JPH08337074A

JPH08337074A - オフセット印刷機用ブランケット及び該ブランケットを用いた印刷方法

Info

Publication number: JPH08337074A
Application number: JP14467395A
Authority: JP
Inventors: Norio Kaneko; 典夫金子; Yasuo Mukai; 康雄向井
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1995-06-12
Filing date: 1995-06-12
Publication date: 1996-12-24

Abstract

(57)【要約】【目的】高精度のオフセット印刷を可能とするオフセ
ット印刷機用ブランケット及び印刷方法を提供するこ
と。【構成】基布及び表面弾性体を用いて構成されるオフ
セット印刷機用ブランケットにおいて、ブランケットの
弾性率Ｇ＝Ｇ′＋ｉＧ′′（Ｇ′は貯蔵弾性率、Ｇ′′
は損失弾性率）について、Ｇ′とＧ′′との関係がＧ′
＞Ｇ′′を満足することを特徴とするオフセット印刷機
用ブランケット。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はオフセット印刷機に使
用されるブランケット及び、該ブランケットを用いた印
刷方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、各種表示装置が大画面化してきて
おり、これらの蛍光体、電極あるいはカラーフィルター
などを形成する手段として印刷技術が注目されてきた。
従来、一般的にはこのような目的のためにはフォトリソ
グラフィー技術を用いていたが、この方法は工程が長
く、また繁雑であることからコストが問題となってい
た。こうしたなか、カラーフィルターの製造にオフセッ
ト印刷を採用することが提案されている。例えば、特開
平０３−０２２３２４号公報では、ブランケットにシリ
コーンゴムを主体とする弾性体を表面層に使用し、被印
刷物表面に紫外線あるいは熱硬化樹脂を形成し、該樹脂
上に凹版オフセツト印刷により蛍光体パターンを印刷し
ている。印刷後、印刷物を熱処理することにより、前記
樹脂層を除去して蛍光体のみのパターンを形成する事が
できる。

【０００３】また、特開平０６−２５５２８０号公報に
は、臨界表面張力と粘弾性特性を限定したシリコーンゴ
ム表面層のブランケットが提案されている。表面ゴムの
臨界表面張力及び粘弾性特性は、オフセット印刷におい
ては極めて重要な物性であり、これらを規定することに
より、カラーフィルター製造において、線幅１００μｍ
程度の着色層と線幅２０μｍ程度のブラックマトリック
ス層の形成を凹版オフセット印刷により可能としてい
る。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、より高
精度な印刷を行ない得る印刷機用ブランケットについて
鋭意検討を行なったところ、上述した公報に開示された
技術にあっては、下述する解決すべき課題があることが
明らかとなった。

【０００５】即ち、特開平０３−０２２３２４号公報に
あっては、ブランケットに使用しているシリコーンゴム
の硬度は規定しているが、シリコーンゴムの特性、特に
分子構造に由来するような内容は全く記載されていな
い。シリコーンゴムの性質は、印刷性に大きな影響を与
えるが、印刷パターンが微細になってくると、バルク的
な性質だけでなく、ブランケットを構成している素材の
分子レベルでの性質や構造も重要になってくる。特開平
０３−０２２３２４号公報で開示されているゴムの硬度
は、バルク的な性質であり、分子レベルの性質ではな
い。従って、これらの点について検討する必要がある。

【０００６】また、特開平０６−２５５２８０号公報に
開示された臨界表面張力は、印刷に使用するインクの材
質や被印刷物の材質によって変化する物性である。粘弾
性特性についてはｔａｎδの値のみが記載されている。
一般に、粘弾性特性は弾性率Ｇ＝Ｇ′＋ｉＧ′′（Ｇ′
は貯蔵弾性率、Ｇ′′は損失弾性率）で表される。そし
て、ｔａｎδはＧ′′／Ｇ′と定義される。従って、ｔ
ａｎδのみの記述では、弾性体の硬さや周期的な変形圧
力などに関する弾性体の挙動を議論することはできな
い。弾性率Ｇは、材料のマクロ的な性質であり、特開平
０６−２５５２８０号公報でもゴムの分子構造に関して
は何も開示されていない。

【０００７】シリコーンゴムは、一般にオルガノポリシ
ロキサンより合成されるゴムである。オルガノポリシロ
キサンとは、シロキサン（１）式を繰り返し単位とする
有機シロキサン重合体のことである。

【０００８】（―Ｓｉ（Ｍ）₂ ―Ｏ―）…（１）通常は、（１）式のＭ（水素、メチル基などの飽和脂肪
族基、ビニル基などの不飽和脂肪族基、アミノ基やヒド
ロキシル基、ハロゲンなどの極性基や金属を含む前記飽
和及び不飽和脂肪族基など）及びゴム中のシロキサン単
位数を選択することにより、所望のシリコーンゴムを得
ている。また、シリコーンゴムは３次元の架橋構造を有
しており、この架橋構造が弾性率Ｇと関連していること
はゴム一般で広く知られている。ブランケットの粘弾性
特性を最適化するためには、前記架橋構造を制御するこ
とが極めて重要であるが、特開平０３−０２２３２４号
公報や特開平０６−２５５２８０号公報においてはシリ
コーンゴムの架橋構造については何等開示がない。

【０００９】印刷パターンが微細になり、また、フォト
リソグラフィー技術に代わって大面積のパターンを高速
で形成するためには、印刷パターンの変形と位置精度は
極めて重要になる。このために早い周波数で応力が加え
られても、ブランケットの表面ゴムはその応力に対して
忠実に応答し、かつ、加えられた応力が少なくとも表面
ゴム層に残存して隣接するパターンに影響を与えないこ
とが求められる。しかしながら、従来のブランケットの
表面ゴムにはこのような高速での周期的応力に対する対
策が施されていないというのが実状である。

【００１０】本発明は、上述した解決すべき技術的課題
を解決したオフセット印刷機用ブランケット及び印刷方
法を提供することを目的とする。

【００１１】本発明の別の目的は、架橋構造、粘弾性特
性を適正化したオフセット印刷機用ブランケットを提供
することにある。

【００１２】本発明の更に別の目的は、高精度のオフセ
ット印刷を可能とするオフセット印刷機用ブランケット
及び印刷方法を提供することにある。

【００１３】

【課題を解決するための手段及び作用】本発明は、上述
した課題を解決するため鋭意検討を行なってなされたも
のであり、下述する構成のものである。即ち、本発明の
オフセット印刷機用ブランケットは、基布及び表面弾性
体を用いて構成されるオフセット印刷機用ブランケット
において、ブランケットの弾性率Ｇ＝Ｇ′＋ｉＧ′′
（Ｇ′は貯蔵弾性率、Ｇ′′は損失弾性率）について、
Ｇ′とＧ′′との関係がＧ′＞Ｇ′′を満足することを
特徴とするものである。

【００１４】本発明は、印刷方法を包含する。本発明の
印刷方法は、版上にインキをパターン状に配する工程、
ブランケットの弾性率Ｇ＝Ｇ′＋ｉＧ′′（Ｇ′は貯蔵
弾性率、Ｇ′′は損失弾性率）について、Ｇ′とＧ′′
との関係がＧ′＞Ｇ′′を満足するブランケットの表面
を前記インキに接触させて、前記インキを受理する工
程、及び前記受理されたインキを被印刷物に接触させ、
該被印刷物に転移させる工程とを有することを特徴とす
るものである。

【００１５】本発明によれば、上述した技術的課題が解
決され、上述した目的が達成される。

【００１６】本発明のブランケットは、ブランケットの
粘弾性特性を最適化する事により１０¹ から１０² μｍ
程度の微細パターンを形成可能とするものである。

【００１７】ブランケットには、インクの受理、転移に
際して外部から圧力が印加される。また、印刷パターン
が形成されている凹版部では、ブランケットを版に押し
込んだ量にほぼ比例する圧力Ｐ１以外に凹版のエッジ部
の段差により小さな振幅の応力Ｐ２が加わる。このＰ
１，Ｐ２により表面ゴムが変形するが、この変形が残存
すると印刷パターンの変形や位置精度に悪影響を与え
る。これを防止するためには、表面ゴムの粘性を少なく
するとともに、表面ゴムに加えられた圧力を吸収する基
布などの粘弾性特性が重要になる。このために、本発明
では、表面ゴム層の架橋構造を制御して外部からの圧
力、特にＰ２に対する表面ゴム層内での圧力分布の不均
一性を分子レベルで改善し、このことにより粘弾性特性
の改善と化学的安定性をも改善する。さらに、基布など
についてもその粘弾性特性を表面ゴムと整合させること
により、主としてＰ１による表面ゴムの変形を吸収し、
かつブランケット全体の塑性変形を防止し、印刷パター
ンの寸法精度の低下を防止する。本発明のブランケット
の表面ゴムの１例としてシリコーン樹脂が挙げられる。
シリコーン樹脂の場合、シリコーン樹脂の分子構造すな
わち架橋構造を制御するために、本発明では２種類のオ
ルガノポリシロキサンと室温から１００℃程度の温度で
所望の架橋構造を得るための触媒を用いて、２種類のオ
ルガノポリシロキサンを付加反応によって架橋させてブ
ランケットの表面ゴム層を形成する。本発明に使用され
るシリコーン樹脂は、分子錯中に１個以上、特に好まし
くは２から１０個の不飽和脂肪族基を含むオルガノポリ
シロキサン（Ａ）と、分子鎖中に３個以上の水素化ケイ
素を含むオルガノポリシロキサン（Ｂ）と硬化触媒であ
る金属、金属化合物又はこれらを含むポリシロキサン組
成物の中から選ばれた１種（Ｃ）から合成される。
（Ａ）の不飽和脂肪族基は、ポリシロキサン分子鎖の途
中でも末端に含まれていても良い。（Ｂ）は、（Ａ）を
架橋するために用いる架橋材であり、その分子鎖中に３
個以上、特に好ましくは４から２０個の水素化ケイ素を
含み、この水素化ケイ素は分子鎖の途中でも末端に含ま
れていても良い。

【００１８】図１に前述した（１）式におけるＭが炭化
水素系のオルガノポリシロキサン（Ａ）の具体例を示し
た。図２には、オルガノポリシロキサン（Ｂ）の具体例
を示した。オルガノポリシロキサン（Ａ）は室温での粘
度が２０から３００００ｃｐｓであるが、オルガノポリ
シロキサン（Ｂ）及び触媒（Ｃ）とより均一に混合させ
るためには２０から２００００ｃｐｓとすることが好ま
しい。オルガノポリシロキサン（Ｂ）の室温での粘度は
１０〜１００００ｃｐｓであり、好ましくは２０から９
０００ｃｐｓとするのが良い。これらの粘度に相当する
オルガノポリシロキサンの分子量は、（１）式のＭを構
成する原子種により異なるが、Ｍが炭素と水素だけから
構成されている場合には、（Ａ）、（Ｂ）ともに概略９
００００以下であり、架橋構造をより正確に制御するた
めには２０００から５００００程度が特に好ましい。
（Ａ）と（Ｂ）を付加反応させる時の触媒（Ｃ）は金
属、金属化合物及びこれらを含むポリシロキサン組成物
の中から選ばれた１種である。金属元素としては、白金
やロジウムなどが挙げられるが、反応速度を適度にする
という観点からは白金が好ましい。具体的には、白金、
白金オレフィン錯体、白金ホスフィン錯体、などの白金
配位化合物、テトラクロル白金酸などのハロゲン化白金
酸化合物、ビニルシラン化合物などの不飽和ケイ素化合
物で錯体化した白金酸化合物、白金ビニルシロキサン錯
体、白金トリフェニルホスフィン錯体などである。

【００１９】これらオルガノポリシロキサン（Ａ）、オ
ルガノポリシロキサン（Ｂ）および触媒（Ｃ）より、シ
リコーン樹脂を合成するための反応式（Ａ）の不飽和脂
肪族基と（Ｂ）の水素化ケイ素単位をそれぞれ１個とし
た場合）は以下のように示すことがでるき。なお、以下
の反応式におけるＲ、Ｒ′、Ｒ′′、Ｒ′′′、Ｍ₁、
Ｍ₂ 、Ｍ₁ ′、Ｍ₂ ′、Ｍ₁′′、Ｍ₂′′、
Ｍ₁′′′、Ｍ₂′′′は、いずれも前述した（１）式の
Ｍと同様な原子団である。

【００２０】

【外１】この式から明らかなように、この樹脂の合成にはハイド
ロシリレーション反応を利用することができる。この反
応によれば、反応に際してなんら遊離物（副生成物）を
生成しない。さらに、オルガノポリシロキサン（Ｂ）に
おいては、分子鎖内で水素化ケイ素単位ＳｉＨが単独で
存在している。このために、分子鎖内の水素化ケイ素単
位の数とシロキサン単位の繰り返し数を決めるｘ及びｙ
の値を選択することにより反応生成物の架橋部位を制御
できる。

【００２１】ｘ及びｙの値は一般的には３以上とするの
が良く、好ましくは３から２０であり、かつｘ−ｙ≦±
１０とするのが望ましい。このことにより分子鎖内架橋
部位がほぼ均一になるために外部圧力分布を均一化する
ことができ、かつ、未反応のＳｉＨ発生を防止して化学
的安定性を改善する。

【００２２】この樹脂を合成するに際しては、必要によ
り反応遅延剤などを添加しても良い。反応遅延剤として
は、ジアセチレンアルコールなどの不飽和アルコール
類、ビニルシラン化合物（モノマー）などの不飽和ケイ
素化合物類がある。このような反応を利用してシリコー
ンゴムを合成すると得られるシリコーンゴムの架橋構造
は図３に模式的に示した構造となる（本来はシリコーン
ゴムは３次元構造となるが、ここでは２次元構造として
示した）。図３に表わされるように、この反応を用いる
とほぼ等間隔に架橋部位を設定できる。一般的には、架
橋部位の間隔が狭いとＧ′の値は大きくなり、広いと小
さくなる。Ｇ′の値は、印刷条件やインクなどによって
も変化するが、各種金属インクによる印刷を行った結
果、１０⁴ から１０⁸ ｄｙｎｅ／ｃｍ² が好ましい。ま
た、ｔａｎδの値は大きいと粘性が強く現れるようにな
るために、印刷の寸法精度が悪くなり、また、小さすぎ
ると凹版、ブランケット、被印刷物の表面粗さから印刷
するときの圧力が大きくなってしまうと同時にシリコー
ン樹脂がもろくなってしまう。このため、通常のインキ
を使う場合には、０．０５から０．０００１程度が良
い。

【００２３】これに対して、一般にシリコーン樹脂と呼
ばれる物はオルガノポリシロキサン（Ｂ）に下記（２）
式で示される水素化ケイ素とシロキサン単位がそれぞれ
複数個連続した構造のオルガノポリシロキサンを使う
（伊藤邦雄編シリコーンハンドブック１９９０年日
刊工業新聞社Ｐ．１１２に示された式（５．４）の分
子構造参照）。このために本発明で用いられる樹脂の合
成に用いられるのと同様の反応を用いても、得られた樹
脂の架橋構造は図７のようになる。また、（２）式のよ
うなオルガノポリシロキサン（Ｂ）を用いると複数のＳ
ｉＨ基が隣接しているために、架橋反応において立体障
害のため未反応のＳｉＨが発生しやすくなる。未反応の
ＳｉＨは、反応性に富んでいるために、各種の物質と反
応してシリコーン樹脂変質の原因になる。

【００２４】

【外２】

【００２５】以上の説明から理解されるように、本発明
で用いられるシリコーン樹脂は架橋部位がほぼ均等間隔
で存在する。このため、この樹脂を用いてオフセット印
刷用ブランケットを構成し、これをオフセツト印刷に使
用すると、版（平版、凹版）からインキを受理し、ガラ
スなどの被印刷物にインキを転移させる際に、ブランケ
ットに圧力が印加しても分子レベルでその圧力が均等に
配分されることになる。一方、図７に示した不均一な架
橋構造を有する場合には、原子の存在密度が空間的に大
きく変化するために印刷における圧力分布が分子内で不
均一になる。このことは、シリコーン機能の粘弾性特性
にも影響し、本発明に用いられる樹脂（図３に示した架
橋構造）は、図７に示される構造のシリコーン樹脂に比
較して貯蔵弾性率Ｇ′がほぼ同じ値であっても、損失弾
性率Ｇ′′が小さくなると考えられる。そして、Ｇ′′
が大きくなると、ブランケットの応力に対する応答性が
悪くなり、インキ受理や転移においてブランケットに加
えられた応力が残存してしまう。ブランケットは変形が
回復しない状態で印刷することになり、パターン変形が
大きくなってしまい、印刷パターンの位置精度にも悪影
響を与えると考えられる。特に、シリコーンゴムは圧縮
力が大きくなると粘性が大きくなり、また圧縮率も高く
なることが知られている。（Ｐ．Ｗ．Ｂｒｉｄｇｍａ
ｎ，Ｐｒｏｃ．Ａｍ．Ａｃａｄ．Ａｒｔｓ．Ｓｃｉ．，
７７，１１５（１９４９））このために、ブランケット
の押し込み量が大きくなるとＧ′′が大きな領域でのブ
ランケットの変形回復問題は特に深刻になる。

【００２６】なお、本発明に用いられる樹脂には、例え
ば二酸化ケイ素などの粒子を混入させて、硬度を調整す
ることも可能であり、また、表面処理により表面の性質
を改善することも可能である。

【００２７】基布や基布と表面ゴムの中間に入れる圧縮
層などの部材の粘弾性特性も印刷には大きな影響を与え
る。これらの部材は、表面ゴムに加えられた圧力を吸収
し、かつ、該部材自体が塑性変形しない程度の変形回復
力を有していなければならない。基布などの表面ゴム以
外のブランケット構成部材は、各種材料の印刷実験から
Ｇ′は１０³ から１０⁸ ｄｙｎｅ／ｃｍ² 、ｔａｎδは
１．０から０．０００１とするのが望ましい。

【００２８】以上説明した表面ゴムと基布などによりブ
ランケットを構成することにより、表面ゴムは印刷する
際に加えられた圧力を忠実に受けとめ、ゴム層内で不均
一な圧力分布とならず、また、基布などでは表面ゴムに
加えられた大きな圧力を吸収してブランケット全体が塑
性変形しない程度に復元力を有するために凹版に形成さ
れたパターンを寸法精度を低下させることなく印刷する
ことができる。

【００２９】

【実施例】以下、具体的な実施例により本発明をより詳
しく説明する。なお、使用するインクは金属ペーストを
例にしているが、これに限定されるものではない。ま
た、以下の実施例では表面ゴムの粘弾性特性は、材料固
有の値として測定できるが、基布の場合には、それ自体
が積層構造てあるために、個々の構成材料固有の粘弾性
特性は評価できない。このため、レオメトリックス社製
ＲＭＳ７００メカニカルスペクトロメーターの５×１０
² ｒａｄ／ｓｅｃでの測定値で粘弾性特性を示すことに
する。

【００３０】（実施例１）室温における粘度が３０００
ｃｐｓのオルガノポリシロキサン（シロキサンの繰り返
し単位の数が５６０程度、分子鎖中にビニルシラン単位
を３個含む）（Ａ）と、室温における粘度が１５００ｃ
ｐｓのオルガノポリシロキサン（シロキサンの繰り返し
の数が９５０程度、分子鎖中に水素化ケイ素単位を５個
含む）（Ｂ）を（Ａ）：（Ｂ）＝４：７の割合で混合
し、さらに硬化触媒として白金酸のビヌルトリメトキシ
シラン錯体（白金酸１モルをビニルトリメトキシシラン
１０モルで錯体化したもの）を組成物全体の重量に対し
て白金換算で１２０ｐｐｍとなるように混合した組成物
をブランケットの表面ゴム層に使用した。この組成物
は、調整後約１００分で、ほぼ完全に硬化した。このこ
とは、レオメトリックス社製ＲＭＳ７００メカニカルス
ペクトロメーターを用いて剛性率Ｇの変化を測定し、剛
性率が変化しなくなることで確認した。結果を図６に示
す。前記装置を用いて本例のシリコーン樹脂について
Ｇ′およびＧ′′の測定を行った。この結果を図４に示
す。図４より測定範囲において、Ｇ′≫Ｇ′′であり、
かつ周波数依存も少ないことが解る。また、ｔａｎδは
１０^-3のオーダーであることも図４より解る。

【００３１】基布など表面ゴム以外のブランケット構成
部材の材料には、特に制限はないが、例えばレオメトリ
ックス社製ＲＭＳ７００メカニカルスペクトロメーター
を用いて剛性率Ｇを測定し、Ｇ′が１０³ から１０⁸ ｄ
ｙｎｅ／ｃｍ² 程度、ｔａｎδが１０^-2程度以下であれ
ば良い。本例では、Ｇ′が２×１０⁵ ｄｙｎｅ／ｃｍ
² 、ｔａｎδが０．００９の基布を用いた。

【００３２】このようなシリコーン樹脂と基布を用い
て、ブランケットを作製して印刷を行った。なお、ブラ
ンケットの粘弾性特性はレオメトリックス社製ＲＭＳ７
００メカニカルスペクトロメーターを用いて剛性率Ｇを
測定し、Ｇ′＞Ｇ′′であることを確認した。

【００３３】ブランケット胴に、本例のブランケットを
装着し、次のようにしてオフセット印刷を行なった。図
５を用いて説明する。まず、所望のパターンを有する凹
版１内にインキ５０をドクターブレードを用いてパター
ン状に充填させ（図５（Ａ））、このインキ５０をブラ
ンケット胴２に取り付けたブランケット３を凹版上を回
転移動させることにより受理させた（図５（Ｂ））。

【００３４】次いで被印刷物である基板４上をブランケ
ット３を回転させることにより、ブランケット３に受理
されたインキパターンを基板４上に転移させた（図５
（ｃ））。

【００３５】本例では、深さ８μｍで幅Ｌ＝５０、１０
０、１５０、２００μｍ、間隔Ｓ＝１００、５０、２０
μｍで並べた直線パターンを形成したガラス製凹版を用
い、インキはＰｔ−ＭＯペーストを使用した。また、基
板には青板ガラスを用いた。このようにして印刷したイ
ンキを乾燥、焼成して目的の印刷パターンを得た。印刷
精度は、凹版と印刷パターンの幅と間隔を比較して、凹
版のパターンを忠実に再現しているかどうかで評価し
た。本例のゴムを使用した場合には、印刷パターンは
幅、間隔ともに±５μｍで再現した。これに対して、ポ
リオルガノシロキサン（Ｂ）に従来の構造のもの（複数
のＳｉＨ基が連続して結合している）を用いた場合に
は、粘弾性特性は図８に示すようにＧ′′≧Ｇ′の領域
が観測された。そして、間隔が５０、２０μｍの場合に
は再現せずに印刷パターンがつながってしまうことが多
くなった。特に、ブランケットの基板に対する押し込み
量が多くなると、この傾向が強くなってしまった。

【００３６】（実施例２）オルガノポリシロキサン
（Ａ）として、室温の粘度が１８０００ｃｐｓで分子鎖
中にフェニル基とメチル基が概ね４：６で含まれ、かつ
分子鎖中に不飽和脂肪族基が４個含まれるものを用い
た。オルガノポリシロキサン（Ｂ）として、室温の粘度
が８０００ｃｐｓで分子鎖中に水素化ケイ素基が８個
（水素化ケイ素基の数分子量分布などのために平均して
１〜２個の誤差が含まれる）を含まれるものを用いた。
また、触媒（Ｃ）としてはビニルトリメトシシランの白
金酸錯体を、白金換算で３５０ｐｐｍとなるようにし
て、（Ａ）と（Ｂ）を２：３の割合にした混合物に
（Ｃ）を混合してゴムを形成した。この組成物は、調整
後約１５０分で、ほぼ完全に硬化した。レオメトリック
ス社製ＲＭＳ７００メカニカルスペクトロメーターによ
る本例のシリコーンゴムのＧ′およびＧ′′の測定し、
Ｇ′は２×１０⁵ から８×１０⁶ ｄｙｎｅ／ｃｍ² で、
測定範囲内でＧ′≫Ｇ′′であることを確認した。ま
た、ｔａｎδは０．０１から０．００３であった。

【００３７】基布など表面ゴム以外のブランケット構成
部材は、Ｇ′が６×１０⁵ ｄｙｎｅ／ｃｍ² 、ｔａｎδ
が０．０５から０．３であった。

【００３８】こうして得られたシリコーンゴムと基布を
用いて、ブランケットを作製してオフセット印刷を行っ
た。なお、ブランケットの粘弾性特性はレオメトリック
ス社製ＲＭＳ７００メカニカルスペクトロメーターを用
いて剛性率Ｇを測定し、Ｇ′＞Ｇ′′であることを確認
した。印刷手順は実施例１と同様とした。本例では、深
さ９μｍで幅Ｌ＝５０、１００、１５０、２００、３０
０μｍ、間隔Ｓ＝２００、１００、５０、２０μｍで並
べた直線パターンを形成した金属凹版を用い、インクは
Ａｇペーストを使用した。また、基板には青板ガラスを
用いた。このようにして印刷したインクを乾燥、焼成し
て目的の印刷パターンを得た。印刷精度は、凹版と印刷
パターンの幅と間隔を比較して、凹版のパターンを忠実
に再現しているかどうかで評価した。本例の表面ゴムを
使用した場合には、印刷パターンは金属凹版に対して
幅、間隔ともに±５μｍで再現した。これに対して、ポ
リオルガノシロキサン（Ｂ）に従来の構造のもの（複数
のＳｉＨ基が連続して結合している）を用いた場合に
は、間隔が５０、２０μｍの場合には再現せずに印刷パ
ターンがつながってしまうことが多くなった。特に、ブ
ランケットの基板に対する押し込み量が３００μｍ程度
より多くなると、幅及び間隔は３０μｍ以上も変化して
しまった。

【００３９】（実施例３）室温における粘度が２０００
ｃｐｓのオルガノポリシロキサン（シロキサンの繰り返
し単位の数が５６０程度、分子鎖中にビニルシラン単位
を３個含む）（Ａ）と、室温における粘度が１５００ｃ
ｐｓのオルガノポリシロキサン（シロキサンの繰り返し
の数が９５０程度、分子鎖中に水素化ケイ素単位を３個
含む）（Ｂ）を（Ａ）：（Ｂ）＝２：３の割合で混合
し、さらに硬化触媒として白金酸のビニルトリメトキシ
シラン錯体（白金酸１モルをビニルトリメトキシシラン
１０モルで錯体化したもの）を組成物全体の重量に対し
て白金換算で６０ｐｐｍとなるように混合した組成物を
ブランケットの表面ゴム層に使用した。さらに、この
（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）を混合する際に、該混合物に
対して重量比で約５％の二酸化ケイ素粉末（平均粒径１
μｍ程度）を加えて架橋反応を行った。この組成物は、
調整後約１２０分で、ほぼ完全に硬化した。この表面ゴ
ムのＧ′は６×１０⁶ から８×１０⁷ ｄｙｎｅ／ｃｍ²
で、測定範囲内でＧ′≫Ｇ′′であることを確認した。
また、ｔａｎδは０．０１から０．００６であった。

【００４０】基布など表面ゴム以外のブランケット構成
部材は、Ｇ′が６×１０⁵ ｄｙｎｅ／ｃｍ² 、ｔａｎδ
が０．０９であった。

【００４１】こうして得られたシリコーンゴムと基布を
用いて、ブランケットを作製して印刷を行った。なお、
ブランケットの粘弾性特性はレオメトリックス社製ＲＭ
Ｓ７００メカニカルスペクトロメーターを用いて剛性率
Ｇを測定し、Ｇ′＞Ｇ′′であることを確認した。印刷
手順は実施例１と同様とした。本例では、深さ１５μｍ
で幅Ｌ＝１００、１５０、２００μｍ、間隔Ｓ＝１０
０、５０、２０μｍで並べた直線パターンを形成したガ
ラス製凹版を用い、インキはＡｕペーストを使用した。
また、基板には青板ガラスを用いた。このようにして印
刷したインキを乾燥、焼成して目的の印刷パターンを得
た。印刷精度は、凹版と印刷パターンの幅と間隔を比較
して、凹版のパターンを忠実に再現しているかどうかで
評価した。本例のゴムを使用した場合には、印刷パター
ンは幅、間隔ともに±６μｍ以内で再現できた。これに
対して、ポリオルガノシロキサン（Ｂ）に従来の構造の
もの（複数のＳｉＨ基が連続して結合している）を用い
た場合には、間隔が５０、２０μｍの場合には版パター
ンの再現性は悪く、隣接する印刷パターンがつながって
しまうことが多くなった。特に、ブランケットの基板に
対する押し込み量が約２５０μｍより大きくなると、こ
の傾向が強くなり、幅、間隔も１５μｍ以上変化してし
まった。

【００４２】（実施例４）オルガノポリシロキサン
（Ａ）として、室温の粘度が２５００ｃｐｓで分子鎖中
にフェニル基とメチル基が概ね３：７で含まれるものを
用いた。オルガノポリシロキサン（Ｂ）として、室温の
粘度が２０００ｃｐｓで分子鎖中に水素化ケイ素基が４
個（水素化ケイ素基の数は分子量分布などのために平均
して１〜２個の誤差が含まれる）を含まれるものを用い
た。また、触媒（Ｃ）としてはビニルトリメトシシラン
の白金酸錯体を、白金換算で１５０ｐｐｍとなるように
して、（Ａ）と（Ｂ）を１：３の割合にした混合物に
（Ｃ）を混合して表面ゴムを形成した。この組成物は、
調整後約１２０分で、ほぼ完全に硬化した。このシリコ
ーンゴムのＧ′は６×１０⁶ から２×１０⁷ ｄｙｎｅ／
ｃｍ² で、測定範囲内でＧ′≫Ｇ′′であることを確認
した。また、ｔａｎδは０．０４から０．０５であっ
た。

【００４３】基布など表面ゴム以外のブランケット構成
部材は、Ｇ′が５×１０⁶ ｄｙｎｅ／ｃｍ² 、ｔａｎδ
が０．０２から０．２８であった。

【００４４】このようなゴムと基布を用いてブランケッ
トを形成し、このブランケットの表面ゴムの表面をアン
モニアガスを含む雰囲気中でプラズマ処理した。ゴムに
含まれる窒素原子は主としてアミノ基として存在し、ゴ
ムの親水性を改善できた。窒素原子の最適割合は、印刷
に使用するインク、版の材質、基板の種類により変化す
るが、インクの受理／転移が最も良好になるようにすれ
ばよい。一般的には、表面ゴムに含まれる窒素原子の割
合は炭素原子に対して概略１０００ｐｐｍ以下にするこ
とが望ましい。本例では窒素原子の割合は２５０ｐｐｍ
のものを用いた。なお、炭素原子と窒素原子の比率は、
表面ゴムを加熱燃焼させて発生した気体を分析すること
で測定することができる。また、アンモニアガスの代わ
りに、メタノールなどのアルコール類、水蒸気、ハロゲ
ンガスなどを使用しても良い。さらに、オルガノポリシ
ロキサン（Ａ）、（Ｂ）の少なくとも一方にアミノ基、
ヒドロキシル基、ハロゲン元素などを有するものを使用
すれば、プラズマ処理と同じ効果が得られる。

【００４５】このようにして得られたシリコーンゴムと
基布を用いて、ブランケットを作製して印刷を行った。
なお、ブランケットの粘弾性特性はレオメトリックス社
製ＲＭＳ７００メカニカルスペクトロメーターを用いて
剛性率Ｇを測定し、Ｇ′＞Ｇ′′であることを確認し
た。印刷手順は実施例１と同様とした。本例では、深さ
９μｍで幅Ｌ＝１００、１５０、２００μｍ、間隔Ｓ＝
１００、５０、２０μｍで並べた直線パターンを並べた
金属製凹版を用い、インキはＡｕペーストを使用した。
また、基板には青板ガラスを用いた。このようにして印
刷したインキを乾燥、焼成して目的の印刷パターンを得
た。印刷精度は、凹版と印刷パターンの幅と間隔を比較
して、凹版のパターンを忠実に再現しているかどうかで
評価した。本例の表面ゴムを使用した場合には、印刷パ
ターンは幅、間隔ともに±５μｍ以内で再現した。これ
に対して、ポリオルガノシロキサン（Ｂ）に従来の構造
のもの（ＳｉＨ基が連続して結合している）を用いて本
例に用いたポリオルガノシロキサン（Ａ）と架橋反応さ
せたシリコーンゴムの粘弾性特性を図９に示した。図９
よりＧ′が大きくなるとＧ′′も大きくなりゴム特性が
失われてきていることが解る。この表面ゴムを使った場
合には、幅、間隔ともに３０μｍ以上の変形が発生し、
特に、間隔が５０、２０μｍの場合には隣接する印刷パ
ターンの大半がつながってしまった。特に、ブランケッ
トの基板に対する押し込み量が約２５０μｍより大きく
なると、この傾向が強くなり、幅、間隔も５０μｍ以上
変化してしまった。

【００４６】

【発明の効果】以上、説明したように本発明の表面ゴム
と基布などのブランケット構成部材の架橋構造、粘弾性
特性を適正化したブランケットを用いると高精度のオフ
セット印刷が可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のブランケットに適用可能なオルガノポ
リシロキサン（Ａ）の構造式の例である。

【図２】本発明のブランケットに適用可能なオルガノポ
リシロキサン（Ｂ）の構造式の例である。

【図３】本発明に適用可能なゴムの架橋構造を示す模式
図である。

【図４】本発明に適用可能なゴムの粘弾性特性を示すグ
ラフである。

【図５】オフセット印刷の工程を示す模式図である。

【図６】本発明に適用可能なゴムの弾性率の時間依存性
を示すグラフである。

【図７】従来のゴムの架橋構造を示す模式図である。

【図８】従来のシリコーンゴムの粘弾性特性を示す模式
図である。

【図９】本発明に適用できないゴムの粘弾性特性を示す
模式図である。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基布及び表面弾性体を用いて構成される
オフセット印刷機用ブランケットにおいて、ブランケッ
トの弾性率Ｇ＝Ｇ′＋ｉＧ′′（Ｇ′は貯蔵弾性率、
Ｇ′′は損失弾性率）について、Ｇ′とＧ′′との関係
がＧ′＞Ｇ′′を満足することを特徴とするオフセット
印刷機用ブランケット。
【請求項２】前記表面弾性体のＧ′が１０⁴ から１０
⁸ ｄｙｎｅ／ｃｍ²の範囲にあり、かつｔａｎδ＝
Ｇ′′／Ｇ′の値が０．０５＞ｔａｎδ≧０．０００１
の範囲にあり、該表面弾性体以外のブランケット構成部
材のＧ′が１０³から１０⁸ ｄｙｎｅ／ｃｍ² の範囲に
あり、かつｔａｎδの値が１．０＞ｔａｎδ≧０．００
０１の範囲にある請求項１に記載のオフセット印刷機用
ブランケット。
【請求項３】前記表面弾性体がシリコーン樹脂からな
り、該シリコーン樹脂の架橋部位がシロキサン単位で３
単位以上離れている請求項１若しくは請求項２に記載の
オフセット印刷機用ブランケット。
【請求項４】版上にインキをパターン状に配する工
程、ブランケットの弾性率Ｇ＝Ｇ′＋ｉＧ′′（Ｇ′は
貯蔵弾性率、Ｇ′′は損失弾性率）について、Ｇ′と
Ｇ′′との関係がＧ′＞Ｇ′′を満足するブランケット
の表面を前記インキに接触させて、前記インキを受理す
る工程、及び前記受理されたインキを被印刷物に接触さ
せ、該被印刷物に転移させる工程とを有することを特徴
とする印刷方法。