,6−
トリアミノピリミジン、1,3,5−トリアミノシクロ
ヘキサン、1,2,4−トリアミノシクロヘキサン、
1,2,4,5−テトラアミノシクロヘキサン等が例示
される。
ンジアミン、m−フェニレンジアミン、p−フェニレン
ジアミン、2,3−ジアミノトルエン、2,4−ジアミ
ノトルエン、2,6−ジアミノトルエン、3,4−ジア
ミノトルエン、4,6−ジメチル−m−フェニレンジア
ミン、2,5−ジメチル−p−フェニレンジアミン、
4,5−ジメチル−o−フェニレンジアミン、2,4−
ジアミノメシチレン、2,3−ジアミノピリジン、2,
6−ジアミノピリジン、3,4−ジアミノピリジン、
1,5−ジアミノナフタレン、1,8−ジアミノナフタ
レン、2,3−ジアミノナフタレン、2,7−ジアミノ
ナフタレン、9,10−ジアミノフェナンスレン、3,
3’,5,5’−テトラメチルベンジジン、3,3’−
ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、3,3’−
ジメトキシ−4,4’−ジアミノビフェニル、4,4’
−ジアミノジフェニルメタン、3,3’−ジアミノジフ
ェニルメタン、3,4’−ジアミノジフェニルメタン、
4,4’−メチレンジ−o−トルイジン、4,4’−メ
チレンジ−2,6−キシリジン、4,4’−メチレンジ
−2,6−ジエチルアニリン、4,4’−ジアミノ−
1,2−ジフェニルエタン、4,4’−ジアミノ−2,
2’−ジメチルビベンジル、4,4’−ジアミノスチル
ベン、3,4’−ジアミノ−2,2−ジフェニルプロパ
ン、4,4’−ジアミノ−2,2−ジフェニルプロパ
ン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,4’
−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−チオジアニ
リン、2,2’−ジチオジアニリン、4,4’−ジチオ
ジアニリン、3,3’−ジアミノジフェニルスルフォ
ン、4,4’−ジアミノジフェニルスルフォン、3,
3’−ジアミノベンゾフェノン、4,4’−ジアミノベ
ンゾフェノン、4,4’−ジアミノベンズアニリド、o
−トリジンスルホン、2,7−ジアミノフルオレン、
3,7−ジアミノ−2−メトキシフルオレン、ビス−p
−アミノフェニルアニリン、1,3−ビス(4−アミノ
フェニルプロピル)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミ
ノフェニルプロピル)ベンゼン、1,3−ビス(4−ア
ミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノ
フェノキシ)ベンゼン、4,4’−ビス(4−アミノフ
ェノキシ)ビフェニル、ビス[4−(4−アミノフェノ
キシ)フェニル]エーテル、ビス[4−(4−アミノフ
ェノキシ)フェニル]スルホン、9,9−ビス(4−ア
ミノフェニル)フルオレン−1,2,4,5−テトラア
ミノベンゼン、1,3,5−トリアミノベンゼン、1,
2,4−トリアミノベンゼン、パラローズアニリン、
2,4,6−トリアミノフェノール、3,3’−ジアミ
ノベンジジン、トリス(4−アミノフェニル)メタン等
が例示される。尚、芳香族ポリアミンであってもキシリ
レンジアミンを用いた場合には、所定の効果を得ること
ができないため、本発明から除外されている。
ロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、
カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、ウンデシル
酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタ
デシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン
酸、ノナデカン酸、アクリル酸、クロトン酸、オレイン
酸、エライジン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレイ
ン酸、ピバリン酸等が例示れる。
ロパンカルボン酸、シクロブタンカルボン酸、シクロペ
ンタンカルボン酸、シクロペンテンカルボン酸、シクロ
ヘキサンカルボン酸、シクロヘキセンカルボン酸、シク
ロヘプタンカルボン酸、メチルシクロペンタンカルボン
酸、フェニルシクロペンタンカルボン酸、ブチルシクロ
ヘキセンカルボン酸、メチルシクロヘプタンカルボン酸
の他に、一般式(8)又は一般式(9)で表される化合
物が挙げられる。
る。wは1〜5の整数を示す。]
ン酸としては、メチルシクロヘキサンカルボン酸、エチ
ルシクロヘキサンカルボン酸、プロピルシクロヘキサン
カルボン酸、ブチルシクロヘキサンカルボン酸、ペンチ
ルシクロヘキサンカルボン酸、ヘキシルシクロヘキサン
カルボン酸、フェニルシクロヘキサンカルボン酸、クロ
ロシクロヘキサンカルボン酸、ブロモシクロヘキサンカ
ルボン酸、ジメチルシクロヘキサンカルボン酸、ジ−te
rt−ブチルシクロヘキサンカルボン酸、メトキシシクロ
ヘキサンカルボン酸、エトキシシクロヘキサンカルボン
酸、ジメトキシシクロヘキサンカルボン酸、ジエトキシ
シクロヘキサンカルボン酸、ジクロロシクロヘキサンカ
ルボン酸、トリメチルシクロヘキサンカルボン酸、トリ
メトキシシクロヘキサンカルボン酸、トリエトキシシク
ロヘキサンカルボン酸等が例示される。
る。R22は一般式(8)におけるR20と同義である。x
は0〜5の整数を示す。]
ン酸としては、シクロヘキシル酢酸、メチルシクロヘキ
シル酢酸、メトキシシクロヘキシル酢酸、シクロヘキシ
ルプロピオン酸、シクロヘキシル酪酸等が例示される。
酸、1−ナフトエ酸、2−ナフトエ酸、9−カルボキシ
アントラセンの他に、一般式(10)又は一般式(1
1)で表される化合物が挙げられる。
る。yは1〜5の整数を示す。]
ボン酸としては、メチル安息香酸、エチル安息香酸、プ
ロピル安息香酸、ブチル安息香酸、p−tert−ブチル安
息香酸、ペンチル安息香酸、ヘキシル安息香酸、フェニ
ル安息香酸、シクロヘキシル安息香酸、クロロ安息香
酸、ブロモ安息香酸、メトキシ安息香酸、エトキシ安息
香酸、ジメチル安息香酸、ジ−tert−ブチル安息香酸、
ジメトキシ安息香酸、ジエトキシ安息香酸、ジクロロ安
息香酸、トリメチル安息香酸、トリメトキシ安息香酸、
トリエトキシ安息香酸等が例示される。
る。R25は一般式(8)におけるR20と同義である。z
は0〜5の整数を示す。]
ボン酸としては、フェニル酢酸、メチルフェニル酢酸、
メトキシフェニル酢酸、フェニルプロピオン酸、フェニ
ル酪酸等が例示される。
中でも、p−フェニレンジアミン誘導体、1,5−ジア
ミノナフタレン誘導体、4,4’−ジアミノジフェニル
メタン誘導体、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル
誘導体、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン誘導
体、1,4−ジアミノシクロヘキサン誘導体、4,4’
−ジアミノジシクロヘキシルメタン誘導体、トリス(4
−アミノフェニル)メタン誘導体、3,3’−ジアミノ
ベンジジン誘導体、メラミン誘導体が推奨され、N,
N’−ジベンゾイル−1,4−ジアミノシクロヘキサ
ン、N,N’−ジシクロヘキサンカルボニル−p−フェ
ニレンジアミン、N,N’−ジベンゾイル−1,5−ジ
アミノナフタレン等の化合物が最も推奨される。
ミド化合物は、下記一般式(3a)で表される脂肪族、
脂環族若しくは芳香族のポリアミノ酸と一般式(3b)
で表される1種若しくは2種以上の脂肪族、脂環族又は
芳香族のモノアミン及び一般式(3c)で表される1種
若しくは2種以上の脂肪族、脂環族又は芳香族のモノカ
ルボン酸のクロリドとをアミド化反応に供することによ
り容易に調製することができる。
る。]
a)のポリアミノ酸と、そのアミノ基とほぼ同じ当量の
上記モノカルボン酸クロリドとを不活性溶媒中、0〜1
00℃程度で1〜5時間程度反応させ、次いで、得られ
た反応生成物中のカルボキシル基に対して1〜5倍当量
の上記モノアミンを仕込み、好ましくは上記(i)の方
法で例示した活性化剤の存在下に60〜200℃程度で
2〜10時間程度反応させることにより行われる。当該
不活性溶媒としては、前記一般式(1)の化合物の製法
(i)で例示したいずれの溶媒も使用できる。
れている単離精製方法、例えば、クロマトグラフィー、
再沈澱、再結晶法、分別結晶法等に従って精製される。
酸、α−アミノプロピオン酸、β−アミノプロピオン
酸、α−アミノアクリル酸、α−アミノ酪酸、β−アミ
ノ酪酸、γ−アミノ酪酸、α−アミノ−α−メチル酪
酸、γ−アミノ−α−メチレン酪酸、α−アミノイソ酪
酸、β−アミノイソ酪酸、α−アミノ−n−吉草酸、δ
−アミノ−n−吉草酸、β−アミノクロトン酸、α−ア
ミノ−β−メチル吉草酸、α−アミノイソ吉草酸、2−
アミノ−4−ペンテノイック酸、α−アミノ−n−カプ
ロン酸、6−アミノカプロン酸、α−アミノイソカプロ
ン酸、7−アミノヘプタン酸、α−アミノ−n−カプリ
ル酸、8−アミノカプリル酸、9−アミノノナン酸、1
1−アミノウンデカン酸、12−アミノドデカン酸、2
−アミノアジピン酸、アルギニン、アスパラギン、アス
パラギン酸、シスチン、グルタミン酸、グルタミン、オ
ルニチン、クレアチン、S−(カルボキシメチル)シス
チン、アミノマロン酸等が例示される。
シクロヘキサンカルボン酸、2−アミノシクロヘキサン
カルボン酸、3−アミノシクロヘキサンカルボン酸、4
−アミノシクロヘキサンカルボン酸、p−アミノメチル
シクロヘキサンカルボン酸、2−アミノ−2−ノルボル
ナンカルボン酸、3,5−ジアミノシクロヘキサンカル
ボン酸、1−アミノ−1,3−シクロヘキサンジカルボ
ン酸等が例示される。
フェニル酢酸、α−アミノ−β−フェニルプロピオン
酸、2−アミノ−2−フェニルプロピオン酸、3−アミ
ノ−3−フェニルプロピオン酸、α−アミノ桂皮酸、2
−アミノ−4−フェニル酪酸、4−アミノ−3−フェニ
ル酪酸、アントラニル酸、m−アミノ安息香酸、p−ア
ミノ安息香酸、2−アミノ−4−メチル安息香酸、2−
アミノ−6−メチル安息香酸、3−アミノ−4−メチル
安息香酸、2−アミノ−3−メチル安息香酸、2−アミ
ノ−5−メチル安息香酸、4−アミノ−2−メチル安息
香酸、4−アミノ−3−メチル安息香酸、2−アミノ−
3−メトキシ安息香酸、3−アミノ−4−メトキシ安息
香酸、4−アミノ−2−メトキシ安息香酸、4−アミノ
−3−メトキシ安息香酸、2−アミノ−4,5−ジメト
キシ安息香酸、o−アミノフェニル酢酸、m−アミノフ
ェニル酢酸、p−アミノフェニル酢酸、4−(4−アミ
ノフェニル)酪酸、4−アミノメチル安息香酸、4−ア
ミノメチルフェニル酢酸、o−アミノ桂皮酸、m−アミ
ノ桂皮酸、p−アミノ桂皮酸、p−アミノ馬尿酸、2−
アミノ−1−ナフトエ酸、3−アミノ−1−ナフトエ
酸、4−アミノ−1−ナフトエ酸、5−アミノ−1−ナ
フトエ酸、6−アミノ−1−ナフトエ酸、7−アミノ−
1−ナフトエ酸、8−アミノ−1−ナフトエ酸、1−ア
ミノ−2−ナフトエ酸、3−アミノ−2−ナフトエ酸、
4−アミノ−2−ナフトエ酸、5−アミノ−2−ナフト
エ酸、6−アミノ−2−ナフトエ酸、7−アミノ−2−
ナフトエ酸、8−アミノ−2−ナフトエ酸、3,5−ジ
アミノ安息香酸、4、4’−ジアミノ−3,3’−ジカ
ルボキシジフェニルメタン等が例示される。
料であるモノアミンは、一般式(1)で表されるアミド
化合物の原料であるモノアミンと同一である。又、同じ
く原料であるモノカルボン酸は、一般式(2)で表され
るアミド化合物の原料であるモノカルボン酸と同一であ
る。
中でも、特に、β−アミノプロピオン酸誘導体、8−ア
ミノカプリル酸誘導体、アスパラギン酸誘導体、グルタ
ミン酸誘導体、p−アミノメチルシクロヘキサンカルボ
ン酸誘導体、4−アミノシクロヘキサンカルボン酸誘導
体、3,5−ジアミノシクロヘキサンカルボン酸誘導
体、p−アミノ安息香酸誘導体、5−アミノ−1−ナフ
トエ酸誘導体、p−アミノフェニル酢酸誘導体、3,5
−ジアミノ安息香酸誘導体、4,4’−ジアミノ−3,
3’−ジカルボキシジフェニルメタン誘導体等が推奨さ
れる。
脂の調製時に配合してもよいし、別途調製した樹脂に添
加混合してもよい。
ポリブテン−1樹脂100重量部に対し、0.001〜
10重量部、より好ましくは、0.05〜5重量部であ
る。0.001重量部未満では結晶転移促進効果が認め
られず、10重量部を越えて含有しても効果上の優位差
が認められない。
成物には、使用目的やその用途に応じて適宜、従来公知
のポリオレフィン樹脂改質剤を本発明の効果を損なわな
い範囲で併用することができる。
例えば、ポリオレフィン等衛生協議会編「ポリオレフィ
ン等合成樹脂製食品容器放送等に関する自主規制基準、
第3版」(1988年9月)「ポリブテン−1」の項に
記載されている添加剤、例えば、安定剤、紫外線吸収
剤、酸化防止剤、界面活性剤、滑剤、充填剤、発泡剤、
発泡助剤、可塑剤、架橋剤、架橋促進剤、帯電防止剤、
中和剤、アンチブロッキング剤、防曇剤、難燃剤、分散
剤、加工助剤等の各種添加剤が例示される。
ポキシ化合物、トリス(ミックスド、モノ及びジノニル
フェニル)フォスファイト等の燐化合物、3,3’−チ
オジプロピオン酸ジアルキル(炭素数12〜18)等の
硫黄化合物、ブチル化ヒドロキシトルエン、n−オクタ
デシル−β−(4’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−te
rt−ブチルフェニル)プロピオネート、トコフェノー
ル、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ
−5−tert−ブチルフェニル)ブタン、1,3,5−ト
リメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−tert−ブ
チル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、テトラキス
[メチレン−3−(3’,5’−ジ−tert−ブチル−
4’−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタン等
のフェノール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、2−
(2’−ヒドロキシ−3’−tert−ブチル−5’−メチ
ルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール等のベン
ゾトリアゾール系化合物、亜リン酸エステル系化合物、
グリセリン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸(炭素数
6〜22)エステル、ポリオキシエチレン(4〜50モ
ル)アルキル(炭素数7以上)フェニルエーテル、N,
Nビス(2−ヒドロキシエチル)脂肪酸(炭素数8〜1
8)アミン等の非イオン界面活性剤、流動パラフィン、
水素添加ポリブテン等の脂肪族炭化水素、炭素数8〜2
2の高級脂肪酸、炭素数8〜22の高級脂肪酸又はリシ
ノール酸の金属(Al、Ca、Mg、Zn)塩、トリグ
リセリド、アセチル化モノグリセリド、ワックス、エチ
レンビス脂肪酸(炭素数16、18)アミド、高級脂肪
酸(炭素数8〜22)アミド、ジメチルポリシロキサ
ン、メチルフェニルポリシロキサン等のシリコーン油、
酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、酸化珪素、酸化
チタン、酸化クロム、酸化鉄、酸化亜鉛等の酸化物、水
酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム等の水酸化物、
炭酸カルシウム等の炭酸塩、硫酸バリウム等の硫酸塩、
アルミノ珪酸塩(Ca)、珪酸アルミニウムカルシウム
等の珪酸塩、クレー、珪藻土、カオリン、タルク、ハイ
ドロタルサイト、ゼオライト、パーライト、ガラス繊
維、チタンイエロー、コバルトブルー、群青、マイカ等
の色材、アルミニウム等の金属、硫化亜鉛等の硫化物、
ナイロン、テレフタル酸トリメチルヘキサメチレンジア
ミン縮合物、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレ
ンテレフタレート等のポリマーが例示される。
物は、成形後におけるF−IIからF−Iへの結晶転移
の速度が速く、更に、成形直後のF−Iの生成量が多
く、優れた成形加工性を示す。
定の成分を従来公知の混合装置(ヘンシェルミキサー、
リボンブレンダー、バンバリミキサー等)を用いて混合
した後、一軸或いは二軸の押出機等で溶融混練して製造
される。得られた樹脂組成物は、パイプ、フィルム、シ
ート、カップ類、ボトル、日用雑貨品、自動車部品、コ
ンテナー類、家電部品、不織布等の樹脂材料として好適
であり、その目的とする製品に応じて射出成形、押出成
形、中空成形及び圧縮成形等の各種方法によって成形さ
れる。
しく説明する。
R:0.2g/10分)100重量部に所定のアミド系
化合物を所定量を配合し、ヘンシェルミキサーで混合
後、230℃に設定された20mmφの一軸押出機で溶融
混練し、ペレット化した。得られたペレットを200
℃、5分間、100kg/cm2の条件でプレス成形し、5
0℃に設定した結晶化用プレス機で5分間結晶化し、厚
み0.2mmのシートを作成した。
5mgをDSCにより200℃で10分間溶融した後、2
0℃/分の速度で冷却したときの結晶化温度(Tc)を
測定した。それらの結果を第1表に示す。
を実施例1と同様にして測定した。得られた結果を第1
表に示す。
スシートを作製し、成形直後及び室温下に保持したポリ
ブテン−1樹脂プレスシート約5mgを10時間毎に打ち
抜き、DSCの試料ホルダーにセットし、窒素雰囲気下
で、10℃/分で昇温し、示差熱分析を行った。この時
得られるDSCサーモグラムのF−II(融解ピーク温
度:111〜116℃)の面積(以下「S2」と略記す
る。)とF−I(融解ピーク温度:122〜128℃)
の融解ピークの面積(以下「S1」と略記する。)を求
めた。第2表に全ピーク面積に占めるF−Iピークの面
積比率([S1/(S1+S2)]×100(%)、以
下「Z」と略記する。)の時間経過を示す。
経過を実施例37と同様にして測定した。得られた結果
を第2表に示す。このとき転移が完了するまでに要した
時間は130時間であった。
R:0.05g/10分)100重量部に所定のアミド
系化合物を0.25重量部を配合し、ヘンシェルミキサ
ーで混合後、230℃に設定された20mmφの一軸押出
機で溶融混練し、ペレット化した。得られたペレットを
200℃、5分間、100kg/cm2の条件でプレス成形
し、通水冷却用プレス機で2分間結晶化し、厚み0.2
mmのシートを作成した。
5mgをDSCにより200℃で10分間溶融した後、2
0℃/分の速度で冷却したときの結晶化温度(Tc)を
測定した。それらの結果を第3表に示す。
度を実施例47と同様にして測定した。得られた結果を
第3表に示す。
レスシートを作製し、成形直後及び室温下に保持したポ
リブテン−1樹脂プレスシート約5mgを10時間毎に打
ち抜き、DSCの試料ホルダーにセットし、窒素雰囲気
下で、10℃/分で昇温し、示差熱分析を行った。この
時得られるDSCサーモグラムのF−IIの面積(S
2)とF−Iの面積(S1)を求めた。第4表に全ピー
ク面積に占めるF−Iピークの面積比率(Z)の時間経
過を示す。
経過を実施例56と同様にして測定した。得られた結果
を第4表に示す。このとき転移が完了するまでに要した
時間は80時間であった。
ことにより、F−IIからF−Iへの結晶転移速度が大
きく、且つ成形直後のF−I生成量が多く、成形加工性
が大幅に改善されたポリブテン−1樹脂組成物を得るこ
とができる。
Claims (3)
- 【請求項1】 ポリブテン−1樹脂、並びに一般式
(1)で表されるポリカルボン酸系アミド化合物、一般
式(2)で表されるポリアミン系アミド化合物及び一般
式(3)で示されるポリアミノ酸系アミド化合物よりな
る群から選ばれる1種若しくは2種以上のアミド系化合
物を含有することを特徴とするポリブテン−1樹脂組成
物。 R1−(CONH−R2)k (1) [式中、R1は炭素数2〜30の飽和或いは不飽和の脂
肪族ポリカルボン酸残基、飽和若しくは不飽和の脂環族
ポリカルボン酸残基又は芳香族ポリカルボン酸残基を表
す。R2は炭素数1〜18のアルキル基若しくはアルケ
ニル基、炭素数3〜12のシクロアルキル基若しくはシ
クロアルケニル基、フェニル基、ナフチル基、アントリ
ル基、式a、式b、式c又は式dで表される基を表す。
R3、R5、R6、R8は同一又は異なって、炭素数1〜1
8のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、シクロ
アルキル基、フェニル基又はハロゲン原子を表す。
R4、R7は同一又は異なって、炭素数1〜4の直鎖状或
いは分岐鎖状のアルキレン基を表す。kは2〜6の整数
を示す。l、nは夫々1〜5の整数を示す。m、oは夫
々0〜5の整数を示す。] 【化1】 【化2】 【化3】 【化4】 R9−(NHCO−R10)p (2) [式中、R9は炭素数3〜25の飽和若しくは不飽和の
脂環族ポリアミン残基又は芳香族ポリアミン残基(但
し、キシリレンジアミン残基を除く。)を表す。R10は
一般式(1)のR2と同義である。pは2〜6の整数を
示す。] (R12−NHCO)q−R11−(NHCO−R13)r (3) [式中、R11は炭素数1〜25の飽和若しくは不飽和の
脂肪族アミノ酸残基、飽和若しくは不飽和の脂環族アミ
ノ酸残基又は芳香族アミノ酸残基を表す。R12、R13は
夫々一般式(1)のR2と同義であって、同一又は異な
っていてもよい。q、rは夫々1〜5の整数を示す。但
し、6≧q+r≧2である。] - 【請求項2】 アミド系化合物が、p−フェニレン二酢
酸ジアニリド、p−フェニレン二酢酸ジシクロヘキシル
アミド、トリカルバリル酸トリス(2−メチルシクロヘ
キシルアミド)、アジピン酸ビス(2,6−ジメチルア
ニリド)、ブタンテトラカルボン酸テトラシクロヘキシ
ルアミド、ブタンテトラカルボン酸テトラベンジルアミ
ド、トリメシン酸トリシクロヘキシルアミド、トリメシ
ン酸トリス(2−メチルシクロヘキシルアミド)、トリ
メシン酸トリベンジルアミド、1,4−シクロヘキサン
ジカルボン酸ジアニリド、N,N’−ジベンゾイル−
1,4−ジアミノシクロヘキサン、N,N’−ジシクロ
ヘキサンカルボニル−p−フェニレンジアミン、N,
N’−ジベンゾイル−1,5−ジアミノナフタレンより
なる群から選ばれる1種若しくは2種以上の化合物であ
る請求項1に記載のポリブテン−1樹脂組成物。 - 【請求項3】 ポリブテン−1樹脂100重量部に対
し、アミド系化合物を0.001〜10重量部含有して
なる請求項1又は請求項2に記載のポリブテン−1樹脂
組成物。
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EP95118873A EP0776933B1 (en) | 1995-05-31 | 1995-11-30 | Polybutene-1 resin composition and a method of accelerating the crystal transformation |
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