JPH0837224A - 半導体製造装置のカセット授受ユニット - Google Patents

半導体製造装置のカセット授受ユニット

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JPH0837224A
JPH0837224A JP19292094A JP19292094A JPH0837224A JP H0837224 A JPH0837224 A JP H0837224A JP 19292094 A JP19292094 A JP 19292094A JP 19292094 A JP19292094 A JP 19292094A JP H0837224 A JPH0837224 A JP H0837224A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cassette
wafer cassette
wafer
stage
semiconductor manufacturing
Prior art date
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Pending
Application number
JP19292094A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazuto Ikeda
和人 池田
Tetsuo Yamamoto
哲夫 山本
Hisashi Yoshida
久志 吉田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kokusai Electric Corp
Original Assignee
Kokusai Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Kokusai Electric Corp filed Critical Kokusai Electric Corp
Priority to JP19292094A priority Critical patent/JPH0837224A/ja
Publication of JPH0837224A publication Critical patent/JPH0837224A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】半導体製造装置と外部との間でウェーハカセッ
トの授受を行うカセット授受ユニットに於いて、人手作
業でも確実にカセット授受ユニットへのウェーハカセッ
トの載置作業を行える様にする。 【構成】半導体製造装置の外部に対して露出しウェーハ
カセットを受載する外部授受ステージ19に少なくとも
1組の位置決めブロック37,38を設け、該1組の位
置決めブロックが1つのウェーハカセットを保持し、且
位置決めブロック対向面は下方に向かって漸次対向距離
が接近する様なテーパ面39,40となっており、ウェ
ーハカセットを位置決めブロック間に載置すると、対向
面の作用で中心合わせがなされて正しい位置に保持され
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体製造装置に於い
て、該半導体製造装置と外部との間でウェーハカセット
の授受を行う半導体製造装置のカセット授受ユニットに
関するものである。
【0002】
【従来の技術】先ず、図4に於いて半導体製造装置の概
略を説明する。
【0003】図中、1はカセット授受ユニット、2はカ
セットストッカ、3はウェーハ移載機、4はボートエレ
ベータ、5は反応炉を示す。
【0004】ウェーハ6は前記ウェーハカセット7に装
填された状態で半導体製造装置と外部装置との間で搬送
が行われ、半導体製造装置と外部間でのウェーハカセッ
トの授受はカセット授受ユニット1により行われる。
【0005】前記ウェーハカセット7は外部搬送装置、
或は人手によりカセット授受ユニット1のカセットステ
ージ8に載置され、昇降ステージ9の昇降、前記カセッ
トステージ8の反転、進退により前記カセットストッカ
2に収納される。又、同様に前記カセットストッカ2か
らのウェーハカセット7払出しも前記カセット授受ユニ
ット1を介して行われる。
【0006】前記ボートエレベータ4はボートキャップ
10を介して載設されたボート11を前記反応炉5内に
装入、引出す。前記ウェーハ移載機3は昇降、回転、進
退するチャッキングヘッド12を有し、該チャッキング
ヘッド12により前記ボート11が引出された状態で、
前記ボート11と前記カセットストッカ2に収納された
ウェーハカセット7との間でウェーハ6の移載を行う様
になっている。
【0007】前記ウェーハ移載機3によりウェーハ6を
前記ボート11に移載し、ウェーハ6が装填された前記
ボート11を前記反応炉5に装入し、該反応炉5内でウ
ェーハ6の処理を行い、処理が完了すると反応炉5から
ボート11を引出し、前記ウェーハ移載機3によりウェ
ーハ6をカセットストッカ2へ移載し、更に前記カセッ
ト授受ユニット1がウェーハカセット7を前記カセット
ストッカ2から取出し、前記カセットステージ8の反
転、進退によりウェーハカセット7を半導体製造装置よ
り露出した状態で支持し、外部搬送装置、或は人手によ
り搬送可能とする。
【0008】図5により従来のカセット授受ユニット1
を説明する。
【0009】昇降ガイドロッド15に昇降ステージ9が
昇降可能に設けられ、該昇降ステージ9には水平ガイド
16が2対設けられ、該水平ガイド16にはスライドス
タンド17が摺動自在に軌乗している。各1対のスライ
ドスタンド17に前記カセットステージ8が回動アーム
18を介して前記水平ガイド16と直交する方向の軸心
を中心に回動可能に設けられている。
【0010】図6に於いてカセットステージ8を説明す
る。
【0011】カセットステージ8は外部授受ステージ1
9、内部授受ステージ20が直角に設けられたL字形状
をしており、半導体製造装置と外部に対してウェーハカ
セット7の授受を行う場合は前記外部授受ステージ19
が水平状態で外部に露出し、半導体製造装置内部でウェ
ーハカセット7の授受を行う場合は、内部授受ステージ
20が水平状態で前記カセットストッカ2に対峙する
様、カセットステージ8が回転される。
【0012】前記した様に、半導体製造装置に外部から
ウェーハカセット7を供給する場合は図6の様に、外部
授受ステージ19が水平な状態となる様、前記カセット
ステージ8の姿勢が制御され、前記外部授受ステージ1
9上にウェーハカセット7が載置される。前記外部授受
ステージ19に対するウェーハカセット7の位置は、ウ
ェーハ移載機3によるウェーハ6の移載等が円滑に行な
われる様、正確でなければならない。この為、前記外部
授受ステージ19には4隅にカセット受載ブロック21
が設けられており、該カセット受載ブロック21は前記
ウェーハカセット7が乗載する乗座面22及び上方に向
かって広がる斜面を有する爪23を有している。
【0013】前記外部授受ステージ19の上面には1対
のスライドプレート24が対称に設けられ、該スライド
プレート24にはそれぞれロック片25が前記カセット
受載ブロック21に対峙して、又サイドガイド26が1
側側のカセット受載ブロック21の間に設けられてい
る。
【0014】前記外部授受ステージ19の下面には1対
の拡縮ソレノイド27が対称に設けられ、該拡縮ソレノ
イド27の拡縮ロッド28にはスライドブロック29が
固着され、該スライドブロック29は前記スライドプレ
ート24と連結されており、前記拡縮ソレノイド27を
駆動することで前記スライドプレート24を介して前記
ロック片25、前記サイドガイド26が幅方向に拡縮す
る様になっている。
【0015】ウェーハカセット7を前記外部授受ステー
ジ19に載置する場合は、前記拡縮ソレノイド27によ
り拡縮ロッド28、スライドブロック29を介してスラ
イドプレート24を中心側に寄せた状態で、即ちロック
片25とカセット受載ブロック21とが離反した状態
で、ウェーハカセット7を前記乗座面22上に乗載す
る。ウェーハカセット7が乗座面22に乗載した状態で
は、ウェーハカセット7下端に位置するリブが前記ロッ
ク片25と爪23との間に、又前記サイドガイド26と
前記カセット受載ブロック21との間に位置する。
【0016】次に、前記拡縮ソレノイド27により前記
1対のスライドプレート24が広がり、前記ロック片2
5がウェーハカセット7のリブの内面側に当接し、ウェ
ーハカセット7を受載箇所の中心に位置決めすると共に
ロックする。
【0017】
【発明が解決しようとする課題】上記した様に、ウェー
ハカセット7を外部授受ステージ19に載置する場合、
ウェーハカセット7は下端のリブが前記爪23と前記ロ
ック片25との間に位置する様、正確に前記乗座面22
上に載置されなければならない。ところが外部授受ステ
ージ19の上面には前記したカセット受載ブロック2
1、ロック片25、サイドガイド26等が複雑に設けら
れており、ウェーハカセット載置位置が不明確であり、
特に人手でウェーハカセット7を外部授受ステージ19
に載置する場合は、注意を要する作業であり、又誤った
位置に載置する可能性もあった。誤った位置にウェーハ
カセット7が載置されると、ウェーハカセット7授受作
動でウェーハ6を破損することがあり、装置の休止等の
事態を招くことになり、可動率の向上を妨げる原因とな
っていた。
【0018】本発明は斯かる実情に鑑み、人手作業でも
確実に外部授受ステージへのウェーハカセットの載置作
業を行える様にしたものである。
【0019】
【課題を解決するための手段】本発明は、半導体製造装
置と外部との間でウェーハカセットの授受を行うカセッ
ト授受ユニットに於いて、半導体製造装置の外部に対し
て露出しウェーハカセットを受載する外部授受ステージ
に少なくとも1組の位置決めブロックを設け、該1組の
位置決めブロックが1つのウェーハカセットを保持し、
且位置決めブロックの対向面は下方に向かって漸次対向
距離が接近する様なテーパ面となっていることを特徴と
するものである。
【0020】
【作用】ウェーハカセットを位置決めブロック間に載置
すると、対向面の作用で中心合わせがなされて位置決め
ブロックに保持される。
【0021】
【実施例】以下、図面を参照しつつ本発明の一実施例を
説明する。
【0022】尚、図1は本発明に直接関係のない構成は
省略し、図5中で示したものと同様の構成のものには同
符号を付してある。
【0023】昇降ステージ9の左右端部に側立支承体3
0,側立支承体31を立設し、該側立支承体30、側立
支承体31に回動軸32、回動軸33を介して凹状のス
テージフレーム34を揺動自在に設け、一方の側立支承
体31に減速機35を固着し、該減速機35に回動モー
タ36を連結する。前記減速機35の出力軸と前記回動
軸33とを連結し、該回動軸33と前記ステージフレー
ム34とは固着する。
【0024】前記ステージフレーム34にカセットステ
ージ8を固着し、前記回動モータ36を駆動することで
前記カセットステージ8が90°回転される。
【0025】前記外部授受ステージ19に位置決めブロ
ック37、位置決めブロック38を2組設ける。該位置
決めブロック37,38は少なくともウェーハカセット
7の奥行き以上の長さを有し、位置決めブロック37,
38の対向面39,40は図2の断面図に見られる様に
下方に向かって漸次対向距離が接近する様なテーパ面と
なっており、下端にはカセット受載縁部41,42が形
成されている。又前記対向面39,40のそれぞれの下
縁対向距離はウェーハカセット7の幅に等しくなってい
る。
【0026】前記内部授受ステージ20はカセットステ
ージ8が90°反転した状態でウェーハカセット7を受
載する。前記内部授受ステージ20にはウェーハカセッ
ト7の受載箇所に欠切部43を設け、該各欠切部43を
挾んで2つの位置決めブロック44を設けてある。
【0027】上記した外部授受ステージ19にウェーハ
カセット7を載置する場合は、位置決めブロック37,
38との間にウェーハカセット7を載置する。前記した
様に、前記対向面39,40の上縁はウェーハカセット
7の幅より大きくなっているので、載置の際に然程注意
を払わなくてもよい。ウェーハカセット7は重力で前記
カセット受載縁部41,42に乗載するが、カセット受
載縁部41,42に至迄の過程で前記対向面39,40
の作用で中心合わせがなされる(図3参照)。
【0028】而して、前記外部授受ステージ19には2
個のウェーハカセット7が適正位置に載置され、前記回
動モータ36によりカセットステージ8が90°回転さ
れることで2個のウェーハカセット7も同時に回転し、
内部授受ステージ20に乗移り、前記位置決めブロック
44で位置決め保持されると共にカセットストッカ2に
対峙し、該カセットストッカ2とカセット授受ユニット
1との間で2個のウェーハカセット7が同時に授受され
る。
【0029】尚、上記実施例は1つの外部授受ステージ
に2組の位置決めブロック37,38を設けたが、従来
と同様に2つの外部授受ステージを設け、個々の外部授
受ステージに1組の位置決めブロック37,38を設け
てもよいことは言う迄もない。
【0030】
【発明の効果】以上述べた如く本発明によれば、ウェー
ハカセットの一側に対する位置決めブロックを一体化し
て、外部授受ステージ19の載置面を簡素化したので、
ウェーハカセット7の載置位置が明確になり、載置し易
くなり、又位置決めブロックが傾斜面を有するので位置
合わせ機能を有し、載置位置に然程注意を払う必要がな
く作業者の負担が軽減し、又部品点数が少なく製作コス
トの低減を図れる等の優れた効果を発揮する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例を示す斜視図である。
【図2】図1のA−A断面図である。
【図3】本実施例の作動説明図である。
【図4】半導体製造装置の概略を示す透視図である。
【図5】従来例を示す斜視図である。
【図6】該従来例の要部を示す斜視図である。
【符号の説明】
1 カセット授受ユニット 8 カセットステージ 9 昇降ステージ 19 外部授受ステージ 20 内部授受ステージ 37 位置決めブロック 38 位置決めブロック 39 対向面 40 対向面

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体製造装置と外部との間でウェーハ
    カセットの授受を行うカセット授受ユニットに於いて、
    半導体製造装置の外部に対して露出しウェーハカセット
    を受載する外部授受ステージに少なくとも1組の位置決
    めブロックを設け、該1組の位置決めブロックが1つの
    ウェーハカセットを保持し、且位置決めブロックの対向
    面は下方に向かって漸次対向距離が接近する様なテーパ
    面となっていることを特徴とする半導体製造装置のカセ
    ット授受ユニット。
JP19292094A 1994-07-25 1994-07-25 半導体製造装置のカセット授受ユニット Pending JPH0837224A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19292094A JPH0837224A (ja) 1994-07-25 1994-07-25 半導体製造装置のカセット授受ユニット

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JP19292094A JPH0837224A (ja) 1994-07-25 1994-07-25 半導体製造装置のカセット授受ユニット

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0837224A true JPH0837224A (ja) 1996-02-06

Family

ID=16299185

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP19292094A Pending JPH0837224A (ja) 1994-07-25 1994-07-25 半導体製造装置のカセット授受ユニット

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JP (1) JPH0837224A (ja)

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