JPH0837170A - 基板処理装置 - Google Patents
基板処理装置Info
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- JPH0837170A JPH0837170A JP19364094A JP19364094A JPH0837170A JP H0837170 A JPH0837170 A JP H0837170A JP 19364094 A JP19364094 A JP 19364094A JP 19364094 A JP19364094 A JP 19364094A JP H0837170 A JPH0837170 A JP H0837170A
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 装置のコンパクト化を図ることができる基板
処理装置を提供する。 【構成】 その内部に処理空間が形成される外囲容器１
０と、外囲容器１０内に設けられ、角型基板Ｗを保持し
た状態で回転させるスピンチャック２１と、スピンチャ
ック２１に保持された角型基板Ｗを囲むように配置さ
れ、基板回転時に基板表面から飛散する処理液を受ける
円筒状の内カップ３０と、内カップ３０の外壁に沿って
湾曲状に細長く形成された処理液吐出ノズル４１を有
し、角型基板Ｗに処理液を供給する処理液供給機構４０
とから構成されている。
処理装置を提供する。 【構成】 その内部に処理空間が形成される外囲容器１
０と、外囲容器１０内に設けられ、角型基板Ｗを保持し
た状態で回転させるスピンチャック２１と、スピンチャ
ック２１に保持された角型基板Ｗを囲むように配置さ
れ、基板回転時に基板表面から飛散する処理液を受ける
円筒状の内カップ３０と、内カップ３０の外壁に沿って
湾曲状に細長く形成された処理液吐出ノズル４１を有
し、角型基板Ｗに処理液を供給する処理液供給機構４０
とから構成されている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示器用のガラス
基板、カラーフィルタ用の基板、半導体ウエハ、サーマ
ルヘッド製造用のセラミック基板などの基板の表面に、
洗浄液や現像液などの処理液を供給して基板表面の処理
を行う基板処理装置に関する。
基板、カラーフィルタ用の基板、半導体ウエハ、サーマ
ルヘッド製造用のセラミック基板などの基板の表面に、
洗浄液や現像液などの処理液を供給して基板表面の処理
を行う基板処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種の基板処理装置のうち例え
ば、基板表面を洗浄する装置は、基板表面に付着してい
る細かいパーティクルを除去するために、基板をその表
面が水平になるような姿勢で回転させながら、ノズルか
ら超音波振動が与えられた純水などの洗浄液を基板表面
に供給し、かつそのノズルを揺動させて基板表面全体の
洗浄を行うように構成されている。
ば、基板表面を洗浄する装置は、基板表面に付着してい
る細かいパーティクルを除去するために、基板をその表
面が水平になるような姿勢で回転させながら、ノズルか
ら超音波振動が与えられた純水などの洗浄液を基板表面
に供給し、かつそのノズルを揺動させて基板表面全体の
洗浄を行うように構成されている。
【０００３】しかしながら、上記従来例では、ノズルは
その下端に小径の円形開口部が形成され、その円形開口
部から基板表面にスポット的に洗浄液を供給しているの
で、基板の回転とノズルの揺動との協働によって基板表
面全体を洗浄するようにしているものの、その超音波振
動による洗浄効果を受ける領域が狭く、基板の回転とノ
ズルの揺動との相対的な関係から、洗浄液が供給される
軌跡が螺旋状になり、場合によっては洗浄できない箇所
も生じる欠点があった。
その下端に小径の円形開口部が形成され、その円形開口
部から基板表面にスポット的に洗浄液を供給しているの
で、基板の回転とノズルの揺動との協働によって基板表
面全体を洗浄するようにしているものの、その超音波振
動による洗浄効果を受ける領域が狭く、基板の回転とノ
ズルの揺動との相対的な関係から、洗浄液が供給される
軌跡が螺旋状になり、場合によっては洗浄できない箇所
も生じる欠点があった。
【０００４】そのため、洗浄効果を基板全体に及ぼさせ
るためには処理時間を長くする必要があった。さらに、
角型基板などのように、洗浄しようとする基板が大きく
なると、より一層処理に時間を要するものであった。
るためには処理時間を長くする必要があった。さらに、
角型基板などのように、洗浄しようとする基板が大きく
なると、より一層処理に時間を要するものであった。
【０００５】このような問題に対処するために、例え
ば、図５に示すように、基板の大きさに応じてノズル自
体を長くすることが考えられる。この装置は、角型基板
Ｗを載置保持するスピンチャック１００が鉛直軸芯Ｐ1
周りに水平回転可能に設けられ、そのスピンチャック１
００の半径方向外周が飛散防止用内カップ１０１で覆わ
れるとともに、その内カップ１０１の外方が外囲容器１
０２で覆われている。内カップ１０１と外囲容器１０２
との間に、鉛直軸芯Ｐ2 周りに揺動可能な支持部材１０
３を介して、基板表面に洗浄液を供給するノズル１０４
が設けられている。この支持部材１０３の回転により、
角型基板Ｗの上方の所定の作用位置（図５に示す鎖線位
置）と、角型基板Ｗの上方から外れた退避位置（図５に
示す実線位置）とにわたってノズル１０４を往復移動さ
せるものである。ノズル１０４は、角型基板Ｗの鉛直軸
芯Ｐ1 から角部に及ぶスリット状に開口した吐出口１０
４ａを備えている。このノズル１０４を作用位置におい
て、吐出口１０４ａから超音波振動が与えられた純水な
どの洗浄液を角型基板Ｗに供給しながら、角型基板Ｗを
回転させることにより基板表面全体の洗浄を効率よく行
うように構成されている。
ば、図５に示すように、基板の大きさに応じてノズル自
体を長くすることが考えられる。この装置は、角型基板
Ｗを載置保持するスピンチャック１００が鉛直軸芯Ｐ1
周りに水平回転可能に設けられ、そのスピンチャック１
００の半径方向外周が飛散防止用内カップ１０１で覆わ
れるとともに、その内カップ１０１の外方が外囲容器１
０２で覆われている。内カップ１０１と外囲容器１０２
との間に、鉛直軸芯Ｐ2 周りに揺動可能な支持部材１０
３を介して、基板表面に洗浄液を供給するノズル１０４
が設けられている。この支持部材１０３の回転により、
角型基板Ｗの上方の所定の作用位置（図５に示す鎖線位
置）と、角型基板Ｗの上方から外れた退避位置（図５に
示す実線位置）とにわたってノズル１０４を往復移動さ
せるものである。ノズル１０４は、角型基板Ｗの鉛直軸
芯Ｐ1 から角部に及ぶスリット状に開口した吐出口１０
４ａを備えている。このノズル１０４を作用位置におい
て、吐出口１０４ａから超音波振動が与えられた純水な
どの洗浄液を角型基板Ｗに供給しながら、角型基板Ｗを
回転させることにより基板表面全体の洗浄を効率よく行
うように構成されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の基板処理装置は、基板Ｗが大きくなると、それ
をカバーするためにノズル１０４が長くなり、このノズ
ル１０４の長大化に伴って退避位置でのスペース（図５
中に符号ＳＰで示す幅）を大きくしなければならなくな
る。従って、全体を覆う外囲容器１０２が大型化すると
いう問題がある。
た従来の基板処理装置は、基板Ｗが大きくなると、それ
をカバーするためにノズル１０４が長くなり、このノズ
ル１０４の長大化に伴って退避位置でのスペース（図５
中に符号ＳＰで示す幅）を大きくしなければならなくな
る。従って、全体を覆う外囲容器１０２が大型化すると
いう問題がある。
【０００７】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、装置のコンパクト化を図ることができ
る基板処理装置を提供することを目的としている。
たものであって、装置のコンパクト化を図ることができ
る基板処理装置を提供することを目的としている。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項１に記載の基板処理装置は、その内部に処理
空間が形成された外囲容器内で、基板の表面に処理液を
供給しながら基板を回転させて、基板に表面処理を施す
基板処理装置において、前記外囲容器内に設けられ、基
板をその表面が水平になる姿勢で保持するとともに、保
持した基板を鉛直方向の軸芯周りで回転させる基板回転
保持手段と、前記基板回転保持手段を囲むように配置さ
れ、基板回転時に基板表面から飛散する処理液を受ける
円筒状の内カップと、前記基板回転保持手段に保持され
た基板の表面に向けて所定の処理液を供給するための前
記基板回転保持手段の上方の作用位置と、前記内カップ
の外壁に沿う退避位置とにわたって変位可能に構成され
るとともに、前記内カップの外壁に沿って湾曲状に形成
され、前記作用位置において基板表面に処理液を吐出す
る吐出口を有する処理液供給手段と、を備えたものであ
る。
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項１に記載の基板処理装置は、その内部に処理
空間が形成された外囲容器内で、基板の表面に処理液を
供給しながら基板を回転させて、基板に表面処理を施す
基板処理装置において、前記外囲容器内に設けられ、基
板をその表面が水平になる姿勢で保持するとともに、保
持した基板を鉛直方向の軸芯周りで回転させる基板回転
保持手段と、前記基板回転保持手段を囲むように配置さ
れ、基板回転時に基板表面から飛散する処理液を受ける
円筒状の内カップと、前記基板回転保持手段に保持され
た基板の表面に向けて所定の処理液を供給するための前
記基板回転保持手段の上方の作用位置と、前記内カップ
の外壁に沿う退避位置とにわたって変位可能に構成され
るとともに、前記内カップの外壁に沿って湾曲状に形成
され、前記作用位置において基板表面に処理液を吐出す
る吐出口を有する処理液供給手段と、を備えたものであ
る。
【０００９】請求項２に記載の装置は、請求項１に記載
の装置において、前記処理液供給手段は、吐出される処
理液に超音波振動を付与する超音波振動子を備えたもの
である。
の装置において、前記処理液供給手段は、吐出される処
理液に超音波振動を付与する超音波振動子を備えたもの
である。
【００１０】
【作用】請求項１に記載の発明の作用は次のとおりであ
る。まず、内カップの外壁に沿う退避位置ある処理液供
給手段を変位させ、その吐出口を基板回転保持手段に保
持された基板上方の作用位置に移動させる。この状態
で、基板回転保持手段により基板を回転させながら、処
理液供給手段の吐出口から処理液を基板表面に向けて供
給することによって、基板表面の処理が施される。処理
液供給手段は、内カップの外壁に沿う湾曲状に形成され
ているので、直線形状の処理液供給手段に比べて、退避
位置において占有するスペース（幅）が小さくなる。
る。まず、内カップの外壁に沿う退避位置ある処理液供
給手段を変位させ、その吐出口を基板回転保持手段に保
持された基板上方の作用位置に移動させる。この状態
で、基板回転保持手段により基板を回転させながら、処
理液供給手段の吐出口から処理液を基板表面に向けて供
給することによって、基板表面の処理が施される。処理
液供給手段は、内カップの外壁に沿う湾曲状に形成され
ているので、直線形状の処理液供給手段に比べて、退避
位置において占有するスペース（幅）が小さくなる。
【００１１】また、請求項２に記載の装置によれば、処
理液供給手段の吐出口を作用位置に移動させた状態で、
基板回転保持手段により基板を回転させながら、超音波
振動子を備えた処理液供給手段の吐出口から超音波振動
が付与された処理液を基板表面に向けて供給することに
よって、基板表面の処理が施される。
理液供給手段の吐出口を作用位置に移動させた状態で、
基板回転保持手段により基板を回転させながら、超音波
振動子を備えた処理液供給手段の吐出口から超音波振動
が付与された処理液を基板表面に向けて供給することに
よって、基板表面の処理が施される。
【００１２】
【実施例】以下、図面を参照して本発明の一実施例を説
明する。図１は本発明に係る基板処理装置の一実施例の
一部破断縦断面図、図２は実施例装置の平面図である。
明する。図１は本発明に係る基板処理装置の一実施例の
一部破断縦断面図、図２は実施例装置の平面図である。
【００１３】本実施例の基板処理装置は、大別して、そ
の内部に処理空間が形成される外囲容器１０と、外囲容
器１０内に設けられ、角型基板Ｗを保持した状態で回転
させる基板回転保持機構２０と、基板回転保持機構２０
を囲むように配置され、基板回転時に基板表面から飛散
する処理液を受ける円筒状の内カップ３０と、基板回転
保持機構２０に保持された角型基板Ｗに処理液を供給す
る処理液供給機構４０とから構成されている。以下、各
部の構成を詳しく説明する。
の内部に処理空間が形成される外囲容器１０と、外囲容
器１０内に設けられ、角型基板Ｗを保持した状態で回転
させる基板回転保持機構２０と、基板回転保持機構２０
を囲むように配置され、基板回転時に基板表面から飛散
する処理液を受ける円筒状の内カップ３０と、基板回転
保持機構２０に保持された角型基板Ｗに処理液を供給す
る処理液供給機構４０とから構成されている。以下、各
部の構成を詳しく説明する。
【００１４】外囲容器１０は、図２に示すように、箱状
に形成された容器本体１１と、この容器本体１１の下端
に取付られた処理液回収容器１２と、容器本体１１の上
部開口部に開閉自在に取り付けられた上蓋１３とから構
成されている。
に形成された容器本体１１と、この容器本体１１の下端
に取付られた処理液回収容器１２と、容器本体１１の上
部開口部に開閉自在に取り付けられた上蓋１３とから構
成されている。
【００１５】基板回転保持機構２０は、角型基板Ｗをそ
の表面が水平になる姿勢で保持するスピンチャック２１
と、このスピンチャック２１に出力軸２２ａを介して連
結されたモータ２２とを備えている。このモータ２２の
回転駆動により、スピンチャック２１上に保持された角
型基板Ｗが鉛直方向の軸芯Ｐ1 周りで回転される。
の表面が水平になる姿勢で保持するスピンチャック２１
と、このスピンチャック２１に出力軸２２ａを介して連
結されたモータ２２とを備えている。このモータ２２の
回転駆動により、スピンチャック２１上に保持された角
型基板Ｗが鉛直方向の軸芯Ｐ1 周りで回転される。
【００１６】処理液供給機構４０は、洗浄液や現像液な
どの処理液を吐出する処理液吐出ノズル４１を備えてい
る。この処理液吐出ノズル４１は、鉛直方向の軸芯Ｐ2
周りで揺動可能に、支持部材４２を介して処理液回収容
器１２上に設けられている。支持部材４２の下端に、回
転軸４３を介してモータ４４が連結されている。このモ
ータ４４を正逆方向に回転駆動することにより、処理液
吐出ノズル４１が図２に実線で示した退避位置と、角型
基板Ｗの上方の鎖線で示した作用位置とにわたって揺動
駆動される。
どの処理液を吐出する処理液吐出ノズル４１を備えてい
る。この処理液吐出ノズル４１は、鉛直方向の軸芯Ｐ2
周りで揺動可能に、支持部材４２を介して処理液回収容
器１２上に設けられている。支持部材４２の下端に、回
転軸４３を介してモータ４４が連結されている。このモ
ータ４４を正逆方向に回転駆動することにより、処理液
吐出ノズル４１が図２に実線で示した退避位置と、角型
基板Ｗの上方の鎖線で示した作用位置とにわたって揺動
駆動される。
【００１７】処理液吐出ノズル４１は、その遊端側が退
避位置において内カップ３０の外壁に沿うように湾曲状
に形成され、その湾曲した先端が作用位置において角型
基板Ｗの軸芯Ｐ1 より少しこえた位置まで達するように
細長く形成されている。そして、その下面に開口された
吐出口４１ａを備えている。吐出口４１ａは、処理液吐
出ノズル４１の湾曲状の細長い形状に沿って、角型基板
Ｗの軸芯Ｐ1 から角部までの長さよりもわずかに長く開
口されている。すなわち、角型基板Ｗの角部の回転軌跡
の半径よりも若干長めに形成されている。また、図３に
示すように、処理液吐出ノズル４１は、その内部に超音
波振動子４５を備え、超音波振動が付与された洗浄液を
吐出口４１ａからカーテン状にして角型基板Ｗに供給で
きるように構成されている。
避位置において内カップ３０の外壁に沿うように湾曲状
に形成され、その湾曲した先端が作用位置において角型
基板Ｗの軸芯Ｐ1 より少しこえた位置まで達するように
細長く形成されている。そして、その下面に開口された
吐出口４１ａを備えている。吐出口４１ａは、処理液吐
出ノズル４１の湾曲状の細長い形状に沿って、角型基板
Ｗの軸芯Ｐ1 から角部までの長さよりもわずかに長く開
口されている。すなわち、角型基板Ｗの角部の回転軌跡
の半径よりも若干長めに形成されている。また、図３に
示すように、処理液吐出ノズル４１は、その内部に超音
波振動子４５を備え、超音波振動が付与された洗浄液を
吐出口４１ａからカーテン状にして角型基板Ｗに供給で
きるように構成されている。
【００１８】以上の構成により、内カップ３０の外壁に
沿って処理液吐出ノズル４１を湾曲状にさせているの
で、退避位置でのスペース（図２中に符号ＳＰ’で示す
幅）を小さくすることができ、全体を覆う外囲容器１０
を内側に寄せることができる。すなわち、図５に示した
ように、単にノズル１０４を長くした装置と比較して、
ノズル遊端側が内側に屈曲している分だけ、処理液吐出
ノズル４１の退避位置でのスペースを小さくすることが
できるので、結果として、外囲容器１０のコンパクト化
を図ることができる。
沿って処理液吐出ノズル４１を湾曲状にさせているの
で、退避位置でのスペース（図２中に符号ＳＰ’で示す
幅）を小さくすることができ、全体を覆う外囲容器１０
を内側に寄せることができる。すなわち、図５に示した
ように、単にノズル１０４を長くした装置と比較して、
ノズル遊端側が内側に屈曲している分だけ、処理液吐出
ノズル４１の退避位置でのスペースを小さくすることが
できるので、結果として、外囲容器１０のコンパクト化
を図ることができる。
【００１９】つぎに、角型基板Ｗを洗浄する場合の上述
した実施例装置の動作を説明する。まず、角型基板Ｗを
その中央が軸芯Ｐ1 に位置するようにスピンチャック２
１上に載置する。その後、モータ４４を駆動し、処理液
吐出ノズル４１を揺動変位して吐出口４１ａを作用位置
に位置決めする。この状態で、モータ２２を駆動してス
ピンチャック２１上の角型基板Ｗを回転させるととも
に、その角型基板Ｗに向けて吐出口４１ａから超音波振
動が付与された洗浄液を供給して角型基板Ｗの表面を洗
浄処理する。この際、作用位置に位置決めされた吐出口
４１ａが、角型基板Ｗの角部の回転軌跡の半径よりも若
干長めに形成されているので、処理液吐出ノズル４１を
半径方向に往復動させなくても角型基板Ｗの全面に洗浄
液を供給することができ、角型基板Ｗの表面を短時間で
隅無く良好に洗浄できる。しかる後に、洗浄液の供給を
停止した状態で角型基板Ｗの回転を継続し、洗浄液を遠
心力により振り切って乾燥処理を行う。
した実施例装置の動作を説明する。まず、角型基板Ｗを
その中央が軸芯Ｐ1 に位置するようにスピンチャック２
１上に載置する。その後、モータ４４を駆動し、処理液
吐出ノズル４１を揺動変位して吐出口４１ａを作用位置
に位置決めする。この状態で、モータ２２を駆動してス
ピンチャック２１上の角型基板Ｗを回転させるととも
に、その角型基板Ｗに向けて吐出口４１ａから超音波振
動が付与された洗浄液を供給して角型基板Ｗの表面を洗
浄処理する。この際、作用位置に位置決めされた吐出口
４１ａが、角型基板Ｗの角部の回転軌跡の半径よりも若
干長めに形成されているので、処理液吐出ノズル４１を
半径方向に往復動させなくても角型基板Ｗの全面に洗浄
液を供給することができ、角型基板Ｗの表面を短時間で
隅無く良好に洗浄できる。しかる後に、洗浄液の供給を
停止した状態で角型基板Ｗの回転を継続し、洗浄液を遠
心力により振り切って乾燥処理を行う。
【００２０】なお、上記実施例では、処理液吐出ノズル
４１を内カップ３０の外壁に沿って円弧状に湾曲させた
細長い形状としたが、本発明はこれに限定されるもので
はない。例えば、図４に示すように、処理液吐出ノズル
４１を内カップ３０の外壁に沿って多角状に屈曲させた
細長い形状として、外囲容器１０を小型化してもよい。
４１を内カップ３０の外壁に沿って円弧状に湾曲させた
細長い形状としたが、本発明はこれに限定されるもので
はない。例えば、図４に示すように、処理液吐出ノズル
４１を内カップ３０の外壁に沿って多角状に屈曲させた
細長い形状として、外囲容器１０を小型化してもよい。
【００２１】また、本発明は、上記した実施例のような
角型基板Ｗを洗浄する場合に限らず、半導体ウエハ等の
略円形の基板を洗浄する場合にも適用できる。また、本
発明は基板の現像装置等、揺動変位可能な細長いノズル
を用いて基板表面に処理液を供給して基板の表面処理を
行う、種々の装置に適用することができる。
角型基板Ｗを洗浄する場合に限らず、半導体ウエハ等の
略円形の基板を洗浄する場合にも適用できる。また、本
発明は基板の現像装置等、揺動変位可能な細長いノズル
を用いて基板表面に処理液を供給して基板の表面処理を
行う、種々の装置に適用することができる。
【００２２】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
１に記載の発明によれば、内カップの外壁に沿って処理
液供給手段が湾曲状に形成されているので、退避位置で
のスペースを小さくすることができる。従って、全体を
覆う外囲容器を内側に寄せることができ、装置のコンパ
クト化を図ることができる。
１に記載の発明によれば、内カップの外壁に沿って処理
液供給手段が湾曲状に形成されているので、退避位置で
のスペースを小さくすることができる。従って、全体を
覆う外囲容器を内側に寄せることができ、装置のコンパ
クト化を図ることができる。
【００２３】また、請求項２に記載の発明によれば、超
音波振動子を備えた処理液供給ノズルから超音波振動が
付与された処理液が基板表面に向けて供給されるので、
より一層基板表面の処理効果を高めることができる。
音波振動子を備えた処理液供給ノズルから超音波振動が
付与された処理液が基板表面に向けて供給されるので、
より一層基板表面の処理効果を高めることができる。
【図１】実施例装置の一部破断縦断面図である。
【図２】実施例装置の平面図である。
【図３】図２のＡ−Ａ矢視断面図である。
【図４】別実施例の平面図である。
【図５】実施例装置との比較のために示した装置の平面
図である。
図である。
Ｗ…角型基板 １０…外囲容器 ２０…基板回転保持機構 ３０…内カップ ４０…処理液供給機構 ４１…処理液吐出ノズル ４５…超音波振動子
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 桶谷 大亥 大阪市阿倍野区長池町22番地22号 シャー プ株式会社内 (72)発明者 柴 一彦 静岡県焼津市大島1143番地 株式会社プレ テック静岡製作所内 (72)発明者 岩ヶ谷 照義 静岡県焼津市大島1143番地 株式会社プレ テック静岡製作所内 (72)発明者 松村 吉雄 滋賀県彦根市高宮町480番地の１ 大日本 スクリーン製造株式会社彦根地区事業所内 (72)発明者 田中 悟 滋賀県彦根市高宮町480番地の１ 大日本 スクリーン製造株式会社彦根地区事業所内 (72)発明者 森西 健也 京都市伏見区羽束師古川町322番地 大日 本スクリーン製造株式会社洛西工場内
Claims (2)
- 【請求項１】 その内部に処理空間が形成された外囲容
器内で、基板の表面に処理液を供給しながら基板を回転
させて、基板に表面処理を施す基板処理装置において、 前記外囲容器内に設けられ、基板をその表面が水平にな
る姿勢で保持するとともに、保持した基板を鉛直方向の
軸芯周りで回転させる基板回転保持手段と、 前記基板回転保持手段を囲むように配置され、基板回転
時に基板表面から飛散する処理液を受ける円筒状の内カ
ップと、 前記基板回転保持手段に保持された基板の表面に向けて
所定の処理液を供給するための前記基板回転保持手段の
上方の作用位置と、前記内カップの外壁に沿う退避位置
とにわたって変位可能に構成されるとともに、前記内カ
ップの外壁に沿って湾曲状に形成され、前記作用位置に
おいて基板表面に処理液を吐出する吐出口を有する処理
液供給手段と、 を備えたことを特徴とする基板処理装置。 - 【請求項２】 請求項１に記載の装置において、前記処
理液供給手段は、吐出される処理液に超音波振動を付与
する超音波振動子を備えている基板処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19364094A JP3222013B2 (ja) | 1994-07-25 | 1994-07-25 | 基板処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19364094A JP3222013B2 (ja) | 1994-07-25 | 1994-07-25 | 基板処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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|---|---|---|---|---|
| JP2008060578A (ja) * | 2006-08-30 | 2008-03-13 | Semes Co Ltd | 基板処理装置および基板処理方法 |
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-
1994
- 1994-07-25 JP JP19364094A patent/JP3222013B2/ja not_active Expired - Fee Related
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|---|---|---|---|---|
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