JPH0844094A - 電子写真感光体用支持体 - Google Patents
電子写真感光体用支持体Info
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- JPH0844094A JPH0844094A JP17415794A JP17415794A JPH0844094A JP H0844094 A JPH0844094 A JP H0844094A JP 17415794 A JP17415794 A JP 17415794A JP 17415794 A JP17415794 A JP 17415794A JP H0844094 A JPH0844094 A JP H0844094A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 コピー時に画像欠陥のない電子写真感光体用
支持体を提供する。 【構成】 表面に感光層を有する電子写真用アルミニウ
ム支持体において、該支持体の表面に含まれる塩素の含
有量が５（ｐｐｍ）以下、であることを特徴とする電子
写真感光体用支持体。
支持体を提供する。 【構成】 表面に感光層を有する電子写真用アルミニウ
ム支持体において、該支持体の表面に含まれる塩素の含
有量が５（ｐｐｍ）以下、であることを特徴とする電子
写真感光体用支持体。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は感光体の性能に及ぼす悪
影響を最小限に押さえるため電子写真感光体用アルミニ
ウム支持体に関する。
影響を最小限に押さえるため電子写真感光体用アルミニ
ウム支持体に関する。
【０００２】
【従来の技術】電子写真感光体の欠陥としては、塗布さ
れた感光体による欠陥と感光体を塗布する支持体自体に
原因する欠陥とに大別される。このうち、後者について
は例えば画像上に現れる白点や黒スジ、白スジなどがあ
り、アルミニウム支持体上にあるキズや異物、また腐食
が影響していることがわかっている。こういったアルミ
表面上の欠陥のうち、キズは取扱いを注意すればその数
は減少し、異物についても洗浄をきちんとすればそれほ
ど問題にならない。というのは、素管の傷などについて
は、良品といわれているものでも、実際にはごく微少な
傷が何カ所も発生しているのが実状で、その大きさや濡
れ性などによって影響の出るものと出ないものがあるか
らである。
れた感光体による欠陥と感光体を塗布する支持体自体に
原因する欠陥とに大別される。このうち、後者について
は例えば画像上に現れる白点や黒スジ、白スジなどがあ
り、アルミニウム支持体上にあるキズや異物、また腐食
が影響していることがわかっている。こういったアルミ
表面上の欠陥のうち、キズは取扱いを注意すればその数
は減少し、異物についても洗浄をきちんとすればそれほ
ど問題にならない。というのは、素管の傷などについて
は、良品といわれているものでも、実際にはごく微少な
傷が何カ所も発生しているのが実状で、その大きさや濡
れ性などによって影響の出るものと出ないものがあるか
らである。
【０００３】このようなアルミニウム支持体表面上の不
具合を防止するためには感光体塗布前に、アルミニウム
支持体にあらかじめ導電性の下引き層を設け、素管上の
欠陥をマスキングしてしまう方法があり、特開昭６０−
３２０５４号公報などで取り上げられている。しかしこ
ういった方法では下引き層を設けるための設備を必要と
すること、また逆に下引き層自体の電気的性能が感光体
に影響すること等の問題点が挙げられる。一方で、下引
き層なしの場合の対策はほとんどされておらず、目視に
よる欠陥検査などにより、不良を排除しているのでコス
ト的にも問題がある。また、支持体自体の濡れ性が違う
場合などでは下引き層自体がはじかれてしまい、性能に
影響する場合もあるので問題である。
具合を防止するためには感光体塗布前に、アルミニウム
支持体にあらかじめ導電性の下引き層を設け、素管上の
欠陥をマスキングしてしまう方法があり、特開昭６０−
３２０５４号公報などで取り上げられている。しかしこ
ういった方法では下引き層を設けるための設備を必要と
すること、また逆に下引き層自体の電気的性能が感光体
に影響すること等の問題点が挙げられる。一方で、下引
き層なしの場合の対策はほとんどされておらず、目視に
よる欠陥検査などにより、不良を排除しているのでコス
ト的にも問題がある。また、支持体自体の濡れ性が違う
場合などでは下引き層自体がはじかれてしまい、性能に
影響する場合もあるので問題である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、下引
き層なしでも感光体への影響の少ないアルミニウム支持
体を提供すること、特に腐食による表面上の変質のない
アルミニウム支持体を提供することにある。
き層なしでも感光体への影響の少ないアルミニウム支持
体を提供すること、特に腐食による表面上の変質のない
アルミニウム支持体を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段および作用】アルミニウム
支持体上に発生する傷は前述の通り異物、傷、腐食が挙
げられる。異物については切削時に発生した切り粉が切
削油とともに表面に残り、そのまま固着してとれなくな
ってしまったものや、唾液、空気中の塵や埃がある。傷
については、切削時に発生する切り粉の巻き込みによる
傷、取り扱い傷、ビビリなどがある。腐食については従
来、表面仕上げ後の支持体表面が水濡れした場合や、急
激な気温変化等により支持体表面に結露した場合等に発
生することが知られていた。
支持体上に発生する傷は前述の通り異物、傷、腐食が挙
げられる。異物については切削時に発生した切り粉が切
削油とともに表面に残り、そのまま固着してとれなくな
ってしまったものや、唾液、空気中の塵や埃がある。傷
については、切削時に発生する切り粉の巻き込みによる
傷、取り扱い傷、ビビリなどがある。腐食については従
来、表面仕上げ後の支持体表面が水濡れした場合や、急
激な気温変化等により支持体表面に結露した場合等に発
生することが知られていた。
【０００６】しかし、これらの原因による腐食はかなり
マクロ的に発生し、感光体を塗布する前に支持体を目視
検査することによって、容易に除去することができる。
このようなマクロ的な腐食とは別に電子写真感光体用支
持体の場合には最大径数１０（μｍ）程度の微小腐食が
問題となる。腐食自体は微小であってもその上に塗布さ
れる感光体のムラが欠陥を拡大し、結果としてその支持
体を使った電子写真感光体によるコピー画像上に数ミリ
もの欠陥が現出する場合があるからである。
マクロ的に発生し、感光体を塗布する前に支持体を目視
検査することによって、容易に除去することができる。
このようなマクロ的な腐食とは別に電子写真感光体用支
持体の場合には最大径数１０（μｍ）程度の微小腐食が
問題となる。腐食自体は微小であってもその上に塗布さ
れる感光体のムラが欠陥を拡大し、結果としてその支持
体を使った電子写真感光体によるコピー画像上に数ミリ
もの欠陥が現出する場合があるからである。
【０００７】本発明者らは微小腐食欠陥の多発したアル
ミニウム支持体を光学顕微鏡により観察、さらに株式会
社日立製作所製Ｓ−５７０型走査電子顕微鏡およびＥＤ
ＡＸＬＡＢＯＲＡＴＯＲＩＥＳ社製ＥＤＡＸ ＰＶ９１
００／４０ＳＴＤを用いて欠陥部分の拡大観察およびＥ
ＤＸ分析を行い、腐食変質層には塩素が含まれているこ
とを見いだした。さらに腐食変質層の存在する支持体、
存在しない支持体についてＶＧ−マイクロトレース社製
グロー放電質量分析装置ＶＧ−９０００を用いて塩素量
を比較した結果、腐食変質層の存在する支持体は塩素量
が５（ｐｐｍ）以上であるのに対し、塩素量が５（ｐｐ
ｍ）以下である支持体には腐食変質層が存在しないこと
を見いだした。さらに、光学顕微鏡および走査電子顕微
鏡による観察により腐食変質層には必ず支持体表面に微
細な傷をともなうことを見いだした。傷の大きさによ
り、腐食変質層の大きさも異なる。即ち、傷が小さけれ
ば生成される腐食変質層も小さく、傷が大きいと腐食変
質層も大きい。
ミニウム支持体を光学顕微鏡により観察、さらに株式会
社日立製作所製Ｓ−５７０型走査電子顕微鏡およびＥＤ
ＡＸＬＡＢＯＲＡＴＯＲＩＥＳ社製ＥＤＡＸ ＰＶ９１
００／４０ＳＴＤを用いて欠陥部分の拡大観察およびＥ
ＤＸ分析を行い、腐食変質層には塩素が含まれているこ
とを見いだした。さらに腐食変質層の存在する支持体、
存在しない支持体についてＶＧ−マイクロトレース社製
グロー放電質量分析装置ＶＧ−９０００を用いて塩素量
を比較した結果、腐食変質層の存在する支持体は塩素量
が５（ｐｐｍ）以上であるのに対し、塩素量が５（ｐｐ
ｍ）以下である支持体には腐食変質層が存在しないこと
を見いだした。さらに、光学顕微鏡および走査電子顕微
鏡による観察により腐食変質層には必ず支持体表面に微
細な傷をともなうことを見いだした。傷の大きさによ
り、腐食変質層の大きさも異なる。即ち、傷が小さけれ
ば生成される腐食変質層も小さく、傷が大きいと腐食変
質層も大きい。
【０００８】本発明者らは顕微鏡ＶＴＲを用いた観察に
より腐食変質層の生成機構として、支持体表面の傷中に
存在する塩素が、主に空気中の水分を触媒として反応す
ることにより生成されることを発見した。また、傷の大
きさとコピー画像上に現れる欠陥との関係を調べた結
果、傷の最大長さが５（μｍ）以下であれば、腐食変質
層が生成してもその大きさはコピー画像上の画像欠陥に
はならぬ程度であることを見いだした。
より腐食変質層の生成機構として、支持体表面の傷中に
存在する塩素が、主に空気中の水分を触媒として反応す
ることにより生成されることを発見した。また、傷の大
きさとコピー画像上に現れる欠陥との関係を調べた結
果、傷の最大長さが５（μｍ）以下であれば、腐食変質
層が生成してもその大きさはコピー画像上の画像欠陥に
はならぬ程度であることを見いだした。
【０００９】さらに、発明者らは支持体中の塩素含有
量、傷の大きさ、コピー画像上の画像欠陥の３者の関連
について検討した結果、傷の最大長さが５〜１０（μ
ｍ）の場合であっても支持体中の塩素含有量が１０（ｐ
ｐｍ）以下であれば、発生する腐食変質層はコピー画像
上の欠陥とならない程度の大きさにしか成長しないこと
を見いだした。
量、傷の大きさ、コピー画像上の画像欠陥の３者の関連
について検討した結果、傷の最大長さが５〜１０（μ
ｍ）の場合であっても支持体中の塩素含有量が１０（ｐ
ｐｍ）以下であれば、発生する腐食変質層はコピー画像
上の欠陥とならない程度の大きさにしか成長しないこと
を見いだした。
【００１０】電子写真用感光体用支持体に用いるアルミ
ニウム合金としてはＪＩＳ（日本工業規格）に示される
展伸用アルミニウム及びその合金の１０００系、２００
０系、３０００系、４０００系、５０００系、６０００
系、７０００系が挙げられ、好ましくは１０００系、３
０００系、５０００系、６０００系であり、さらに好ま
しくは１０５０、３００３、６０６３系アルミニウム合
金であることが知られている。本発明の支持体にはこれ
らのうち何れのアルミニウム合金にも適用できる。
ニウム合金としてはＪＩＳ（日本工業規格）に示される
展伸用アルミニウム及びその合金の１０００系、２００
０系、３０００系、４０００系、５０００系、６０００
系、７０００系が挙げられ、好ましくは１０００系、３
０００系、５０００系、６０００系であり、さらに好ま
しくは１０５０、３００３、６０６３系アルミニウム合
金であることが知られている。本発明の支持体にはこれ
らのうち何れのアルミニウム合金にも適用できる。
【００１１】次に、アルミニウム支持体の製造工程にお
いて、本発明を実施する方法について述べる。前述のよ
うに、本発明のポイントの１つは、該支持体中に含有す
る塩素量を規制することにある。通常、アルミニウム製
品の製造工程では、その溶製工程において、塩素を含ん
だフラックスを用いて、溶湯表面をカバーする事が行な
われる。
いて、本発明を実施する方法について述べる。前述のよ
うに、本発明のポイントの１つは、該支持体中に含有す
る塩素量を規制することにある。通常、アルミニウム製
品の製造工程では、その溶製工程において、塩素を含ん
だフラックスを用いて、溶湯表面をカバーする事が行な
われる。
【００１２】さらに、溶湯中に存在し、凝固後に気泡の
原因となる水素を除去する工程において、塩素を含んだ
気体のバブリング、又は塩素を含んだ固体又は粉体を投
入する操作が通常行なわれる。本発明者等は、アルミニ
ウム支持体中に塩素が混入する原因が、これらの工程で
あることを見出した。これらの工程において、塩素を含
んだ気体、固体等を用いない事により、アルミニウム支
持体中の塩素含有量を５ｐｐｍ以下にできる。
原因となる水素を除去する工程において、塩素を含んだ
気体のバブリング、又は塩素を含んだ固体又は粉体を投
入する操作が通常行なわれる。本発明者等は、アルミニ
ウム支持体中に塩素が混入する原因が、これらの工程で
あることを見出した。これらの工程において、塩素を含
んだ気体、固体等を用いない事により、アルミニウム支
持体中の塩素含有量を５ｐｐｍ以下にできる。
【００１３】また、溶製工程又は脱水素工程において塩
素を含んだ気体又は固体を使用した場合は、溶湯中に残
留する塩素は、主にＡｌ、Ｍｇ等の金属との化合物とな
って存在し、これは時間と共に溶湯表面に浮上する。本
発明の様に、アルミニウム支持体中の塩素量を５ｐｐｍ
以下にするためには、上記処理後、少なくとも１時間以
上鎮静することによっても塩素量を５ｐｐｍ以下とする
ことができる。
素を含んだ気体又は固体を使用した場合は、溶湯中に残
留する塩素は、主にＡｌ、Ｍｇ等の金属との化合物とな
って存在し、これは時間と共に溶湯表面に浮上する。本
発明の様に、アルミニウム支持体中の塩素量を５ｐｐｍ
以下にするためには、上記処理後、少なくとも１時間以
上鎮静することによっても塩素量を５ｐｐｍ以下とする
ことができる。
【００１４】また、本発明による電子写真感光体用アル
ミニウム支持体の表面仕上げには、切削加工、研削加
工、バニシング加工、しごき加工、化学研磨、電解研
磨、エッチング等の表面仕上げ加工方法が使用できる。
また、表面仕上げ加工の後、感光体を塗布する前に陽極
酸化処理、化成処理等を行う場合にも有効である。以下
実施例をもって本発明をさらに詳細に説明する。但し、
本発明は以下の実施例によって拘束されるものではな
い。
ミニウム支持体の表面仕上げには、切削加工、研削加
工、バニシング加工、しごき加工、化学研磨、電解研
磨、エッチング等の表面仕上げ加工方法が使用できる。
また、表面仕上げ加工の後、感光体を塗布する前に陽極
酸化処理、化成処理等を行う場合にも有効である。以下
実施例をもって本発明をさらに詳細に説明する。但し、
本発明は以下の実施例によって拘束されるものではな
い。
【００１５】［実施例１］ＪＩＳ６０３０成分のアルミ
ニウム合金を１０ｔ容量の反射路で溶解した。これにフ
ラックスによる脱滓処理を行わずにＡｒガスを吹き込ん
で脱水素処理を行った。この溶湯を３０分鎮静処理した
後、東京高級炉材（株）製「メタロフィルタ」を使って
濾過した後、半連続鋳造法により１７８（ｍｍ）φ×
６，０００（ｍｍ）Ｌのビレットを鋳造した。このビレ
ットに熱間押出し加工、冷間引抜き加工、天然単結晶ダ
イヤモンドバイトを用いた切削加工を順次施し外径８０
（ｍｍ）φ、内径７６（ｍｍ）φ、長さ３４０（ｍｍ）
の鏡面管を製造した。
ニウム合金を１０ｔ容量の反射路で溶解した。これにフ
ラックスによる脱滓処理を行わずにＡｒガスを吹き込ん
で脱水素処理を行った。この溶湯を３０分鎮静処理した
後、東京高級炉材（株）製「メタロフィルタ」を使って
濾過した後、半連続鋳造法により１７８（ｍｍ）φ×
６，０００（ｍｍ）Ｌのビレットを鋳造した。このビレ
ットに熱間押出し加工、冷間引抜き加工、天然単結晶ダ
イヤモンドバイトを用いた切削加工を順次施し外径８０
（ｍｍ）φ、内径７６（ｍｍ）φ、長さ３４０（ｍｍ）
の鏡面管を製造した。
【００１６】次に下記構造を有するビスアゾ化合物１０
部とフェノキシ樹脂（ユニオンカーバイド社製ＰＫＨ
Ｈ）５部、ポリビニルブチラール樹脂（積水化学工業社
製ＢＨ−３）５部に４−メトキシ−４−メチルペンタノ
ン−２／１００部を加え、サンドグラインドミルにて粉
砕分散処理を行った。得られた分散液に前述の鏡面管を
浸漬塗布と、乾燥後の膜厚が０．４（μｍ）となる様電
荷発生層を設けた。
部とフェノキシ樹脂（ユニオンカーバイド社製ＰＫＨ
Ｈ）５部、ポリビニルブチラール樹脂（積水化学工業社
製ＢＨ−３）５部に４−メトキシ−４−メチルペンタノ
ン−２／１００部を加え、サンドグラインドミルにて粉
砕分散処理を行った。得られた分散液に前述の鏡面管を
浸漬塗布と、乾燥後の膜厚が０．４（μｍ）となる様電
荷発生層を設けた。
【００１７】
【化１】
【００１８】このようにして得られた電荷発生層を持つ
アルミパイプをＮ−メチルカルバゾール−３−アルデヒ
ドジフェニルヒドラゾン９０部、ポリカーボネート樹脂
１００部、下記構造のシアノ化合物４．５部を１，４−
ジオキサン９００部に溶解した溶液に
アルミパイプをＮ−メチルカルバゾール−３−アルデヒ
ドジフェニルヒドラゾン９０部、ポリカーボネート樹脂
１００部、下記構造のシアノ化合物４．５部を１，４−
ジオキサン９００部に溶解した溶液に
【００１９】
【化２】
【００２０】浸漬塗布し、乾燥後の膜厚が２０（μｍ）
となるように電荷移動層を設けた。
となるように電荷移動層を設けた。
【００２１】［実施例２］実施例１において溶湯の脱水
素処理を塩素で実施したことおよび溶湯の鎮静時間を１
時間にしたことおよび半連続鋳造時の冷却水量を実施例
１に比較して２倍としたこと以外実施例１と同様にして
電子写真感光体を製作した。
素処理を塩素で実施したことおよび溶湯の鎮静時間を１
時間にしたことおよび半連続鋳造時の冷却水量を実施例
１に比較して２倍としたこと以外実施例１と同様にして
電子写真感光体を製作した。
【００２２】［実施例３］実施例１において溶湯の脱水
素処理を塩素で実施したことおよび溶湯の鎮静時間を１
時間にしたことおよび半連続鋳造時の冷却水量を実施例
１に比較して１．５倍にしたこと以外実施例１と同様に
して電子写真感光体を製作した。
素処理を塩素で実施したことおよび溶湯の鎮静時間を１
時間にしたことおよび半連続鋳造時の冷却水量を実施例
１に比較して１．５倍にしたこと以外実施例１と同様に
して電子写真感光体を製作した。
【００２３】［比較例１］実施例１において、溶湯の脱
水素処理を塩素で実施したこと以外実施例１と同様にし
て電子写真感光体を製作した。
水素処理を塩素で実施したこと以外実施例１と同様にし
て電子写真感光体を製作した。
【００２４】［比較例２］実施例１において、溶湯の脱
水素処理を塩素で実施したことおよび溶湯の鎮静時間を
１５分としたことおよび半連続鋳造時の冷却水量を１．
５倍にしたこと以外実施例１と同様にして電子写真感光
体を製作した。
水素処理を塩素で実施したことおよび溶湯の鎮静時間を
１５分としたことおよび半連続鋳造時の冷却水量を１．
５倍にしたこと以外実施例１と同様にして電子写真感光
体を製作した。
【００２５】［比較例３］実施例１において、溶湯の脱
水素処理を塩素で実施したことおよび溶湯の鎮静時間を
１０分としたこと以外実施例１と同様にして電子写真感
光体を製作した。以上のようにして製作した実施例１、
２、３および比較例１、２、３の電子写真感光体を各々
市販の複写機に組み込んで複写し、コピー画像上の欠陥
を比較するとともに、各々に使用した支持体表面の傷の
最大長さおよび各々の支持体に含まれる塩素の含有量を
測定した。その結果を表１に示す。この結果から本発明
の効果が実証された。
水素処理を塩素で実施したことおよび溶湯の鎮静時間を
１０分としたこと以外実施例１と同様にして電子写真感
光体を製作した。以上のようにして製作した実施例１、
２、３および比較例１、２、３の電子写真感光体を各々
市販の複写機に組み込んで複写し、コピー画像上の欠陥
を比較するとともに、各々に使用した支持体表面の傷の
最大長さおよび各々の支持体に含まれる塩素の含有量を
測定した。その結果を表１に示す。この結果から本発明
の効果が実証された。
【００２６】
【表１】
【００２７】
【発明の効果】本発明によりコピー画像欠陥のない電子
写真感光体用支持体を提供し得る。
写真感光体用支持体を提供し得る。
Claims (4)
- 【請求項１】 表面に感光層を有する電子写真用アルミ
ニウム支持体において、該支持体の表面に含まれる塩素
の含有量が５（ｐｐｍ）以下であることを特徴とする電
子写真感光体用支持体。 - 【請求項２】 表面に感光層を有する電子写真用アルミ
ニウム支持体において、該支持体表面に存在する傷の大
きさが最大長さ５（μｍ）以下であることを特徴とする
電子写真感光体用支持体。 - 【請求項３】 表面に感光層を有する電子写真用アルミ
ニウム支持体において、該支持体に含まれる塩素の含有
量が１０（ｐｐｍ）以下であり、かつ該支持体表面に存
在する傷が最大長さ１０（μｍ）以下であることを特徴
とする電子写真感光体用支持体。 - 【請求項４】 表面に感光層を有する電子写真用アルミ
ニウム支持体の製造工程中の、溶製及び脱水素工程にお
いて、塩素含有物質を実質的に使用しないことを特徴と
する電子写真感光体用支持体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17415794A JP3776468B2 (ja) | 1994-07-26 | 1994-07-26 | 電子写真感光体用支持体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17415794A JP3776468B2 (ja) | 1994-07-26 | 1994-07-26 | 電子写真感光体用支持体 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002250380A Division JP3878894B2 (ja) | 2002-08-29 | 2002-08-29 | 電子写真感光体用支持体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0844094A true JPH0844094A (ja) | 1996-02-16 |
| JP3776468B2 JP3776468B2 (ja) | 2006-05-17 |
Family
ID=15973694
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17415794A Expired - Lifetime JP3776468B2 (ja) | 1994-07-26 | 1994-07-26 | 電子写真感光体用支持体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3776468B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001051437A (ja) * | 1998-11-27 | 2001-02-23 | Canon Inc | 電子写真感光体の製造方法 |
-
1994
- 1994-07-26 JP JP17415794A patent/JP3776468B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001051437A (ja) * | 1998-11-27 | 2001-02-23 | Canon Inc | 電子写真感光体の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3776468B2 (ja) | 2006-05-17 |
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