JPH0845120A - ディスクの製造方法 - Google Patents
ディスクの製造方法Info
- Publication number
- JPH0845120A JPH0845120A JP9897795A JP9897795A JPH0845120A JP H0845120 A JPH0845120 A JP H0845120A JP 9897795 A JP9897795 A JP 9897795A JP 9897795 A JP9897795 A JP 9897795A JP H0845120 A JPH0845120 A JP H0845120A
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- Japan
- Prior art keywords
- stamper
- disk
- master
- layer
- vapor deposition
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は、欠陥の少ない良質なスタンパを用
いて情報品質の良好なディスクの製造方法を提供するこ
とを目的とする。 【構成】 ディスクの製造方法において、ディスクの原
盤上にニッケル蒸着膜を形成し、前記原盤をニッケル鍍
金液に浸漬して回転させる前処理を行った後、ニッケル
の電気鍍金を行い、前記原盤から剥離することにより作
成されたスタンパを鋳型とし、樹脂で成型してディスク
を製造することを特徴とする。
いて情報品質の良好なディスクの製造方法を提供するこ
とを目的とする。 【構成】 ディスクの製造方法において、ディスクの原
盤上にニッケル蒸着膜を形成し、前記原盤をニッケル鍍
金液に浸漬して回転させる前処理を行った後、ニッケル
の電気鍍金を行い、前記原盤から剥離することにより作
成されたスタンパを鋳型とし、樹脂で成型してディスク
を製造することを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光ディスク等のディス
クの製造方法に関する。
クの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】光ディスクは大容量の情報記録が可能で
あり、情報の記録と再生をディスク面と非接触の状態で
行うことができ、また粉塵の影響を受けにくいなどの特
徴を備えたメモリである。すなわち、磁気ディスクや磁
気テープでは１ビットの情報記録に数１０平方μｍの面
積を要するのに対し、光ディスクの場合はレーザ光を直
径１μｍの微小スポットに集光して記録を行うため、記
録面積は１平方μｍ程度で足りることになり、大容量記
録が可能となる。
あり、情報の記録と再生をディスク面と非接触の状態で
行うことができ、また粉塵の影響を受けにくいなどの特
徴を備えたメモリである。すなわち、磁気ディスクや磁
気テープでは１ビットの情報記録に数１０平方μｍの面
積を要するのに対し、光ディスクの場合はレーザ光を直
径１μｍの微小スポットに集光して記録を行うため、記
録面積は１平方μｍ程度で足りることになり、大容量記
録が可能となる。
【０００３】また、対物レンズによって絞り込まれるレ
ーザ光のレンズ端面からディスク面までの距離は、１乃
至２ｍｍあるので磁気ディスクで問題となるヘッドクラ
ッシュの危険性を避けることができ、従って長寿命化が
可能となる。また、記録再生用のレーザ光は厚さが１ｍ
ｍ程度の透明なカバーを通して絞り込まれるため記録媒
体が露出しておらず、そのため汚染が避けられると共
に、直径が１μｍ程度のスポットも透明カバー上では直
径が１μｍ程度の光ビームであるため粉塵の存在が殆ど
影響を及ぼさなくなる。
ーザ光のレンズ端面からディスク面までの距離は、１乃
至２ｍｍあるので磁気ディスクで問題となるヘッドクラ
ッシュの危険性を避けることができ、従って長寿命化が
可能となる。また、記録再生用のレーザ光は厚さが１ｍ
ｍ程度の透明なカバーを通して絞り込まれるため記録媒
体が露出しておらず、そのため汚染が避けられると共
に、直径が１μｍ程度のスポットも透明カバー上では直
径が１μｍ程度の光ビームであるため粉塵の存在が殆ど
影響を及ぼさなくなる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】図１は、光ディスク用
スタンパの製造工程を示すものである。すなわち、良く
研磨した厚さが約５ｍｍで直径が２０乃至４０ｃｍのガ
ラス円板を基板とし、同図（Ａ）に示すようにこの基板
１の上にスピンコート法を用いてレジスト膜２を形成す
る。
スタンパの製造工程を示すものである。すなわち、良く
研磨した厚さが約５ｍｍで直径が２０乃至４０ｃｍのガ
ラス円板を基板とし、同図（Ａ）に示すようにこの基板
１の上にスピンコート法を用いてレジスト膜２を形成す
る。
【０００５】次にレーザ光をプリグルーブ位置およびト
ラックNO. などのアドレス位置に選択照射してレジスト
膜２を感光せしめ、これを現像することにより同図
（Ｂ）に示すようなプリグルーブ原盤３ができあがる。
次に同図（Ｃ）に示すにように真空蒸着法によりプリグ
ルーブ原盤３の上に厚さ数１００Åのニッケル（Ｎｉ）
蒸着膜４を作り、更にこの蒸着膜４の上に同図（Ｄ）で
示すように電解鍍金（以下略してメッキ）法により厚さ
約３００μｍのＮｉ層５を形成する。
ラックNO. などのアドレス位置に選択照射してレジスト
膜２を感光せしめ、これを現像することにより同図
（Ｂ）に示すようなプリグルーブ原盤３ができあがる。
次に同図（Ｃ）に示すにように真空蒸着法によりプリグ
ルーブ原盤３の上に厚さ数１００Åのニッケル（Ｎｉ）
蒸着膜４を作り、更にこの蒸着膜４の上に同図（Ｄ）で
示すように電解鍍金（以下略してメッキ）法により厚さ
約３００μｍのＮｉ層５を形成する。
【０００６】このようにして作られたＮｉ層５を同図
（Ｂ）に示すプリグルーブ原盤３から剥離することで同
図（Ｅ）に示すようなスタンパ６が完成する。そして、
このようにして作られたスタンパ６はこれを鋳型とし、
レコード製作と類似の方法で合成樹脂を成型し、この合
成樹脂板の上に記録媒体層を形成することにより光ディ
スクが作られている。
（Ｂ）に示すプリグルーブ原盤３から剥離することで同
図（Ｅ）に示すようなスタンパ６が完成する。そして、
このようにして作られたスタンパ６はこれを鋳型とし、
レコード製作と類似の方法で合成樹脂を成型し、この合
成樹脂板の上に記録媒体層を形成することにより光ディ
スクが作られている。
【０００７】ここでスタンパ６の必要条件は同図（Ｂ）
に示すようにレジスト膜２に形成されているプリグルー
ブやアドレス等の情報が高精度に再現されていると共
に、これから情報の書込みが行われる位置例えばプリグ
ルーブ位置は平坦であって欠陥の無いことが必要であ
る。その理由は記録媒体面に凹凸が存在すると読みだし
に当たってレーザ光が乱反射してノイズが増大すると共
に情報品質が著しく損なわれる。
に示すようにレジスト膜２に形成されているプリグルー
ブやアドレス等の情報が高精度に再現されていると共
に、これから情報の書込みが行われる位置例えばプリグ
ルーブ位置は平坦であって欠陥の無いことが必要であ
る。その理由は記録媒体面に凹凸が存在すると読みだし
に当たってレーザ光が乱反射してノイズが増大すると共
に情報品質が著しく損なわれる。
【０００８】そこで、ガラス基板１は平滑に研磨したも
のを使用すると共に、同図（Ｃ）で示すレジスト膜２上
にＮｉ蒸着膜４を形成する工程においてもレジスト膜２
との密着性を向上するために基板１を加熱することが行
われている。然し、このように基板加熱やＮｉの蒸着を
行うとレジスト膜２から揮発成分が発生してＮｉ蒸着膜
４の中に混入したり、レジスト膜２とＮｉ蒸着膜４とが
何らかの反応を起こすことなどが原因してＮｉ蒸着膜が
撥水性を帯び、その次のＮｉメッキ工程においてＮｉ層
５とＮｉ蒸着膜４との密着性が不完全となる。そのため
スタンパ６の形成のためにＮｉ層５をプリグルーブ原盤
から剥離するに当たってＮｉ蒸着膜４の一部がレジスト
膜２の上に残存し、そのためスタンパ６の欠陥数が多い
と云う問題がある。
のを使用すると共に、同図（Ｃ）で示すレジスト膜２上
にＮｉ蒸着膜４を形成する工程においてもレジスト膜２
との密着性を向上するために基板１を加熱することが行
われている。然し、このように基板加熱やＮｉの蒸着を
行うとレジスト膜２から揮発成分が発生してＮｉ蒸着膜
４の中に混入したり、レジスト膜２とＮｉ蒸着膜４とが
何らかの反応を起こすことなどが原因してＮｉ蒸着膜が
撥水性を帯び、その次のＮｉメッキ工程においてＮｉ層
５とＮｉ蒸着膜４との密着性が不完全となる。そのため
スタンパ６の形成のためにＮｉ層５をプリグルーブ原盤
から剥離するに当たってＮｉ蒸着膜４の一部がレジスト
膜２の上に残存し、そのためスタンパ６の欠陥数が多い
と云う問題がある。
【０００９】この解決法としてＮｉ蒸着膜４を形成した
後に溶剤を使用して膜面を洗浄することが考えられる
が、Ｎｉ蒸着膜４の厚さが薄く、またレジストが一般の
溶剤に対し容易に溶解するため、洗浄などの表面処理を
行えないと云う問題があった。本発明は、欠陥の少ない
良質なスタンパを用いて情報品質の良好なディスクの製
造方法を提供することを目的とする。
後に溶剤を使用して膜面を洗浄することが考えられる
が、Ｎｉ蒸着膜４の厚さが薄く、またレジストが一般の
溶剤に対し容易に溶解するため、洗浄などの表面処理を
行えないと云う問題があった。本発明は、欠陥の少ない
良質なスタンパを用いて情報品質の良好なディスクの製
造方法を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は、ディスクの製
造方法において、ディスクの原盤上にニッケル蒸着膜を
形成し、前記原盤をニッケル鍍金液に浸漬して回転させ
る前処理を行った後、ニッケルの電気鍍金を行い、ニッ
ケル層を前記原盤から剥離することにより作成されたス
タンパを鋳型とし、樹脂で成型して前記ディスクを製造
することを特徴とする。
造方法において、ディスクの原盤上にニッケル蒸着膜を
形成し、前記原盤をニッケル鍍金液に浸漬して回転させ
る前処理を行った後、ニッケルの電気鍍金を行い、ニッ
ケル層を前記原盤から剥離することにより作成されたス
タンパを鋳型とし、樹脂で成型して前記ディスクを製造
することを特徴とする。
【００１１】
【作用】本発明は、ディスクの原盤上にニッケル蒸着膜
を形成したる後、前記原盤をニッケル鍍金液に浸漬して
回転させる前処理を行って、ニッケル蒸着膜の撥水性を
除去した後ニッケルの電気鍍金を行い、原盤から剥離し
て欠陥の少ないスタンパを作成し、そのスタンパを鋳型
としてディスクを作成することで情報品質の良質なディ
スクを作成することができる。
を形成したる後、前記原盤をニッケル鍍金液に浸漬して
回転させる前処理を行って、ニッケル蒸着膜の撥水性を
除去した後ニッケルの電気鍍金を行い、原盤から剥離し
て欠陥の少ないスタンパを作成し、そのスタンパを鋳型
としてディスクを作成することで情報品質の良質なディ
スクを作成することができる。
【００１２】
【実施例】スタンパ６の製作に当たっては成型面におけ
る欠陥は出来る限り少なくすることが必要であり、この
見地からＮｉ蒸着膜４の形成に当たって密着性向上のた
めの基板１の加熱をするのが良い。然しこの加熱処理や
レジスト膜との反応等によりＮｉ蒸着膜４に撥水性を生
じてしまう。
る欠陥は出来る限り少なくすることが必要であり、この
見地からＮｉ蒸着膜４の形成に当たって密着性向上のた
めの基板１の加熱をするのが良い。然しこの加熱処理や
レジスト膜との反応等によりＮｉ蒸着膜４に撥水性を生
じてしまう。
【００１３】発明者等は溶剤処理を行うことなく撥水性
を除去する方法として図１（Ｃ）に示すＮｉ蒸着膜４を
形成したプリグルーブ原盤（以下略して蒸着基板）をＮ
ｉメッキ液の中に浸漬し、回転処理を行うことにより撥
水性が除去できることを見いだした。然しこの撥水性の
除去は本質的なものではなく、水洗洗浄を行ったのち乾
燥処理を施せば再び元の撥水性が現れてくる。この理由
は明瞭ではないが恐らくＮｉ蒸着液とメッキ液との電位
差及び回転よる攪拌効果に依ってメッキ液に添加してあ
る界面活性剤が蒸着基板の表面に析出して撥水性を消失
させていると思われる。
を除去する方法として図１（Ｃ）に示すＮｉ蒸着膜４を
形成したプリグルーブ原盤（以下略して蒸着基板）をＮ
ｉメッキ液の中に浸漬し、回転処理を行うことにより撥
水性が除去できることを見いだした。然しこの撥水性の
除去は本質的なものではなく、水洗洗浄を行ったのち乾
燥処理を施せば再び元の撥水性が現れてくる。この理由
は明瞭ではないが恐らくＮｉ蒸着液とメッキ液との電位
差及び回転よる攪拌効果に依ってメッキ液に添加してあ
る界面活性剤が蒸着基板の表面に析出して撥水性を消失
させていると思われる。
【００１４】この方法により、蒸着基板とＮｉメッキ層
との密着性は向上し、図１（Ｄ）で示すＮｉ層５を剥離
してスタンパ６を作る際にＮｉ蒸着膜４の残存による欠
陥を無くすことができる。以下ディスクの作成方法につ
いて説明する。プリグルーブ原盤にＮｉ蒸着膜を形成す
る際の基板加熱温度を１４０℃とし、この条件で蒸着し
て厚さ５００ÅのＮｉ蒸着膜を形成した。
との密着性は向上し、図１（Ｄ）で示すＮｉ層５を剥離
してスタンパ６を作る際にＮｉ蒸着膜４の残存による欠
陥を無くすことができる。以下ディスクの作成方法につ
いて説明する。プリグルーブ原盤にＮｉ蒸着膜を形成す
る際の基板加熱温度を１４０℃とし、この条件で蒸着し
て厚さ５００ÅのＮｉ蒸着膜を形成した。
【００１５】この蒸着基板をスルフアミン酸ニッケルを
主構成成分とする市販のニッケルメッキ液に浸漬し１０
０ＲＰＭの回転数で４０分に互って回転させ、その後通
常の方法でメッキを行ってスタンパを作ったが欠陥密度
は１０程度であり従来と較べると遙かに少ない。そし
て、このように欠陥の少ないスタンパを鋳型とし、レコ
ード製作と類似の方法で合成樹脂を成型し、この合成樹
脂板の上に記録媒体層を形成することにより光ディスク
を作成する。
主構成成分とする市販のニッケルメッキ液に浸漬し１０
０ＲＰＭの回転数で４０分に互って回転させ、その後通
常の方法でメッキを行ってスタンパを作ったが欠陥密度
は１０程度であり従来と較べると遙かに少ない。そし
て、このように欠陥の少ないスタンパを鋳型とし、レコ
ード製作と類似の方法で合成樹脂を成型し、この合成樹
脂板の上に記録媒体層を形成することにより光ディスク
を作成する。
【００１６】図２はスタンパの欠陥密度と浸漬時間との
関係を示すもので、欠陥数はスタンパの表面をレーザス
ポットで走査する場合に反射光の異常から計測した。こ
こで蒸着基板の回転は１００ＲＰＭであるが、特性曲線
７より明らかなように欠陥密度は浸漬時間と共に減少し
て一定値に近づく。なお、ここで欠陥密度はスタンパ表
面に生じている全ての欠陥を計数したものであって、特
性曲線７の飽和値においてはＮｉ蒸着膜の剥離欠陥は見
当たらない。
関係を示すもので、欠陥数はスタンパの表面をレーザス
ポットで走査する場合に反射光の異常から計測した。こ
こで蒸着基板の回転は１００ＲＰＭであるが、特性曲線
７より明らかなように欠陥密度は浸漬時間と共に減少し
て一定値に近づく。なお、ここで欠陥密度はスタンパ表
面に生じている全ての欠陥を計数したものであって、特
性曲線７の飽和値においてはＮｉ蒸着膜の剥離欠陥は見
当たらない。
【００１７】以上のように蒸着基板を液中で回転させる
と云う簡単な処理を施すことにより、スタンパの欠陥を
減らすことができる。
と云う簡単な処理を施すことにより、スタンパの欠陥を
減らすことができる。
【００１８】
【発明の効果】本発明は、欠陥の少ない良質なスタンパ
を用いてディスクを製造することで、プリグルーブやア
ドレスなどの情報が高精度に再現され、情報品質の良好
なディスクを提供することが可能になる。
を用いてディスクを製造することで、プリグルーブやア
ドレスなどの情報が高精度に再現され、情報品質の良好
なディスクを提供することが可能になる。
【図１】（Ａ）乃至（Ｅ）はディスク用スタンパの製造
工程を示す断面図である。
工程を示す断面図である。
【図２】スタンパと浸漬時間の関係図である。
１ 基板 ２ レジスト ３ プリグルーブ原盤 ４ ニッケル蒸着膜 ５ ニッケル層 ６ スタンパ
Claims (2)
- 【請求項１】 ディスクの原盤上にニッケル蒸着膜
を形成し、前記原盤をニッケル鍍金液に浸漬して回転さ
せる前処理を行った後、ニッケルの電気鍍金を行い、前
記原盤から剥離することにより作成されたスタンパを鋳
型とし、樹脂で成型して前記ディスクを製造することを
特徴とするディスクの製造方法。 - 【請求項２】 前記ディスクは光ディスクであるこ
とを特徴とする請求項１記載のディスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9897795A JP2663912B2 (ja) | 1995-04-24 | 1995-04-24 | ディスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9897795A JP2663912B2 (ja) | 1995-04-24 | 1995-04-24 | ディスクの製造方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59042607A Division JPH0630172B2 (ja) | 1984-03-06 | 1984-03-06 | 光デイスク用スタンパの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0845120A true JPH0845120A (ja) | 1996-02-16 |
| JP2663912B2 JP2663912B2 (ja) | 1997-10-15 |
Family
ID=14234088
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9897795A Expired - Lifetime JP2663912B2 (ja) | 1995-04-24 | 1995-04-24 | ディスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2663912B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1808913A1 (en) * | 2006-01-17 | 2007-07-18 | Nederlandse Organisatie voor Toegepast-Natuuurwetenschappelijk Onderzoek TNO | A stamp for preparing a structured layer for use in an organic opto-electric device and a method for preparing such a stamp |
-
1995
- 1995-04-24 JP JP9897795A patent/JP2663912B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1808913A1 (en) * | 2006-01-17 | 2007-07-18 | Nederlandse Organisatie voor Toegepast-Natuuurwetenschappelijk Onderzoek TNO | A stamp for preparing a structured layer for use in an organic opto-electric device and a method for preparing such a stamp |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2663912B2 (ja) | 1997-10-15 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19961105 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19970520 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |